JP2016051882A - 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】固形物の析出による現像欠陥の発生が防止された現像液吐出ノズルおよび現像処理装置を提供する。
【解決手段】外部材７１の凹部７１０および内部材７３の一方の側面により流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂが形成され、外部材７２の凹部７２０の帯状領域７２１および内部材７３の他方の側面により流路ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂが形成される。流路ＦＰ１ａの下端に、スリット状の吐出口ＯＰ１が形成され、流路ＦＰ２ａの下端に、スリット状の吐出口ＯＰ２が形成される。内部材７３の上面と外部材７２の段差面ＧＰとの間には連通路ＣＰが形成される。連通路ＣＰを介して、複数の流路ＦＰ１ｂと複数の流路ＦＰ２ｂとが互いに連通する。外部材７１には、流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂに現像液を導く導入路７１ａが形成される。
【選択図】図６

Description

本発明は、現像液吐出ノズルおよび現像処理装置に関する。

現像処理装置においては、例えばスリット状の吐出口を有する現像液吐出ノズルが用いられる。特許文献１に記載される現像液吐出ノズルは、撥水性を有する第１および第２の部材、ならびに親水性を有する第３の部材を含む。第１、第２および第３の部材はそれぞれ板状に設けられ、第３の部材の一面および他面に第１および第２の部材がそれぞれ接合される。第３の部材と第２の部材との間に現像液の流路が形成され、その下端部にスリット状の吐出口が設けられる。

特開平１１−２２１５１１号公報

現像処理時には、現像液およびレジスト残渣等を含む溶液（以下、処理溶液と呼ぶ）が、現像液吐出ノズルに付着する。処理溶液が現像液吐出ノズルに付着したまま時間が経過すると、処理溶液から固形物が析出する。析出した固形物は、現像欠陥の要因となる。現像液の流路においては、処理溶液が付着しても、現像液の流動によってその処理溶液が除去されるので、固形物が析出しにくい。一方、現像液が流動しない部分に処理溶液が付着すると、その処理溶液は除去されにくい。そのため、固形物が析出する可能性がある。

上記特許文献１の現像液吐出ノズルにおいては、第３の部材が親水性であるので、第３の部材の周囲に処理溶液が付着しやすい。第２の部材と第３の部材との間の流路に処理溶液が付着しても、その処理溶液は現像液の流動によって除去される。一方、第１の部材と第３の部材との間に処理溶液が浸入すると、その現像用液を除去することは困難であり、固形物が析出しやすい。また、浸入した現像用液は、毛細管現象によって徐々に内部に進行する。それにより、固形物の析出範囲が拡大する。

本発明の目的は、固形物の析出による現像欠陥の発生が防止された現像液吐出ノズルおよび現像処理装置を提供することである。

（１）第１の発明に係る現像液吐出ノズルは、互いに逆方向に向けられる第１および第２の側面を有する内部材と、内部材の第１の側面に対向する第１の内面および内部材の第２の側面に対向する第２の内面を有する外部材とを備え、内部材の第１の側面と外部材の第１の内面との間に上下に延びる第１の流路が形成され、内部材の第２の側面と外部材の第２の内面との間に上下に延びる第２の流路が形成され、第１および第２の流路に現像液を導く導入路が外部材に形成され、現像液を吐出するための第１の吐出口が第１の流路の下端部に形成され、現像液を吐出するための第２の吐出口が第２の流路の下端部に形成される。

この現像液吐出ノズルにおいては、内部材の第１の側面と外部材の第１の内面との間に第１の流路が形成され、内部材の第２の側面と外部材の第２の内面との間に第２の流路が形成される。外部材に形成された導入路を通して第１および第２の流路に現像液が導かれる。第１の流路に導かれた現像液が第１の吐出口から吐出され、第２の流路に導かれた現像液が第２の吐出口から吐出される。

このように、第１および第２の流路の各々で現像液が流動する。そのため、現像液およびレジスト残渣等を含む溶液（以下、処理溶液と呼ぶ）が、第１および第２の流路を形成する内部材の第１および第２の側面、ならびに外部材の第１および第２の内面のいずれに付着しても、現像液の流動によってその処理溶液が除去される。それにより、付着した処理溶液から固形物が析出することが防止される。その結果、固形物の析出による現像欠陥の発生が防止される。

（２）内部材は、外部材よりも高い親水性を有してもよい。この場合、現像液吐出ノズルから基板上に現像液が吐出されることによって基板上に現像液の液層が形成される際に、内部材の下面と基板の上面との間に十分な液溜りが形成される。それにより、内部材の下面と基板の上面との間で液層が分離されることが防止される。

（３）内部材は、第１の側面の上端部と第２の側面の上端部とをつなぐ上面を有し、外部材は、第１の内面の上端部と第２の内面の上端部をつなぐとともに内部材の上面に対向する第３の内面を有し、内部材の上面と外部材の第３の内面との間に第１および第２の流路を連通させる連通路が形成され、導入路は、連通路に現像液を導くように形成されてもよい。

この場合、簡単な構成で第１および第２の流路に現像液を導くことができる。また、内部材の第１および第２の側面ならびに上面がそれぞれ現像液の流路を形成するので、内部材の表面上において、処理溶液が残存する可能性のある部分が削減される。それにより、固形物の析出が十分に防止される。

（４）現像液吐出ノズルは、外部材の第１および第２の内面の間で内部材を係止する係止部材をさらに備えてもよい。

この場合、内部材の加工のためのコストを削減しつつ、外部材の第１および第２の内面の間に内部材を固定することができる。

（５）外部材は、第１の内面を有する第１の部材と、第２の内面を有する第２の部材とを含み、第１および第２の部材は、第１および第２の内面の間に内部材が挟まれる状態で互いに固定されてもよい。

この場合、現像液吐出ノズルの組み立てが容易になる。また、第１および第２の部材によって内部材が挟持されることにより、第１および第２の内面の間に内部材が安定に保持される。

（６）第１および第２の吐出口は、それぞれスリット状であり、互いに並列に一方向に延びてもよい。この場合、基板上に現像液の液層を効率良く形成することができる。

（７）第１の流路は、第１の吐出口に沿って一方向に延びるように形成された第１の帯状流路と、第１の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、一方向に並ぶように設けられた複数の第１の突出流路とを含み、第２の流路は、第２の吐出口に沿って一方向に延びるように形成された第２の帯状流路と、第２の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、一方向に並ぶように設けられた複数の第２の突出流路とを含み、導入路は、複数の第１および第２の突出流路にそれぞれ連通するように設けられた複数の連通導入路を含んでもよい。

この場合、複数の第１の突出流路から第１の帯状流路の全体に現像液が均一に導かれ、複数の第２の突出流路から第２の帯状流路の全体に現像液が均一に導かれる。それにより、第１および第２の吐出口の全体から均一に現像液を吐出することができる。したがって、基板上に現像液の液層を安定的に形成することができる。

（８）第２の発明に係る現像装置は、上記の現像液吐出ノズルと、基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、導入路を通して現像液吐出ノズルに現像液を供給する現像液供給系と、基板保持部により保持される基板に対して現像液吐出ノズルを相対的に移動させる移動装置とを備える。

この現像装置においては、現像液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動されつつ現像液吐出ノズルから基板上に現像液が吐出される。それにより、基板上に現像液の液層が形成され、基板の現像処理が行われる。この場合、上記の現像液吐出ノズルが用いられるので、固形物の析出による現像欠陥の発生が防止される。

（９）移動装置は、内部材の第１および第２の側面に交差する方向に現像液吐出ノズルを移動させてもよい。

この場合、基板上に現像液の液層を効率良く形成することができる。

本発明によれば、固形物の析出による現像欠陥の発生が防止される。

実施の形態に係る現像処理装置の模式的平面図である。 図１の現像処理装置の模式的側面図である。 スリットノズルの移動経路を示す図である。 スリットノズルおよびノズルアームの外観斜視図である。 スリットノズルの分解斜視図である。 スリットノズルの縦断面図である。 スリットノズルおよびノズルアームの縦断面図である。 図７のＡ−Ａ線断面図である。 外部材の内面を示す側面図である。 スリットノズルの一端部を示す側面図である。 スリットノズルによる基板への現像液の供給について説明するための模式的断面図である。 比較例に係るスリットノズルの構成を示す断面図である。

以下、本発明の実施の形態に係る現像液吐出ノズルおよび現像処理装置について図面を参照しながら説明する。以下の実施の形態において、現像液吐出ノズルは、スリット状の吐出口を有するスリットノズルである。

（１）現像処理装置の構成
図１は、実施の形態に係る現像処理装置の模式的平面図である。図２は、図１の現像処理装置の模式的側面図である。図１および図２、ならびに後述の図３以降の所定の図には、位置関係を明確にするために互いに直交するＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向を示す矢印を付している。Ｘ方向およびＹ方向は水平面内で互いに直交し、Ｚ方向は鉛直方向に相当する。

図１に示すように、現像処理装置１は、筐体５を備える。筐体５内に、３つの現像処理ユニットＤＥＶおよび現像液供給部６が設けられる。３つの現像処理ユニットＤＥＶは、互いに同じ構成を有し、Ｘ方向に沿って並ぶように配置される。各現像処理ユニットＤＥＶは、回転保持部１０、処理カップ２０およびリンスノズル３０を備える。

図２に示すように、回転保持部１０は、スピンチャック１１、回転軸１２およびモータ１３を含む。スピンチャック１１は、モータ１３に接続された回転軸１２の上端部に設けられる。スピンチャック１１は、基板Ｗの下面の略中心部を真空吸着することにより、基板Ｗを水平姿勢で保持する。モータ１３によって回転軸１２およびスピンチャック１１が一体的に回転される。それにより、スピンチャック１１によって保持された基板Ｗが鉛直方向（Ｚ方向）に沿った軸の周りで回転する。

回転保持部１０を取り囲むように処理カップ２０が設けられる。処理カップ２０は、図示しないカップ昇降機構により下方位置と上方位置との間で昇降される。処理カップ２０が下方位置にある場合、処理カップ２０の上端がスピンチャック１１による基板Ｗの保持位置よりも低い。各現像処理ユニットＤＥＶに対する基板Ｗの搬入時および搬出時に、その現像処理ユニットＤＥＶの処理カップ２０が下方位置に配置される。カップ昇降機構１２５が上方位置にある場合、処理カップ２０の上端がスピンチャック１１による基板Ｗの保持位置よりも高く、基板Ｗの周囲が処理カップ２０により取り囲まれる。基板Ｗの現像処理時に、処理カップ２０が上方位置に配置され、回転される基板Ｗから飛散する液滴が処理カップ２０により受け止められる。受け止められた液滴は、図示しない排出部（ドレイン）に導かれる。

リンスノズル３０は、処理カップ２０の外側の待避位置とスピンチャック１１により保持される基板Ｗの中心部上方のリンス位置との間で回動可能に設けられる。リンスノズル３０は、リンス位置においてスピンチャック１１により保持される基板Ｗ上にリンス液を供給する。

図１に示すように、現像液供給部６は、スリットノズル６１、ノズルアーム６１ａ、ノズル昇降機構６２およびノズルスライド機構６３を含む。スリットノズル６１は、Ｙ方向に延びるように設けられ、ノズルアーム６１ａを介してノズル昇降機構６２に連結される。スリットノズル６１は、ノズル昇降機構６２によりＺ方向に沿って昇降される。また、スリットノズル６１は、各スピンチャック１１により保持された基板Ｗの上方を通るように、ノズルスライド機構６３により３つの現像処理ユニットＤＥＶの配列方向（Ｘ方向）に沿って移動する。

スリットノズル６１には、図示しない現像液供給源からノズルアーム６１ａを介して現像液が供給される。スリットノズル６１は、スピンチャック１１により保持された基板Ｗの上方を移動しつつ基板Ｗ上に現像液を帯状に吐出する。それにより、基板Ｗの上面を覆うように、現像液の液層が形成される。基板Ｗが回転される状態で現像液の液層が形成されてもよく、または基板Ｗの回転が停止された状態で現像液の液層が形成されてもよい。

隣り合う現像処理ユニットＤＥＶ間および一端に位置する現像処理ユニットＤＥＶの外側に待機ポッド７０が設けられる。スリットノズル６１は、基板Ｗ上に現像液を吐出しない期間に、いずれかの待機ポッド７０上で待機する。待機ポッド７０において、スリットノズル６１は、内部に滞留する現像液を吐出して排出するオートディスペンス処理を定期的に行う。これにより、変質または経時劣化した現像液が基板Ｗに供給されることが防止される。また、待機ポッド７０において、スリットノズル６１の洗浄処理が行われる。

筐体５０の一側面には、３つの現像処理ユニットＤＥＶにそれぞれ対向するように３つのシャッター７が設けられる。各現像処理ユニットＤＥＶに対する基板Ｗの搬入時および搬出時には、対応するシャッター７が開放される。各現像処理ユニットＤＥＶにおける現像処理時には、対応するシャッター７が閉鎖される。

（２）現像処理装置の動作
現像処理装置１の動作の概要について説明する。図３は、スリットノズル６１の移動経路を示す図である。現像処理装置１は、制御部８０を含む。制御部８０により、現像処理装置１の各構成要素の動作が制御される。図３においては、３つの現像処理ユニットＤＥＶをそれぞれ現像処理ユニットＤＥＶ１，ＤＥＶ２，ＤＥＶ３とし、３つの待機ポッド７０をそれぞれ待機ポッド７０ａ，７０ｂ，７０ｃとする。現像処理ユニットＤＥＶ１，ＤＥＶ２，ＤＥＶ３は、この順でＸ方向に沿って並ぶ。現像処理ユニットＤＥＶ１，ＤＥＶ２の間に待機ポッド７０ａが配置され、現像処理ユニットＤＥＶ２，ＤＥＶ３の間に待機ポッド７０ｂが配置され、現像処理ユニットＤＥＶ３の外側に待機ポッド７０ｃが配置される。

スリットノズル６１が待機ポッド７０ｃ上に位置するときに、図示しない搬送装置により現像処理ユニットＤＥＶ１のスピンチャック１１上に、露光処理後の基板Ｗが搬送される。この場合、現像処理ユニットＤＥＶ１の処理カップ２０が下方位置にある状態で現像処理ユニットＤＥＶ１のスピンチャック１１上に基板Ｗが搬送され、基板Ｗの搬送後にその処理カップ２０が上方位置に上昇する。続いて、スリットノズル６１が、現像処理ユニットＤＥＶ１のスピンチャック１１により保持される基板Ｗの一端部（Ｘ方向において待機ポッド７０ａから遠い側の端部）上まで移動し、現像液を吐出しながら基板Ｗの他端部（Ｘ方向において待機ポッド７０ａに近い側の端部）上まで移動する。その後、スリットノズル６１は待機ポッド７０ａ上に移動する。

スリットノズル６１が待機ポッド７０ａ上に位置するときに、図示しない搬送装置により現像処理ユニットＤＥＶ２のスピンチャック１１上に、露光処理後の基板Ｗが搬送される。この場合、現像処理ユニットＤＥＶ２の処理カップ２０が下方位置にある状態で現像処理ユニットＤＥＶ２のスピンチャック１１上に基板Ｗが搬送され、基板Ｗの搬送後にその処理カップ２０が上方位置に上昇する。続いて、スリットノズル６１が、現像処理ユニットＤＥＶ２のスピンチャック１１により保持される基板Ｗの一端部（Ｘ方向において待機ポッド７０ａに近い側の端部）上まで移動し、現像液を吐出しながら基板Ｗの他端部（Ｘ方向において待機ポッド７０ｂに近い側の端部）上まで移動する。その後、スリットノズル６１は待機ポッド７０ｂ上に移動する。

スリットノズル６１が待機ポッド７０ｂ上に位置するときに、図示しない搬送装置により現像処理ユニットＤＥＶ３のスピンチャック１１上に、露光処理後の基板Ｗが搬送される。この場合、現像処理ユニットＤＥＶ３の処理カップ２０が下方位置にある状態で現像処理ユニットＤＥＶ３のスピンチャック１１上に基板Ｗが搬送され、基板Ｗの搬送後にその処理カップ２０が上方位置に上昇する。続いて、スリットノズル６１が、現像処理ユニットＤＥＶ３のスピンチャック１１により保持される基板Ｗの一端部（Ｘ方向において待機ポッド７０ｂに近い側の端部）上まで移動し、現像液を吐出しながら基板Ｗの他端部（Ｘ方向において待機ポッド７０ｃに近い側の端部）上まで移動する。その後、スリットノズル６１は待機ポッド７０ｃ上に移動する。

現像処理ユニットＤＥＶ１〜ＤＥＶ３の各々において、スリットノズル６１が基板Ｗ上を移動しながら現像液を吐出することにより、基板Ｗ上に現像液の液層が形成される。その状態で、基板Ｗ上に形成された感光性膜（レジスト）の現像反応が進行する。現像液の液層が形成されてから予め定められた時間が経過すると、リンスノズル３０がリンス位置に移動し、リンス液を吐出する。それにより、感光性膜の現像反応が停止される。続いて、基板Ｗ上にリンス液が吐出されつつ回転保持部１０により基板Ｗが回転されることにより、基板Ｗ上の現像液が洗い流される。その後、リンス液の吐出が停止された状態で基板Ｗが回転されることにより、基板Ｗからリンス液が振り切られ、基板Ｗが乾燥される。乾燥された基板Ｗが図示しない搬送装置によりスピンチャック１１上から搬送される。スピンチャック１１上から基板Ｗが搬送される際には、処理カップ２０が下方位置に下降する。現像処理装置１においては、このような一連の動作が繰り返される。

現像処理ユニットＤＥＶ１〜ＤＥＶ３の各々に対する基板Ｗの搬入および搬出のタイミングは、上記の例に限定されず、現像処理装置１の各部の動作速度、現像処理時間、または搬送装置の動作速度等に応じて、適宜変更されてもよい。また、現像処理ユニットＤＥＶ、待機ポッド７０およびスリットノズル６１の数は、適宜変更されてもよい。

（３）スリットノズルの構成
スリットノズル６１の詳細について説明する。図４は、スリットノズル６１およびノズルアーム６１ａの一部の外観斜視図である。図５は、スリットノズル６１の分解斜視図である。図６は、スリットノズル６１の縦断面図であり、図７は、スリットノズル６１およびノズルアーム６１ａの一部の縦断面図である。

図４に示すように、ノズルアーム６１ａは、略Ｌ字状の断面を有するノズル取り付け部６１ｂを含む。ノズル取り付け部６１ｂにスリットノズル６１が取り付けられる。スリットノズル６１の上面および一側面はノズル取り付け部６１ｂに重なる。

ノズル取り付け部６１ｂの上面には、連結部材６３０が取り付けられる。連結部材６３０には、吸引管６３５の一端が接続される。吸引管６３５の他端は、図示しない真空発生装置（排気装置）に接続される。

図５に示すように、スリットノズル６１は、外部材７１，７２および内部材７３を含む。外部材７１，７２および内部材７３は、それぞれＹ方向に長尺状に延びる。上下方向における外部材７１，７２の幅は互いに等しく、内部材７３の幅はそれより小さい。内部材７３は、外部材７１，７２の間に配置される。

外部材７１，７２は、例えば撥水性材料により形成され、内部材７３は、例えば親水性材料により形成される。外部材７１，７２の材料として、例えば、ＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン）またはＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）が用いられる。内部材７３の材料として、例えば石英が用いられる。

外部材７１の内面（内部材７３に対向する面）には、一定の深さの凹部７１０が形成される。凹部７１０は、帯状領域７１１および複数の突出領域７１２を含む。帯状領域７１１は、外部材７１の下端部に沿ってＹ方向に延びる。複数の突出領域７１２は、帯状領域７１１の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、Ｙ方向に等間隔に並ぶように設けられる。また、複数の突出領域７１２にそれぞれ対応するように、複数の導入路７１ａが外部材７１に形成される。各導入路７１ａの一端は、対応する突出領域７１２内で開口し、他端は、外部材７１の外面で開口する。また、外部材７１の上端部および両側部には、複数の孔部７１ｂが設けられる。

外部材７２の内面（内部材７３に対向する面）には、一定の深さの凹部７２０が形成される。凹部７２０は、帯状領域７２１および複数の突出領域７２２を含む。帯状領域７２１は、外部材７１の帯状領域７１１と同様の形状を有し、各突出領域７２２は、外部材７１の各突出領域７１２と同様の形状を有する。外部材７２の上端部および両側部には、複数の孔部７２ｂが設けられる。

内部材７３の両側部には、下端部から一定の高さまで切り欠き７３ａがそれぞれ形成される。内部材７３は、後述の係止部材７５（図９）によって外部材７１，７２の間で係止される。

図６に示すように、外部材７１，７２の外面の下端部は、それぞれ内側に傾斜するように形成される。また、内部材７３の上面および下面は、内部材７３の一方の側面および他方の側面にそれぞれ連続的につながるように曲面状に設けられる。

外部材７２の内面には段差が設けられ、外部材７２の上部の厚みは下部の厚みより大きい。外部材７２の内面上部は、外部材７１の内面上部に当接する。凹部７１０，７２０は、外部材７１，７２の内面下部にそれぞれ形成される。凹部７１０，７２０の間に内部材７３が配置される。

外部材７１の凹部７１０の帯状領域７１１および内部材７３の一方の側面により流路ＦＰ１ａが形成され、外部材７２の凹部７２０の帯状領域７２１および内部材７３の他方の側面により流路ＦＰ２ａが形成される。また、流路ＦＰ１ａの下端に、スリット状の吐出口ＯＰ１が形成され、流路ＦＰ２ａの下端に、スリット状の吐出口ＯＰ２が形成される。吐出口ＯＰ１，ＯＰ２は、互いに平行にＹ方向に延びる。

外部材７１の凹部７１０の複数の突出領域７１２および内部材７３の一方の側面により複数の流路ＦＰ１ｂが形成され、外部材７２の凹部７２０の複数の突出領域７２２および内部材７３の他方の側面により複数の流路ＦＰ２ｂが形成される。図６には、１つの流路ＦＰ１ｂおよび１つの流路ＦＰ２ｂのみが示される。内部材７３の上面と外部材７２の段差面ＧＰとの間には連通路ＣＰが形成される。連通路ＣＰを介して、複数の流路ＦＰ１ｂと複数の流路ＦＰ２ｂとが互いに連通する。複数の流路ＦＰ１ｂと複数の流路ＦＰ２ｂとの間で現像液を分散させるために、外部材７１の導入路７１ａは内部材７３の上端部よりも高い位置にあることが好ましい。

図７に示すように、ノズルアーム６１ａのノズル取り付け部６１ｂは、取り付け底面６１１および取り付け側面６１２を有する。取り付け側面６１２には、複数のねじ穴６１２ａがＹ方向に並ぶように形成される。図７には、１つのねじ穴６１２ａのみが示される。外部材７１の外面が取り付け側面６１２に当接する状態で、外部材７２の複数の孔部７２ｂおよび外部材７１の複数の孔部７１ｂを通して、複数のねじＳＣが取り付け側面６１２の複数のねじ穴６１２ａにそれぞれねじ込まれる。これにより、外部材７１，７２がノズル取り付け部６１ｂに固定される。外部材７１，７２の上面は、ノズル取り付け部６１ｂの取り付け底面６１１と対向する。

ノズル取り付け部６１ｂの内部には、吸引路６２１、供給路６２２、液溜り部６２３および複数の供給路６２４が互いに連通するように設けられる。連結部材６３０の内部には、吸引路６３１が形成される。以下、ノズル取り付け部６１ｂおよび連結部材６３０の内部構造について説明する。

図８は、図７のＡ−Ａ線断面図である。図８に示すように、液溜り部６２３は、Ｙ方向に漸次拡大しつつ下方に延び、さらに一定の幅で下方に延びる。吸引路６２１は、ノズル取り付け部６１ｂの上面から液溜り部６２３に延びる。連結部材６３０の吸引路６３１は、吸引路６２１に連通する。また、吸引管６３５は、吸引路６３１に連通する。

供給路６２２は、液溜り部６２３とＸ方向に隣り合いかつＹ方向に延びる。供給路６２２の一端部は略垂直に屈曲して液溜り部６２３の上端部で開口する。複数（本例では、５つ）の供給路６２４はＹ方向に並ぶように設けられ、各供給路６２４の一端は液溜り部６２３の下端部で開口する。各供給路６２４は、Ｙ方向に一定の幅を有し、Ｘ方向に帯状に延びる。図７に示すように、各供給路６２４は、外部材７１の複数の導入路７１ａに連通する。本例では、１つの供給路６２４が６つの導入路７１ａに連通する。

供給路６２２を通して、液溜り部６２３に現像液が供給される。液溜り部６２３の現像液は、複数の供給路６２４を通して、スリットノズル６１に導かれる。また、吸引路６２１，６３１および図８の吸引管６３５を通して、液溜り部６２３内の気体が吸引される。これにより、液溜り部６２３において、現像液から気泡が除去される。

（４）係止部材
図９および図１０は、内部材７３を係止する係止部材について説明するための図である。図９には、外部材７１の内面が示され、図１０には、スリットノズル６１の一端部が示される。また、図９においては、内部材７３が一点鎖線で示され、図１０においては、内部材７３が点線で示される。

図９および図１０に示すように、スリットノズル６１の両端部には、係止部材７５がそれぞれ取り付けられる。図１０に示すように、各係止部材７５は、一対のねじ７５ａにより外部材７１，７２の下端部にそれぞれ固定される。図９に示すように、各係止部材７５の一部は、内部材７３の各切り欠き７３ａ内に位置する。これにより、内部材７３の両側部が一対の係止部材７５によって係止される。

また、Ｙ方向において、内部材７３の上半部の長さは、外部材７１の凹部７１０の長さよりも大きい。それにより、内部材７３の一方の側面の両端部が、凹部７１０の外側で外部材７１の内面に当接する。そのため、内部材７３の一方の側面が、外部材７１の凹部７１０の底面に当接することが防止される。したがって、図６に示すように、内部材７３の一方の側面と凹部７１０の底面との間に流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂが確保される。同様に、内部材７３の他方の側面の両端部が、凹部７２０の外側において、外部材７２の内面に当接する。そのため、内部材７３の他方の側面が外部材７２の凹部７２０の底面に当接することが防止される。したがって、図６に示すように、内部材７３の他方の側面と凹部７２０の底面との間に流路ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂが確保される。また、内部材７３の両側面が外部材７１，７２の間に挟まれた状態で、図７のねじＳＣによって外部材７１，７２がノズル取り付け部６１ｂに固定されることにより、外部材７１，７２の間で内部材７３が挟持される。

本例では、外部材７１，７２がそれぞれねじ止めされ、内部材７３はねじ止めされない。例えば、内部材７３が石英からなる場合、内部材７３の加工のためのコストが高くなる。そのため、内部材７３にねじ止めのための孔部を形成することは、コスト増大の要因となる。そこで、内部材７３が、ねじ止めされることなく、係止部材７５によって係止されかつ外部材７１，７２によって挟持されることにより、コストの増大が抑制される。

（５）現像液の供給
図１１は、スリットノズル６１による基板Ｗへの現像液の供給について説明するための模式的断面図である。図１１に示すように、ノズル取り付け部６１ｂの液溜り部６２３から複数の供給路６２４を通して、スリットノズル６１の複数の導入路７１ａに現像液が導かれる。複数の導入路７１ａを通して複数の流路ＦＰ１ｂに現像液が導かれるとともに、複数の連通路ＣＰを通して複数の流路ＦＰ２ｂに現像液が導かれる。複数の流路ＦＰ１ｂから流路ＦＰ１ａを通して吐出口ＯＰ１に現像液が導かれ、吐出口ＯＰ１から基板Ｗ上に現像液が吐出される。また、複数の流路ＦＰ２ｂから流路ＦＰ２ａを通して吐出口ＯＰ２に現像液が導かれ、吐出口ＯＰ２から基板Ｗ上に現像液が吐出される。

スリットノズル６１の移動方向ＭＤ（Ｘ方向）は、吐出口ＯＰ１，ＯＰ２の長手方向（Ｙ方向）に対して垂直である。スリットノズル６１の移動方向ＭＤにおいて、吐出口ＯＰ２は吐出口ＯＰ１より前方に位置する。

本実施の形態では、スリットノズル６１の２つの吐出口ＯＰ１，ＯＰ２から現像液が吐出されるので、１つの吐出口のみから現像液が吐出される場合と比べて、現像液の流量および吐出圧が適度に分散される。それにより、基板Ｗ上に均一に現像液を吐出することができる。その結果、基板Ｗ上に現像液の液層を安定的に形成することができる。

また、内部材７３が親水性を有する場合、内部材７３の下面と基板Ｗの上面との間に十分な液溜りが形成される。そのため、内部材７３の下面と基板Ｗの上面との間で液層が分離されることが防止される。また、外部材７１，７２が撥水性を有する場合、外部材７１，７２の外面を伝って現像液が這い上がる現象が抑制される。それにより、外部材７１，７２の外面に現像液が付着しにくくなるとともに、基板Ｗ上の液層を安定に維持することができる。

図１２は、比較例に係るスリットノズルの構成を示す断面図である。図１２のスリットノズル６１ｘについて、図４〜図１１のスリットノズル６１と異なる点を説明する。図１２のスリットノズル６１ｘにおいては、上下方向における内部材７３の幅が、上下方向における外部材７１，７２の幅とほぼ等しい。また、外部材７２と内部材７３との間に流路ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂが形成されない。それにより、吐出口ＯＰ１のみから現像液が吐出される。

本実施の形態に係るスリットノズル６１および上記比較例に係るスリットノズル６１ｘを用いて基板Ｗ上に現像液の液層を形成し、その結果を比較した。具体的には、スリットノズル６１，６１ｘの移動速度および現像液の流量を種々の値に設定し、吐出口ＯＰ１から液層の前端部までのＹ方向における距離ＬＬ（図１１）が適正範囲（本例では、１０ｍｍ以下）にあるか否かを調べた。距離ＬＬが適正範囲を超える場合、現像液の液層の厚みおよび形成範囲を適切に調整することが困難となり、基板Ｗの現像不良が生じる可能性がある。なお、現像液の液層の形成は、基板Ｗの回転を停止した状態で行った。

表１および表２において、「○」は、距離ＬＬ（図１１）が適正範囲にあることを示し、「×」は、距離ＬＬ（図１１）が適正範囲を超えることを示す。

表１に示されるように、本実施の形態に係るスリットノズル６１を用いた場合には、現像液の流量が２０００ｍｌ／ｍｉｎであってスリットノズル６１の移動速度が４０ｍｍ／ｓである場合にのみ、距離ＬＬが適正範囲より大きくなった。

一方、表２に示されるように、比較例に係るスリットノズル６１ｘを用いた場合には、現像液の流量が１９００ｍｌ／ｍｉｎであってスリットノズル６１ｘの移動速度が４０ｍｍ／ｓである場合および４５ｍｍ／ｓである場合に距離ＬＬが適正範囲を超えた。また、現像液の流量が２０００ｍｌ／ｍｉｎであってスリットノズル６１ｘの移動速度が４０ｍｍ／ｓである場合、４５ｍｍ／ｍｉｎである場合および５０ｍｍ／ｍｉｎである場合に距離ＬＬが適正範囲を超えた。

このように、本実施の形態に係るスリットノズル６１が用いられることにより、比較例に係るスリットノズル６１ｘが用いられる場合に比べて、基板Ｗ上に現像液の液層が適切に形成されることがわかった。

（６）効果
本実施の形態に係るスリットノズル６１においては、内部材７３の一方の側面および外部材７１の凹部７１０により流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂが形成され、内部材７３の他方の側面および外部材７１の凹部７２０により流路ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂが形成される。外部材７１に形成された導入路７１ａを通して、流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂに現像液が導かれる。

このような構成により、現像液およびレジスト残渣等を含む溶液（処理溶液）が、内部材７３の両側面および外部材７１，７２の凹部７１０、７２０のいずれか付着しても、流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂにおける現像液の流動によってその処理溶液が除去される。それにより、付着した処理溶液から固形物が析出することが防止される。その結果、固形物の析出による現像欠陥の発生が防止される。

また、本実施の形態では、内部材７３の上面と外部材７２の段差面ＧＰとの間に連通路ＣＰが形成され、その連通路ＣＰを介して流路ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ｂが互いに連通する。これにより、簡単な構成で流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂに現像液を導くことができる。また、内部材７３の一方および他方の側面ならびに上面がそれぞれ現像液の流路を形成するので、内部材７３の表面上において、処理溶液が残存する可能性のある部分が削減される。それにより、固形物の析出が十分に防止される。

また、本実施の形態では、吐出口ＯＰ１に沿って一方向に延びるように帯状の流路ＦＰ１ａが形成され、流路ＦＰ１ａの上端部から上方に突出するように複数の流路ＦＰ１ｂが形成される。また、吐出口ＯＰ２に沿って一方向に延びるように帯状の流路ＦＰ２ａが形成され、流路ＦＰ２ａの上端部から上方に突出するように複数の流路ＦＰ２ｂが形成される。

これにより、複数の流路ＦＰ１ｂから流路ＦＰ１ａの全体に均一に現像液が導かれ、かつ複数の流路ＦＰ２ｂから流路ＦＰ２ａの全体に均一に現像液が導かれる。したがって、吐出口ＯＰ１，ＯＰ２の全体から均一に現像液を吐出することができる。その結果、基板Ｗ上に現像液の液層を安定的に形成することができる。

（７）他の実施の形態
（７−１）
上記実施の形態では、外部材７１，７２が個別に設けられるが、本発明はこれに限らず、外部材７１，７２が一体に設けられてもよい。この場合、部品点数が削減される。また、外部材７１と外部材７２との隙間に現像液が浸入することが防止される。

（７−２）
上記実施の形態では、連通路ＣＰを介して流路ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ｂが互いに連通するが、本発明はこれに限らない、流路ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ｂが互いに連通せず、流路ＦＰ１ｂに現像液を導く導入路７１ａとともに、流路ＦＰ２ｂに現像液を導く導入路が設けられてもよい。

（７−３）
上記実施の形態では、吐出口ＯＰ１，ＯＰ２に沿って一方向に延びるように帯状の流路ＦＰ１ａ，ＦＰ２ａがそれぞれ形成され、流路ＦＰ１ａ，ＦＰ２ａの上端部から上方に突出するように複数の流路ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ｂがそれぞれ形成されるが、各流路の形状はこれに限らず、適宜変更されてもよい。

（７−４）
上記実施の形態は、スリット状の吐出口ＯＰ１，ＯＰ２を有するスリットノズル６１に本発明が適用された例であるが、他の現像液吐出ノズルに本発明が適用されてもよい。例えば、円形または長円形の吐出口を有する現像液吐出ノズルに本発明が適用されてもよい。あるいは、複数の吐出口が一方向に並ぶように設けられた現像液吐出ノズルに本発明が適用されてもよい。

（８）請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。

上記実施の形態では、スリットノズル６１が現像液吐出ノズルの例であり、内部材７３が内部材の例であり、外部材７１，７２が外部材の例であり、流路ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂが第１の流路の例であり、流路ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂが第２の流路の例であり、導入路７１ａが導入路および連通導入路の例であり、吐出口ＯＰ１が第１の吐出口の例であり、吐出口ＯＰ２が第２の吐出口の例であり、Ｙ方向が一方向の例である。

また、段差面ＧＰが第３の内面の例であり、連通路ＣＰが連通路の例であり、係止部材７５が係止部材の例であり、外部材７１が第１の部材の例であり、外部材７２が第２の部材の例であり、流路ＦＰ１ａが第１の帯状流路の例であり、流路ＦＰ１ｂが第１の突出流路の例であり、流路ＦＰ２ａが第２の帯状流路の例であり、流路ＦＰ２ｂが第２の突出流路の例である。

また、現像処理装置１が現像処理装置の例であり、回転保持部１０が基板保持部の例であり、ノズルアーム６１ａが現像液供給系の例であり、ノズル昇降機構６２およびノズルスライド機構６３が移動装置の例である。

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。

本発明は、種々の基板の現像処理に有効に利用することができる。

１ 現像処理装置
６ 現像液供給部
１０ 回転保持部
２０ 処理カップ
３０ リンスノズル
６１ スリットノズル
６１ａ ノズルアーム
６１ｂ ノズル取り付け部
６２ ノズル昇降機構
６３ ノズルスライド機構
７１，７２ 外部材
７１ａ 導入路
７３ 内部材
７５ 係止部材
６３０ 連結部材
６３５ 吸引管
７１０，７２０ 凹部
７１１，７２１ 帯状領域
７１２，７２２ 突出領域
ＣＰ 連通路
ＤＥＶ 現像処理ユニット
ＦＰ１ａ，ＦＰ１ｂ，ＦＰ２ａ，ＦＰ２ｂ 流路
ＯＰ１，ＯＰ２ 吐出口
Ｗ 基板

Claims (9)

1. 互いに逆方向に向けられる第１および第２の側面を有する内部材と、
   前記内部材の前記第１の側面に対向する第１の内面および前記内部材の前記第２の側面に対向する第２の内面を有する外部材とを備え、
   前記内部材の前記第１の側面と前記外部材の前記第１の内面との間に上下に延びる第１の流路が形成され、前記内部材の前記第２の側面と前記外部材の前記第２の内面との間に上下に延びる第２の流路が形成され、
   前記第１および第２の流路に現像液を導く導入路が前記外部材に形成され、
   現像液を吐出するための第１の吐出口が前記第１の流路の下端部に形成され、現像液を吐出するための第２の吐出口が前記第２の流路の下端部に形成される、現像液吐出ノズル。
2. 前記内部材は、前記外部材よりも高い親水性を有する、請求項１記載の現像液吐出ノズル。
3. 前記内部材は、前記第１の側面の上端部と前記第２の側面の上端部とをつなぐ上面を有し、
   前記外部材は、前記第１の内面の上端部と前記第２の内面の上端部をつなぐとともに前記内部材の前記上面に対向する第３の内面を有し、
   前記内部材の前記上面と前記外部材の前記第３の内面との間に前記第１および第２の流路を連通させる連通路が形成され、
   前記導入路は、前記連通路に現像液を導くように形成される、請求項１または２記載の現像液吐出ノズル。
4. 前記外部材の第１および第２の内面の間で前記内部材を係止する係止部材をさらに備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズル。
5. 前記外部材は、
   前記第１の内面を有する第１の部材と、
   前記第２の内面を有する第２の部材とを含み、
   前記第１および第２の部材は、前記第１および第２の内面の間に前記内部材が挟まれる状態で互いに固定される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズル。
6. 前記第１および第２の吐出口は、それぞれスリット状であり、互いに並列に一方向に延びる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズル。
7. 前記第１の流路は、
   前記第１の吐出口に沿って前記一方向に延びるように形成された第１の帯状流路と、
   前記第１の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、前記一方向に並ぶように設けられた複数の第１の突出流路とを含み、
   前記第２の流路は、
   前記第２の吐出口に沿って前記一方向に延びるように形成された第２の帯状流路と、
   前記第２の帯状流路の上端部からそれぞれ上方に突出するとともに、前記一方向に並ぶように設けられた複数の第２の突出流路とを含み、
   前記導入路は、前記複数の第１および第２の突出流路にそれぞれ連通するように設けられた複数の連通導入路を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズル。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の現像液吐出ノズルと、
   基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、
   前記導入路を通して前記現像液吐出ノズルに現像液を供給する現像液供給系と、
   前記基板保持部により保持される基板に対して前記現像液吐出ノズルを相対的に移動させる移動装置とを備える、現像処理装置。
9. 前記移動装置は、前記内部材の前記第１および第２の側面に交差する方向に前記現像液吐出ノズルを移動させる、請求項８記載の現像処理装置。

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