CN106125518A - 显影设备 - Google Patents

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郭开超
欧阳志华
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Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
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    • G—PHYSICS
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Abstract

本发明提供了一种显影设备，用于基板的显影制程，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。本发明的显影设备，能够保证PR显影制程中玻璃基板前后端的显影液浓度均匀，从而很好地消除基板前后端的CD差异，提升液晶显示器的亮度均匀性。

Description

显影设备
技术领域
本发明涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及一种显影设备。
背景技术
液晶显示器的制造工艺包括阵列工艺，阵列工艺是在玻璃基板上有规则的做成TFT(薄膜晶体管)器件、像素等图案(Pattern)的过程。阵列工艺中又包括对光刻胶(Photoresist，简称PR)进行处理的PR工艺。PR工艺需要在玻璃基板上涂布光刻胶，进行曝光，再在玻璃基板上由前端到后端依次喷涂显影液。显影液与曝光的光刻胶化学反应，从而在玻璃基板上形成相应的光刻胶图案。
现有技术中，玻璃基板的前端先于后端开始进行化学反应，前端的显影液浓度随着化学反应的进行而逐渐降低。此时玻璃基板后端较高浓度的显影液将向前端扩散，导致后端尚未充分化学反应显影液的浓度已经开始下降。前后端的显影液浓度出现差异，将导致最终形成的图案的间距——即前后端图案的临界尺寸(Critical Dimension，简称CD)存在差异，使得液晶显示器的亮度显示不均。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种显影设备，能够保证PR显影制程中玻璃基板前后端的显影液浓度均匀。
一种显影设备，用于基板的显影制程，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。
其中，所述支撑体为滚轮或滚珠。
其中，所述机台上还设有升降机构，所述升降机构与所述出口处的所述支撑体相连。
其中，所述机台上沿所述基板的传送方向还设有导轮，所述导轮朝所述基板的传送方向转动，所述导轮夹持在所述基板的相对两边缘以防止所述基板倾斜时滑动。
其中，所述支撑体及所述导轮由抗静电材料制成。
其中，所述支撑体及所述导轮由弹性材料制成。
其中，所述显影液室的入口处设有第一气刀，所述第一气刀用于阻挡所述入口处的显影液流出。
其中，所述显影液室内设有用于喷涂显影液的喷嘴。
其中，所述出口处设有显影液去除装置。
其中，所述显影液去除装置包括第二气刀和液刀。
由此，本发明的方案，通过将机台上显影液室出口处的支撑体的高度设为梯次上升，基板移动到出口处时呈倾斜状态，使得基板前端的显影液向后端回流，由此使得基板前后端的显影液浓度趋于一致，保证基板前后端都能充分进行显影化学反应。进而，本发明的方案能够很好地消除基板前后端的CD差异，提升液晶显示器的亮度均匀性。
附图说明
为更清楚地阐述本发明的构造特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。
图1是本发明第一实施例的显影设备的结构示意图。
图2是本发明第二实施例的显影设备中导轮夹持基板的示意图。
图3是本发明第三实施例的显影设备的结构示意图。
具体实施例
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本发明保护的范围。
如图1所示，本发明第一实施例的显影设备10包括机台11、设在机台11上的多个可转动的支撑体12和显影液室13。显影设备10用于对基板100进行PR显影制程。进入显影设备10的基板100已经预先涂布了PR并经过了曝光处理。机台11作为显影设备10的结构主体，提供电气控制及机械控制的功能。
如图1所示，多个支撑体12布设在机台11上，显影液室13架设在支撑体12之上，多个支撑体12贯穿显影液室13。多个支撑体12上承载有基板100，支撑体12转动以使基板100往前传送至显影液室13。显影液室13的出口132处的支撑体12的高度大于机台11上其他位置的支撑体12的高度，且高度呈梯次逐渐上升。由此，基板100移动到出口132处时，将呈倾斜状态。应理解，支撑体12的高度变化，是适应实际制程需要的，即高度变化不会太大以至于使制程失效；又不会太小以至于达不到本发明的目的。
本实施例中，机台11上设有升降机构(图未示)，所述升降机构与显影液室13出口处132的支撑体12相连。通过升降机构，此处的支撑体12能够向上升起，以形成梯级高度差。或者，通过升降机构此处的支撑体12能够在需要的时候下降复位。所述升降机构，例如可以是气缸，也可以是齿轮组加连接杆构成的机构。本领域内的技术人员可以根据实际需要具体确定。使用所述升降机构，使得支撑体12的位置调节比较灵活。当然，在其他实施例中，也可以不设所述升降机构，而是将出口处132的支撑体12固设为呈梯次上升。
本实施例中，优选的，支撑体12可以为滚轮，也可以为球状的滚珠。在其他实施例中，支撑体12可以为其他结构形式。为了避免摩擦静电损伤基板100，支撑体12由抗静电材料制成；和/或，支撑体12可以使用弹性材料制造，以避免对基板100造成机械损伤。
显影液室13用于对进入其中的基板100进行显影液喷涂，基板100在显影液室13中进行显影液与PR的化学反应。显影液室13内设有喷嘴(图未示)，显影液从所述喷嘴中喷出。
当基板100进入显影液室13的入口131时，基板的前端先喷涂到显影液，因此所述前端先行进行化学反应。在基板100一直前移并同时进行化学反应的过程中，所述前端的显影液被消耗，显影液浓度将下降。此时，基板100后端的显影液将向所述前端扩散。如此导致所述后端的显影液尚未充分反应，浓度就已经下降。而本实施例中，通过将出口132处的支撑体12的高度升高，使得基板100倾斜放置，所述前端的显影液会向所述后端回流，补充所述后端的显影液的浓度。当所述前、后端的显影液的浓度均匀一致时，所述后端的显影液则不会再向所述前端扩散，从而保证所述后端能够维持充分反应所需的显影液浓度。应注意，出口132处的所述前端已经进行了充分的化学反应。此时，将出口132处的支撑体12的高度升高、使得所述前端的显影液回流，并不会影响所述前端的显影制程。
在本发明第二实施例中，与上述第一实施例不同的是，如图2所示，显影设备20还包括设在机台11上的导轮14，导轮14且沿基板100的传送方向设置且朝所述传送方向转动。本实施例中设有两列导轮14，两列导轮14分别夹持在基板100的相对两个边缘，起到导向和限位的作用。当基板100倾斜时，由于两列导轮14只能朝所述传送方向转动，因此基板100在两列导轮14的固持下，不会向后滑动。
本实施例中，为了避免摩擦静电损伤基板100，导轮14由抗静电材料制成；和/或，导轮14使用弹性材料制造，以此避免对基板100造成机械损伤。
在本发明第三实施例中，与上述实施例不同的是，如图3所示，显影液室13的入口131处还设有第一气刀15。第一气刀15吹出的气流能够阻止入口131处的显影液流出，从而使显影液保持在显影液室13内，避免显影液浪费或者侵蚀其他设备。
本实施例中，进一步的，如图3所示，显影液室13的出口132处还设有第二气刀16及液刀17。第二气刀吹出的气流用于干燥基板100上经过显影处理后形成的图案。液刀17喷出的清洗液则用于清洗基板100。在其他实施例中，可以采用其他具有上述干燥和清洗功能的显影液去除装置。本领域的技术人员可以根据实际需要具体确定。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易的想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显影设备，用于基板的显影制程，其特征在于，
所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。
2.根据权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述支撑体为滚轮或滚珠。
3.根据权利要求1或2所述的显影设备，其特征在于，所述机台上还设有升降机构，所述升降机构与所述出口处的所述支撑体相连。
4.根据权利要求1或2所述的显影设备，其特征在于，所述机台上沿所述基板的传送方向还设有导轮，所述导轮朝所述基板的传送方向转动，所述导轮夹持在所述基板的相对两边缘以防止所述基板倾斜时滑动。
5.根据权利要求4所述的显影设备，其特征在于，所述支撑体及所述导轮由抗静电材料制成。
6.根据权利要求4所述的显影设备，其特征在于，所述支撑体及所述导轮由弹性材料制成。
7.根据权利要求1或2所述的显影设备，其特征在于，所述显影液室的入口处设有第一气刀，所述第一气刀用于阻挡所述入口处的显影液流出。
8.根据权利要求7所述的显影设备，其特征在于，所述显影液室内设有用于喷涂显影液的喷嘴。
9.根据权利要求7所述的显影设备，其特征在于，所述出口处设有显影液去除装置。
10.根据权利要求9所述的显影设备，其特征在于，所述显影液去除装置包括第二气刀和液刀。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106773559A (zh) * 2017-01-05 2017-05-31 京东方科技集团股份有限公司 一种传输装置、显影系统及显影方法
CN109407387A (zh) * 2018-10-29 2019-03-01 武汉华星光电技术有限公司 显影装置及基板显影方法
CN110634766A (zh) * 2018-06-22 2019-12-31 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和基片处理方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004226519A (ja) * 2003-01-21 2004-08-12 Toray Ind Inc 現像装置
CN1892423A (zh) * 2005-06-27 2007-01-10 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
US20090190109A1 (en) * 2008-01-28 2009-07-30 Dms Co., Ltd. Substrate transfer appartus
CN101609789A (zh) * 2008-06-17 2009-12-23 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004226519A (ja) * 2003-01-21 2004-08-12 Toray Ind Inc 現像装置
CN1892423A (zh) * 2005-06-27 2007-01-10 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
US20090190109A1 (en) * 2008-01-28 2009-07-30 Dms Co., Ltd. Substrate transfer appartus
CN101498902A (zh) * 2008-01-28 2009-08-05 显示器生产服务株式会社 基板输送装置
CN101609789A (zh) * 2008-06-17 2009-12-23 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106773559A (zh) * 2017-01-05 2017-05-31 京东方科技集团股份有限公司 一种传输装置、显影系统及显影方法
CN110634766A (zh) * 2018-06-22 2019-12-31 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和基片处理方法
CN109407387A (zh) * 2018-10-29 2019-03-01 武汉华星光电技术有限公司 显影装置及基板显影方法

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