JP4014035B2

JP4014035B2 - 液処理装置

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Publication number: JP4014035B2
Application number: JP2002252415A
Authority: JP
Inventors: 和生坂本; 幸太郎大石; 秀朗船越; 和宏竹下; 芳樹岡本; 高広北野
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2002-08-30
Filing date: 2002-08-30
Publication date: 2007-11-28
Anticipated expiration: 2022-08-30
Also published as: JP2004095708A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばレチクル等のフォトマスク用ガラス基板に処理液を供給して処理する液処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等（以下にウエハ等という）の表面に例えばレジスト液を塗布し、ステッパー等の露光装置を用いて回路パターンを縮小してレジスト膜を露光し、露光後のウエハ表面に現像液を塗布して現像処理を行うフォトリソグラフィー技術が用いられている。
【０００３】
上記露光処理工程においては、例えばステッパー（縮小投影露光装置）等の露光装置が用いられており、レチクル等のフォトマスクに光を照射し、フォトマスクに描画されている回路パターンの原図を縮小してウエハ上に転写している。
【０００４】
ところで、このフォトマスクの製造工程においても、上記ウエハ等と同様にフォトリソグラフィ技術が用いられており、レジスト塗布工程、露光処理工程、現像処理工程という一連のプロセス工程を経ているが、フォトマスクはウエハ等に回路パターンを投影するための原図であるため、線幅等のパターン寸法は更に高精度が要求される。
【０００５】
従来のフォトマスクの現像方法には、フォトマスク用のガラス基板をスピンチャック上に吸着保持して低速で回転し、スプレーノズルを用いて現像液をガラス基板上に噴霧状に吐出しながら現像処理を行うスプレー式現像方法や、ガラス基板とスキャンノズルを相対移動させながら、スキャンノズルから供給される現像液をガラス基板上に液盛りし、静止状態で現像処理を行うパドル式現像方法等が知られている。
【０００６】
しかし、スプレー式現像では、現像液と反応して生成された溶解生成物が、回転による遠心力によってガラス基板の辺部や角部に流れるため、この部分で現像液との反応が抑制され、線幅等のパターン寸法が不均一になるという問題があった。また、パドル式現像では、溶解生成物が特定の場所に流れるということはなく、スプレー式現像のような問題は生じないが、パターンの幾何学的構造やパターン密度の差異により、溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象が生じ、回路パターンが不均一になるという問題があった。
【０００７】
そこで、従来では、スプレー式やパドル式に比べて現像液の消費量を抑制することができると共に、処理の均一性の向上が図れる現像方法として、ガラス基板とスキャンノズルを相対移動させながら、スキャンノズルからガラス基板表面に供給される現像液を処理液吸引手段によって吸引する供給・吸引式方法が採用されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の供給・吸引式方法においては、被処理基板とスキャンノズルを相対移動させながら、スキャンノズルから被処理基板表面に現像液を供給すると共に、処理液吸引手段によって吸引するため、被処理基板の側面には処理が施されず、側面に付着するパーティクルあるいは前処理工程において付着するレジスト等の汚れを除去することができないという問題があった。また、処理中に、側方から空気が進入して処理液中に空気が混入して泡噛みが生じ、この泡噛みによって処理液の流れが不安定となり、処理の均一性が損なわれるという問題があった。更には、処理液が被処理基板の裏面に回り込むため、被処理基板の裏面洗浄を行う必要もあった。
【０００９】
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、処理中に、被処理基板の側面を洗浄すると共に、側方からの空気の進入を阻止して泡噛みを防止し、かつ、被処理基板の裏面への処理液の回り込みを阻止する液処理装置を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の第１の液処理装置は、板状の被処理基板を保持する保持手段と、上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、上記ノズルヘッドに、上記被処理基板の対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する補助液処理面を形成すると共に、この補助液処理面に、被処理基板側面に洗浄液を供給する補助洗浄液供給手段を設け、かつ、この補助洗浄液供給手段の下部側に位置して上記被処理基板の下端部の洗浄液を吸引する補助洗浄液吸引手段を設けてなる、ことを特徴とする（請求項１）。
【００１１】
この発明の第２の液処理装置は、板状の被処理基板を保持する保持手段と、上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、上記ノズルヘッドに、上記被処理基板の対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する補助液処理面を形成すると共に、この補助液処理面に、被処理基板の側面に処理液を供給する補助処理液供給手段を設け、かつ、この補助処理液供給手段の下部側に位置して上記被処理基板の下端部の処理液を吸引する補助洗浄液吸引手段を設けてなる、ことを特徴とする（請求項２）。
【００１３】
この発明の第３の液処理装置は、板状の被処理基板を保持する保持手段と、上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、上記ノズルヘッドに、上記被処理基板の対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する垂直補助液処理面を形成すると共に、この垂直補助液処理面の下端から内方に延在され、被処理基板の裏面縁部に一定の隙間をおいて対峙する水平補助液処理面を形成し、上記垂直補助液処理面に、上記被処理基板の側面に洗浄液を供給する第１の補助洗浄液供給手段を設け、上記水平補助液処理面に、上記被処理基板の裏面縁部に洗浄液を供給する第２の補助洗浄液供給手段を設けると共に、洗浄液を吸引する補助洗浄液吸引手段を設けてなる、ことを特徴とする（請求項３）。
【００１５】
また、上記垂直補助液処理面に、被処理基板の側面に処理液を供給する補助処理液供給手段を更に具備する構造としてもよい（請求項４）。
【００１６】
また、請求項１又は３記載の液処理装置において、上記保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に洗浄液を供給可能に形成する方が好ましい（請求項５）。
【００１７】
また、請求項２又は４記載の液処理装置において、上記保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に処理液及び洗浄液を供給可能に形成する方が好ましい（請求項６）。
【００１８】
請求項１記載の発明によれば、ノズルヘッドの液処理面に設けられた処理液供給手段から被処理基板表面に帯状に処理液を供給すると共に、処理液吸引手段にて処理液を吸引することにより被処理基板表面に処理液の流れを形成する一方、ノズルヘッドの補助液処理面に設けられた補助洗浄液供給手段から被処理基板の側面に洗浄液を供給して被処理基板表面の液処理と同時に、側面の洗浄を行うことができる。
【００１９】
請求項２記載の発明によれば、ノズルヘッドの液処理面に設けられた処理液供給手段から被処理基板表面に帯状に処理液を供給すると共に、処理液吸引手段にて処理液を吸引することにより被処理基板表面に処理液の流れを形成する一方、ノズルヘッドの補助液処理面に設けられた補助処理液供給手段から被処理基板の側面に処理液を供給して被処理基板表面の液処理と同時に、側面の洗浄を行うことができ、被処理基板の側面に付着したパーティクルの他にレジストを除去することができる。
【００２０】
この場合、補助液処理面に、補助洗浄液吸引手段を設けることにより、被処理基板の側面の洗浄に供された洗浄液の裏面への回り込みを阻止すると共に、回収することができる（請求項１，２）。
【００２１】
請求項３記載の発明によれば、ノズルヘッドの液処理面に設けられた処理液供給手段から被処理基板表面に帯状に処理液を供給すると共に、処理液吸引手段にて処理液を吸引することにより被処理基板表面に処理液の流れを形成する一方、ノズルヘッドの垂直補助液処理面に設けられた第１の補助洗浄液供給手段から被処理基板の側面に洗浄液を供給すると共に、ノズルヘッドの水平補助液処理面に設けられた第２の補助洗浄液供給手段から被処理基板の裏面縁部に洗浄液を供給することができる。
【００２２】
この場合、水平補助液処理面に、補助洗浄液吸引手段を設けることにより、被処理基板の側面及び裏面縁部の洗浄に供された洗浄液の裏面への回り込みを阻止すると共に、回収することができる。
【００２３】
また、垂直補助液処理面に、被処理基板の側面に処理液を供給する補助処理液供給手段を設けることにより、被処理基板の側面に付着したパーティクルの他にレジストを除去することができる（請求項４）。
【００２４】
請求項５記載の発明によれば、保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に洗浄液を供給可能に形成することにより、被処理基板の全ての側面に洗浄液を供給して洗浄することができる。
【００２５】
請求項６記載の発明によれば、保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に処理液及び洗浄液を供給可能に形成することにより、被処理基板の全ての側面に処理液及び洗浄液を供給して洗浄することができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明の液処理装置を、フォトマスク用の被処理基板、例えばレチクル用のガラス基板Ｇに現像処理を行う現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００２７】
◎第一実施形態
上記現像処理装置１は、図１に示すように、中心部に配設されたガラス基板Ｇの搬送手段例えば搬送アーム２を挟んで複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣの搬入・搬出ユニット３と対向する位置に設置される現像処理ユニット４内に配設されている。なお、搬送アーム２の左右の対向位置には、ガラス基板Ｇを加熱又は冷却する熱処理ユニット５と、レジスト塗布処理ユニット６が設置されている。このように構成される塗布・現像処理システムにおいて、搬送アーム２は、水平の３６０度に回転可能に形成されると共に、水平のＸ，Ｙ方向に伸縮可能に形成され、かつ、垂直のＺ方向に移動可能に形成されている。このように形成される搬送アーム２により、カセットＣ、現像処理ユニット４、熱処理ユニット５及びレジスト塗布処理ユニット６に対してそれぞれガラス基板Ｇの搬入・搬出を行うことができる。
【００２８】
上記現像処理装置１は、図２ないし図５に示すように、搬送アーム２により、現像処理ユニット４内に搬入されるレジスト液の塗布及び回路パターンの露光が終了したガラス基板Ｇを水平状態に吸引保持する水平方向に回転可能な保持手段例えばスピンチャック１０と、このスピンチャック１０を回転する駆動モータ１１と、ガラス基板Ｇと一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な後述する液処理面２１を有するノズルヘッド２０と、このノズルヘッド２０を水平のＸ方向に移動すると共に、垂直のＺ方向に移動可能なノズル移動手段３０及びスピンチャック１０の側方を包囲する昇降可能なカップ５０とで主に構成されている。
【００２９】
この場合、スピンチャック１０は、図４に示すように、回転軸１２を介して駆動モータ１１に連結されている。
【００３０】
また、スピンチャック１０の載置面の４角領域の４箇所の角部には、ガラス基板Ｇを僅かな隙間をおいて支持するプロキシミティーピン１６が突設されると共に、ガラス基板Ｇの角部の隣接する辺を保持する回転規制ピン１７が突設されている。
【００３１】
更に、スピンチャック１０の載置面には、ガラス基板Ｇを吸引保持する３個の吸引保持部材１８が取り付けられている。これら吸引保持部材１８によってガラス基板Ｇの下面縁部（パターン形成領域外）を吸引により保持することができるように構成されている。これら吸引保持部材１８は、図５に示すように、スピンチャック１０の回転中心を挟んで対向する一方の位置に１個と、他方の位置に２個配設されている。この場合、吸引保持部材１８は、図５（ｂ）に示すように、少なくともスピンチャック１０の回転中心側の面１８ａが流線形の円弧状例えば平面視略楕円形に形成されている。このように、吸引保持部材１８の少なくともスピンチャック１０の回転中心側の面１８ａを流線形の円弧状に形成することにより、リンス処理時にリンス液が吸引保持部材１８の円弧状面１８ａを伝って外方に円滑に流すことができる。
【００３２】
また、吸引保持部材１８に接続する吸引用管路１８ｂは、図７に示すように、後述する現像液吸引ノズル２３（処理液吸引手段）とエジェクタ７７（吸引源）と現像液吸引ノズル２３とエジェクタ７７とを接続する現像液吸引用管路７６とからなる現像液吸引ライン（処理液吸引ライン）に接続されている。すなわち、吸引保持部材１８は、吸引用管路１８ｂを介して現像液吸引ラインのエジェクタ７７に接続されている。この場合、吸引用管路１８ｂには、吸引用管路１８ｂ内の吸引圧を検知する吸引圧検知手段例えば圧力検出計１８ｃと開閉弁Ｖ５が介設されている。これら圧力検出計１８ｃと開閉弁Ｖ５は、後述する制御手段例えばＣＰＵ１００に電気的に接続されており、圧力検出計１８ｃは、検知信号がＣＰＵ１００に伝達され、ＣＰＵ１００によりガラス基板Ｇが適切に保持されたか否かが監視できるようになっている。また、開閉弁Ｖ５はＣＰＵ１００からの制御信号に基づいて開閉動作し得るように構成されている。
【００３３】
また、図４及び図６に示すように、スピンチャック１０の載置部の下方には、スピンチャック１０に設けられた貫通孔１０ａを貫通してガラス基板Ｇの下面縁部（パターン形成領域外）を支持する昇降可能な３本の支持ピン６０が設けられている。これら３本の支持ピン６０は、連結板６１上に立設されており、連結板６１と連結する昇降手段例えばエアーシリンダ６２の伸縮動作によってスピンチャック１０の載置部の上方に出没可能に形成されている。なお、この場合、３本の支持ピン６０は、上記吸引保持部材１８と点対称となる位置に設けられている。このように構成される支持ピン６０によって上記搬送アーム２との間でガラス基板Ｇの受け渡しが行われる。すなわち、搬送アーム２がガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方に搬送した状態で、上昇してガラス基板Ｇの下面縁部を支持してガラス基板Ｇを受け取り、その後、支持ピン６０は下降してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上面に載置した後、スピンチャック１０と干渉しない下方位置に待機する。また、処理が済んだ後には、上昇してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方に突き上げ、搬送アーム２にガラス基板Ｇを受け渡した後、下降する。
【００３４】
一方、上記カップ５０は、図４に示すように、スピンチャック１０の外方を包囲する筒状のカップ本体５１と、このカップ本体５１の上端縁から上方に向かって縮径テーパ状に延在し、スピンチャック１０にて保持されたガラス基板Ｇの外周縁部に干渉しない範囲で近接する方形状の開口５２を有する縮径テーパ部５３とで構成されており、カップ本体５１に取り付けられたブラケット５４に連結する移動手段例えばカップ移動用エアーシリンダ５５の伸縮動作によって図４に示す通常位置と、上方に移動する洗浄・乾燥位置とに切り換わるように構成されている。なお、カップ本体５１はカップ移動用エアーシリンダ５５のロッド５５ａと平行に配設されるガイドバー５６を有しており、このガイドバー５６が現像処理装置１の固定部に装着された軸受け部５７に摺動自在に嵌挿されている。
【００３５】
また、カップ５０の下端部には、カップ本体５１の外方を包囲する外壁５８ａを有する有底ドーナツ円筒状の固定カップ５８が配設されている。この固定カップ５８の底部には排液管路５８ｂが接続されている。また、スピンチャック１０の載置部の下部と固定カップ５８の上部との間には、スピンチャック１０側から排出される排液すなわち処理液や洗浄液を固定カップ５８内に流す内カップ５９が配設されている。
【００３６】
一方、上記ノズルヘッド２０は、ガラス基板Ｇのパターン形成領域の幅と同じかそれ以上の長さに形成されると共に、ガラス基板と一定の隙間例えば５０μｍ〜３ｍｍ、より好ましくは５０μｍ〜５００μｍを空けて、一端から他端に相対的にガラス基板Ｇと平行にスキャン（走査）移動可能な液処理面２１と、ガラス基板Ｇの対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する補助液処理面２１ａとを有する略門型に形成されている。
【００３７】
このノズルヘッド２０における液処理面２１には、ガラス基板Ｇに帯状に現像液を供給（吐出、塗布）する現像液供給ノズル２２（処理液供給手段）と、液処理面２１に現像液供給ノズル２２と平行に設けられ、現像液供給ノズル２２が供給した現像液を吸引し、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する現像液吸引ノズル２３（以下に吸引ノズル２３という）｛処理液吸引手段｝と、吸引ノズル２３を挟んで現像液供給ノズル２２と対向する位置に設けられ、ガラス基板Ｇの表面に例えば純水等のリンス液（洗浄液）を供給（吐出、塗布）するサイドリンスノズル２４（洗浄液供給手段）とが設けられている。この場合、現像液供給ノズル２２は、図７に示すように、泡抜き等を行うため一旦現像液を収容する収容部２５をノズルヘッド２０内に有しており、現像液が貯留される現像液供給タンク７０（現像液供給源）から現像液を供給する現像液供給管路７１と、収容部２５の現像液の泡抜きを行う泡抜き管路１２（図１１参照））とに接続されている。
【００３８】
また、図６、図９〜図１１に示すように、補助液処理面２１ａには、ガラス基板Ｇの側面に洗浄液例えば純水等のリンス液を供給する補助洗浄液供給手段である補助リンス液供給ノズル４０と、ガラス基板側面の下端部の洗浄液を吸引する補助リンス液吸引ノズル４１が設けられている。
【００３９】
また、図７に示すように、現像液供給管路７１には、現像液の温度を調節する温度調節機構７２（処理液温度調節手段）と、現像液を圧送する図示しない圧送手段例えばポンプと、現像液供給管路内の現像液の流量を検出する現像液流量計１３０(処理液流量検出手段)とが設けられており、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ１(処理液流量調節手段)によって現像液の流量調節が可能に形成されている。
【００４０】
温度調節機構７２は、図７に示すように、現像液供給管路７１とノズルヘッド２０との接続部に設けられ、現像液供給管路７１が温度調節管路７３内を通るように形成される二重管構造となっている。また、温度調節管路７３は、現像液供給管路７１内を上方から下方へ流れる現像液に対し、ヒータ７４等で温調された液体例えば純水を循環手段例えば循環ポンプ７５により温度調節管路７３内を下方から上方へ循環するように構成されている。このように構成することにより、現像液の温度を調節することができるので、現像液の粘度及びエッチング速度（処理速度、反応速度）等を一定にすることができ、更に均一な現像処理を行うことができる。
【００４１】
また、現像液供給ノズル２２は、図８に示すように、現像液供給ノズル２２の長手方向に例えば１ｍｍピッチで等間隔に設けられる複数の供給孔２６（処理液供給孔）と、これら供給孔２６の下部に連通され現像液供給ノズル２２の長手方向に設けられる例えば１ｍｍ幅のスリット２７と、スリット２７の下部に連通され現像液をガラス基板Ｇに供給（吐出、塗布）する拡開テーパ状の現像液供給口２８（処理液供給口）と、この現像液供給口２８内の長手方向に設けられ、均一に現像液を吐出する整流緩衝棒例えば円柱状の石英棒２９とで構成されている。ここでは、整流緩衝棒が石英棒２９にて形成される場合について説明したが、整流緩衝棒は、親水性であれば石英以外に例えばセラミックス等で形成することも可能である。
【００４２】
現像液供給ノズル２２を、このように構成することにより、供給孔２６から流出する現像液は、スリット２７で合流した後、現像液供給口２８の壁面を伝って流れる一方、石英棒２９の表面で拡散させることができる。したがって、スリット２７で供給孔による現像液の吐出むらを防止し、石英棒２９でガラス基板Ｇに均一に現像液を供給（吐出、塗布）することができ、現像液供給ノズル２２と後述する吸引ノズル２３との間に、新しい現像液を常時供給しつつ均一な現像液の流れを形成して、溶解生成物を除去しながら均一な現像処理をすることができる。
【００４３】
吸引ノズル２３は、現像液やリンス液等の現像処理に用いられた処理液（廃液）を吸引するスリット状の吸引口２３ａが、現像液供給ノズル２２の液処理面２１の移動方向両側に平行に設けられている。ここで、吸引口２３ａの長手方向の長さは、現像液供給ノズル２２両端からの現像液の染み出しを防ぐため、現像液供給口２８の長手方向の長さより長く形成される方が好ましい。また、吸引口２３ａのスリットは、幅が広過ぎると吸引口２３ａ付近で現像状態が悪くなるため、供給された現像液をサイドリンスノズル２４側に漏らさないように吸引できる範囲で可及的に狭く形成される方が好ましい。更に、吸引ノズル２３は、現像液供給ノズル２２から供給され、現像処理に供された現像液を円滑に吸引し、均一な現像液の流れを形成するため、図７に示すように、吸引口２３ａを現像液供給口２８側に向くように形成する方が好ましい。
【００４４】
また、吸引ノズル２３は、図７に示すように、現像液吸引用管路７６を介して、吸引口２３ａが吸引する現像液やリンス液等の廃液の吸引量を調節可能な減圧機構例えばエジェクタ７７（吸引源）と、現像処理装置１の移動方向前方側及び後方側の各吸引口２３ａそれぞれの吸引量を検出可能な吸引流量計１５０ (吸引量検出手段)と、現像液吸引用管路７６の開閉を行い吸引量を調節する、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ２，Ｖ３（吸引量調節手段）と、吸引した廃液を気体と液体に分離して回収するトラップタンク７８と、このトラップタンク７８の圧力を検出可能な圧力センサ７９と、トラップタンク７８内に回収された廃液を回収する廃液タンク８０とで構成される吸引部８１に接続されている。これら吸引ノズル２３、現像液吸引用管路７６及びエジェクタ７７等にて処理液吸引ラインが形成されている。そして、この処理液吸引ラインに、吸引用管路１８ｂを介して吸引保持部材１８が接続されている。
【００４５】
なお、上記吸引部８１は、エジェクタ７７、トラップタンク７８及び圧力センサ７９を用いる代わりに、吸引口が吸引する廃液の吸引量を調節可能な吸引手段例えば吸引ポンプを用いることも可能である。
【００４６】
サイドリンスノズル２４は、図７に示すように、吸引ノズル２３を挟んで現像液供給ノズル２２と対向する位置に平行に設けられており、スリット状のリンス液供給口２４ａから液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に例えば純水等のリンス液を供給可能に形成されている。
【００４７】
また、サイドリンスノズル２４は、図７に示すように、リンス液供給管路８２を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されており、リンス液供給管路８２には、現像液供給管路７１と同様に、リンス液の温度を調節する温度調節機構８４(洗浄液温度調節手段)と、リンス液を圧送する図示しないポンプ等の圧送手段と、リンス液供給管路８２内のリンス液の流量を検出するリンス液流量計１４０(洗浄液流量検出手段)と、圧縮空気等によって開閉制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ４(洗浄液流量調節手段)とが設けられている。
【００４８】
このように構成することにより、サイドリンスノズル２４が供給したリンス液の一部を吸引ノズル２３が吸引し、現像液が吸引ノズル２３からサイドリンスノズル２４側へ広がるのを防止することができるので、ガラス基板Ｇ上の現像液の幅を一定にすることができ、現像時間を一定にして均一な現像処理を行うことができる。勿論、ガラス基板Ｇ上のパーティクル等を除去することもできる。
【００４９】
なお、サイドリンスノズル２４は、ノズルヘッド２０のスキャン方向の前方側のサイドリンスノズル２４から供給されるリンス液は、処理前のガラス基板Ｇのプリウエットに供され、現像液のぬれ性の向上に寄与する。また、後方のサイドリンスノズル２４から供給されるリンス液によって現像の停止が行われるようになっている。なお、サイドリンスノズル２４は、ノズルヘッド２０と分離して設けることも可能である。
【００５０】
一方、補助液処理面２１ａに設けられる補助リンス液供給ノズル４０は、図９及び図１１に示すように、開閉弁Ｖ６を介設するリンス液供給管路８２ａを介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されている。
【００５１】
また、補助液処理面２１ａにおける補助リンス液供給ノズル４０の下部側に設けられる補助リンス液吸引ノズル４１は、図９及び図１１に示すように、開閉弁Ｖ７を介設するリンス液吸引用管路８５を介して吸引源例えばエジェクタ７７に接続されている。
【００５２】
上記のように構成されるノズルヘッド２０を水平方向（Ｘ方向）に移動（スキャン）及び垂直方向（Ｚ方向）に移動するノズル移動手段３０は、図３に示すように、スピンチャック１０の一側方に配設されるガイドプレート３１に設けられる一対の互いに平行な水平ガイドレール３２に摺動可能に装着される水平移動台３３と、この水平移動台３３を水平方向に移動する例えばボールねじ機構にて形成される水平移動機構３４と、水平移動台３３に対して垂直方向に移動可能に装着される垂直移動基部３５の上端からスピンチャック１０側に延在し、先端部がノズルヘッド２０を保持するアーム３６と、アーム３６を垂直方向に移動する例えばボールねじ機構にて形成される垂直移動機構３７とで構成されている。
【００５３】
また、ノズルヘッド２０における移動方向（Ｘ方向）の一方の端部には、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇとの間隔を検出可能な間隔検出手段例えばレーザ変位計９０（図２参照）が取り付けられている。このレーザ変位計９０の検出信号が制御手段例えば中央演算処理装置１００（以下にＣＰＵ１００という）に伝達され、ＣＰＵ１００からの制御信号によって垂直移動機構３７のモータが駆動して、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に一定の隙間例えば１ｍｍ〜５０μｍの隙間を精度良く形成することができる。
【００５４】
また、現像処理装置１は、垂直移動機構３７以外にも、ＣＰＵ１００（制御手段）に電気的に接続されており、現像液流量計１３０、リンス液流量計１４０、吸引流量計１５０、圧力センサ７９、レーザ変位計９０（間隔検出手段）等の検出信号と、予め記憶された情報とに基づいて、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４，Ｖ５，Ｖ６，Ｖ７、現像処理装置１のスキャンスピード等を制御可能に構成されている。
【００５５】
また、スピンチャック１０の外方には、リンスノズル８が配設されている。このリンスノズル８は、図２に示すように、水平方向に正逆回転するモータ８ａの駆動軸８ｂに一端が連結されるアーム８ｃの先端部に装着されており、モータ８ａの駆動によってガラス基板Ｇの中心部を通る円弧状の軌跡を描いて移動し得るように構成されている。また、リンスノズル８は、図示しない、垂直移動機構によって更に垂直方向にも移動可能に形成されている。なお、リンスノズル８は、図示しないリンス液供給管路を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されている。
【００５６】
以下に、上記のように構成される現像処理装置１を用いた現像処理方法について説明する。
【００５７】
まず、搬送アーム２により搬入されるガラス基板Ｇは、現像処理ユニット４の搬入出口部に配設された厚さ検出手段例えばレーザ光の反射を利用して距離を測定するレーザ変位計１０１によって厚さが検出される。この場合、レーザ変位計１０１は、図１８（ａ）に示すように、ガラス基板Ｇの上方から塗布されているＣｒ層１０２までの距離と、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離とを測定して比較演算するか、図１８（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離と、Ｃｒ層１０２までの距離を測定して比較演算することによりガラス基板Ｇの厚さを検出し、ＣＰＵ１００に記憶させることができる。これにより、１００μｍ程度の誤差があるガラス基板Ｇの厚さを正確に検出して、後述する現像処理装置１の液処理面２１とガラス基板Ｇ表面との間の変位情報を更に正確に検出することができる。
【００５８】
なお、レーザ変位計１０１（厚さ検出手段）は、必ずしも現像処理ユニット４の搬入出口に設ける必要はなく、現像処理前の処理ユニット例えば熱処理ユニット５の搬入出口部に配設して、同様にガラス基板Ｇの厚さを検出して、その検出信号をＣＰＵ１００に伝達するようにしてもよい。
【００５９】
次に、搬送アーム２によってガラス基板Ｇがスピンチャック１０の上方位置に搬送されると、エアーシリンダ６２（昇降手段）が駆動され、支持ピン６０がスピンチャック１０に設けられた貫通孔１０ａを貫通して上方に突出して、ガラス基板Ｇの下面縁部を支持する。この状態で、搬送アーム２は現像処理ユニット４内から退避してガラス基板Ｇは支持ピン６０に受け渡される。次に、支持ピン６０が下降してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の載置部上に載置すると、ガラス基板Ｇの角部は回転規制ピン１７によって保持される。この際、エジェクタ７７が作動すると共に、開閉弁Ｖ５が開放して吸引保持部材１８による吸引作用によってガラス基板Ｇは吸引保持される。
【００６０】
スピンチャック１０にガラス基板Ｇが吸引保持されると、ＣＰＵ１００の制御信号によりノズル移動手段３０の水平移動機構３４が作動して、ノズルヘッド２０をノズル待機位置からスピンチャック１０の外方近傍のスキャン開始位置まで移動する。ノズルヘッド２０がスキャン開始位置に達すると、予め所定温度に温調されたリンス液を供給（吐出）しつつノズルヘッド２０をガラス基板Ｇの上方を水平方向にスキャンさせて、ガラス基板Ｇの表面全体にリンス液を塗布する（プリウエット工程）。これにより、現像液を供給（吐出、塗布）する前に、ガラス基板Ｇを処理温度に調節することができると共に、現像液のぬれ性を良好にすることができる。
【００６１】
プリウエット工程が終了すると、現像処理装置１は、レーザ変位計１０１により検出されたガラス基板Ｇの厚さデータに基づいてスキャンし、ガラス基板Ｇと液処理面２１との間隔をレーザ変位計９０により検出しながらスキャン開始位置まで戻る。検出された変位情報はＣＰＵ１００に記憶される。
【００６２】
なお、上記説明では、プリウエット工程終了後に変位情報を検出しているが、変位情報の検出方法はこれに限らず、レーザ変位計９０を、現像処理装置１の進行方向後方側に設けて、プリウエット工程と同時に行うことも可能である。
【００６３】
ノズルヘッド２０がスキャン開始位置に戻った状態において、現像液供給ノズル２２から現像液が供給（吐出）されて現像処理に備える。
【００６４】
一方、ＣＰＵ１００は、現像処理装置１のスキャンスピードを現像時間が確保できる速度に制御すると共に、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４，Ｖ６，Ｖ７の開口度を制御して、液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に、一定幅の現像液の流れを形成し得るように、現像液及びリンス液（純水）の供給（吐出、塗布）及び吸引を開始すると共に、補助液処理面２１ａとガラス基板Ｇの対向する両側面に補助リンス液の供給及び吸引を開始する。
【００６５】
この際、吸引流量が吸引流量上限値より多いと、ガラス基板Ｇが吸引ノズル２３によって吸引されてスピンチャック１０の載置部から浮き上がろうとするが、ガラス基板Ｇが浮き上がると、吸引ノズル２３の吸引力が弱まり、これと反対に吸引保持部材１８の吸引力が強まるので、ガラス基板Ｇの浮き上がりが阻止される。これにより、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇの表面との間の隙間を一定に維持することができ、ガラス基板Ｇの表面に一定幅の現像液の流れを形成することができる。
【００６６】
なお、現像液が所定幅以上に広がるのを防止するため、ＣＰＵ１００によって、リンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引が、現像液の供給（吐出、塗布）よりも若干早く開始するように制御してもよい。
【００６７】
現像処理装置１による現像液、リンス液及び補助リンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引は、スキャン開始位置から終了まで断続的に実行される。この際、ガラス基板Ｇと液処理面２１との隙間を図示しないレーザ変位計等の間隔検出手段により検出し、その検出信号をＣＰＵ１００に送り、ＣＰＵ１００において、検出信号と予め記憶された情報とに基づいて、現像液が吸引ノズル２３の位置からサイドリンスノズル２４側に染み出さず、かつ現像液の流速を高速に保つことができる幅になるように現像処理装置１を垂直移動機構３７によって上下させて調整する。この現像処理の際、補助リンス液供給ノズル４０からガラス基板Ｇの側面に向かってリンス液を供給（吐出）しつつ補助リンス液吸引ノズル４１で下方に向かうリンス液を吸引することにより、ガラス基板Ｇの裏面に現像液が回り込むのを阻止することができると共に、ガラス基板Ｇの側面に付着するパーティクル等を除去することができる。なお、補助リンス液供給ノズル４０からリンス液の供給だけでも側面のパーティクル付着は防止できるし、また、補助リンス液吸引ノズル４１のみの吸引でもガラス基板表面から側面に流下してくる洗浄液の流速の速い流れを作って表面を洗浄することができる。
【００６８】
現像処理が終了して、ノズルヘッド２０がカップ５０の外側に退避すると、スピンチャック１０が９０度回転して、ガラス基板Ｇの他の対向する組の両側面をノズルヘッド２０のスキャン方向と平行に位置させる。この状態で、再びノズルヘッド２０をスキャン開始位置まで移動した後、補助リンス液吸引ノズル４１で吸引しつつ補助リンス液供給ノズル４０からガラス基板Ｇの側面に向かってリンス液を供給（吐出）しながらノズルヘッド２０をスキャンさせて、ガラス基板Ｇの他の対向する組の両側面を洗浄する。
【００６９】
そして、ノズルヘッド２０がカップ５０の外側に退避すると、カップ移動用エアーシリンダ５５が駆動して、カップ５０が上方へ移動する。また、リンスノズル８がガラス基板Ｇの上方のリンス液供給時にガラス基板Ｇに衝撃を与えない位置まで移動し、例えば純水等のリンス液をガラス基板Ｇ上に供給（吐出）することによりリンス処理を行う。このリンス処理において、開閉弁Ｖ５が閉じて吸引保持部材１８によるガラス基板Ｇの吸引保持は解除された状態で、スピンチャック１０が回転するが、回転規制ピン１７によってガラス基板Ｇはスピンチャック１０と共に回転する。
【００７０】
リンス処理が終了すると、モータ１１が駆動してスピンチャック１０が高速回転例えば２０００ｒｐｍで回転してガラス基板Ｇに付着するリンス液を振り切り乾燥する。ガラス基板Ｇ及びスピンチャック１０から飛散されるリンス液はカップ５０内に受け止められ、固定カップ５８の底部に接続する排液管路５８ｂを介して外部に排出される。
【００７１】
乾燥処理が終了して、カップ５０が下降した後、エアーシリンダ６２が作動して支持ピン６０を上昇し、スピンチャック１０に載置されたガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方へ押し上げる。すると、装置外から現像処理ユニット４内に挿入される搬送アーム２がガラス基板Ｇの下方に進入し、この状態で、支持ピン６０が下降すると、ガラス基板Ｇは搬送アーム２に受け渡され、搬送アーム２によりガラス基板Ｇは現像処理ユニット４から外部に搬出されて処理が終了する。
【００７２】
◎第二実施形態
図１２は、この発明におけるノズルヘッドの第二実施形態を示す要部断面図、図１３は、第二実施形態におけるノズルヘッドの概略斜視図である。
【００７３】
第二実施形態は、ガラス基板Ｇの現像処理と同時に、ガラス基板Ｇの側面及び裏面縁部を同時に洗浄するようにした場合である。すなわち、図１２及び図１３に示すように、第一実施形態と同様に、液処理面２１に現像液供給ノズル２２と吸引ノズル２３及びサイドリンスノズル２４を設けたノズルヘッド２０Ａに、ガラス基板Ｇの対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する垂直補助液処理面２１ｂと、この垂直補助液処理面２１ｂの下端から内方に延在され、ガラス基板Ｇの裏面縁部に一定の隙間をおいて対峙する水平補助液処理面２１ｃとを設けた場合である。
【００７４】
また、第二実施形態においては、垂直補助液処理面２１ｂに、ガラス基板Ｇの側面に洗浄液例えばリンス液を供給する第１の補助洗浄液供給手段である第１の補助リンス液供給ノズル４２が設けられ、水平補助液処理面２１ｂには、ガラス基板Ｇの裏面縁部に洗浄液例えばリンス液を供給する第２の補助洗浄液供給手段例えば第２の補助リンス液供給ノズル４３が設けられている。この場合、第１の補助リンス液供給ノズル４２は、開閉弁Ｖ８を介設したリンス液供給管路８２ｂを介してリンス液供給タンク８３に接続されている。また、第２の補助リンス液供給ノズル４３は、開閉弁Ｖ８を介設したリンス液供給管路８２ｃを介してリンス液供給タンク８３に接続されている。なお、開閉弁Ｖ８はＣＰＵ１００に電気的に接続されていおり、ＣＰＵ１００からの制御信号に基づいて開閉動作し得るように構成されている。また、第１の補助リンス液供給ノズル４２を、リンス液供給管８２ｂの途中から三方弁で切り換えてリンス液吸引用管路８５に接続することにより、第２の吸引ノズルとして使用してもよい。この場合、第２の補助リンス液供給ノズル４３からリンス液を吐出させて第１と第２の吸引ノズルに向かう流れで洗浄作用を発生させる。
【００７５】
なお、第二実施形態において、ガラス基板Ｇは、スピンチャック１０の載置部に設けられる伸縮可能な蛇腹式の吸引保持部材１８Ａにより吸引されると共に、載置部上に起立する位置決めピン１３にて保持されている（図１２参照）。このようにガラス基板Ｇを吸引保持部材１８Ａにて吸引すると共に、位置決めピン１３上に保持することにより、ガラス基板Ｇとスピンチャック１０の載置部との間にノズルヘッド２０Ａの水平補助液処理面２１ｃを移動可能に位置させることができる。
【００７６】
このように構成される第二実施形態によれば、ガラス基板Ｇとノズルヘッド２０Ａを、一端から他端に相対的にガラス基板Ｇと平行にスキャン移動してガラス基板表面に現像液を供給（吐出、塗布）する現像処理中に、第１の補助リンス液供給ノズル４２からガラス基板Ｇの側面に向かってリンス液を供給（吐出）すると共に、第２の補助リンス液供給ノズル４３からガラス基板Ｇの裏面縁部に向かってリンス液を供給（吐出）し、かつ、補助リンス液吸引ノズル４１にて吸引することにより、ガラス基板Ｇの裏面に現像液が回り込むのを阻止することができると共に、ガラス基板Ｇの側面及び裏面縁部に付着するパーティクル等を除去することができる。また、現像処理が終了した後、上述したように、スピンチャック１０を９０度回転させた状態で、再びノズルヘッド２０Ａをスキャンさせ、この際、第１の補助リンス液供給ノズル４２からガラス基板Ｇの側面に向かってリンス液を供給（吐出）すると共に、第２の補助リンス液供給ノズル４３からガラス基板Ｇの裏面縁部に向かってリンス液を供給（吐出）し、かつ、補助リンス液吸引ノズル４１にて吸引することにより、ガラス基板Ｇの他の対向する組の側面及び裏面縁部に付着するパーティクル等を除去することができる。
【００７７】
なお、第二実施形態において、その他の部分は第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００７８】
◎第三実施形態
図１４は、この発明に係る第三実施形態の現像処理装置を適用した塗布、現像処理システムの一例を示す概略平面図、図１５は、第三実施形態におけるノズルヘッドの要部断面図である。
【００７９】
第三実施形態は、ガラス基板Ｇの現像処理中に、側方から空気が混入して現像液の流れを不安定にさせる泡噛みを防止すると共に、ガラス基板Ｇの裏面への現像液の回り込みを阻止し、かつ、ガラス基板Ｇの側面に付着するレジスト特にポジ型レジストの除去を図れるようにした場合である。
【００８０】
第三実施形態の塗布、現像処理システムは、図１４に示すように、中心部に配設されたガラス基板Ｇの搬送手段である搬送アーム２の周囲に、複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣの搬入・搬出ユニット３と、現像処理ユニット４と、ガラス基板Ｇを加熱又は冷却する熱処理ユニット５と、レジスト塗布処理ユニット６及びガラス基板Ｇの側面に露光処理を施す側面露光処理ユニット７とを具備している。このように構成される塗布、現像処理システムにおいて、搬送アーム２は、水平の３６０度に回転可能に形成されると共に、水平のＸ，Ｙ方向に伸縮可能に形成され、かつ、垂直のＺ方向に移動可能に形成されている。このように形成される搬送アーム２により、カセットＣ、現像処理ユニット４、熱処理ユニット５、レジスト塗布処理ユニット６及び側面露光処理ユニット７に対してそれぞれガラス基板Ｇの搬入・搬出を行うことができる。
【００８１】
第三実施形態における現像処理装置１の構造は、ノズルヘッド２０Ｂの構成が相違する以外は上記第一及び第二実施形態の現像処理装置と同様であるので、以下に、ノズルヘッド２０Ｂについて説明する。
【００８２】
上記ノズルヘッド２０Ｂは、第一実施形態と同様に、現像液供給ノズル２２（処理液供給手段）、吸引ノズル２３（処理液吸引手段）及びサイドリンスノズル２４（洗浄液供給手段）を設けた液処理面２１と、ガラス基板Ｇの対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する補助液処理面２１ａとを有する略門型に形成されている。
【００８３】
上記補助液処理面２１ａには、ガラス基板Ｇの側面に処理液例えば現像液を供給する補助処理液供給手段である補助現像液供給ノズル４４と、補助リンス液吸引ノズル４１が設けられている。この場合、補助現像液供給ノズル４４は、図１５に示すように、開閉弁Ｖ９を介設する現像液供給管路７１ａを介して処理液供給源例えば現像液供給タンク７０に接続されている。また、補助液処理面２１ａにおける補助リンス液供給ノズル４０の下部側に設けられる補助リンス液吸引ノズル４１は、図１５に示すように、開閉弁Ｖ７を介設するリンス液吸引用管路８５を介して吸引源例えばエジェクタ７７に接続されている。なお、開閉弁Ｖ９はＣＰＵ１００に電気的に接続されており、ＣＰＵ１００からの制御信号に基づいて開閉動作し得るように構成されている。
【００８４】
上記のように構成される第三実施形態によれば、側面露光処理ユニット９の側面露光装置（図示せず）によって側面露光されたガラス基板Ｇとノズルヘッド２０Ｂを、一端から他端に相対的にガラス基板Ｇと平行にスキャン移動してガラス基板表面に現像液を供給（吐出、塗布）する現像処理中に、補助現像液供給ノズル４４からガラス基板Ｇの側面に向かって現像液を供給（吐出）すると共に、補助リンス液吸引ノズル４１にて吸引することにより、ガラス基板Ｇの裏面に現像液が回り込むのを阻止することができると共に、ガラス基板Ｇの側面に付着するレジスト（ポジ型レジスト）を除去することができる。また、現像処理が終了した後、上述したように、スピンチャック１０を９０度回転させた状態で、再びノズルヘッド２０Ｂをスキャンさせ、この際、補助現像液供給ノズル４４からガラス基板Ｇの側面に向かって現像液を供給（吐出）すると共に、補助リンス液吸引ノズル４１にて吸引することにより、ガラス基板Ｇの他の対向する組の側面に付着するレジスト（ポジ型レジスト）を除去することができる。
【００８５】
なお、上記説明では、露光により分解して現像液に可溶性となるポジ型レジストが塗布されたガラス基板Ｇの現像処理について説明したが、露光により重合又は架橋して現像液に不溶性又は難溶性となるネガ型レジストが塗布されたガラス基板Ｇにおいては、側面露光処理を施さずに現像処理ユニット４内に搬送して、上記と同様の工程で現像処理を行うと共に、側面に現像液を供給（吐出）することにより、ガラス基板Ｇの側面に付着したネガ型レジストを除去することができる。
【００８６】
なお、第三実施形態において、その他の部分は第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００８７】
◎第四実施形態
図１６は、この発明におけるノズルヘッドの第四実施形態を示す要部断面図、図１７は、第四実施形態のノズルヘッドの一部を断面で示す平面図である。
【００８８】
第四実施形態は、ガラス基板Ｇの現像処理中に、側方から空気が混入して現像液の流れを不安定にさせる泡噛みを防止すると共に、ガラス基板Ｇの裏面への現像液の回り込みを阻止し、かつ、ガラス基板Ｇの側面及び裏面縁部に付着するレジスト特にポジ型レジストの除去を図れるようにした場合である。
【００８９】
第四実施形態における現像処理装置１の構造は、ノズルヘッド２０Ｃの構成が相違する以外は上記第一ないし第三実施形態の現像処理装置と同様であるので、以下に、ノズルヘッド２０Ｃについて説明する。
【００９０】
第四実施形態のノズルヘッド２０Ｃは、第二実施形態と同様に、液処理面２１に現像液供給ノズル２２と吸引ノズル２３及びサイドリンスノズル２４を具備し、更に、ガラス基板Ｇの対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する垂直補助液処理面２１ｂと、この垂直補助液処理面２１ｂの下端から内方に延在され、ガラス基板Ｇの裏面縁部に一定の隙間をおいて対峙する水平補助液処理面２１ｃとを具備している。また、第四実施形態においては、垂直補助液処理面２１ｂに、ガラス基板Ｇの側面に処理液例えば現像液を供給する補助処理液供給手段である補助現像液供給ノズル４４と、洗浄液例えばリンス液を供給する補助リンス液供給ノズル４５（補助洗浄液供給手段）が設けられ、水平補助液処理面２１ｂには、現像液及びリンス液を吸引する補助吸引ノズル４１（補助洗浄液吸引手段）が設けられている。なお、ノズルヘッド２０Ｃのスキャン方向の前方側に補助現像液供給ノズル４４が設けられ、後方側に補助リンス液供給ノズル４５が設けられている（図１７参照）。この場合、補助現像液供給ノズル４４は、開閉弁Ｖ９を介設する現像液供給管路７１ａを介して現像液供給タンク７０に接続されている。また、補助リンス液供給ノズル４５は、開閉弁Ｖ８を介設するリンス液供給管路８２ａを介してリンス液供給タンク８３に接続されている。また、補助吸引ノズル４１は、開閉弁ｖ７を介設する吸引管路８６を介してエジェクタ（吸引源）に接続されている。なお、開閉弁ｖ７，Ｖ８，Ｖ９はＣＰＵ１００に電気的に接続されており、ＣＰＵ１００からの制御信号に基づいて開閉動作し得るように構成されている。
【００９１】
このように構成される第四実施形態によれば、側面露光処理ユニット９の側面露光装置（図示せず）によって側面露光されたガラス基板Ｇとノズルヘッド２０Ｃを、一端から他端に相対的にガラス基板Ｇと平行にスキャン移動してガラス基板表面に現像液を供給（吐出、塗布）する現像処理中に、補助現像液供給ノズル４４からガラス基板Ｇの側面に向かって現像液を供給（吐出）すると共に、補助リンス液供給ノズル４５から現像液が供給されたガラス基板Ｇの側面に向かってリンス液を供給（吐出）し、かつ、補助リンス液吸引ノズル４１にて吸引することにより、ガラス基板Ｇの裏面に現像液が回り込むのを阻止することができると共に、ガラス基板Ｇの側面及び裏面縁部に付着するレジストを除去することができる。また、現像処理が終了した後、上述したように、スピンチャック１０を９０度回転させた状態で、再びノズルヘッド２０Ｃをスキャンさせ、この際、補助現像液供給ノズル４４からガラス基板Ｇの側面に向かって現像液を供給（吐出）すると共に、補助リンス液供給ノズル４５から現像液が供給されたガラス基板Ｇの側面に向かってリンス液を供給（吐出）し、かつ、補助リンス液吸引ノズル４１にて吸引することにより、ガラス基板Ｇの他の対向する組の側面及び裏面縁部に付着するレジストを除去することができる。
【００９２】
なお、上記説明では、ポジ型レジストが塗布されたガラス基板Ｇの現像処理について説明したが、ネガ型レジストが塗布されたガラス基板Ｇにおいては、側面露光処理を施さずに現像処理ユニット４内に搬送して、上記と同様の工程で現像処理を行うと共に、側面に現像液とリンス液を供給（吐出）すると共に、裏面縁部下方側から吸引することにより、ガラス基板Ｇの側面及び裏面縁部に付着したネガ型レジストを除去することができる。
【００９３】
なお、第四実施形態において、その他の部分は第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００９４】
◎その他の実施形態
上記第三及び第四実施形態では、塗布、現像処理システムに側面露光処理ユニット９を組み込んだ場合について説明したが、塗布、現像処理システムに側面露光処理ユニット９を組み込まずに、図１に示した塗布、現像処理システムと別個に設けられた側面露光装置によってガラス基板の側面露光を行うようにしてもよい。
【００９５】
上記第一ないし第四実施形態においては、この発明に係る液処理装置を、レチクル用のガラス基板Ｇの現像処理に適用する場合について説明したが、これに限らず、ウエハやＬＣＤ等の現像処理に適用することも勿論可能である。
【００９６】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【００９７】
１）請求項１記載の発明によれば、被処理基板表面に処理液の流れを形成して液処理を行う一方、被処理基板の側面に洗浄液を供給して被処理基板表面の液処理と同時に、側面の洗浄を行うことができると共に、被処理基板の裏面への処理液の回り込みを防止することができる。また、処理中に洗浄液を側面に供給することにより、側方から処理液中に空気が混入するのを防止することができるので、泡噛みを防止することができ、処理液の流れを安定にし処理の均一化を図ることができる。
【００９８】
２）請求項２記載の発明によれば、被処理基板表面に処理液の流れを形成して液処理を行う一方、被処理基板の側面に処理液を供給して被処理基板表面の液処理と同時に、側面の洗浄を行うことができると共に、被処理基板の側面に付着したレジストを除去することができ、かつ、被処理基板の裏面への処理液の回り込みを防止することができる。また、処理中に処理液を側面に供給することにより、側方から処理液中に空気が混入するのを防止することができるので、泡噛みを防止することができ、処理液の流れを安定にし処理の均一化を図ることができる。
【００９９】
３）請求項１，２記載の発明によれば、補助液処理面に、補助洗浄液吸引手段を設けるので、上記１）、２）に加えて更に被処理基板の側面の洗浄に供された洗浄液の裏面への回り込みを阻止すると共に、回収することができる。
【０１００】
４）請求項３記載の発明によれば、被処理基板表面に処理液の流れを形成して液処理を行う一方、被処理基板の側面に洗浄液を供給すると共に、被処理基板の裏面縁部に洗浄液を供給するので、被処理基板表面の液処理と同時に、側面及び裏面縁部の洗浄を行うことができると共に、被処理基板の裏面への処理液の回り込みを防止することができる。また、処理中に洗浄液を側面に供給することにより、側方から処理液中に空気が混入するのを防止することができるので、泡噛みを防止することができ、処理液の流れを安定にし処理の均一化を図ることができる。
【０１０１】
５）また、水平補助液処理面に、補助洗浄液吸引手段を設けるので、上記４）に加えて更に被処理基板の側面及び裏面縁部の洗浄に供された洗浄液の裏面への回り込みを阻止すると共に、回収することができる。
【０１０２】
６）請求項４記載の発明によれば、垂直補助液処理面に、被処理基板の側面に処理液を供給する補助処理液供給手段を設けるので、上記４）、５）に加えて更に被処理基板の側面に付着したレジストを除去することができる。
【０１０３】
７）請求項５記載の発明によれば、保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に洗浄液を供給可能に形成するので、上記１）、４）に加えて更に被処理基板の全ての側面に洗浄液を供給して洗浄することができる。
【０１０４】
８）請求項６記載の発明によれば、保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に処理液及び洗浄液を供給可能に形成するので、上記３）、６）に加えて更に被処理基板の全ての側面に処理液及び洗浄液を供給して洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第一実施形態の液処理装置を適用した塗布、現像処理システムの一例を示す概略平面図である。
【図２】第一実施形態に係る現像処理装置の概略平面図である。
【図３】この発明におけるノズルヘッドの移動手段を示す斜視図（ａ）及び移動手段の垂直移動機構を示す断面図（ｂ）である。
【図４】上記現像処理装置の概略断面図である。
【図５】上記現像処理装置の要部を示す平面図（ａ）及び（ａ）のＩ部の拡大平面図（ｂ）である。
【図６】図５のII−II線に沿う断面図である。
【図７】この発明におけるノズルヘッドの主要部を示す断面図である。
【図８】上記ノズルヘッドの要部を示す断面図（ａ）及び（ａ）のIII−III線に沿う断面図である。
【図９】この発明におけるノズルヘッドの第一実施形態の補助液処理面を示す断面図である。
【図１０】第一実施形態のノズルヘッドの要部を示す斜視図である。
【図１１】第一実施形態のノズルヘッドの配管部を示す概略斜視図である。
【図１２】この発明における浮上り防止手段の第二実施形態の非吸引及び吸引状態を示す概略断面図である。
【図１３】第二実施形態におけるノズルヘッドの配管部を示す概略斜視図であるである。
【図１４】第三実施形態の液処理装置を適用した塗布、現像処理システムの一例を示す概略平面図である。
【図１５】この発明におけるノズルヘッドの第三実施形態の要部の要部を示す断面図である。
【図１６】この発明におけるノズルヘッドの第四実施形態の要部を示す断面図である。
【図１７】第四実施形態のノズルヘッドの一部を断面で示す平面図である。
【図１８】この発明における厚さ検出手段を示す概略断面図である。
【符号の説明】
Ｇガラス基板（被処理基板）
１０スピンチャック（保持手段）
２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃノズルヘッド
２１液処理面
２１ａ補助液処理面
２１ｂ垂直補助液処理面
２１ｃ水平補助液処理面
２２現像液供給ノズル（処理液供給手段）
２３現像液吸引ノズル（処理液吸引手段）
２４サイドリンスノズル（洗浄液供給手段）
３０ノズル移動手段
３４水平移動機構
３７垂直移動機構
４０補助リンス液供給ノズル（補助洗浄液供給手段）
４１補助リンス液吸引ノズル（補助洗浄液吸引手段）
４２第１の補助リンス液供給ノズル（第１の補助洗浄液供給手段）
４３第２の補助リンス液供給ノズル（第２の補助洗浄液供給手段）
４４補助現像液供給ノズル（補助処理液供給手段）
４５補助リンス液供給ノズル（補助洗浄液供給手段）
１００ＣＰＵ（制御手段）

Claims

板状の被処理基板を保持する保持手段と、
上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、
上記ノズルヘッドに、上記被処理基板の対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する補助液処理面を形成すると共に、この補助液処理面に、被処理基板側面に洗浄液を供給する補助洗浄液供給手段を設け、かつ、この補助洗浄液供給手段の下部側に位置して上記被処理基板の下端部の洗浄液を吸引する補助洗浄液吸引手段を設けてなる、ことを特徴とする液処理装置。
板状の被処理基板を保持する保持手段と、
上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、
上記ノズルヘッドに、上記被処理基板の対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する補助液処理面を形成すると共に、この補助液処理面に、被処理基板の側面に処理液を供給する補助処理液供給手段を設け、かつ、この補助処理液供給手段の下部側に位置して上記被処理基板の下端部の処理液を吸引する補助洗浄液吸引手段を設けてなる、ことを特徴とする液処理装置。
板状の被処理基板を保持する保持手段と、
上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、
上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、
上記ノズルヘッドに、上記被処理基板の対向する両側面にそれぞれ一定の隙間をおいて対峙する垂直補助液処理面を形成すると共に、この垂直補助液処理面の下端から内方に延在され、被処理基板の裏面縁部に一定の隙間をおいて対峙する水平補助液処理面を形成し、
上記垂直補助液処理面に、上記被処理基板の側面に洗浄液を供給する第１の補助洗浄液供給手段を設け、
上記水平補助液処理面に、上記被処理基板の裏面縁部に洗浄液を供給する第２の補助洗浄液供給手段を設けると共に、洗浄液を吸引する補助洗浄液吸引手段を設けてなる、ことを特徴とする液処理装置。
請求項３記載の液処理装置において、
上記垂直補助液処理面に、被処理基板の側面に処理液を供給する補助処理液供給手段を更に具備してなる、ことを特徴とする液処理装置。
請求項１又は３記載の液処理装置において、
上記保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に洗浄液を供給可能に形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
請求項２又は４記載の液処理装置において、
上記保持手段を水平方向に少なくとも９０度回転可能に形成し、被処理基板の対向する２組の側面に処理液及び洗浄液を供給可能に形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。