KR20090131251A - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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KR20090131251A
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conveying
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데츠야 사다
즈네모토 오가타
아츠시 나가타
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 평류(平流)의 반송 라인 상에서 피처리 기판에 공급한 제1 처리액을 분별 회수하여 제2 처리액으로 치환하는 동작을 효율적으로 순조롭게 행하여, 현상 얼룩의 발생을 억제하는 것을 목적으로 한다.
수평인 반송로를 갖는 제1 반송 구간(M1)과, 상승 경사의 반송로를 수평인 반송로로부터 형성 가능한 제2 반송 구간(M2)과, 제2 반송 구간(M2)이 상승 경사인 상태에서, 제2 반송 구간(M2)에 계속되는 하강 경사의 반송로를 형성하는 제3 반송 구간(M3)을 포함하는 평류의 반송 라인(2)과, 반송체(6)를 구동하는 반송 구동부와, 제1 반송 구간(M1) 내에서 기판(G) 상에 제1 처리액(D)을 공급하는 제1 처리액 공급부(9)와, 제3 반송 구간(M3) 내에서 기판(G) 상에 제2 처리액(W)을 공급하는 제2 처리액 공급부(13)와, 제2 반송 구간(M2)에 피처리 기판(G)이 적재된 상태에서, 상기 제2 반송 구간(M2)에 부설된 반송체(6)를 상승 이동시켜, 제1 반송 구간(M1)에 계속되는 상승 경사의 반송로를 형성하는 승강 수단을 구비한다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
본 발명은 피처리 기판 상에 처리액을 공급하여 미리 결정된 처리를 행하는 기판 처리 기술에 관한 것으로, 특히 기판을 평류 방식에 의해 수평 방향으로 반송하면서 액 처리를 행하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
최근 LCD(액정 표시 디스플레이) 제조에서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에서는, LCD용 기판(예컨대, 유리 기판)의 대형화에 유리하게 대응할 수 있는 현상 방식으로서, 굴림대를 수평 방향으로 부설한 반송로 상에서 기판을 반송하면서 반송 중에 현상, 린스, 건조 등의 일련의 현상 처리 공정을 행하도록 한, 소위 평류(平流) 방식이 보급되어 있다. 이러한 평류 방식은 기판을 회전 운동시키는 스피너(spinner) 방식과 비교하여, 대형 기판의 취급이 간단하고 미스트의 발생 내지 기판으로의 재부착이 적은 등의 이점이 있다.
평류 방식을 채용하는 종래의 현상 처리 장치는, 현상액의 분별 회수율을 높이기 위해, 예컨대 특허 문헌 1에서 개시된 바와 같이, 평류의 반송로에 있어서 현상액 공급부의 하류측에 기판을 반송 방향에서 기울이는 기판 경사 기구를 설치하 여, 현상액 공급부에서 수평인 기판 상에 현상액을 채우고 그대로 평류 방식으로 기판을 반송로의 하류측으로 반송하고, 미리 결정된 시간 후에 반송로 상의 미리 결정된 위치에서 기판 경사 기구가 기판을 전방 또는 후방으로 경사시켜 기판 상의 현상액을 중력으로 떨어뜨려, 아래로 떨어진 현상액을 현상액 회수용 팬으로 받아 모으도록 하고 있다.
그리고 기판 경사 기구가 상기와 같은 경사 자세에 의한 액 차단을 일정 시간 내에 마치고 기판을 수평 자세로 복귀시키면, 다음으로 기판은 하류측의 린스부로 평류 방식으로 보내지고, 거기서 린스 노즐이 수평 자세의 기판 상에 린스액을 분사함으로써, 기판 상에서 현상액으로부터 린스액으로의 치환(현상 정지)이 행해진다. 이 린스부에서 기판으로부터 떨어진 액은 린스액 회수용 팬에 수집된다. 그리고 린스 처리가 끝난 기판이 하류측의 건조부를 평류로 통과하는 동안에, 에어 나이프가 수평 자세의 기판에 반송 방향과 역방향으로 고압의 에어류를 닿게 하고 액 차단을 행함으로써 기판 표면이 마르도록 되어 있다.
그러나, 상기와 같은 종래의 현상 처리 장치에서는, 현상액이 채워진 기판을 반송로 상에서 정지시키고 수평 상태에서부터 경사 상태로 자세 변환하여, 경사 자세에서 액 차단을 행한 후에 다시 수평 자세로 복귀시켜 평류 반송을 재개한다고 하는 기구 및 일련의 동작이 제법 번잡하여 비효율적인 일면이 있었다. 또한, 현상액의 액 차단을 시작하고 나서 하류측의 린스부에서 액 치환 즉, 현상 정지용 린스 처리를 시작하기까지의 시간 지연이 길기 때문에, 린스 처리를 실행하기 전에 기판의 전단측에서부터 피처리면이 말라버려 불균등한 얼룩이 발생한다고 하는 현 상 처리 품질의 저하도 염려된다.
이러한 과제에 대하여, 본원 출원인은, 기판 상의 현상액을 린스액으로 효율적으로 치환할 수 있는 현상 유닛(기판 처리 장치)을 특허 문헌 2에서 개시했다. 특허 문헌 2에 개시되는 현상 유닛의 주요부를 도 7에 모식적으로 도시한다.
도 7에 나타나는 평류 반송로(90)에서는, 수평 자세로 반송되는 기판(G)의 피처리면에 대하여, 현상부(91)에 있어서 현상액 공급 노즐(92)로부터 현상액(D)이 토출되어, 피처리면 전체가 현상액(D)에 의해 충전된다. 계속해서 기판(G)은 린스부(93)로 반송되어, 산 모양으로 경사 배치된 반송 굴림대[반송로(90)] 상에서 반송되면서 현상액(D)이 흘러 떨어지고, 린스액 공급 노즐(94)로부터 순수 등의 린스액(W)이 공급됨으로써 린스 처리가 실시된다.
즉, 이 린스부(93)에서는, 기판(G)이 산 모양으로 경사진 반송로(90)를 통과함으로써, 기판(G)의 선단 방향이 보다 높아지는 상태로 경사지게 되어 기판 상의 현상액(D)이 뒤쪽으로 흘러 떨어진다.
그리고 기판 선단이 산 모양의 반송로(90)를 내려가는 상태가 되면, 그 위쪽에 마련된 린스액 공급 노즐(94)로부터 공급되는 린스액(W)에 의해 피처리면이 린스 세정된다.
이와 같이, 기판 상의 현상액(D)을 회수한 후, 시간을 길게 두는 일 없이 효율적으로 현상액(D)을 린스액(W)으로 치환함으로써, 린스 처리를 실행하기 전에 기판(G)의 전(前)단부 측에서부터 피처리면이 마르는 일 없이 현상액(D)을 흘려 떨어뜨려, 불균등한 얼룩이 발생하는 것을 방지하도록 이루어져 있다.
[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2003-7582호 공보
[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 제2007-5695호 공보
그런데 최근, 예컨대 LCD 제조 공정에서의 비정질 SiTFT(비정질 실리콘 박막 트랜지스터)의 형성에서는, 노광 공정의 단축을 위해 하프톤 노광(이하, 하프 노광이라고 함)을 이용한 방법이 많이 채용되고 있다.
하프 노광이란, 도 8의 (a)에 도시한 바와 같이, 광의 투과율에 차가 마련된 하프톤 마스크(150)를 이용하여 기판(G1) 상의 레지스트막(R)에 노광 처리를 실시하는 것이다. 이 처리에 의해 현상한 후, 도 8의 (b)에 도시한 바와 같이, 다른 막 두께[박막부(R1)와 후막부(R2)]를 갖는 레지스트 패턴(R)이 얻어진다.
그러나, 이 하프 노광된 기판을 특허 문헌 2에 개시한 현상 유닛에 의해 현상 처리하면, 하프 마스크부에 의해 노광되어 박막부(R1)를 형성하는 부위에 있어서 현상 얼룩이 생길 우려가 있었다.
즉, 도 7에 도시하는 현상 유닛에서는, 기판(G)의 선단부가 린스부(93)의 산 모양의 반송로에 도달하면, 기판(G)은 반송되면서 선단부에서부터 위쪽을 향해 서서히 기울어, 도 9의 (a)에 도시한 바와 같이 기판 선단부 부근의 현상액(D)이 뒤쪽으로 흘러 내려지기 시작한다. 이 때, 기판 선단부 변에서부터 늘어지는 것과 같이, 현상액이 흘러 내려진 흔적에 의해 복수의 원호(C)가 기판 폭 방향으로 나열되어 그려진다.
이 원호는, 기판(G)이 산 모양의 반송로(90)를 상승함에 따라, 도 9의 (b)에 도시한 바와 같이 아래쪽으로 신장하여, 기판 선단이 린스 공급 노즐(94)에 의해 린스액(W)을 공급받을 때까지는 도 9의 (c)에 도시한 바와 같이 인접하는 원호(C)의 접선(C1)으로서 현상액(D)이 남은 상태가 된다. 여기서, 이 선형의 잔존하는 현상액[접선(C1)]이 도 8의 (b)에 도시한 바와 같은 하프 노광부[박막부(R1)를 형성하는 부위] 상에 존재하면, 린스액(W)에 의해 흘러 떨어지기까지 시간이 걸리고 그 부분에서 필요 이상으로 현상이 진행되어, 현상 얼룩이 발생한다고 하는 과제가 있었다.
본 발명은, 상기와 같은 종래 기술의 문제점에 감안하여 이루어진 것으로, 평류의 반송 라인 상에서 피처리 기판에 공급한 제1 처리액을 분별 회수하여 제2 처리액으로 치환하는 동작을 효율적으로 순조롭게 행하여, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 미리 결정된 액 처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하여 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 장치로서, 상기 피처리 기판을 반송하기 위한 반송체를 미리 결정된 반송 방향으로 부설하고, 상기 반송 방향에서 실질적으로 수평인 반송로를 갖는 제1 반송 구간과, 상기 제1 반송 구간에 계속되는 상승 경사의 반송로를 수평인 반송로로부터 형성 가능한 제2 반송 구간과, 상기 제2 반송 구간이 상승 경사인 상태에서, 상기 제2 반송 구간에 계속되는 하강 경사의 반송로를 형성하는 제3 반송 구간을 포함하는 평류의 반송 라인과, 상기 반송 라인 상에서 상기 기판을 반송하기 위해 상기 반송체를 구동하는 반송 구동부와, 상기 제1 반송 구간 내에서 상기 기판 상에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급부와, 상기 제3 반송 구간 내에서 상기 기판 상에 제2 처리액을 공급하는 제2 처리액 공급부와, 상기 제2 반송 구간에 상기 피처리 기판이 적재된 상태에서, 상기 제2 반송 구간에 부설된 반송체를 상승 이동시켜, 상기 제1 반송 구간에 계속되는 상승 경사의 반송로를 형성하는 승강 수단을 구비하는 것에 특징을 갖는다.
이와 같이 구성함으로써, 피처리 기판이 제2 반송 구간에 적재되면 상승 경사의 반송로를 형성하여, 제2 처리액을 공급하기 직전에 상승 경사로써 기판 상으로부터 제1 처리액을 후단을 향해 흘려 떨어뜨리고, 제1 처리액이 빠진 기판 선단부에서부터 순서대로 제2 처리액을 공급할 수 있다.
이에 따라, 기판 상의 제1 처리액을 즉시 제2 처리액으로 치환할 수 있다. 즉, 종래와 같이 현상액(제1 처리액)이 흘러 떨어진 후, 얼룩 형상으로 남은 상태로 방치되는 시간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 상기 반송 라인에 있어서, 상기 승강 수단에 의해 상승 경사가 된 상기 제2 반송 구간과 하강 경사의 상기 제3 반송 구간에 의해 형성되는 융기부의 정상에는, 수평부가 형성되는 것이 바람직하다.
이와 같이 수평부를 마련함으로써, 제1 처리액의 표면 장력에 의해, 중력으로 인한 유하력(流下力)을 억제할 수 있어, 제2 처리액의 공급 직전까지 기판 전체에 대하여 제1 처리액에 의한 미리 결정된 처리를 실시할 수 있다.
또한, 상기 피처리 기판 상에, 상기 제1 처리액이 공급된 후, 상기 제2 처리액이 공급되기 전에, 상기 반송 라인 상에 반송되는 피처리 기판에 대하여, 상기 기판 상에 잔존하는 제1 처리액을 고르게 하는 표면 균등 수단을 구비하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 표면 균등 수단은, 기판 폭 방향을 따라 마련되고, 기판 표면에 접촉함으로써 상기 기판 표면을 고르게 하는 롤러, 또는 기판 표면에 미리 결정된 가스류를 닿게 함으로써 해당 기판 표면을 고르게 하는 에어 나이프, 또는 기판 표면에 접촉함으로써 해당 기판 표면을 고르게 하는 판 부재가 바람직하다.
이와 같이 표면 균등 수단을 마련함으로써, 제2 처리액이 공급되는 기판 상의 부위로부터 제1 처리액을 거의 제거할 수 있고, 이에 따라 제1 처리액과 제2 처리액이 혼합되지 않아, 그에 따른 얼룩의 발생을 억제하고, 또한 제1 처리액과 제2 처리액의 분별 회수를 용이하게 할 수 있다.
또한, 상기 승강 수단의 구동을 제어하는 제어 수단과, 상기 제2 반송 구간으로 반송되는 피처리 기판이 미리 결정된 위치에 도달한 것을 검출하여, 검출 신호를 상기 제어 수단에 출력하는 기판 검출 수단을 구비하고, 상기 제어 수단은, 상기 기판 검출 수단으로부터 상기 검출 신호를 수취하면 상기 승강 수단을 구동시켜, 상기 제2 반송 구간에, 상기 제1 반송 구간에 계속되는 상승 경사의 반송로를 형성시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제3 반송 구간에 부설된 반송체는, 상기 승강 수단에 의해 상승 이동할 수 있도록 마련되고, 상기 제어 수단은, 상기 기판 검출 수단으로부터 상기 검출 신호를 수취하면 상기 승강 수단을 구동시켜, 상기 제3 반송 구간에, 상기 제2 반송 구간에 계속되는 하강 경사의 반송로를 형성시키는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 제2 반송 구간의 미리 결정된 위치에 기판이 도달 한 것을 정확한 타이밍에 검출할 수 있어, 그 후의 처리를 효과적으로 행할 수 있다.
또한, 상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 기판 처리 방법은, 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 미리 결정된 액 처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하여 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 방법으로서, 제1 반송 구간으로 수평 자세로 반송되는 피처리 기판에 대하여, 상기 제1 처리액을 공급하는 단계와, 상기 제1 처리액이 공급된 피처리 기판을 수평 자세인 채로 제2 반송 구간으로 반송하는 단계와, 상기 제2 반송 구간으로 반송되는 상기 피처리 기판이 미리 결정된 위치에 도달한 것을 검출하는 단계와, 상기 검출이 이루어진 후, 상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로를 형성하는 단계와, 상기 상승 경사의 제2 반송 구간에 계속하여 형성된 하강 경사의 반송로를 이루는 제3 반송 구간으로 상기 피처리 기판을 반송하여, 상기 피처리 기판으로 상기 제2 처리액을 공급하는 단계를 실행하는 것에 특징을 갖는다. 또한, 상기 제2 반송 구간에 반송되는 상기 피처리 기판이 미리 결정된 위치에 도달한 것이 검출된 후, 상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로를 형성하는 단계와 동시에, 상기 제3 반송 구간에 상기 제2 반송 구간에 계속되는 하강 경사의 반송로를 형성하는 단계가 실행되는 것이 바람직하다.
이러한 방법에 의해, 기판 상의 제1 처리액을 즉시 제2 처리액으로 치환할 수 있다. 즉, 종래와 같이 현상액(제1 처리액)이 흘러 떨어진 후, 얼룩 형상으로 남은 상태로 방치되는 시간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 상기 제2 반송 구간으로 반송되는 상기 피처리 기판이 미리 결정된 위 치에 도달한 것을 검출하는 단계 후, 피처리 기판의 반송을 정지하는 단계를 실행하여, 상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로를 형성하는 단계를 실행하는 것이 바람직하다.
이러한 제어에 의해, 제2 처리액의 공급 직전까지 기판 전체에 대하여 제1 처리액에 의한 미리 결정된 처리를 실시할 수 있다.
또한, 상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로가 형성된 후, 상기 제3 반송 구간으로 반송되는 상기 피처리 기판의 속도가 상승 제어되는 것이 바람직하다.
이러한 제어에 의해, 제1 처리액이 기판 상에서 제거된 직후에, 기판 상에 즉시 제2 처리액을 공급할 수 있어, 보다 확실하게 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
본 발명에 의하면, 평류의 반송 라인 상에서 피처리 기판에 공급한 제1 처리액을 분별 회수하여 제2 처리액으로 치환하는 동작을 효율적으로 순조롭게 행하여, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 얻을 수 있다.
이하, 본 발명의 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 따른 실시형태에 대해, 도면에 기초하여 설명한다. 본 발명의 기판 처리 장치는, 예컨대 LCD용 유리 기판을 피처리 기판(이하, 기판이라고 칭함)으로 하고, LCD 제조 프로세스에 있어서 포토리소그래피 공정 중 세정, 레지스트 도포, 프리베이크, 현상 및 포스트베이 크 등의 각 처리를 행하는 도포 현상 처리 시스템의 일부 구성에 적용할 수 있다.
구체적으로는, 기판 상에 포토레지스트가 도포되고, 마스크 패턴을 통해 노광 처리가 실시된 기판에 현상 및 린스 처리를 실시하는 현상 유닛(DEV)에 적용할 수 있다. 이하, 도면을 참조하여 본 발명을 현상 유닛(DEV)에 적용한 일 실시형태를 설명한다.
도 1에, 이 실시형태에서의 현상 유닛(DEV)(1)의 전체 구성을 모식적으로 도시한다. 이 현상 유닛(DEV)(1)은, 도시한 바와 같이, 프로세스 라인(A)에 따라 수평 방향(X 방향)으로 연장되는 평류의 반송 라인(2)을 마련하고, 이 반송 라인(2)을 따라 상류측으로부터 순서대로 현상부(3), 린스부(4) 및 건조부(5)를 마련한다.
반송 라인(2)은, 기판(G)을 그 피처리면이 위로 향한 누운 자세로 해서 미리 결정된 속도(예컨대 60 mm/s)로 반송하기 위한 굴림대(6)(반송체)를 반송 방향(X 방향)으로 일정 간격(예컨대 100 mm 간격)으로 부설하고, 각 굴림대(6)는, 예컨대 전기 모터를 갖는 반송 구동부(도시하지 않음)에 톱니바퀴 기구 또는 벨트 기구 등의 전동 기구를 통해 접속된다.
이 반송 라인(2)은, 반송 방향(X 방향)에 있어서 시작점에서부터 종료점까지 동일한 높이 위치로 계속되고 있는 것은 아니며, 도중에 미리 결정된 개소에 굴림대(6)의 상승 제어에 의해 융기 형성되는 제1 융기부(2a), 굴림대(6)의 배치가 고정된 제2 융기부(2b) 및 단차부(2c)를 가지고, 도 1에 도시한 바와 같이, 반송 방향(X 방향)의 한쪽에서 본 반송로의 형상에 따라 9개의 반송 구간(M1, M2, M3, M4, M5, M6, M7, M8, M9)으로 구분할 수 있다.
제1 반송 구간(M1)은, 다단 유닛부(7)의 패스 유닛(PASS) 내의 시작점(P0)에서부터 현상부(3) 내의 출구보다 조금 앞(상류측)의 위치에 설정된 제1 구간 변경점(P1)까지의 구간이며, 시작점(P0)의 높이 위치를 유지한 채 거의 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖는다.
제2 반송 구간(M2)은, 상기 제1 구간 변경점(P1)에서부터 현상부(3)와 린스부(4)의 경계 부근의 위치에 설정된 제2 구간 변경점(P2)까지의 구간이며, 굴림대(6)의 높이 위치를 상승 제어함으로써, 시작점(P0)의 높이 위치보다 미리 결정된 량(예컨대 10∼25 mm) 높게 할 수 있는 제1 융기부(2a)의 정상까지 미리 결정된 경사각(예컨대 2∼5°)으로 올라가는 상승 경사의 반송로를 갖는다.
제3 반송 구간(M3)은, 상기 제2 구간 변경점(P2)에서부터 린스부(4)의 입구 부근에 설정된 제3 구간 변경점(P3)까지의 구간이며, 굴림대(6)의 높이 위치를 상승 제어함으로써, 상기 제1 융기부(2a)의 정상에서부터 그 보다 미리 결정된 량(예컨대 10∼25 mm) 만큼 낮은 제1 하부 위치까지 미리 결정된 경사각(예컨대 2∼5°)으로 내려가는 하강 경사의 반송로를 갖는다.
또한, 이 제1 융기부(2a)[굴림대(6)의 상승 제어에 의해 융기한 경우]에 있어서, 반송 라인(2)은 그 정상에 플랫(수평)인 수평부(H)를 갖는 사다리꼴의 형상으로 되어 있다.
제4 반송 구간(M4)은, 린스부(4) 내에서 입구 부근의 상기 제3 구간 변경점(P3)에서부터 더 안쪽의 미리 결정된 위치에 설정된 제4 구간 변경점(P4)까지의 구간이며, 상기 제1 하부 위치와 동일한 높이로 거의 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖는다.
제5 반송 구간(M5)은, 린스부(4) 내에서 상기 제4 구간 변경점(P4)에서부터 그보다 미리 결정된 거리만큼 하류측의 위치에 설정된 제5 구간 변경점(P5)까지의 구간이며, 제1 하부 위치보다 미리 결정된 량(예컨대 10∼25 mm) 높은 제2 융기부(2b)의 정상까지 미리 결정된 경사각(예컨대 2∼5°)으로 올라가는 상승 경사의 반송로를 갖는다.
제6 반송 구간(M6)은, 린스부(4) 내에서 상기 제5 구간 변경점(P5)에서부터 그보다 미리 결정된 거리만큼 하류측의 위치에 설정된 제6 구간 변경점(P6)까지의 구간이며, 상기 제2 융기부(2b)의 정상에서부터 그보다 미리 결정된 량(예컨대 10∼25 mm) 낮은 제2 하부 위치까지 미리 결정된 경사각(예컨대 2∼5°)으로 내려가는 하강 경사의 반송로를 갖는다.
제7 반송 구간(M7)은, 린스부(4) 내에서 상기 제6 구간 변경점(P6)에서부터 그보다 미리 결정된 거리만큼 하류측의 위치, 즉 출구에서부터 조금 앞(상류측)의 위치에 설정된 제7 구간 변경점(P7)까지의 구간이며, 상기 제2 하부 위치와 동일한 높이로 거의 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖는다.
제8 반송 구간(M8)은, 상기 제7 구간 변경점(P7)에서부터 린스부(4)와 건조부(5)의 경계 부근에 설정된 제8 구간 변경점(P8)까지의 구간이며, 상기 제2 하부 위치보다 미리 결정된 량(예컨대 10∼25 mm) 높은 단차부(2c)의 상단 위치까지 미리 결정된 경사각(예컨대 2∼5°)으로 올라가는 상승 경사의 반송로를 갖는다.
제9 반송 구간(M9)은, 상기 제8 구간 변경점(P8)에서부터 건조부(5) 및 탈색 프로세스부(8)를 통해 후단의 처리부까지 이르는 구간이며, 상기 단차부(2c)의 상단 위치의 높이를 일정하게 유지한 채 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖는다.
또한, 현상부(3)에서는, 제1 반송 구간(M1) 내의 미리 결정된 위치에, 반송 라인(2) 상을 굴림대에 의한 반송으로 이동하는 수평 자세의 기판(G)을 향해 위쪽으로부터 기준 농도의 현상액(제1 처리액)을 토출하는 제1 처리액 공급부로서의 현상액 공급 노즐(이하, 「현상 노즐」이라고 약칭함)(9)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 개 배치되어 있다. 각 현상 노즐(9)은, 예컨대 슬릿형의 토출구 또는 1열로 배치된 다수의 미세 직경 토출구를 갖는 긴 형상의 노즐로 이루어지고, 도시하지 않은 현상액 공급원으로부터 배관을 통해 현상액이 급액되도록 되어 있다.
현상부(3) 내에는, 반송 라인(2) 아래로 떨어진 현상액을 수집하기 위한 팬(10)도 마련된다. 이 팬(10)의 배액구는 배액관(11)을 통해 현상액 재이용 기구(12)와 통하고 있다. 현상액 재이용 기구(12)는, 현상액 노즐(9)에 의해 기판(G) 상에 현상액을 채울 때에 넘쳐흘러 떨어진 현상액을 팬(10) 및 배액관(11)을 통해 회수하고, 회수한 현상액에 원액이나 용매를 첨가하여, 기준 농도로 조정한 재활용 현상액을 상기 현상액 공급원으로 보내도록 되어 있다.
또한, 린스부(4)에서는, 입구 부근의 제3 반송 구간(M3) 내의 미리 결정된 위치에, 반송 라인(2)의 상기 제1 융기부(2a)의 하강 사면을 통과하는 기판(G)을 향해 위쪽으로부터 액치환(현상 정지)용 린스액(제2 처리액)을 토출하는 제2 처리액 공급부로서의 제1 린스액 공급 노즐(이하, 「린스 노즐」이라고 약칭함)(13)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 개 배치되어 있다.
또한, 중심부의 제5 반송 구간(M5) 내의 미리 결정된 위치에, 반송 라인(2)의 상기 제2 융기부(2b)의 상승 사면을 통과하는 기판(G)을 향해 위쪽으로부터 세정용 린스액을 토출하는 제2 린스 노즐(14)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 개 배치되어 있다.
또한, 그 하류측 옆의 제6 반송 구간(M6) 내의 미리 결정된 위치에, 반송 라인(2)의 제2 융기부(2b)의 하강 사면을 통과하는 기판(G)을 향해 위쪽으로부터 마무리 세정용 린스액을 토출하는 제3 린스 노즐(15)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 개 배치되어 있다.
또한, 출구 부근에서 제8 반송 구간(M8) 내의 미리 결정된 위치에, 반송 라인(2)의 상승 단차부(2c)를 올라가는 기판(G)을 향해 위쪽으로부터 최종 세정용 린스액을 토출하는 제4 린스 노즐(16)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 개 배치되어 있다. 각 린스 노즐(13, 14, 15, 16)은, 예컨대 상기 현상액 노즐(9)과 동일한 구성을 갖는 긴 형상의 노즐로 이루어지고, 도시하지 않은 린스액 공급원으로부터 배관을 통해 린스액이 급액되도록 되어 있다.
린스부(4) 내에는, 반송 라인(2) 아래로 떨어진 린스액을 수집하기 위한 팬(17)이 마련된다. 이 팬(17)의 배액구는 배액관(18)을 통해 린스액 회수부(도시하지 않음)에 통하고 있다. 도시를 생략하지만, 반송 라인(2) 아래로부터 기판(G)의 하면에 대하여 세정용 린스액을 내뿜는 하부 린스 노즐을 마련할 수도 있다.
건조부(5)에서는, 제9 반송 구간(M9)의 시작단 부근의 미리 결정된 위치에, 반송 라인(2)의 상기 단차부(2c)를 올라간 직후의 기판(G)을 향해 위쪽으로부터 반송 방향과 역방향으로 액 차단 내지 건조용 고압 가스류(통상은 에어류)를 닿게 하는 긴 형상의 가스 노즐 또는 에어 나이프(20)가 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 개 배치되어 있다. 반송 라인(2) 아래로부터 기판(G)의 하면을 향해 액 차단 내지 건조용 고압 가스류를 대는 하부 에어 나이프(도시하지 않음)도 마련 가능하다. 또한, 건조부(5) 내에서 반송 라인(2) 아래로 떨어진 액을 수집하기 위한 팬(도시하지 않음)을 마련하더라도 좋다.
하류측 옆의 탈색 프로세스부(8)에는, 반송 라인(2) 상을 굴림대에 의한 반송으로 이동하는 기판(G)을 향해 위쪽으로부터 탈색 처리용 i선(파장 365 nm)을 조사하는 i선 조사 유닛(i-UV)(21)이 마련된다.
또한, 현상 유닛(DEV)(1)은, 일체적인 하우징(30) 내에 현상부(3), 린스부(4) 및 건조부(5)를 수용하고, 서로 다른 처리부 사이의 경계에는 반송 라인(2) 에 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 이격하기 위해 수직 방향으로 연장하는 칸막이 벽(30a, 30b)을 마련한다. 보다 상세하게는, 현상부(3)와 린스부(4)의 경계, 즉 제2 반송 구간(M2)과 제3 반송 구간(M3)의 경계 부근에 칸막이 벽(30a)이 마련되고, 린스부(4)와 건조부(5)의 경계, 즉 제8 반송 구간(M8)과 제9 반송 구간(M9)의 경계 부근에 칸막이 벽(30b)이 마련된다. 각 칸막이 벽(30a, 30b)에는, 반송 라인(2)을 통과시키는 개구(31, 32)가 각각 형성되어 있다.
이 현상 유닛(DEV)(1)에서, 각 처리부(3, 4, 5) 내의 공간은 칸막이 벽(30a, 30b)의 개구(31, 32)를 통해 서로 연통하고 있다. 현상부(3) 및 건조부(5)에서는, 실외의 공기를 인입하기 위한 팬(33, 34)과, 이들 팬(33, 34)으로부터의 공기류를 제진하는 에어 필터(35, 36)에 의해, 천장으로부터 청정한 공기가 다운 플로우로 실내에 공급되도록 되어 있다. 이 중, 현상부(3)의 천장으로부터 공급되는 청정 공기는, 현상 처리시에 발생하는 현상액의 미스트를 끌어들이도록 하여 상기 칸막이 벽(30a)의 개구(31)를 통해 린스부(4)의 실내에 유입된다.
한편, 건조부(5)의 천장으로부터 공급되는 청정 공기는, 건조(액 차단) 처리로 발생하는 린스액의 미스트를 끌어들이도록 하여 상기 칸막이 벽(30b)의 개구(32)를 통해 린스부(4)의 실내에 유입되도록 되어 있다. 린스부(4)의 바닥부에는, 예컨대 배기 펌프 또는 배기 팬을 갖는 배기 기구(37)에 통하는 배기구(38)가 마련된다.
상기한 바와 같이 하여 현상부(3) 측으로부터 유입된 미스트가 혼합된 공기 와, 건조부(5) 측으로부터 유입된 미스트가 혼합된 공기는, 린스부(4) 내에서 발생하는 미스트도 끌어들이고 좌우로부터 합류하여 배기구(38)로부터 배출되도록 되어 있다.
또한, 기판(G)이 현상부(3)에서부터 린스부(4)로 이동하는 개구(31) 부근으로서, 제1 융기부(2a)의 정상에 형성되는 수평부(H)의 종단부 부근에는, 기판(G)의 표면에 수지재로 이루어지는 회전 롤러를 접촉하여 기판 표면을 고르게 하기 위한 균등 롤러(66)(표면 균등 수단)가 기판 폭 방향을 따라 마련된다. 이 균등 롤러(66)는, 상승 경사가 된 제2 반송 구간(M2)에서 현상액의 대부분이 흘러 떨어져 박막 상태로 기판(G) 상에 잔존하는 현상액을, 균일하게 기판 뒤쪽으로 흘러가게 하여 고르게 하기 위해 마련된다. 이 균등 롤러(66)를 마련함으로써, 기판(G)이 린스부(4)에 반입될 때에는, 기판(G)으로부터 거의 모든 현상액을 제거할 수 있어, 후단의 린스 처리의 효과를 보다 향상시킬 수 있다. 또한, 현상액과 린스액이 혼합되는 것을 방지하여, 그것에 기인하는 얼룩의 발생을 억제하고, 분별 회수를 용이하게 할 수 있다.
또한, 이 균등 롤러(66)는, 기판 표면을 고르게 할 목적으로 마련되기 때문에, 표면 균등 수단으로서는, 이에 한정되지 않고 하면을 향해 액 차단을 행하기 위해 고압 가스류를 닿게 하는 에어 나이프를 이용하더라도 좋고, 또는 수지재로 이루어지는 판 부재를 기판 표면에 접촉시킴으로써 기판 표면을 고르게 하더라도 좋다.
계속해서, 현상부(3) 및 린스부(4)의 구성에 대해 더 자세히 설명한다.
도 2는 제2 반송 구간(M2)에 이용하기에 적합한 굴림대 반송로의 구성을 도시하는 평면도이다. 이 구성예에 있어서, 반송 라인(2)의 굴림대(6)에는, 반송 구간에 따라 2종류의 굴림대(6A, 6B)가 사용된다.
상세하게는, 수평의 반송로인 제1 반송 구간(M1) 및 하강 경사로가 되는 제3 반송 구간(M3)을 구성하는 제1 타입의 굴림대(6A)는, 비교적 가는 샤프트(50)의 수 개소에 대직경의 롤러부(51)를 고착하여 이루어지며, 롤러부(51)에 기판(G)을 적재하여 회전하도록 되어 있다.
상승 경사로를 형성 가능한 제2 반송 구간(M2)에 이용되는 제2 타입의 굴림대(6B)는, 제1 타입의 롤러부(51)와 동일한 직경의 원주 또는 원통형 샤프트(52)를 가지며, 이 샤프트(52) 자체에 기판(G)을 실어 회전하도록 되어 있다. 또한, 제2 타입의 굴림대(6B)에는, 축 방향으로 적당한 간격을 두고 예컨대 고무제 미끄럼 방지 링(53)을 복수 개 장착하는 것이 바람직하다.
또한, 각 굴림대(6)(6A, 6B)는, 양단부가 베어링(55)에 회전 가능하게 지지되어 있고, 일단부측의 베어링(55)보다 외측 단부에 장착한 톱니바퀴 풀리(56)에 벨트 전동 기구의 타이밍 벨트(57)가 감겨져 있다. 이 타이밍 벨트(57)는 전기 모터로 이루어지는 반송 구동부(도시하지 않음)의 회전 구동축에 접속되어 있다. 또, 각 굴림대(6)의 톱니바퀴 풀리(56) 및 타이밍 벨트(57)는 하우징(30) 밖에 배치되어 있다.
여기서 제1 융기부(2a)를 형성하는 제2 반송 구간(M2), 및 제3 반송 구간(M3)의 구성에 대해 도 3을 이용하여 상세히 설명한다. 도 3은 제1 융기부(2a)를 형성하기 위해 마련되는 굴림대(6)의 승강 수단을 설명하기 위한 측면도이다.
도 3에 도시한 바와 같이, 상승 경사로가 되는 제2 반송 구간(M2)에 이용되는 제2 타입의 굴림대(6B)는, 그 베어링(55)이 승강축(60)에 의해 지지된다. 각 승강축(60)은, 각 굴림대(6B)에 대하여 마련되어, 예컨대 모터 구동의 실린더로 이루어지는 승강 구동부(61)에 의해 승강 가능하게 마련되고, 제어부(70)(제어 수단)의 구간(M2) 승강 제어부(71)에 의해 승강 제어가 이루어진다.
또한, 마찬가지로, 하강 경사로가 되는 제3 반송 구간(M3)에 이용되는 제1 타입의 굴림대(6A)는, 그 베어링(55)이 승강축(62)에 의해 지지된다. 각 승강축(62)은, 각 굴림대(6A) 에 대하여 마련된 승강 구동부(63)에 의해 승강 가능하게 마련되고, 제어부(70)의 구간(M3) 승강 제어부(72)에 의해 승강 제어가 이루어진다.
또한, 제2 반송 구간(M2)의 종단 부근에서의 굴림대(6)의 아래쪽에는, 기판(G)이 미리 결정된 위치에 도달한 것을 검출하여, 제어부(70)에 검출 신호를 출력하는 기판 검출부(65)(기판 검출 수단)가 마련된다. 이 기판 검출부(65)는, 예컨대, 기판 통과시의 요동 변위에 기초하여 검출 신호를 출력하는 진자 센서 등을 이용할 수 있다.
이 기판 검출부(65)에 의해 기판(G)의 선단이 제2 반송 구간의 종단 부근 (즉, 제3 반송 구간의 시작단 부근)에 도달한 것이 검출되면, 구간(M2) 승강 제어부(71), 구간(M3) 승강 제어부(72)의 제어에 의해 승강 구동부(61, 63)가 구동하고, 각 승강축(60, 62)이 상승하여 반송 구간(M2)에 상승 경사의 반송로가 형성되고, 반송 구간(M3)에 하강 경사의 반송로가 형성되도록 이루어져 있다[즉, 제1 융기부(2a)가 형성됨].
또한, 상기 제어부(70)는, 각 굴림대(6)를 회전 구동하기 위한 타이밍 벨트(57)가 접속된 상기 반송 구동부(도시하지 않음)의 구동 제어도 행하도록 구성되어 있다.
또한, 반송 구간(M2)과 반송 구간(M3)에 있어서 제1 융기부(2a)가 형성된 때에는, 상기한 바와 같이, 그 정상에 편평한 수평부(H)가 형성된다. 이 수평부(H)가 형성됨으로써, 린스 노즐(13)로부터 공급되는 린스액에 의한 린스 처리 직전까지 기판 전면에 현상액을 남겨, 미리 결정된 현상 처리를 행할 수 있도록 이루어져 있다.
계속해서, 이 현상 유닛(DEV)(1)에서의 전체 동작을 도 4의 흐름에 기초하고 도 5, 도 6의 상태 천이도를 적절하게 이용하여 설명한다. 또한, 도 5는 제1 융기부(2a)가 형성될 때의 반송 구간(M2, M3)의 굴림대 상승 제어 상태를 나타내고, 도 6은 이 때의 기판(G) 상의 현상액(D)의 상태를 나타내고 있다.
열적 처리부(도시하지 않음)에서 노광 후의 일련의 열 처리를 끝낸 기판(G) 은 반송 기구(도시하지 않음)에 의해 다단 유닛부(7)의 패스 유닛(PASS)에 반입된다.
도 1에 도시한 바와 같이, 이 패스 유닛(PASS) 내에는, 상기 반송 기구로부터 기판(G)을 수취하는 리프트 핀 승강 기구(40)가 마련된다. 이 리프트 핀 승강 기구(40)에 의해 반송 라인(2) 상에 기판(G)이 수평으로 이동 탑재되면, 반송 구동부의 구동에 의한 일정 속도(예컨대 40 mm/s)의 굴림대 반송으로 기판(G)은 이웃의 현상 유닛(DEV)(1)을 향해 반송된다(도 4의 단계 S1).
현상 유닛(DEV)(1)에서는, 최초에 현상부(3)에 있어서, 기판(G)이 반송 라인(2)의 제1 반송 구간(M1) 내를 수평 자세로 이동하는 동안에 정해진 곳의 현상 노즐(9)로부터 현상액(D)이 공급되어, 기판(G) 상에는 기판 전단으로부터 기판 후단을 향해 반송 속도와 동일한 주사 속도로 현상액(D)이 채워진다(도 4의 단계 S2, 도 6의 (a) 상태). 기판(G)으로부터 넘쳐흐른 현상액(D)은 팬(10)에 수집된다.
상기한 바와 같이 하여 현상액(D)이 채워진 기판(G)은, 직후에 제2 반송 구간(M2)으로 반송된다(도 4의 단계 S3). 여기서, 제2 반송 구간(M2)은, 도 5의 (a)에 도시한 바와 같이, 제1 반송 구간(M1)과 동일한 높이로 수평 반송로를 이루고 있다.
제2 반송 구간(M2)에 반송되는 기판(G)[기판(G)의 선단]이, 미리 결정된 위치, 구체적으로는 도 5의 (b)에 도시한 바와 같이, 린스부(4) 측의 제3 반송 구 간(M3)에 도달하면(도 4의 단계 S4), 기판 검출부(65)는 기판(G)을 검출하여, 검출 신호를 제어부(70)로 출력한다.
이 검출 신호를 수취한 제어부(70)는, 기판(G)을 반송하고 있는 굴림대(6)의 구동을 일단 정지하여, 기판(G)이 제2 반송 구간(M2) 상에서 일시적으로 미리 결정된 시간 정지한다(도 4의 단계 S5).
계속해서, 구간(M2) 승강 제어부(71)의 제어에 의해 각 승강 구동부(61)가 구동하여, 대응하는 승강축(60)을 상승 제어한다. 또한, 동시에, 구간(M3) 승강 제어부(72)의 제어에 의해 각 승강 구동부(63)가 구동하여, 대응하는 승강축(62)을 상승 제어한다.
이에 따라 굴림대(6)가 상승하여, 도 5의 (c)에 도시한 바와 같이, 산 모양의 제1 융기부(2a)가 형성된다(도 4의 단계 S6).
여기서, 제1 융기부(2a)의 정상은 편평한 수평부(H)가 형성되어 있기 때문에, 현상액의 표면 장력에 의해 중력에 의한 유하력(流下力)이 억제되고, 제1 융기부(2a)가 완전히 형성된 상태가 되어 비로소, 기판 상의 현상액이 아래쪽 즉, 뒤쪽으로 중력에 의해 이동하여 기판 후단으로부터 흘러 떨어지기 시작한다. 또한, 도 6의 (b)에 도시한 바와 같이 기판 선단 부분으로부터 현상액(D)이 뒤쪽으로 빠지기 시작한다. 또한, 흘러 떨어진 현상액은 팬(10)에 수집된다.
또한, 제1 융기부(2a)가 형성되면, 즉시 굴림대(6)의 구동이 시작된다. 여기서, 신속하게 린스 처리로 이행하도록, 굴림대(6)의 회동에 의한 반송 속도가 상 승 제어된다(고속으로 이루어짐). 기판(G)은, 이전까지의 반송 속도보다 빠른 속도(예컨대 60 mm/s)로 제3 반송 구간(M3)을 향해 반송이 시작된다(도 4의 단계 S7).
린스부(4)를 향해, 보다 고속으로 반송이 시작된 기판(G)은, 현상액(D)이 빠지기 시작한 기판 선단 방향에서부터 순서대로 기판 종단까지, 미리 결정된 위치에 마련된 균등 롤러(66)에 의해 균등 처리가 실시된다(도 4의 단계 S8). 이에 따라, 균등 처리가 실시된 부위에서는, 기판(G) 상으로부터 현상액(D)이 거의 남지 않는 상태가 된다.
그리고 균등 처리가 실시된 부위에는, 즉시, 그 후단에 마련된 린스 노즐(13)에 의해 린스액(W)이 공급된다(도 6의 (c)의 상태).
이 린스 노즐(13)에 의한 기판(G) 상으로의 린스액 공급은, 기판(G)이 제3 반송 구간(M3)의 하강 경사로를 내려갈 때, 도 5의 (d), 도 5의 (e)에 시계열로 나타낸 바와 같이 계속해서 행해진다(도 4의 단계 S9). 이에 따라, 기판(G) 상의 현상액(D)은 린스액(W)으로 완전히 치환되어, 현상이 정지된다.
또한, 기판(G) 앞쪽으로 흘러 떨어진 현상액 및 린스액은 팬(17)에 수집된다.
이와 같이 기판(G) 상의 처리액을 현상액(D)에서부터 린스액(W)으로 치환하는 처리에서는, 현상액과 린스액이 거의 섞이지 않고 또한 시간을 두지 않고 행할 수 있다. 따라서, 종래와 같이 현상액(D)이 흘러 떨어져 얼룩 형상으로 남은 상태로 방치되는 시간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
상기한 바와 같이 하여 현상 처리를 끝낸 기판(G)은, 수평인 제4 반송 구간(M4)을 통과하여, 다음 제5 반송 구간(M5)에서 제2 융기부(2b)의 상승 경사로를 올라간다. 이때, 기판(G) 상에 남아 있는 치환용 린스액이 기판 전단측에서부터 뒤쪽으로 중력에 의해 이동하여 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 또한, 위쪽의 린스 노즐(14)로부터 기판(G) 상에 일차 세정용 린스액이 공급되어, 오래된 린스액을 배출하면서 이 새로운 린스액도 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다(도 4의 단계 S10). 기판 뒤쪽으로 흘러 떨어진 린스액은 팬(17)에 수집된다. 이렇게 해서, 제2 융기부(2b)의 정점을 넘는 기판(G)은, 그 윗면에 일차 세정용 린스액이 얇은 액막으로 남아 있는 상태에서, 제2 융기부(2b)의 하강 경사로[제6 반송 구간(M6)]에 도달한다.
계속해서, 제2 융기부(2b)의 하강 경사로(M6)를 기판(G)이 내려갈 때는, 위쪽의 린스 노즐(15)에 의해 기판(G) 상에 이차 세정용의 새로운 린스액이 공급되어, 기판(G) 상에 엷게 남아 있던 일차 세정액을 앞쪽으로 쫓아보내면서 새로운 린스액도 기판 전단으로부터 흘러 떨어진다(도 4의 단계 S11). 기판(G)의 전방으로 흘러 떨어진 린스액은 팬(17)에 수집된다.
상기한 바와 같이 하여 린스 처리를 끝낸 기판(G)은, 수평인 제7 반송 구간(M7)을 통과하여, 다음 제8 반송 구간(M8)에서 상승 단차부(2c)의 경사로를 올라간다. 이때, 기판(G) 상에 남아 있는 마무리용 린스액이 기판 전단측에서부터 뒤쪽으로 중력에 의해 이동하여 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 또한, 위쪽의 린 스 노즐(16)로부터 기판(G) 상에 최종 세정용 린스액이 공급되어, 오래된 린스액을 배출하면서 이 새로운 린스액도 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다(도 4의 단계 S12). 기판(G) 뒤쪽으로 흘러 떨어진 린스액은 팬(17)에 수집된다. 그리고 기판(G)이 단차부(2c)를 올라가서, 건조부(5)측 즉, 제9 반송 구간(M9) 내의 상단 반송로로 들어가면, 에어 나이프(20)가 기판(G)에 대하여 반송 방향과 역방향으로 고압 가스류를 닿게 함으로써, 기판(G) 상에 남아 있던 린스액이 기판 뒤쪽으로 밀려가 기판 후단으로부터 배출된다(액 차단됨). 기판(G) 뒤쪽으로 비산된 린스액은 팬(17)에 수집된다.
이렇게 해서 현상 유닛(DEV)(1) 내에서 일련의 현상 처리 공정을 끝낸 기판(G)은, 그대로 반송 라인(2) 상을 바로 이동하여 하류측 옆의 탈색 프로세스부(8)에서 탈색 처리를 받고 나서, 다단 유닛부(도시하지 않음)의 패스 유닛(PASS)으로 보내진다(도 4의 단계 S13).
이상과 같이, 본 발명에 따른 실시형태에 의하면, 린스부 반입 전의 반송로를, 수평인 반송로에서부터 상승 경사의 반송로로 하는 구성으로 하여, 린스 처리 직전에 상승 경사로써 기판(G) 상에서부터 현상액(D)을 후단을 향해 흘려 떨어뜨려, 현상액(D)이 빠진 기판 선단에서부터 순서대로 린스 처리를 실시하는 구성으로 이루어져 있다.
이에 따라, 기판(G) 상의 현상액(D)을 즉시 린스액(W)으로 치환할 수 있다. 즉, 종래와 같이 현상액(D)이 흘러 떨어져 얼룩 형상으로 남은 상태로 방치되는 시 간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 린스 처리 전에 균등 롤러(66)에 의해 기판(G) 상의 현상액(D)을 고르게 하는 처리를 행함으로써, 린스액(W)이 공급되는 기판(G) 상의 부위로부터 현상액(D)을 거의 제거할 수 있고, 이에 따라 현상액(D)과 린스액(W)이 혼합되지 않아, 이에 의한 현상 얼룩을 억제하고 현상액(D)과 린스액(W)의 분별 회수를 용이하게 할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 반송 구간(M2)의 상승 제어에 맞춰 반송 구간(M3)도 상승 제어되어, 제1 융기부(2a)를 형성하도록 했지만, 반송 구간(M2)의 승강 동작에 관계없이, 반송 구간(M3)을 하강 반송로의 상태로 해 두더라도 좋다.
또한, 기판(G)을 반송 구간(M2)으로 반송하고, 미리 결정된 위치에서 반송 정지한 후, 반송 구간(M2)을 상승 제어하여 상승 경사의 반송로를 형성하도록 제어했지만, 기판(G)의 반송을 정지하지 않고, 반송하면서 반송 구간(M2)의 상승 제어를 행하여 상승 경사의 반송로를 형성하도록 제어하더라도 좋다.
도 1은 본 발명의 기판 처리 장치를 적용 가능한 현상 유닛(DEV)의 전체 구성을 모식적으로 도시한 도면.
도 2는 제2 반송 구간에 이용하기 적합한 굴림대 반송로의 구성을 도시하는 평면도.
도 3은 제1 융기부를 형성하기 위해 마련되는 굴림대의 승강 수단을 설명하기 위한 측면도.
도 4는 현상 유닛(DEV)에서의 전체 동작의 흐름을 나타내는 흐름도.
도 5는 제1 융기부가 형성될 때의 제2, 제3 반송 구간의 굴림대 상승 제어 상태를 나타내는 도면.
도 6은 제1 융기부가 형성되어 린스 처리가 행해질 때의 기판 상의 현상액의 상태를 나타내는 도면.
도 7은 종래의 현상 유닛의 주요부를 모식적으로 도시한 도면.
도 8은 하프톤 노광 처리를 설명하기 위한 도면.
도 9는 종래의 현상 유닛에서 기판 상의 현상액을 흘려 떨어뜨리는 상태를 나타내는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1: 현상 유닛(기판 처리 장치) 2: 반송 라인
9: 현상액 공급 노즐(제1 처리액 공급부)
13: 린스액 공급 노즐(제2 처리액 공급부)
60: 승강축(승강 수단) 61: 승강 구동부(승강 수단)
62: 승강축(승강 수단) 63: 승강 구동부(승강 수단)
65: 기판 검출부(기판 검출 수단) 66: 균등 롤러(표면 균등 수단)
70: 제어부(제어 수단) G: 피처리 기판
D: 현상액(제1 처리액) W: 린스액(제2 처리액)

Claims (10)

  1. 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 미리 결정된 액 처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하며 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 장치로서,
    상기 피처리 기판을 반송하기 위한 반송체를 미리 결정된 반송 방향으로 부설(敷設)하고, 상기 반송 방향에서 실질적으로 수평인 반송로를 갖는 제1 반송 구간과, 상기 제1 반송 구간에 계속되는 상승 경사의 반송로를 수평인 반송로로부터 형성 가능한 제2 반송 구간과, 상기 제2 반송 구간이 상승 경사인 상태에서, 상기 제2 반송 구간에 계속되는 하강 경사의 반송로를 형성하는 제3 반송 구간을 포함하는 평류의 반송 라인과,
    상기 반송 라인 상에서 상기 기판을 반송하기 위해 상기 반송체를 구동하는 반송 구동부와,
    상기 제1 반송 구간 내에서 상기 기판 상에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급부와,
    상기 제3 반송 구간 내에서 상기 기판 상에 제2 처리액을 공급하는 제2 처리액 공급부와,
    상기 제2 반송 구간에 상기 피처리 기판이 적재된 상태에서, 상기 제2 반송 구간에 부설된 반송체를 상승 이동시켜, 상기 제1 반송 구간에 계속되는 상승 경사의 반송로를 형성하는 승강 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 반송 라인에 있어서,
    상기 승강 수단에 의해 상승 경사가 된 상기 제2 반송 구간과 하강 경사의 상기 제3 반송 구간에 의해 형성되는 융기부의 정상에는, 수평부가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 피처리 기판 상에, 상기 제1 처리액이 공급된 후 상기 제2 처리액이 공급되기 전에, 상기 반송 라인 상에 반송되는 피처리 기판에 대하여, 상기 기판 상에 잔존하는 제1 처리액을 고르게 하는 표면 균등 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 표면 균등 수단은, 기판 폭 방향을 따라 마련되고, 기판 표면에 접촉함으로써 상기 기판 표면을 고르게 하는 롤러, 또는 기판 표면에 미리 결정된 가스류를 닿게 함으로써 상기 기판 표면을 고르게 하는 에어 나이프, 또는 기판 표면에 접촉함으로써 상기 기판 표면을 고르게 하는 판 부재인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 승강 수단의 구동을 제어하는 제어 수단과,
    상기 제2 반송 구간에 반송되는 피처리 기판이 미리 결정된 위치에 도달한 것을 검출하여, 검출 신호를 상기 제어 수단에 출력하는 기판 검출 수단을 포함하고,
    상기 제어 수단은, 상기 기판 검출 수단으로부터 상기 검출 신호를 수취하면, 상기 승강 수단을 구동시켜, 상기 제2 반송 구간에, 상기 제1 반송 구간에 계속되는 상승 경사의 반송로를 형성시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제3 반송 구간에 부설된 반송체는, 상기 승강 수단에 의해 상승 이동 가능하게 마련되고,
    상기 제어 수단은, 상기 기판 검출 수단으로부터 상기 검출 신호를 수취하면, 상기 승강 수단을 구동시켜, 상기 제3 반송 구간에, 상기 제2 반송 구간에 계속되는 하강 경사의 반송로를 형성시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 미리 결정된 액 처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하여 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 방법으로서,
    제1 반송 구간에 수평 자세로 반송되는 피처리 기판에 대하여, 상기 제1 처리액을 공급하는 단계와,
    상기 제1 처리액이 공급된 피처리 기판을 수평 자세인 채로 제2 반송 구간으 로 반송하는 단계와,
    상기 제2 반송 구간으로 반송되는 상기 피처리 기판이 미리 결정된 위치에 도달한 것을 검출하는 단계와,
    상기 검출이 이루어진 후, 상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로를 형성하는 단계와,
    상기 상승 경사의 제2 반송 구간에 계속하여 형성된 하강 경사의 반송로를 이루는 제3 반송 구간에 상기 피처리 기판을 반송하여, 상기 피처리 기판에 상기 제2 처리액을 공급하는 단계를 실행하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제2 반송 구간으로 반송되는 상기 피처리 기판이 미리 결정된 위치에 도달한 것을 검출한 후, 상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로를 형성하는 단계와 동시에, 상기 제3 반송 구간에 상기 제2 반송 구간에 계속되는 하강 경사의 반송로를 형성하는 단계가 실행되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상기 제2 반송 구간으로 반송되는 상기 피처리 기판이 미리 결정된 위치에 도달한 것을 검출하는 단계 후,
    피처리 기판의 반송을 정지하는 단계를 실행하고,
    상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로를 형성하는 단계를 실행하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  10. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상기 제2 반송 구간에 상승 경사의 반송로가 형성된 후, 상기 제3 반송 구간에 반송되는 상기 피처리 기판의 속도가 상승 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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