JP2019216170A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<全体構成>
第1実施形態に係る基板処理装置1について図1を参照し説明する。図1は、第1実施形態に係る基板処理装置1の概略構成を示す模式図である。
次に、現像ユニット40について図3を参照し説明する。図3は、第1実施形態に係る現像ユニット40の概略構成を示す模式図である。図3では、コロ搬送機構44などの一部構成は説明のため省略する。以下では、基板Sの搬送方向に対して直交する基板Sの面方向を、幅方向として説明する。なお、幅方向は、コロ搬送機構44のコロ44aの回転軸に対して平行である。
基板に現像液を液盛りする場合には、現像液供給ノズルから吐出された現像液の一部が飛散してミストとなる。現像液のミストが、現像液を液盛りする前の基板に付着すると、ミストが付着した箇所のフォトレジスト膜がなくなり、製品不良が発生するおそれがある。
基板処理装置1は、フォトレジスト膜(機能膜の一例)が表面に形成された基板Sを搬送するコロ搬送機構(搬送機構の一例)と、基板Sに希釈液(準備液の一例)を液盛りする希釈液供給ノズル61(第1供給ノズルの一例)と、液盛りされた希釈液の一部を除去し、基板Sに希釈液の薄膜を形成する第1エアナイフ64(薄膜形成部の一例)と、フォトレジスト膜を溶解させる現像液を希釈液の薄膜が形成された基板Sに液盛りする第1現像液供給ノズル62(第2供給ノズルの一例)とを備える。
<現像処理部の構成>
次に、第2実施形態に係る基板処理装置1について図6を参照し説明する。ここでは、第1実施形態と異なる構成を中心に説明し、第1実施形態と同様の構成については第1実施形態と同じ符号を付し、詳しい説明は省略する。図6は、第2実施形態に係る基板処理装置1における現像処理部50の一部の概略構成を示す模式図である。
コロ搬送機構44は、希釈液(準備液の一例)が液盛りされた基板Sを傾斜させることで希釈液の薄膜を形成する。これにより、基板処理装置1は、簡易な構成で希釈液の薄膜を形成することができる。
<現像処理部の構成>
次に、第3実施形態に係る基板処理装置1について図7を参照し説明する。ここでは、第1実施形態と異なる構成を中心に説明し、第1実施形態と同様の構成については第1実施形態と同じ符号を付し、詳しい説明は省略する。図7は、第3実施形態に係る基板処理装置1における現像処理部50の一部の概略構成を示す模式図である。
コロ搬送機構44は、基板Sの前端から所定範囲内に現像液(処理液の一例)が液盛りされる場合に、少なくとも所定範囲内の基板Sを前上がり状態にする。
上記実施形態に係る基板処理装置1は、機能膜(フォトレジスト膜)が表面に形成された基板Sを現像液によって現像する一例について説明したが、これに限られることはない。基板処理装置1は、例えば、機能膜をエッチング液(処理液の一例)によって溶解させてもよい。
40 現像ユニット
44 コロ搬送機構(搬送機構)
44a コロ
44b コロ(薄膜形成部)
44c 可変コロ
50 現像処理部
61 希釈液供給ノズル(第1供給ノズル)
62 第1現像液供給ノズル(第2供給ノズル)
64 第1エアナイフ(薄膜形成部)
66 希釈液回収パン(回収パン)
67 現像液回収パン
Claims (6)
- 機能膜が表面に形成された基板を搬送する搬送機構と、
前記基板に準備液を液盛りする第1供給ノズルと、
液盛りされた前記準備液の一部を除去し、前記基板に前記準備液の薄膜を形成する薄膜形成部と、
前記機能膜を溶解させる処理液を前記準備液の薄膜が形成された前記基板に液盛りする第2供給ノズルと、
を備える基板処理装置。 - 前記薄膜形成部は、
前記準備液が液盛りされた前記基板に空気を吐出することで前記準備液の薄膜を形成する
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記薄膜形成部は、
前記準備液が液盛りされた前記基板を傾斜させることで前記準備液の薄膜を形成する
請求項1または2に記載の基板処理装置。 - 前記搬送機構は、
前記基板の前端から所定範囲内に前記処理液が液盛りされる場合に、少なくとも前記所定範囲内の前記基板を前上がり状態にする
請求項1〜3のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記基板から溢れた前記準備液を回収する回収パン
を備える請求項1〜4のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 機能膜が表面に形成された基板に準備液を液盛りする工程と、
液盛りされた前記準備液の一部を除去し、前記基板に前記準備液の薄膜を形成する工程と、
前記機能膜を溶解させる処理液を前記薄膜が形成された前記基板に液盛りする工程と
を有する基板処理方法。
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