JP6316144B2 - 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 113
- 238000011161 development Methods 0.000 title claims description 77
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 105
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 56
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 27
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 19
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 11
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- -1 polychlorotrifluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
この場合、簡単な構成で第1および第2の流路に現像液を導くことができる。また、内部材の第1および第2の側面ならびに上端がそれぞれ現像液の流路を形成するので、内部材の表面上において、処理溶液が残存する可能性のある部分が削減される。それにより、固形物の析出が十分に防止される。
また、現像液吐出ノズルの組み立てが容易になる。さらに、第1および第2の外部材によって内部材が挟持されることにより、第1および第2の内面の間に内部材が安定に保持される。
(3)導入路の一端は、内部材の上端よりも高い位置にあってもよい。
(4)内部材は、外部材よりも高い親水性を有してもよい。この場合、現像液吐出ノズルから基板上に現像液が吐出されることによって基板上に現像液の液層が形成される際に、内部材の下面と基板の上面との間に十分な液溜りが形成される。それにより、内部材の下面と基板の上面との間で液層が分離されることが防止される。
(5)第1の外部材の第1の凹部と第2の外部材の第2の凹部との間に内部材が位置するように内部材を係止する係止部材をさらに備えてもよい。
(6)第1の外部材は、第1の凹部を除く領域に第1の係止部を有し、第2の外部材は、第2の凹部を除く領域に第2の係止部を有し、内部材は、第1および第2の凹部に対向する領域を除く領域に第3の係止部を有し、第1、第2のおよび第3の係止部の下端は、同じ高さに位置し、係止部材で支持され、内部材の第3の係止部は第1の外部材の第1の係止部と第2の外部材の第2の係止部とで挟持されてもよい。
(10)ノズル取り付け部は、現像液供給系から現像液が供給される液溜まり部と、液留まり部の現像液を現像液吐出ノズルの導入路に供給する供給路とを含んでもよい。
(11)液溜まり部は、第1の水平方向に漸次拡大しつつ下方に延びてもよい。
(12)ノズル取り付け部は、液溜まり部の頂部で開口する吸引路を有するものである。
(13)第1および第2の吐出口は、それぞれスリット状であり、互いに並列に第1の水平方向に延びてもよい。
(14)現像液吐出ノズルの導入路は、第1の水平方向に並ぶように配置される複数の連通導入路を含み、ノズル取り付け部の供給路は、液溜まり部と複数の連通導入部とを連通させてもよい。
(15)移動装置は、現像液吐出ノズルの第1および第2の吐出口が基板保持部により保持された基板の表面に対向するように第1の水平方向に交差する第2の水平方向に現像液吐出ノズルを移動させてもよい。
(16)現像液吐出ノズルの第1および第2の流路は、基板保持部により保持された基板の上面に対して垂直かつ直線的に延びてもよい。
図1は、実施の形態に係る現像処理装置の模式的平面図である。図2は、図1の現像処理装置の模式的側面図である。図1および図2、ならびに後述の図3以降の所定の図には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。
現像処理装置1の動作の概要について説明する。図3は、スリットノズル61の移動経路を示す図である。現像処理装置1は、制御部80を含む。制御部80により、現像処理装置1の各構成要素の動作が制御される。図3においては、3つの現像処理ユニットDEVをそれぞれ現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3とし、3つの待機ポッド70をそれぞれ待機ポッド70a,70b,70cとする。現像処理ユニットDEV1,DEV2,DEV3は、この順でX方向に沿って並ぶ。現像処理ユニットDEV1,DEV2の間に待機ポッド70aが配置され、現像処理ユニットDEV2,DEV3の間に待機ポッド70bが配置され、現像処理ユニットDEV3の外側に待機ポッド70cが配置される。
スリットノズル61の詳細について説明する。図4は、スリットノズル61およびノズルアーム61aの一部の外観斜視図である。図5は、スリットノズル61の分解斜視図である。図6は、スリットノズル61の縦断面図であり、図7は、スリットノズル61およびノズルアーム61aの一部の縦断面図である。
図9および図10は、内部材73を係止する係止部材について説明するための図である。図9には、外部材71の内面が示され、図10には、スリットノズル61の一端部が示される。また、図9においては、内部材73が一点鎖線で示され、図10においては、内部材73が点線で示される。
図11は、スリットノズル61による基板Wへの現像液の供給について説明するための模式的断面図である。図11に示すように、ノズル取り付け部61bの液溜り部623から複数の供給路624を通して、スリットノズル61の複数の導入路71aに現像液が導かれる。複数の導入路71aを通して複数の流路FP1bに現像液が導かれるとともに、複数の連通路CPを通して複数の流路FP2bに現像液が導かれる。複数の流路FP1bから流路FP1aを通して吐出口OP1に現像液が導かれ、吐出口OP1から基板W上に現像液が吐出される。また、複数の流路FP2bから流路FP2aを通して吐出口OP2に現像液が導かれ、吐出口OP2から基板W上に現像液が吐出される。
本実施の形態に係るスリットノズル61においては、内部材73の一方の側面および外部材71の凹部710により流路FP1a,FP1bが形成され、内部材73の他方の側面および外部材71の凹部720により流路FP2a,FP2bが形成される。外部材71に形成された導入路71aを通して、流路FP1a,FP1b,FP2a,FP2bに現像液が導かれる。
(7−1)
上記実施の形態では、外部材71,72が個別に設けられるが、本発明はこれに限らず、外部材71,72が一体に設けられてもよい。この場合、部品点数が削減される。また、外部材71と外部材72との隙間に現像液が浸入することが防止される。
上記実施の形態では、連通路CPを介して流路FP1b,FP2bが互いに連通するが、本発明はこれに限らない、流路FP1b,FP2bが互いに連通せず、流路FP1bに現像液を導く導入路71aとともに、流路FP2bに現像液を導く導入路が設けられてもよい。
上記実施の形態では、吐出口OP1,OP2に沿って一方向に延びるように帯状の流路FP1a,FP2aがそれぞれ形成され、流路FP1a,FP2aの上端部から上方に突出するように複数の流路FP1b,FP2bがそれぞれ形成されるが、各流路の形状はこれに限らず、適宜変更されてもよい。
上記実施の形態は、スリット状の吐出口OP1,OP2を有するスリットノズル61に本発明が適用された例であるが、他の現像液吐出ノズルに本発明が適用されてもよい。例えば、円形または長円形の吐出口を有する現像液吐出ノズルに本発明が適用されてもよい。あるいは、複数の吐出口が一方向に並ぶように設けられた現像液吐出ノズルに本発明が適用されてもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(9)参考形態
第1の参考形態に係る現像液吐出ノズルは、互いに逆方向に向けられる第1および第2の側面を有する内部材と、内部材の第1の側面に対向する第1の内面および内部材の第2の側面に対向する第2の内面を有する外部材とを備え、内部材の第1の側面と外部材の第1の内面との間に上下に延びる第1の流路が形成され、内部材の第2の側面と外部材の第2の内面との間に上下に延びる第2の流路が形成され、第1および第2の流路に現像液を導く導入路が外部材に形成され、現像液を吐出するための第1の吐出口が第1の流路の下端部に形成され、現像液を吐出するための第2の吐出口が第2の流路の下端部に形成される。
この現像液吐出ノズルにおいては、内部材の第1の側面と外部材の第1の内面との間に第1の流路が形成され、内部材の第2の側面と外部材の第2の内面との間に第2の流路が形成される。外部材に形成された導入路を通して第1および第2の流路に現像液が導かれる。第1の流路に導かれた現像液が第1の吐出口から吐出され、第2の流路に導かれた現像液が第2の吐出口から吐出される。
このように、第1および第2の流路の各々で現像液が流動する。そのため、現像液およびレジスト残渣等を含む溶液(以下、処理溶液と呼ぶ)が、第1および第2の流路を形成する内部材の第1および第2の側面、ならびに外部材の第1および第2の内面のいずれに付着しても、現像液の流動によってその処理溶液が除去される。それにより、付着した処理溶液から固形物が析出することが防止される。その結果、固形物の析出による現像欠陥の発生が防止される。
内部材は、外部材よりも高い親水性を有してもよい。この場合、現像液吐出ノズルから基板上に現像液が吐出されることによって基板上に現像液の液層が形成される際に、内部材の下面と基板の上面との間に十分な液溜りが形成される。それにより、内部材の下面と基板の上面との間で液層が分離されることが防止される。
内部材は、第1の側面の上端部と第2の側面の上端部とをつなぐ上面を有し、外部材は、第1の内面の上端部と第2の内面の上端部をつなぐとともに内部材の上面に対向する第3の内面を有し、内部材の上面と外部材の第3の内面との間に第1および第2の流路を連通させる連通路が形成され、導入路は、連通路に現像液を導くように形成されてもよい。
この場合、簡単な構成で第1および第2の流路に現像液を導くことができる。また、内部材の第1および第2の側面ならびに上面がそれぞれ現像液の流路を形成するので、内部材の表面上において、処理溶液が残存する可能性のある部分が削減される。それにより、固形物の析出が十分に防止される。
現像液吐出ノズルは、外部材の第1および第2の内面の間で内部材を係止する係止部材をさらに備えてもよい。
この場合、内部材の加工のためのコストを削減しつつ、外部材の第1および第2の内面の間に内部材を固定することができる。
外部材は、第1の内面を有する第1の部材と、第2の内面を有する第2の部材とを含み、第1および第2の部材は、第1および第2の内面の間に内部材が挟まれる状態で互いに固定されてもよい。
この場合、現像液吐出ノズルの組み立てが容易になる。また、第1および第2の部材によって内部材が挟持されることにより、第1および第2の内面の間に内部材が安定に保持される。
第1および第2の吐出口は、それぞれスリット状であり、互いに並列に一方向に延びてもよい。この場合、基板上に現像液の液層を効率良く形成することができる。
第1の流路は、第1の吐出口に沿って一方向に延びるように形成された第1の帯状流路と、第1の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、一方向に並ぶように設けられた複数の第1の突出流路とを含み、第2の流路は、第2の吐出口に沿って一方向に延びるように形成された第2の帯状流路と、第2の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、一方向に並ぶように設けられた複数の第2の突出流路とを含み、導入路は、複数の第1および第2の突出流路にそれぞれ連通するように設けられた複数の連通導入路を含んでもよい。
この場合、複数の第1の突出流路から第1の帯状流路の全体に現像液が均一に導かれ、複数の第2の突出流路から第2の帯状流路の全体に現像液が均一に導かれる。それにより、第1および第2の吐出口の全体から均一に現像液を吐出することができる。したがって、基板上に現像液の液層を安定的に形成することができる。
第2の参考形態に係る現像装置は、上記の現像液吐出ノズルと、基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、導入路を通して現像液吐出ノズルに現像液を供給する現像液供給系と、基板保持部により保持される基板に対して現像液吐出ノズルを相対的に移動させる移動装置とを備える。
この現像装置においては、現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動されつつ現像液吐出ノズルから基板上に現像液が吐出される。それにより、基板上に現像液の液層が形成され、基板の現像処理が行われる。この場合、上記の現像液吐出ノズルが用いられるので、固形物の析出による現像欠陥の発生が防止される。
移動装置は、内部材の第1および第2の側面に交差する方向に現像液吐出ノズルを移動させてもよい。
この場合、基板上に現像液の液層を効率良く形成することができる。
6 現像液供給部
10 回転保持部
20 処理カップ
30 リンスノズル
61 スリットノズル
61a ノズルアーム
61b ノズル取り付け部
62 ノズル昇降機構
63 ノズルスライド機構
71,72 外部材
71a 導入路
73 内部材
75 係止部材
630 連結部材
635 吸引管
710,720 凹部
711,721 帯状領域
712,722 突出領域
CP 連通路
DEV 現像処理ユニット
FP1a,FP1b,FP2a,FP2b 流路
OP1,OP2 吐出口
W 基板
Claims (16)
- 互いに逆方向に向けられる第1および第2の側面を有する内部材と、
前記内部材の前記第1の側面に対向する第1の内面を有する第1の外部材と、
前記内部材の前記第2の側面に対向する第2の内面を有する第2の外部材とを備え、
前記第1の外部材の前記第1の内面は、第1の内面上部および第1の凹部を有し、前記第1の凹部は、前記第1の内面上部の下方において前記第1の外部材の下端まで延びるように形成され、
前記第2の外部材の前記第2の内面は、第2の内面上部および第2の凹部を有し、前記第2の凹部は、前記第2の内面上部の下方において前記第2の外部材の下端まで延びるように形成され、
前記第1の外部材の前記第1の内面上部と前記第2の外部材の前記第2の内面上部とが互いに接合され、
前記内部材の前記第1の側面と前記第1の外部材の前記第1の凹部との間に上下に延びる第1の流路が形成され、
前記内部材の前記第2の側面と前記第2の外部材の前記第2の凹部との間に上下に延びる第2の流路が形成され、
現像液を吐出するための第1の吐出口が前記第1の流路の下端部に形成され、
現像液を吐出するための第2の吐出口が前記第2の流路の下端部に形成され、
前記内部材の上端の位置は、前記第1および第2の凹部の上端の位置よりも低く、
前記第1および第2の凹部内で前記内部材の上端上に、前記第1の流路と前記第2の流路とを連通させる連通路が形成され、
前記第1の外部材には、前記連通路に現像液を導く導入路が前記第1の凹部内で開口するように形成される、現像液吐出ノズル。 - 前記第1の外部材は、上下に延びる外面を有し、
前記導入路は、前記第1の凹部内で開口する一端および前記外面で開口する他端を有する、請求項1記載の現像液吐出ノズル。 - 前記導入路の前記一端は、前記内部材の上端よりも高い位置にある、請求項2記載の現像液吐出ノズル。
- 前記内部材は、前記外部材よりも高い親水性を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズル。
- 前記第1の外部材の前記第1の凹部と前記第2の外部材の前記第2の凹部との間に前記内部材が位置するように前記内部材を係止する係止部材をさらに備える、請求項1〜4のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズル。
- 前記第1の外部材は、前記第1の凹部を除く領域に第1の係止部を有し、
前記第2の外部材は、前記第2の凹部を除く領域に第2の係止部を有し、
前記内部材は、前記第1および第2の凹部に対向する領域を除く領域に第3の係止部を有し、
前記第1、第2のおよび第3の係止部の下端は、同じ高さに位置し、前記係止部材で支持され、
前記内部材の第3の係止部は前記第1の外部材の前記第1の係止部と前記第2の外部材の前記第2の係止部とで挟持される、請求項5記載の現像液吐出ノズル。 - 前記第1および第2の吐出口は、それぞれスリット状であり、互いに並列に一方向に延びる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズル。
- 前記第1の流路は、
前記第1の吐出口に沿って前記一方向に延びるように形成された第1の帯状流路と、
前記第1の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、前記一方向に並ぶように設けられた複数の第1の突出流路とを含み、
前記第2の流路は、
前記第2の吐出口に沿って前記一方向に延びるように形成された第2の帯状流路と、
前記第2の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、前記一方向に並ぶように設けられた複数の第2の突出流路とを含み、
前記導入路は、前記複数の第1および第2の突出流路にそれぞれ連通するように設けられた複数の連通導入路を含む、請求項7記載の現像液吐出ノズル。 - 基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、
現像液吐出ノズルと、
前記現像液吐出ノズルが取り付けられるノズル取り付け部と、
前記ノズル取り付け部を通して前記現像液吐出ノズルに現像液を供給する現像液供給系と、
前記基板保持部により保持される基板の上面に対して前記現像液吐出ノズルを相対的に移動させる移動装置とを備え、
前記現像液吐出ノズルは、
互いに逆方向に向けられる第1および第2の側面を有する内部材と、
前記内部材の前記第1の側面に対向する第1の内面を有する第1の外部材と、
前記内部材の前記第2の側面に対向する第2の内面を有する第2の外部材とを備え、
前記第1の外部材の前記第1の内面は、第1の内面上部および第1の凹部を有し、前記第1の凹部は、前記第1の内面上部の下方において前記第1の外部材の下端まで延びるように形成され、
前記第2の外部材の前記第2の内面は、第2の内面上部および第2の凹部を有し、前記第2の凹部は、前記第2の内面上部の下方において前記第2の外部材の下端まで延びるように形成され、
前記第1の外部材の前記第1の内面上部と前記第2の外部材の前記第2の内面上部とが互いに接合され、
前記内部材の前記第1の側面と前記第1の外部材の前記第1の凹部との間に上下に延びる第1の流路が形成され、
前記内部材の前記第2の側面と前記第2の外部材の前記第2の凹部との間に上下に延びる第2の流路が形成され、
現像液を吐出するための第1の吐出口が前記第1の流路の下端部に形成され、
現像液を吐出するための第2の吐出口が前記第2の流路の下端部に形成され、
前記内部材の上端の位置は、前記第1および第2の凹部の上端の位置よりも低く、
前記第1および第2の凹部内で前記内部材の上端上に、前記第1の流路と前記第2の流路とを連通させる連通路が形成され、
前記第1の外部材には、前記現像液供給系からの現像液を前記連通路に導く導入路が前記第1の凹部内で開口するように形成される、現像処理装置。 - 前記ノズル取り付け部は、前記現像液供給系から現像液が供給される液溜まり部と、前記液溜まり部の現像液を前記現像液吐出ノズルの前記導入路に供給する供給路とを含む、請求項9記載の現像処理装置。
- 前記液溜まり部は、第1の水平方向に漸次拡大しつつ下方に延びる、請求項10記載の現像処理装置。
- 前記ノズル取り付け部は、前記液溜まり部の頂部で開口する吸引路を有する、請求項11記載の現像処理装置。
- 前記第1および第2の吐出口は、それぞれスリット状であり、互いに並列に前記第1の水平方向に延びる、請求項11および12記載の現像処理装置。
- 前記現像液吐出ノズルの前記導入路は、前記第1の水平方向に並ぶように配置される複数の連通導入路を含み、
前記ノズル取り付け部の前記供給路は、前記液溜まり部と前記複数の連通導入路とを連通させる、請求項13記載の現像処理装置。 - 前記移動装置は、前記現像液吐出ノズルの前記第1および第2の吐出口が前記基板保持部により保持された基板の表面に対向するように前記第1の水平方向に交差する第2の水平方向に前記現像液吐出ノズルを移動させる、請求項14記載の現像処理装置。
- 前記現像液吐出ノズルの前記第1および第2の流路は、前記基板保持部により保持された基板の上面に対して垂直かつ直線的に延びる、請求項9〜15のいずれか一項に記載の現像処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014178171A JP6316144B2 (ja) | 2014-09-02 | 2014-09-02 | 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置 |
PCT/JP2015/003436 WO2016035238A1 (ja) | 2014-09-02 | 2015-07-08 | 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置 |
TW104125273A TWI693105B (zh) | 2014-09-02 | 2015-08-04 | 顯影液噴出噴嘴及顯影處理裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014178171A JP6316144B2 (ja) | 2014-09-02 | 2014-09-02 | 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016051882A JP2016051882A (ja) | 2016-04-11 |
JP6316144B2 true JP6316144B2 (ja) | 2018-04-25 |
Family
ID=55439329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014178171A Active JP6316144B2 (ja) | 2014-09-02 | 2014-09-02 | 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6316144B2 (ja) |
TW (1) | TWI693105B (ja) |
WO (1) | WO2016035238A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6824673B2 (ja) * | 2016-09-13 | 2021-02-03 | 株式会社Screenホールディングス | ノズル清掃部材、ノズル清掃装置、塗布装置 |
JP6869305B2 (ja) * | 2019-09-19 | 2021-05-12 | 株式会社Screenホールディングス | スリットノズルおよび基板処理装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3120168B2 (ja) * | 1994-05-30 | 2000-12-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及び処理装置 |
JPH09276773A (ja) * | 1996-04-10 | 1997-10-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP3722629B2 (ja) * | 1997-12-05 | 2005-11-30 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 現像液吐出ノズルおよび現像液供給装置 |
JP4189141B2 (ja) * | 2000-12-21 | 2008-12-03 | 株式会社東芝 | 基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法 |
JP3990885B2 (ja) * | 2001-09-05 | 2007-10-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像装置及び現像方法 |
JP4014035B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2007-11-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
JP4021389B2 (ja) * | 2003-08-26 | 2007-12-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の液処理方法及び基板の液処理装置 |
JP4101740B2 (ja) * | 2003-12-09 | 2008-06-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布・現像装置及びレジストパターンの形成方法 |
-
2014
- 2014-09-02 JP JP2014178171A patent/JP6316144B2/ja active Active
-
2015
- 2015-07-08 WO PCT/JP2015/003436 patent/WO2016035238A1/ja active Application Filing
- 2015-08-04 TW TW104125273A patent/TWI693105B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI693105B (zh) | 2020-05-11 |
JP2016051882A (ja) | 2016-04-11 |
WO2016035238A1 (ja) | 2016-03-10 |
TW201620618A (zh) | 2016-06-16 |
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