KR20120064039A - 현상 방법, 현상 장치, 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템 - Google Patents

현상 방법, 현상 장치, 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템 Download PDF

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KR20120064039A
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Abstract

현상액을 공급할 때의 기판 반송 속도와, 현상액을 제거할 때의 기판 반송 속도를 제어하여, 레지스트 패턴을 균일화하는 레지스트 현상 장치가 제공된다. 이 현상 장치는, 노광된 레지스트막을 갖는 기판을 반송하는 제1 반송 기구, 및 제1 반송 기구에 의해 반송되는 기판의 표면에 현상액을 공급하는 공급 노즐을 갖는 현상액 공급부와, 현상액으로 표면이 덮인 기판을 반송하는 제2 반송 기구를 갖는 현상부와, 기체를 토출해서 기판의 표면을 덮는 현상액을 제거하는 블로우 노즐, 및 블로우 노즐을 향해서 기판을 반송하는 제3 반송 기구를 갖는 블로우부와, 현상액이 제거된 기판의 표면에 린스액을 공급하는 린스액 공급 노즐을 갖는 린스부와, 제1 반송 기구로 반송되는 기판의 반송 속도와, 제3 반송 기구로 반송되는 기판의 반송 속도가 상이하도록 제1 및 제3 반송 기구를 제어하는 제어부를 구비한다.

Description

현상 방법, 현상 장치, 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템{DEVELOPING METHOD AND DEVELOPING APPARATUS AND COATING AND DEVELOPING APPARATUS WITH IT}
본 발명은 플랫 패널 디스플레이(FPD)용의 글래스 기판 등에 형성된 포토레지스트 막을 현상하는 현상 방법, 현상 장치, 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템에 관한 것이다.
FPD를 제조하는 공정의 하나로 포토리소그래피 공정이 있다. 이 공정에 있어서는, FPD용의 글래스 기판에 포토레지스트 막을 형성하고, 이 포토레지스트 막을 소정의 포토마스크를 사용해서 노광하고, 노광된 포토레지스트 막을 현상하는 각 스텝이 행해진다.
FPD용의 글래스 기판의 대형화에 따라, 포토레지스트 막의 형성 스텝과 현상 스텝은, 일반적으로, 롤러나 롤러 등을 포함하는 반송 기구에 의해 글래스 기판을 반송하면서 행해진다(예를 들어 특허문헌 1 및 2).
포토레지스트 막의 현상 스텝에서는, 글래스 기판으로의 현상액의 공급과, 소정 시간의 현상과, 린스액에 의한 현상액의 씻어내기와, 린스액의 건조가 글래스 기판을 반송하면서 행해진다. 이렇게 해서 형성되는 포토레지스트 패턴의 선 폭이나 비어 직경 등을 글래스 기판의 면내에서 균일화하기 위해, 실질적인 현상 시간(현상액이 공급되어서 현상이 시작되고 나서, 린스액에 의해 현상액이 씻겨져 현상이 정지할 때까지의 시간)을 글래스 기판의 면내에서 동등하게 하는 것이 요망된다. 이로 인해, 글래스 기판에 현상액을 공급할 때의 기판 반송 속도와, 린스액에서 현상액을 씻어낼 때의 기판 반송 속도를 동등하게 하는 것이 바람직하다(특허문헌 3 참조).
일본 특허 출원 공개 제2007-5695호 공보 일본 특허 출원 공개 제2008-159663호 공보 일본 특허 제3552187호의 명세서
그런데, 현상액의 재이용을 위해, 예를 들어 글래스 기판을 기울임으로써 현상액을 글래스 기판으로부터 흘려 떨어뜨려서 현상액을 회수하는 경우가 있다. 이 경우, 글래스 기판 상을 현상액이 흐르기 때문에, 그 흐름의 하류측에 있어서, 포토레지스트 막이 다량의 현상액에 노출되거나, 현상액이 실질적으로 교반되거나 한다. 그렇게 되면, 현상액의 흐름의 하류측에 있어서 포토레지스트 막의 현상이 촉진되어(예를 들어 선 폭이 좁아져), 글래스 기판의 면내에서 포토레지스트 패턴이 불균일화될 우려가 있다. 즉, 이러한 상황에 있어서는, 글래스 기판에 현상액을 공급할 때의 기판의 반송 속도와, 린스액으로 현상액을 씻어낼 때의 기판의 반송 속도를 동등하게 해도 포토레지스트 패턴의 균일화를 도모할 수 없다.
또한, 반송되고 있는 글래스 기판의 반송 방향의 전단부 근방에 현상액이 공급될 때(즉 현상액의 공급이 개시될 때)에는, 현상액의 공급량(또는 공급 속도)이나 기판 반송 속도에 따라서는, 글래스 기판상의 현상액에 난류가 발생하거나, 현상액이 회류하거나 함으로써 현상이 촉진될 경우가 있다. 이 경우, 글래스 기판의 후단부측에 비해 전단부측에 있어서, 예를 들어 선 폭이 좁아지게 된다. 즉, 이러한 상황에 있어서도, 글래스 기판에 현상액을 공급할 때의 기판의 반송 속도와, 린스액으로 현상액을 씻어낼 때의 기판의 반송 속도를 동등하게 해도 포토레지스트 패턴의 균일화를 도모할 수 없다.
본 발명은, 상기의 사정을 감안하여 이루어 진 것으로, 기판에 현상액을 공급할 때의 기판의 반송 속도와, 현상액을 제거할 때의 기판의 반송 속도를 제어함으로써, 기판의 면내에서 포토레지스트 패턴을 균일화하는 것이 가능한 포토레지스트의 현상 방법, 현상 장치, 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템을 제공한다.
본 발명의 제1 형태에 따르면, 노광된 포토레지스트 막을 표면에 갖는 기판을 제1 반송 속도로 반송하면서, 당해 표면에 현상액을 공급하는 공정과, 상기 현상액으로 표면이 덮인 상기 기판을 제2 반송 속도로 반송하는 공정과, 상기 제1 반송 속도와 다른 제3 반송 속도로 상기 기판을 반송하면서, 당해 기판의 표면을 덮는 현상액을 기체로 제거하는 공정과, 상기 제거 공정에 이어서 상기 기판을 상기 제3 반송 속도로 반송하면서, 상기 표면에 린스액을 공급하는 공정을 포함하는 포토레지스트 막의 현상 방법이 제공된다.
본 발명의 제2 형태에 따르면, 노광된 포토레지스트 막을 표면에 갖는 기판을 반송하는 제1 반송 기구, 및 상기 제1 반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 표면에 현상액을 공급하는 공급 노즐을 갖는 현상액 공급부와, 상기 공급 노즐로부터 공급된 상기 현상액으로 표면이 덮인 상기 기판을 반송하는 제2 반송 기구를 갖는 현상부와, 기체를 토출해서 상기 기판의 표면을 덮는 상기 현상액을 제거하는 블로우 노즐, 및 상기 블로우 노즐을 향해서 상기 기판을 반송하는 제3 반송 기구를 갖는 블로우부와, 상기 현상액이 제거된 상기 기판의 표면에 린스액을 공급하는 린스액 공급 노즐을 갖는 린스부와, 상기 제1 반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 제1 반송 속도와, 상기 제3 반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 제3 반송 속도가 상이하도록 상기 제1 반송 기구 및 상기 제3 반송 기구를 제어하는 제어부를 구비하는 포토레지스트 막의 현상 장치가 제공된다.
본 발명의 제3 형태에 따르면, 기판 상에 포토레지스트 막을 형성하는 포토레지스트 막 형성 장치와, 노광된 상기 포토레지스트 막을 현상하는 제2 형태의 포토레지스트 막의 현상 장치를 구비하는, 도포 현상 처리 시스템이 제공된다.
본 발명의 제4 형태에 따르면, 기판을 수평으로 반송하면서, 기판에 현상 처리를 행하는 현상 처리 장치이며, 제1 반송 속도로 반송되는 기판에, 현상액을 공급하기 위한 현상액 공급 노즐과, 현상 처리를 종료하기 위해서, 현상액이 도포된 기판을, 제1 반송 속도와 다른 제2 반송 속도로 반송하면서, 상기 기판에 대하여 린스액을 공급하는 린스액 공급 노즐을 구비하는 현상 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 제5 형태에 따르면, 기판을 수평으로 반송하면서, 기판에 현상 처리를 행하는 현상 처리 장치이며, 제1 반송 속도로 반송되는 기판에, 현상액을 공급하기 위한 현상액 공급 노즐과, 현상 처리를 종료하기 위해서, 현상액이 도포된 기판을, 제1 반송 속도와 다른 제2 반송 속도로 반송하면서, 상기 기판에 대하여 린스액을 공급하는 린스액 공급 노즐과, 현상 처리가 종료한 기판에 형성된 패턴의 치수를 측정하는 측정부를 갖고, 상기 측정부의 측정 결과에 기초하여, 상기 제1 반송 속도 또는 상기 제2 반송 속도를 재설정하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 실시형태에 따르면, 기판에 현상액을 공급할 때의 기판의 반송 속도와, 현상액을 제거할 때의 기판의 반송 속도를 제어함으로써, 기판의 면내에서 포토레지스트 패턴을 균일화하는 것이 가능한 포토레지스트의 현상 방법, 현상 장치, 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템이 제공된다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 의한 도포 현상 처리 시스템을 개략적으로 도시하는 상면도,
도 2는 도 1의 도포 현상 처리 시스템에 설치되는, 본 발명의 실시형태에 의한 현상 장치를 도시하는 도면,
도 3은 도 2의 현상 장치의 동작을 설명하는 도면,
도 4는 도 3에 이어서 도 2의 현상 장치의 동작을 설명하는 다른 도면,
도 5는 도 4에 이어서 도 2의 현상 장치의 동작을 설명하는 다른 도면,
도 6은 도 5에 이어서 도 2의 현상 장치의 동작을 설명하는 또 다른 도면,
도 7은 기판 전단부의 현상액의 상태를 설명하는 도면,
도 8은 기판 후단부의 현상액의 상태를 설명하는 도면.
이하, 첨부 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시형태에 의한 현상 장치 및 이를 구비하는 도포 현상 처리 시스템을 설명한다. 이하의 설명에 있어서, 동일 또는 대응하는 부품 또는 부재에는, 동일 또는 대응하는 참조 번호를 부여하고, 중복하는 설명을 생략한다.
우선, 도 1을 참조하면서, 본 발명의 실시형태에 의한 포토레지스트의 도포 현상 처리 시스템을 설명한다.
도시한 바와 같이, 도포 현상 처리 시스템(100)은, 복수의 글래스 기판(S)(이하, 단순히 기판(S)이라고 한다)을 수용하는 카세트(C)가 적재되는 카세트 스테이션(1)과, 기판(S)에 포토레지스트의 도포 및 현상을 포함하는 일련의 처리를 행하는 처리 스테이션(2)과, 처리 스테이션(2)에 있어서 기판(S)의 표면에 형성된 포토레지스트 막을 노광하는 노광 장치(9)와의 사이에서 기판(S)의 전달을 행하는 인터페이스 스테이션(4)을 구비하고 있다. 카세트 스테이션(1), 처리 스테이션(2), 및 인터페이스 스테이션(4)은, 도면 중의 X 방향을 따라 배치되어 있다.
카세트 스테이션(1)은, 카세트(C)를 도면 중의 Y 방향으로 나란히 설치가능한 적재대(12)와, 적재대(12)의 X 방향측에 결합되어, 처리 스테이션(2)과의 사이에서 기판(S)의 반입·반출을 행하는 반송 장치(11)를 구비한다. 반송 장치(11)는 반송 아암(11a)을 갖고, 반송 아암(11a)은 Y 방향으로 연장되는 가이드(10)를 따라 이동 가능하고, 상하 이동, 전후 이동 및 수평 회전 가능하다.
처리 스테이션(2)에는, 카세트 스테이션(1)으로부터 인터페이스 스테이션(4)을 향하는 방향으로, 엑시머 UV 조사 유닛(e-UV ; 21), 스크럽 세정 유닛(SCR ; 22), 예열 유닛(PH ; 23), 어드히젼 유닛(AD ; 24), 냉각 유닛(COL ; 25), 포토레지스트 도포 유닛(CT ; 26), 감압 건조 유닛(DP ; 27), 가열 처리 유닛(HT ; 28), 및 냉각 유닛(COL ; 29)이 순서대로 배열되어 있다.
또한, 처리 스테이션(2)에는, 인터페이스 스테이션(4)으로부터 카세트 스테이션(1)을 향하는 방향으로, 현상 유닛(DEV ; 30), 가열 처리 유닛(HT ; 31), 냉각 유닛(COL ; 32), 및 검사 장치(IP ; 35)가 순서대로 배열되어 있다.
이들 유닛(및 유닛 사이)에는, 현상 유닛(30)에 있어서의 롤러(170)(후술)를 포함하는 롤러 반송 기구와 동일한 롤러 반송 기구가 설치되어 있다. 이로써, 기판(S)은 도면 중의 화살표 A로 도시하는 반송 라인(A)과, 화살표 B로 도시하는 반송 라인(B)에 따라 상기의 유닛에 순서대로 반송된다.
이렇게 구성된 포토레지스트 도포 현상 처리 시스템(100)에 있어서, 기판(S)은 아래와 같이 처리된다.
우선, 반송 장치(11)의 반송 아암(11a)에 의해, 카세트 스테이션(1)의 적재대(12)에 적재된 카세트(C)로부터 기판(S)이 취출되어, 반송 라인(A)을 따라, 처리 스테이션(2)의 엑시머 UV 조사 유닛(21)에 반송된다. 여기서, 자외 영역 광을 발하는 자외 영역 광 램프로부터 기판(S)에 대하여 자외 영역 광이 조사되어, 기판(S) 위에 흡착된 유기물이 제거된다. 이어서 스크럽 세정 유닛(22)에 기판(S)이 반송되고, 세정액(예를 들어 탈이온수(DIW))이 기판(S)에 공급되면서 브러시 등의 세정 부재에 의해 기판(S)의 표면이 세정되어, 블로워 등으로 건조된다. 세정 건조된 기판(S)은, 예열 유닛(23)으로 반송되고, 가열되어서 다시 건조된다. 이어서 기판(S)은, 어드히젼 유닛(24)으로 반송되고, 가열한 기판(S)에 대하여 헥사메틸디실란(HMDS)을 분사함으로써 기판(S)에 대하여 소수화 처리가 행해진다. 소수화 처리 후, 기판(S)은 냉각 유닛(25)으로 반송되고, 기판(S)에 대하여 냉풍을 분사함으로써 기판(S)이 냉각되고, 소정의 온도로 유지된다.
계속해서 기판(S)은 포토레지스트 도포 유닛(26)에 반송된다. 포토레지스트 도포 유닛(26) 내에서는, 기판(S)이 반송 라인(A)을 따라 이동하면서, 기판(S) 위로 포토레지스트 액이 공급되고, 기판(S) 위로 포토레지스트 막이 형성된다.
포토레지스트 막이 형성된 기판(S)은, 반송 라인(A) 상을 반송되어, 내부 공간을 감압 가능하게 구성하는 감압 건조 유닛(27)으로 반송되고, 감압 분위기 하에서 포토레지스트 막이 건조된다. 다음에, 기판(S)은 가열 처리 유닛(28)으로 반송된다. 여기에서는, 기판(S)이 가열되고, 포토레지스트 막에 포함되는 용제 등이 제거된다. 가열 처리후, 기판(S)은 냉각 유닛(29)으로 반송되고, 기판(S)에 대하여 냉풍을 분사함으로써 기판(S)이 냉각된다.
냉각 유닛(29)에서 냉각된 기판(S)은, 반송 라인(A) 상을 하류 측단부까지 반송된 후, 인터페이스 스테이션(4)의 상하 이동, 전후 이동 및 수평 회전 가능한 반송 아암(43)에 의해 기판(S)의 전달부인 로터리 스테이지(RS ; 44)로 반송된다. 다음에, 기판(S)은, 반송 아암(43)에 의해 외부 장치 블록(90)의 주변 노광 장치(EE)로 반송된다. 주변 노광 장치(EE)에서는, 기판(S)의 외주부의 포토레지스트 막을 제거하기 위해서, 기판(S)에 대하여 노광 처리가 행해진다. 이어서, 기판(S)은, 반송 아암(43)에 의해 노광 장치(9)로 반송되고, 회로 패턴에 대응한 패턴을 갖는 포토마스크를 통해서 포토레지스트 막이 노광된다. 또한, 기판(S)은, 로터리 스테이지(44) 상의 버퍼 카세트에 일시적으로 수용된 후에, 노광 장치(9)로 반송되는 경우가 있다. 노광 처리가 종료한 기판(S)은, 반송 아암(43)에 의해 외부 장치 블록(90)의 타이틀러(TITLER)로 반송되고, 여기에서 소정의 정보가 기판(S)에 기입된다.
그 후, 기판(S)은 반송 라인(B) 상을 반송되어 현상 유닛(30)에 이른다. 현상 유닛(30)에서는, 후술하는 바와 같이, 노광된 포토레지스트 막이 현상액에 의해 현상되고, 린스액에 의해 현상액이 씻겨지고, 린스액이 건조된다.
다음에, 기판(S)은, 반송 라인(B) 상을 반송되어 가열 처리 유닛(31)에 이르고, 여기에서 가열되어, 포토레지스트 막에 남은 용제 및 린스액(수분)이 제거된다. 또한, 가열 처리 유닛(31)에 있어서도, 기판(S)은, 롤러 반송 기구에 의해 반송 라인(B) 상을 반송되면서 가열된다. 현상 유닛(30)과 가열 처리 유닛(31) 사이에는, 현상액의 탈색 처리를 행하는 i선 UV 조사 유닛을 설치해도 좋다. 가열 처리 유닛(31)에서의 가열 처리가 종료된 기판(S)은, 냉각 유닛(32)으로 반송되어, 여기에서 냉각된다.
냉각된 기판(S)은, 검사 유닛(35)으로 반송되고, 예를 들어 포토레지스트 패턴(라인)의 한계 치수(CD)의 측정 등의 검사가 행해진다. 이 후, 기판(S)은, 카세트 스테이션(1)에 설치된 반송 장치(11)의 반송 아암(11a)에 의해 적재대(12)에 적재된 소정의 카세트(C)에 수용되어, 일련의 처리가 종료된다.
다음에, 도 2를 참조하면서, 본 실시형태에 의한 현상 유닛(30)에 대해서 설명한다. 도 2a는 현상 유닛(30)의 개략 상면도이며, 도 2b는 현상 유닛(30)의 개략 측면도이다. 이들 도면에 있어서는, 기판(S)과 현상 유닛(30)의 각 부와의 위치 관계를 도시하기 위해서, 각 부에 기판(S)이 배치된 상태를 도시하고 있다.
도시한 바와 같이, 현상 유닛(30)은, 외부 장치 블록(90)으로부터 가열 처리 유닛(31)(도 1 참조)을 향하는 방향으로 순서대로 배치되는 도입부(30A), 현상액 공급부(30B), 현상부(30C), 블로우부(30D), 및 린스부(30E)를 갖고 있다.
도입부(30A)는, 외부 장치 블록(90)에 접속하고, 표면에 포토레지스트 막이 형성된 기판(S)을 외부 장치 블록(90)으로부터 수취하고, 현상액 공급부(30B)로 반송한다. 구체적으로는, 도입부(30A)에는 복수의(도시한 예에서는 8개의) 롤러(170)가 서로 평행하게 소정의 간격으로 배열되어 있다. 이들 롤러(170)는, 기판(S)의 폭보다도 길고, 같은 높이로 배치되어 있다. 이로 인해, 기판(S)은, 롤러(170) 상에 안정적으로 지지된다. 또한, 롤러(170)의 각각은, 중심축을 회전 중심으로 해서 회전가능하고, 구동 장치(M1)에 의해 구동되어 동일 방향으로 같은 속도로 회전할 수 있다. 이로써 롤러(170) 상의 기판(S)은 소정의 반송 속도로 반송된다. 구동 장치(M1)는 예를 들면 전동 모터라도 좋다. 이하의 설명에서는 모터(M1)라고 한다. 모터(M1)는 제어부(60)에 의해 제어되고, 이에 의해 롤러(170)의 회전 속도, 즉 기판(S)의 반송 속도가 제어된다.
또한, 롤러(170), 모터(M1)(구동 장치), 및 제어부(60)는, 현상액 공급부(30B) 및 현상부(30C)에 있어서도 동일한 구성을 갖고, 동일하게 기능하기 때문에, 이들 설명은, 현상액 공급부(30B) 및 현상부(30C)의 설명에 있어서는 생략한다.
또한, 현상 유닛(30)은, 도입부(30A)와 외부 장치 블록(90) 사이에 배치되는 반입부를 갖고 있어도 된다. 반입부는, 도입부(30A)와 동일한 구성을 가질 수 있고, 외부 장치 블록(90)과 현상 유닛(30) 사이에서의 기판(S)의 반송 간격을 조정하는 버퍼로서 기능할 수 있다.
현상액 공급부(30B)는 도입부(30A)와 연속하도록 배치되어 있다. 구체적으로는, 도입부(30A)와 현상액 공급부(30B)의 경계에 있어서의 롤러(170)의 간격은, 도입부(30A) 내 및 현상액 공급부(30B) 내에 있어서의 롤러(170)의 간격과 거의 같고, 또한, 롤러(170)의 배치 높이는, 도입부(30A)와 현상액 공급부(30B) 사이에서 동등하다. 이로써, 기판(S)은, 도입부(30A)로부터 현상액 공급부(30B)에 원활하게 반입된다. 또한, 현상액 공급부(30B)에는, 기판(S)의 표면에 현상액을 공급하는 현상액 공급 노즐(50)이 설치되어 있다. 현상액 공급 노즐(50)은, 기판(S)의 반송 방향과 직교하는 방향[롤러(170)의 길이 방향과 평행한 방향]으로 연장되고, 도 2a에 도시한 바와 같이, 기판(S)의 폭보다도 약간 길다. 현상액 공급 노즐(50)은, 소정의 간격을 두고 하방으로 개방되는 복수의 구멍(또는 현상액 공급 노즐(50)의 길이 방향으로 연장되는 슬릿)을 갖고 있고, 기판(S)의 표면의 전체 폭에 대하여 현상액 공급원(도시하지 않음)로부터의 현상액을 공급한다. 또한, 현상액 공급 노즐(50)은, 도 2b에 도시한 바와 같이, 도입부(30A)와 현상액 공급부(30B)의 경계 근처에 배치되어 있다. 이 때문에, 도입부(30)에서 현상액 공급부(30B)로 반입되는 것과 거의 동시에 기판(S)에 대한 현상액의 공급이 개시된다.
현상부(30C)는 현상액 공급부(30B)와 연속하도록 배치되어 있다. 기판(S)은, 현상액 공급부(30B)에 있어서 공급된 현상액으로 표면이 덮인 상태로, 현상액 공급부(30B)에서 현상부(30C)로 반입되고, 같은 상태에서 현상부(30C)내를 반송된다.
블로우부(30D)는 현상부(30C)와 연속하도록 배치되어 있다. 블로우부(30D)에 있어서는, 기판(S)의 반송 방향을 따른 하류측에서 롤러(170)의 배치 높이에 단차가 설치되어 있다. 구체적으로는, 8개의 롤러(170) 중, 기판(S)의 반송 방향 상류측으로부터의 7개째의 롤러(170)가 6개째의 롤러(170)보다도 예를 들어 3㎜ 내지 5㎜ 높은 위치에 배치되고, 또한, 8개째의 롤러(170)는 6개째의 롤러(170)보다도 예를 들어 6㎜ 내지 10㎜ 높은 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 블로우부(30D) 내에 있어서 롤러(170)에 의해 반송되는 기판(S)은, 반송 방향의 전단부로부터 후단부를 향해서 낮아지도록 오목 형상으로 휘게 된다. 이렇게 휨으로써, 기판(S)의 표면을 덮는 현상액은, 기판(S)의 반송 방향과는 반대 방향으로 흘러서 기판(S)의 후단부로부터 하방으로 흘러내린다. 롤러(170)의 하방에는, 도시하지 않은 트레이(또는 팬)이 설치되어 있다. 하방으로 흘러 내린 현상액은 트레이에 수집되고, 트레이에 설치된 소정의 배관을 통해 회수된다. 이로써, 현상액을 재이용할 수 있어, 현상액을 절약하는 것이 가능해진다.
또한, 블로우부(30D)에는, 후단의 린스부(30E)와의 경계 근처에 블로우 노즐(51)이 배치되어 있다. 블로우 노즐(51)은, 도 2a에 도시한 바와 같이, 기판(S)의 반송 방향과 직교하는 방향으로 연장되고, 기판(S)의 폭보다도 길다. 블로우 노즐(51)의 하부에는, 소정의 간격으로 복수의 구멍[또는 블로우 노즐(51)의 길이 방향으로 연장되는 슬릿]이 형성되어 있고, 도시하지 않은 청정 공기 공급원으로부터의 청정 공기가 하방을 향해서 토출되어, 에어 커튼이 형성된다. 기판(S)이 에어 커튼을 가로 지르면, 에어 커튼에 의해 기판(S) 상의 현상액이 전체 폭에 걸쳐 라인 형상으로 제거된다. 이로써, 기판(S) 상의 포토레지스트 막의 현상이 실질적으로 정지된다.
린스부(30E)는 블로우부(30D)와 연속하도록 배치되어 있다. 구체적으로는, 린스부(30E)에 있어서의 기판 반송 방향을 따른 최상류측의 롤러(170)는, 블로우부(30D)에 있어서의 기판 반송 방향을 따른 최하류측의 롤러(170)에 대하여 극단적인 단차가 생기지 않도록 배치되어, 최상류측의 롤러(170)에 후속하는 롤러(170)는, 차례로 높이가 낮아지도록 배치되어 있다. 이로써, 블로우부(30D)에 있어서(대략 오목 형상) 휜 기판(S)은, 린스부(30E)에 있어서는 역방향으로 휘고, 점차 평탄하게 된다. 롤러(170)의 길이 방향이나 간격 등은 린스부(30E)에 있어서도 블로우부(30D) 등과 같다.
또한, 린스부(30E)에는, 예비 린스 노즐(52)이 설치되어 있다. 예비 린스 노즐(52)은, 도 2a에 도시한 바와 같이, 기판(S)의 반송 방향과 직교하는 방향으로 연장되고, 기판(S)의 폭보다도 길고, 또한, 하부에, 소정의 간격으로 복수의 구멍이 형성되어 있다. 예비 린스 노즐(52)은, 도시하지 않은 린스액(예를 들어 DIW)의 공급원과 접속되어 있고, 기판(S)의 전체 폭에 걸쳐 린스액을 토출한다. 예비 린스 노즐(52)은, 블로우부(30D)의 블로우 노즐(51)에 인접해서(예를 들어 30㎜의 간격으로) 설치되어 있고, 현상액이 제거된 후, 포토레지스트 막이 완전하게 건조되기 전에, 포토레지스트 막을 린스액으로 적실 수 있다. 이 때문에, 현상에 의해 형성된 포토레지스트 패턴의 표면 또는 측면에 남은 현상액을 린스액 중으로 용해시키는 것이 가능하다. 또한, 기판 반송 방향에 대하여 예비 린스 노즐(52)의 하류측에는, 린스 노즐(53)이 설치되어 있다. 린스 노즐(53)은, 예비 린스 노즐(52)과 마찬가지로 기판(S)의 전체 폭에 걸쳐 린스액을 토출할 수 있고, 이로써, 린스액 중에 용해된 현상액을 린스 액과 함께 씻어낼 수 있다. 또한, 린스 노즐(53)은 경사지도록 배치되고, 롤러(170)로 형성되는 기판(S)의 경사에 따른 방향을 향해서 린스액을 공급할 수 있다. 따라서, 현상액을 효율적으로 씻어낼 수 있다.
린스액에 의해 현상액이 씻겨진 기판(S)은 린스부(30E)와 연속하도록 배치되는 건조부(도시 생략)로 반송된다. 건조부는, 도입부(30A) 등과 동일한 롤러 반송 기구와, 롤러 반송 기구에 의해 반송되는 기판(S)에 대하여 청정 공기를 토출해서 기판(S)을 건조하는 에어 나이프(도시하지 않음)를 구비할 수 있다. 건조부에 의해 건조된 기판(S)은 롤러 반송에 의해 가열 처리 유닛(31)(도 1 참조)으로 반송된다.
또한, 린스부(30E)와 건조부의 사이에, 하나 또는 복수의 린스 노즐을 갖는 다른 린스부를 설치해도 좋다. 이것에 따르면, 현상액을 보다 확실히 씻어낼 수 있다.
또한, 현상 유닛(30)에는, 현상 유닛(30) 내를 반송되는 기판(S)의 위치를 검출하는 복수의 센서(도시하지 않음)가 적절하게 설치되어 있다. 이들 센서에 의해 검출된 위치에 따라, 제어부(60)에 의해 모터(M1 내지 M5)와 롤러(170)가 제어되어 기판 반송 속도가 변경되고, 각 노즐(50 내지 53)이 제어된다.
다음으로, 도 3 내지 도 6까지를 참조하면서, 본 실시형태에 의한 현상 유닛의 동작(현상 방법)에 대해서 설명한다. 이들 도면에 있어서, 편의상, 제어부(60)는 생략한다.
도 3a를 참조하면, 외부 장치 유닛(90)(도 1)으로부터 반입된 기판(S)이 도입부(30A) 내로 반송되고 있다. 도시는 생략하고 있지만, 기판(S)의 표면에는 포토레지스트 막이 형성되어 있고, 이 포토레지스트 막은 노광 장치(9)(도 1)에 있어서 노광되어, 잠상이 형성되어 있다. 도입부(30A)에 있어서는, 기판(S)은 반송 속도(V11)로 반송되고 있다. 또한, 도입부(30A) 후단의 현상액 공급부(30B)에서는, 제어부(60)(도2)에 의해 모터(M2) 및 롤러(170)가 제어되어, 도입부(30A)에서의 반송 속도(V11) 보다도 빠른 반송 속도(V21)로 미리 설정되어 있다.
기판(S)의 전단부가 현상액 공급부(30B)에 반입된 것이 센서(도시하지 않음)에 의해 검출되면, 도입부(30)의 모터(M1) 및 롤러(170)가 제어부(60)에 의해 제어되고, 도입부(30)에 있어서의 반송 속도(V11)가 반송 속도(V21)(현상액 공급부(30B)에 있어서의 반송 속도)로 변경된다. 이로써, 기판(S)은 반송 속도(V21)로 도입부(30A)로부터 현상액 공급부(30B)로 반송되어 간다. 한편, 기판(S)의 전단부가 현상액 공급 노즐(50)의 바로 아래에 도달함과 동시에, 현상액 공급 노즐(50)로부터 기판(S)의 표면에 대하여 현상액(DL)이 공급된다. 기판(S)의 표면에 공급된 현상액(DL)은, 도 3b에 도시한 바와 같이, 표면 장력에 의해 기판(S)의 표면에 머물게 된다. 현상액(DL)의 공급은, 도 4a에 도시한 바와 같이 기판(S)의 후단부가 현상액 공급 노즐(50)의 바로 아래를 통과할 때까지 계속하고, 통과와 동시에 정지한다. 이상에 의해, 기판(S)의 표면 전체가 현상액(DL)으로 덮이게 된다.
또한, 현상액 공급부(30B) 내를 기판(S)이 반송되고 있을 때(현상액이 공급되고 있을 때), 현상액 공급부(30B)의 후단의 현상부(30C)에 있어서는, 현상부(30C)에 있어서 기판(S)의 반송 속도가 V31로 되도록, 제어부(60)에 의해 모터(M3) 및 롤러(170)가 제어되어 있다. 반송 속도(V31)는, 현상에 필요로 하는 시간(현상 시간)과, 현상액 공급 노즐(50)과 블로우 노즐(51)과의 사이의 거리에 기초하여 결정되어 있다. 보다 구체적으로는, 기판(S)의 전단부가 현상액 공급 노즐(50)의 바로 아래에 도달하고 나서 블로우 노즐(51)에 도달하는 시간이 원하는 현상 시간과 동등해지도록(현상액 공급부(30B)에서의 반송 속도(V21)도 고려해서) 결정되어 있다. 본 실시형태에서는, 현상부(30C)에서의 반송 속도(V31)는, 현상액 공급부(30B)에서의 반송 속도(V21)보다도 늦게 설정되어 있다.
기판(S)의 후단부가 현상액 공급 노즐(50)을 통과하는 동시에, 기판(S)의 전단부가 현상부(30C)로 반입되면, 현상액 공급부(30B)의 모터(M2) 및 롤러(170)가 제어부(60)에 의해 제어되어, 현상액 공급부(30B)에 있어서의 반송 속도(V21)가, 후단의 현상부(30C)에 있어서의 반송 속도(V31)와 동등해 진다(도 4b). 이로써, 기판(S)은, 도 5a에 도시한 바와 같이, 반송 속도(V31)로 현상액 공급부(30B)로부터 현상부(30C)로 반송되어 간다. 이 경우에 있어서도, 기판(S)의 표면은 현상액(DL)으로 덮어져 있다. 이 후, 도 5b에 도시한 바와 같이, 기판(S)은, 표면이 현상액(DL)으로 덮인 상태로, 반송 속도(V31)로 현상부(30C)로부터 블로우부(30D)로 다시 반송되어 간다.
도 6a에 도시한 바와 같이, 기판(S)의 전단부가 블로우부(30D)의 블로우 노즐(51)의 바로 아래에 도달한 것이 도시하지 않은 센서에 의해 검출되면, 블로우부(30D)의 모터(M4) 및 롤러(170)가 제어부(60)에 의해 제어되어, 기판(S)은 반송 속도(V41)로 반송되게 된다. 반송 속도(V41)는, 후단의 린스부(30E)에 있어서 설정되었어 있던 반송 속도와 같고, 현상액 공급부(30B) 내로 반송되었을 때의 기판(S)의 반송 속도(V21)(도 3b 및 도 4a) 보다도 빠르다. 또한, 블로우 노즐(51)의 바로 아래에 기판(S)이 도달했을 때에는, 블로우부(30D)의 롤러(170)의 배치에 의해, 기판(S)은 전단부가 높아지도록 휘어져 있기 때문에, 도 6a에 도시한 바와 같이, 현상액(DL)은 후단부로 향하여 흐르고, 후단부로부터 아랫쪽으로 흘러 내려, 도시하지 않은 트레이를 통해서 회수된다.
또한, 블로우 노즐(51)로부터 토출되는 청정 공기로 형성되는 에어 커튼에 의해, 도 6b에 도시한 바와 같이, 기판(S)상의 현상액은 제거되고, 이로써 현상이 실질적으로 정지된다. 현상액이 제거된 후, 비교적 단시간 내에, 기판(S)의 표면에는 예비 린스 노즐(52)로부터 린스액(DIW)이 공급되고, 기판(S)의 표면은 린스액으로 적셔져서 표면에 잔류하는 현상액이 린스액에 용해된다. 또한, 현상액이 용해된 린스액은, 린스 노즐(53)로부터 공급되는 린스액에 의해 씻겨져, 현상액은 보다 확실하게 제거된다.
또한, 예비 린스 노즐(52)로부터 토출되는 린스액은, 블로우 노즐(51)로 형성되는 에어 커튼으로 막을 수 있기 때문에, 블로우부(30D) 측으로 흐르는 일은 없다. 가령, 예비 린스 노즐(52)로부터의 린스액이 기판(S)의 표면을 흘러서 현상액과 함께 기판(S)의 후단부로부터 아랫쪽으로 흘러내리면, 린스액이 흐르는 패턴에 따른 현상 얼룩이 생겨버린다. 그러나, 본 실시형태의 현상 유닛(30)에 따르면, 블로우 노즐(51)에 의해 린스액이 기판(S)의 상류측을 향해서 흐를 수 없기 때문에, 그러한 얼룩이 발생할 일은 없다.
린스부(30E)에 있어서 린스액에 의해 현상액이 씻겨진 기판(S)은, 린스부(30E)와 연속하도록 배치되는 건조부(도시를 생략)로 반송되고, 건조부에 설치된 에어 나이프(도시하지 않음)로부터 토출되는 청정 공기에 의해 기판(S)이 건조되어, 가열 처리 유닛(31)(도 1 참조)에 롤러에 의해 반송된다.
또한, 린스부(30E)와 건조부 사이에 다른 린스부(도시하지 않음)를 설치할 경우에는, 린스부(30E)에 있어서 린스액에 의해 현상액이 씻겨진 기판(S)은, 다른 린스부로 소정의 반송 속도로 반송되고, 여기에서 다시 세정되어, 건조부로 반송된다.
기판(S)의 반송 속도를 예시하면, 현상액 공급부(30B)에 있어서 현상액 공급 노즐(50)로부터 기판(S)에 현상액을 공급할 때의 반송 속도(V21)(도 3)는, 예를 들어 60㎜/sec로부터 100㎜/sec까지의 범위이면 되며, 블로우부(30D)에 있어서 블로우 노즐(51)에 의한 에어 커튼을 기판(S)이 통과할 때의 반송 속도(V41)(도 6)는, 예를 들어 120㎜/sec로부터 180㎜/sec까지의 범위이면 된다. 물론, 적어도 1매의 기판(S)을 사용해서 상기의 현상 방법을 행한 후에, 형성된 포토레지스트 패턴(라인 폭이나 비어 직경 등의 치수)의 면내 균일성에 기초하여 반송 속도(V21, V31, V41) 등을 결정하는 것이 바람직하다. 또한, 포토레지스트 패턴의 면내 균일성은, 예를 들어 현상 유닛(30) 보다도 후단에 있는 검사 유닛(35)에서 측정해도 좋다. 또한, 1 로트 분의 기판을 처리하고 있는 도중에, 검사 유닛(35)에서(또는 다른 검사 장치에서) 시계열적으로 취득한 측정 데이터에 기초하여 반송 속도(V21, V31, V41) 등을 변경(또는 조정)해도 좋다.
이상과 같이, 본 실시형태에 의한 현상 유닛(30) 및 현상 방법에 있어서는, 블로우부(30D)에 있어서, 현상액의 회수를 위하여, 전단부가 높아지도록 기판(S)을 휘게 하기 때문에 현상액이 후단부측으로 흐른다. 이 때문에, 기판(S)의 후단부측은 다량의 현상액에 노출되고, 게다가, 현상액의 흐름에 의해 현상액이 교반되기 때문에, 후단부측에서의 현상이 촉진되게 된다. 그러나, 블로우부(30D)에 있어서의 반송 속도(V41)가 현상액 공급부(30B)에 있어서의 반송 속도(V21)보다도 빠르기 때문에, 현상 시간[현상액 공급 노즐(50)에 의해 현상액이 공급되고 나서, 블로우 노즐(51)로부터의 에어 커튼에 의해 현상액이 제거되기까지의 시간]을 기판(S)의 후단부측에서 짧게할 수 있어, 현상의 촉진을 상쇄할 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시형태에 따르면, 기판(S)에 있어서의 포토레지스트 패턴의 면내 균일성이 손상될 일이 없다고 하는 효과·이점이 제공된다.
또한, 본 실시형태의 현상 유닛(30)에 따르면, 기판(S) 위에 현상액(DL)을 공급할 때의 기판 반송 속도와, 공급된 현상액(DL)으로 덮인 기판(S)을 반송할 때의 기판 반송 속도와, 기판(S)으로부터 현상액(DL)을 제거할 때의 기판 반송 속도를 독립하여 제어할 수 있기 때문에, 사용하는 포토레지스트나 현상액 등에 따라, 기판 반송 속도를 다양하게 변경함으로써, 기판의 면내에 있어서의 포토레지스트 패턴의 균일화를 꾀할 수 있다.
가령 그러한 기판 반송 속도를 제어할 수 없고, 현상 시간 만으로 기판 반송 속도가 결정될 경우에는, 현상액을 공급할 때의 기판 반송 속도를 조정할 수 없는 사태로도 된다. 반대로, 현상액을 공급할 때의 기판 반송 속도를 조정하려고 하면, 이 기판 반송 속도에 맞춰, 현상부(30C)의 길이(기판의 반송 거리)를 바꿈으로써 현상 시간을 확보할 필요가 생긴다. 그러나, 로트마다 장치 구성을 변경하는 것은 현실적으로는 불가능하다.
즉, 본 실시형태의 현상 유닛(30)에 따르면, 프로세스 윈도우(마진)를 확대할 수 있다. 이로써, PFD의 성능 향상이나, 수율의 개선에 수반되는 PFD의 저가격화에 기여한다. 또한, 장래 개발될 새로운 포토레지스트나 현상액도 사용할 수 있는 가능성이 높아져, 이들에 수반되는 장치의 레트로피트 등을 생략할 수 있다.
이상, 본 발명의 실시형태를 참조하면서 본 발명을 설명했지만, 본 발명은 상술한 실시형태에 한정되지 않고, 첨부의 특허청구의 범위에 비추어, 다양하게 변경 또는 변형이 가능하다.
예를 들어, 기판(S)의 전단부가 블로우 노즐(51)(도 2)의 바로 아래에 도달한 후에, 블로우부(30D)에 있어서의 반송 속도를 서서히 빠르게 해도 좋다. 구체적으로는, 기판(S)의 전단부가 블로우 노즐(51)의 바로 아래에 도달한 후, 기판(S)의 반송 속도가 서서히 빨라지도록 제어부(60)에 의해 모터(M4 및 M5)와 롤러(170)를 제어하면 좋다. 이렇게 하면, 기판(S)의 후단부측에서의 현상 시간을 전단부측에서의 현상 시간보다도 서서히 짧게 할 수 있다. 따라서, 기판(S)의 후단부측에서의 현상의 촉진을 보다 확실하게 상쇄하는 것이 가능해진다.
또한, 상기의 실시형태에 있어서는, 현상액 공급 노즐(50)의 바로 아래에 기판(S)의 전단부가 도달한 것을 소정의 센서에 의해 검출함으로써, 현상액 공급 노즐(50)로부터 현상액(DL)을 기판(S)에 공급했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 도입부(30A)에 있어서의 소정의 위치[예를 들어 기판(S)의 반송 방향에 따른 길이의 대략 중간]에, 기판(S)의 전단부를 검출하는 센서를 설치하고, 이 센서에 의해 기판(S)의 전단부를 검출한 시점과, 기판(S)의 반송 속도에 기초하여, 현상액 공급 노즐(50)의 바로 아래에 기판(S)의 전단부가 도달했을 때에 현상액 공급 노즐(50)로부터 현상액(DL)을 토출하도록 타이밍을 결정해도 좋다. 블로우 노즐(51)로부터의 청정 공기의 토출의 타이밍에 대해서도, 기판(S)의 전단부를 검출하는 센서를 예를 들어 블로우부(30D)의 소정의 위치에 설치하고, 마찬가지로 하여 결정할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 현상 유닛(30)에 있어서는, 블로우부(30D)에 있어서 롤러(170)의 배치에 의해 기판(S)을 기울여서 현상액을 회수했지만, 블로우부(30D)에 있어서 기판(S)을 정지시킨 후에 예를 들어 승강 핀 등을 사용하여, 기판(S)상의 현상액을 후단부측에서 흘려 떨어지도록 해도 좋다.
또한, 기판을 기울이지 않는(현상액을 회수하지 않는다) 경우에도 본 발명은 적용 가능하다. 예를 들어, 이 경우에 있어서 현상액을 기판에 공급할 때의 기판 반송 속도가 느릴 때에는, 기판의 전단부측에서 현상액이 회류하거나, 교반되거나 하기 때문에, 전단부측에서 현상이 촉진될 우려가 있다. 이 경우에는, 블로우 노즐에 의해 현상액을 제거할 때의 기판 반송 속도를, 현상액을 공급할 때의 기판 반송 속도보다도 늦게 함으로써, 기판의 후단부측에서의 실질적인 현상 시간을 길게 하면 바람직하다. 이로써, 현상 시간의 장기화를 통해 후단부측에서의 현상을 촉진할 수 있고, 포토레지스트 패턴의 면내 균일성을 유지하는 것이 가능해진다. 또한, 이 경우에 있어서도, 블로우 노즐에 의해 현상액을 제거할 때의 기판 반송 속도를 서서히 느리게 해도 좋다.
그러면, 반송 속도(V21)와 반송 속도(V41)에 관해서 설명한다. 반송 속도(V21)와, 반송 속도(V41)의 값은, 이 도포 현상 시스템(100)의 오퍼레이터(작업자)가 결정하고, 오퍼레이터가, 도시하지 않은 입력부로부터 입력한다. 현상 처리의 거리[현상액 공급 노즐(50)로부터 예비 린스 노즐(52)까지의 거리]와, 현상 처리 시간(미리 결정되어 있음), 반송 속도(V21), 반송 속도(V41)의 값으로부터, 반송 속도(V31)의 값이, 제어부(60)에서 계산되어, 반송 속도(V31)가 결정된다.
여기서, 반송 속도(V21)가 너무 늦으면, 문제가 발생할 경우가 있다. 예를 들어, 반송 속도(V21)가 너무 늦을(예를 들어 1 내지 20㎜/초) 경우, 도 7에 도시한 바와 같이, 기판의 단부(F)에 표면 장력에 의해 현상액이 저류되어, 이 부분의 현상 처리가, 다른 부분의 처리보다 진행되어 버려, 기판(S)상에서의 현상 처리가 불균일해져 버린다.
반대로, 반송 속도(V21)가 지나치게 빠르면, 그것도 문제가 발생할 경우가 있다. 예를 들어, 반송 속도(V21)가 지나치게 빠른(예를 들어, 400㎜/초 이상) 경우, 기판(S)의 전체면에 현상액을 도포할 수 없어, 현상액이 없는 부분이 기판(S)상에 부분적으로 발생할 우려가 있고, 이 경우도, 기판(S) 상에서의 현상 처리가 불균일하게 되어 버린다.
이것들로부터, 반송 속도(V21)는, 기판(S)의 전체면에 현상액을 도포할 수 있고, 또한 가능한 한 빠른 속도로 설정하는 것이 좋다.
다음에, 블로우부(30D)의 하류측[블로우 노즐(51) 부근]에 있어서의 기판의 현상 처리에 관해서 설명한다. 도 8에 도시한 바와 같이, 기판(S)의 변형에 의해, 기판(S)의 진행 방향의 후단부의 영역(H)에는, 현상액의 흐름이 발생한다. 또한, 영역(H)은 현상액의 액량이 다른 영역보다 많아진다. 이들 요인에 의해, 영역(H)에 있어서의 현상 처리가, 다른 영역보다도 진행되는 경우가 있다.
이렇게, 기판(S)의 면내에서, 현상 처리가 불균일하게 되는 요인을 여러가지로 생각할 수 있다. 그리고, 기판(S)의 면내에서, 현상 처리가 균일해지도록, 반송 속도(V21)와 반송 속도(V41)를 설정한다.
예를 들어, 현상 처리가 종료되고, 그 기판(S)에 형성된 패턴을, 도시하지 않은 측정부에서 측정했더니, 기판(S)의 진행 방향의 전방 영역(F)의 패턴 치수가 원하는 값보다 가늘었다고 하자. 이 경우, 영역(F)의 현상 처리가, 다른 영역보다 진행되어 있다. 따라서, 다음 기판의 현상 처리를 개시하기 전에, 반송 속도(V21)와 반송 속도(V41)에 피드백을 행한다. 이 경우에는, 반송 속도(V21) > 반송 속도(V41)로 되도록, 반송 속도(V21)와 반송 속도(V41)를 재설정한다. 이렇게 재설정하면, 다음 기판(S)의 현상 처리로부터, 균일한 처리를 행할 수 있다.
다음에, 상기와 반대의 경우에 관해서 설명한다. 예를 들어, 현상 처리가 종료되고, 그 기판(S)에 형성된 패턴을 도시하지 않은 측정부에서 측정했더니, 기판(S)의 진행 방향의 후방 영역(H)의 패턴 치수가 원하는 값보다 가늘었다고 하자. 이 경우, 영역(H)의 현상 처리가, 다른 영역보다 진행되어 있다. 따라서, 다음 기판의 현상 처리를 개시하기 전에, 반송 속도(V21)와 반송 속도(V41)에 피드백을 행한다. 이 경우에는, 반송 속도(V21) < 반송 속도(V41)로 되도록 반송 속도(V21)와 반송 속도(V41)를 재설정한다. 이렇게 재설정하면, 다음 기판(S)의 현상 처리로부터, 균일한 처리를 행할 수 있다.
또한, 상술한 실시형태에서는, 현상 처리가 종료된 후에, 기판(S)에 형성된 패턴 치수의 측정과, 반송 속도(V21), 반송 속도(V41)의 재 설정을, 오퍼레이터(작업자)가 행했지만, 측정부를, 이 도포 현상 시스템(100)에 결합하고, 현상 처리가 종료된 후에, 패턴 치수를 이 측정부에서 자동적으로 측정하고, 그 측정 결과에 기초하여, 제어부(60)가, 반송 속도(V21), 반송 속도(V41)의 값을 자동적으로 재설정하는 구성으로 해도 좋다. 이와 같이 하면, 절약화나, 현상 처리의 균일성 향상이 더욱 가능하게 된다. 또한, 기판(S)에 형성된 패턴 치수의 분포와, 반송 속도(V21), 반송 속도(V41)의 관계를 미리 실험에서 구해 두고, 그것을 데이터 테이블로서 제어부(60)에 미리 보관해 두어도 된다. 그리고, 이 데이터 테이블을 사용하여, 제어부(60)가, 자동적으로 반송 속도(V21), 반송 속도(V41)의 재설정을 행해도 된다.
상술한 실시형태에 있어서는, FPD용의 글래스 기판을 사용할 경우를 설명했지만, 글래스 기판에 한하지 않고 수지 기판이나 반도체 기판을 사용할 경우에도 본 발명은 적용 가능하다.
1 : 카세트 스테이션
2 : 처리 스테이션
4 : 인터페이스 스테이션
9 : 노광 장치
30 : 현상 유닛
30A : 도입부
30B : 현상액 공급부
30C : 현상부
30D : 블로우부
30E : 린스부
50 : 현상액 공급 노즐
51 : 블로우 노즐
52 : 예비 린스 노즐
53 : 린스 노즐
60 : 제어부
100 : 도포 현상 처리 시스템
170 : 롤러
M1 내지 M5 : 구동 장치(모터)
S : 기판

Claims (13)

  1. 노광된 포토레지스트 막을 표면에 갖는 기판을 제1 반송 속도로 반송하면서, 당해 표면에 현상액을 공급하는 공정과,
    상기 현상액으로 표면이 덮인 상기 기판을 제2 반송 속도로 반송하는 공정과,
    상기 제1 반송 속도와 다른 제3 반송 속도로 상기 기판을 반송하면서, 당해 기판의 표면을 덮는 현상액을 기체로 제거하는 공정과,
    상기 제거 공정에 이어서 상기 기판을 상기 제3 반송 속도로 반송하면서, 상기 표면에 린스액을 공급하는 공정을 포함하는, 포토레지스트 막의 현상 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제3 반송 속도가 상기 제1 반송 속도보다도 빠른, 포토레지스트 막의 현상 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제3 반송 속도가 상기 제1 반송 속도보다도 느린, 포토레지스트 막의 현상 방법.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제거 공정이, 상기 기판의 표면을 덮는 상기 현상액을 상기 기판의 반송 방향의 후단부로부터 흘려 떨어뜨리는 공정을 포함하는, 포토레지스트 막의 현상 방법.
  5. 제2항 또는 제3항에 있어서, 적어도 1매의 상기 기판에 대하여 상기 현상액을 공급하는 공정으로부터 상기 린스액을 공급하는 공정까지를 행해서 얻은 레지스트 패턴의 치수를 측정하는 공정과,
    상기 측정하는 공정의 결과에 기초하여 상기 제3 반송 속도를 결정하는 공정을 더 구비하는, 포토레지스트 막의 현상 방법.
  6. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 린스액을 공급하는 공정의 후에, 상기 기판의 표면에 린스액을 다시 공급하는 공정을 더 포함하는, 포토레지스트 막의 현상 방법.
  7. 노광된 포토레지스트 막을 표면에 갖는 기판을 반송하는 제1 반송 기구, 및 상기 제1 반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 표면에 현상액을 공급하는 공급 노즐을 갖는 현상액 공급부와,
    상기 공급 노즐로부터 공급된 상기 현상액으로 표면이 덮인 상기 기판을 반송하는 제2 반송 기구를 갖는 현상부와,
    기체를 토출해서 상기 기판의 표면을 덮는 상기 현상액을 제거하는 블로우 노즐, 및 상기 블로우 노즐을 향해서 상기 기판을 반송하는 제3 반송 기구를 갖는 블로우부와,
    상기 현상액이 제거된 상기 기판의 표면에 린스액을 공급하는 린스액 공급 노즐을 갖는 린스부와,
    상기 제1 반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 제1 반송 속도와, 상기 제3 반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 제3 반송 속도가 상이하도록 상기 제1 반송 기구 및 상기 제3 반송 기구를 제어하는 제어부를 구비하는, 포토레지스트 막의 현상 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제3 반송 속도가 상기 제1 반송 속도보다도 빨라지도록 상기 제1 반송 기구 및 상기 제3 반송 기구를 제어하는, 포토레지스트 막의 현상 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제3 반송 속도가 상기 제1 반송 속도보다도 늦어지도록 상기 제1 반송 기구 및 상기 제3 반송 기구를 제어하는, 포토레지스트 막의 현상 장치.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 린스부에 대하여 상기 기판의 반송 방향의 하류에 배치되고, 상기 기판을 반송하는 제4 반송 기구, 및 상기 기판의 표면에 린스액을 공급하는 다른 린스액 공급 노즐을 갖는 다른 린스부를 더 구비하는, 포토레지스트 막의 현상 장치.
  11. 기판 상에 포토레지스트 막을 형성하는 포토레지스트 막 형성 장치와,
    노광된 상기 포토레지스트 막을 현상하는 제8항 또는 제9항에 기재된 포토레지스트 막의 현상 장치를 구비하는, 도포 현상 처리 시스템.
  12. 기판을 수평으로 반송하면서, 기판에 현상 처리를 행하는 현상 처리 장치이며,
    제1 반송 속도로 반송되는 기판에, 현상액을 공급하기 위한 현상액 공급 노즐과,
    현상 처리를 종료하기 위해서, 현상액이 도포된 기판을, 제1 반송 속도와 다른 제2 반송 속도로 반송하면서, 상기 기판에 대하여 린스액을 공급하는 린스액 공급 노즐을 구비하는, 현상 처리 장치.
  13. 기판을 수평으로 반송하면서, 기판에 현상 처리를 행하는 현상 처리 장치이며,
    제1 반송 속도로 반송되는 기판에, 현상액을 공급하기 위한 현상액 공급 노즐과,
    현상 처리를 종료하기 위해서, 현상액이 도포된 기판을, 제1 반송 속도와 다른 제2 반송 속도로 반송하면서, 상기 기판에 대하여 린스액을 공급하는 린스액 공급 노즐과,
    현상 처리가 종료된 기판에 형성된 패턴의 치수를 측정하는 측정부를 구비하고,
    상기 측정부의 측정 결과에 기초하여, 상기 제1 반송 속도 또는 상기 제2 반송 속도를 재설정하는 것을 특징으로 하는, 현상 처리 장치.
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