CN101930181B - 接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明是有关于一种接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法，在接近式曝光装置中有效地进行基板的温度控制。在本体室(30)内利用夹盘(10)来支撑基板(1)，利用掩模支架(20)来保持掩模(2)，并利用平台来使夹盘(10)移动。向本体室(30)内横向地供给调温后的洁净空气，并一边使设置在夹盘(10)的下方的吸气口(41)随着夹盘(10)移动，一边从吸气口(41)引入本体室(30)内的空气并向本体室(30)外排出。向横向流动的空气顺着基板(1)的表面，向设置在夹盘(10)的下方的吸气口(41)转入，即便掩模(2)接近基板(1)而配置在基板(1)的上方，也可以向基板(1)的表面供给调温后的洁净空气。

Description

接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法
技术领域
本发明涉及一种接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法，特别是涉及一种在液晶显示装置等的显示用面板基板的制造中使用接近式(proximity)方式来进行基板的曝光的接近式曝光装置、接近式曝光装置的基板温度控制方法、及使用它们的显示用面板基板的制造方法。
背景技术
用作显示用面板(panel)的液晶显示装置的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)基板或彩色滤光片(color filter)基板、等离子显示面板(plasma display panel)用基板、有机电激发光(Electroluminescence，EL)显示面板用基板等的制造，是使用曝光装置并利用光刻(photolithography)技术在基板上形成图案(pattern)而进行的。至于曝光装置，有使用透镜(lens)或镜片而将掩模(mask)的图案投影到基板上的投影(projection)方式、和在掩模与基板之间设置微小缝隙(接近间隙(proximity gap))而将掩模的图案向基板转印的接近式方式。与投影方式相比，接近式方式的图案解析性能(pattern resolutionperformance)较差，但是照射光学系统的构成简单、且处理能力高，适合于量产用。
在投影方式的投影曝光装置中，构成投影光学系统的光学零件的光学特性会根据周围的温度而变化，所以必须将曝光装置内的温度控制成固定。在专利文献1中揭示了如下技术：具备向曝光装置内送入经温度控制的空气的多个管道(duct)，将多个管道的出气口(air out let)分别配置在曝光装置内的不同位置处，从而控制曝光装置内的温度。
[以往技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2006-147778号公报
接近式曝光装置不具备投影曝光装置的各种投影光学系统，不存在投影光学系统的光学零件的光学特性受到温度变化影响之类的问题。另一方面，在接近式曝光装置中，是使掩模与基板一对一地面对面而进行基板的曝光，所以当基板的温度因照射曝光光束而上升时，基板会热膨胀，无法精度良好地进行图案的曝光。因此，在接近式曝光装置中，重要的是曝光装置内的基板的温度管理。
在以往的接近式曝光装置中，在夹盘(chuck)上设置调温机构，并且在曝光装置内形成从上向下流动的空气的下降流(down flow)，而进行基板的温度控制。但是，在接近式曝光装置中，由于曝光时掩模是接近基板而配置在基板的上方，所以空气的下降流被掩模遮挡而无法接触到基板，从而无法充分地进行基板的温度控制。
由此可见，上述现有的接近式曝光装置在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。
发明内容
本发明的目的在于，克服现有的接近式曝光装置存在的缺陷，而提供一种新型的接近式曝光装置及基板温度控制方法，所要解决的技术问题是使其在接近式曝光装置中有效地进行基板的温度控制，非常适于实用。
本发明的另一目的在于，提供一种新型的接近式曝光装置及面板基板制造方法，所要解决的技术问题是使其制造高品质的显示用面板基板，从而更加适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。为达到上述目的，本发明的接近式曝光装置是在掩模与基板之间设置微小的间隙(gap)，将掩模的图案向基板转印，所述接近式曝光装置包括：夹盘，用来支撑基板；掩模支架(mask holder)，用来保持掩模；平台(stage)，使夹盘移动；本体室，用来收纳夹盘、掩模支架及平台；空气供给机构，向本体室内横向地供给调温后的洁净空气；以及排气机构，在夹盘的下方具有随着夹盘而移动的吸气口，从吸气口引入本体室内的空气并向本体室外排出。
本发明的目的及解决其技术问题还采用以下的技术方案来实现。为达到上述目的，本发明的接近式曝光装置的基板温度控制方法是在掩模与基板之间设置微小的间隙，将掩模的图案向基板转印的接近式曝光装置的基板温度控制方法，在本体室内利用夹盘来支撑基板，利用掩模支架来保持掩模，并利用平台来使夹盘移动，向本体室内横向地供给调温后的洁净空气，一边使设置在夹盘下方的吸气口随着夹盘移动，一边从吸气口引入本体室内的空气并向本体室外排出。
由于是向本体室内横向供给调温后的洁净空气，所以在本体室内形成向横向流动的空气的侧流(side flow)。而且，由于是从设置在夹盘的下方的吸气口引入本体室内的空气并向本体室外排出，所以向横向流动的空气顺着基板的表面而向设置在夹盘的下方的吸气口转入，即便掩模接近基板而配置在基板的上方，也可以向基板的表面供给调温后的洁净空气。另外，由于使设置在夹盘的下方的吸气口随着夹盘而移动，所以能够始终向基板的表面供给调温后的洁净空气。因此，能够有效地进行基板的温度控制。
进而，本发明的接近式曝光装置中，平台具有第一平台、及搭载于第一平台上且向与第一平台的移动方向正交的方向移动的第二平台，排气机构具有：第一排气罩，设置在第一平台上，跨第二平台的移动范围而具有吸气口；风扇，排出第一排气罩内的空气；以及第二排气罩，将由风扇所排出的空气向本体室外排出。
而且，本发明的接近式曝光装置的基板温度控制方法是由第一平台、及搭载于第一平台上且向与第一平台的移动方向正交的方向移动的第二平台来构成平台，在第一平台上设置跨第二平台的移动范围而具有吸气口的第一排气罩，利用风扇而排出第一排气罩内的空气，并利用第二排气罩而将所排出的空气向本体室外排出。
由于在第一平台上设置跨第二平台的移动范围而具有吸气口的第一排气罩，所以能够利用第一平台而将吸气口随着夹盘而移动。而且，由于是利用风扇而排出第一排气罩内的空气，并利用第二排气罩而将所排出的空气向本体室外排出，所以通过使用第1排气罩、风扇及第二排气罩的简单的构成，可以将从吸气口所引入的空气向本体室外排出。
另外，本发明的接近式曝光装置中，第一排气罩在内部收纳连接于第二平台的电缆(cable)及配管，第二排气罩在内部收纳连接于第一平台的电缆及配管。而且，本发明的接近式曝光装置的基板温度控制方法中，在第一排气罩内收纳连接于第二平台的电缆及配管，在第二排气罩内收纳连接于第一平台的电缆及配管。在第一平台及第二平台上连接着向平台的驱动装置、气压回路(pneuma tic circuit)、夹盘的调温机构等供给电力、压缩空气、调温用水等的电缆及配管，当这些电缆及配管随着第一平台或第二平台而移动时，会产生灰尘。由于将这些电缆及配管收纳在第一排气罩内或第二排气罩内，所以因电缆及配管的移动而产生的灰尘不会向本体室内扩散，而是与空气一起向本体室外排出。
本发明的目的及解决其技术问题另外还采用以下技术方案来实现。为达到上述目的，本发明的显示用面板基板的制造方法是使用所述接近式曝光装置来进行基板的曝光，或者，一边使用所述接近式曝光装置的基板温度控制方法来控制基板的温度，一边进行基板的曝光。由于能够有效地进行基板的温度控制，所以可精度良好地进行图案的曝光，制造高品质的显示用面板基板。
[发明的效果]
根据本发明的接近式曝光装置及接近式曝光装置的基板温度控制方法，在本体室内，利用夹盘来支撑基板，利用掩模支架来保持掩模，并利用平台来使夹盘移动，向本体室内横向地供给调温后的洁净空气，并一边使设置在夹盘的下方的吸气口随着夹盘而移动，一边从吸气口引入本体室内的空气并向本体室外排出，借此可以有效地进行基板的温度控制。
另外，根据本发明的接近式曝光装置及接近式曝光装置的基板温度控制方法，由第一平台、及搭载于第一平台上且向与第一平台的移动方向正交的方向移动的第二平台而构成平台，并在第一平台上设置跨第二平台的移动范围而具有吸气口的第一排气罩，利用风扇来排出第一排气罩内的空气，并利用第二排气罩将所排出的空气向本体室外排出，借此通过简单的构成，可使吸气口随着夹盘而移动，且可将从吸气口所引入的空气向本体室外排出。
而且，根据本发明的接近式曝光装置及接近式曝光装置的基板温度控制方法，在第一排气罩内收纳连接于第二平台的电缆及配管，在第二排气罩内收纳连接于第一平台的电缆及配管，借此可以使因连接于第一平台或第二平台的电缆及配管的移动而产生的灰尘不向本体室内扩散，而是与空气一起向本体室外排出。
根据本发明的显示用面板基板的制造方法，可以有效地进行基板的温度控制，因此可以精度良好地进行图案的曝光，从而可制造高品质的显示用面板基板。
综上所述，本发明是有关于一种接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法，在接近式曝光装置中有效地进行基板的温度控制。在本体室内利用夹盘来支撑基板，利用掩模支架来保持掩模，并利用平台来使夹盘移动。向本体室内横向地供给调温后的洁净空气，并一边使设置在夹盘的下方的吸气口随着夹盘移动，一边从吸气口引入本体室内的空气并向本体室外排出。向横向流动的空气顺着基板的表面，向设置在夹盘的下方的吸气口转入，即便掩模接近基板而配置在基板的上方，也可以向基板的表面供给调温后的洁净空气。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
附图说明
图1是本发明的一实施形态的接近式曝光装置的俯视图。
图2是本发明的一实施形态的接近式曝光装置的侧视图。
图3是表示向曝光位置移动其中一个夹盘的状态的侧视图。
图4是设置在X平台上的排气罩的立体图。
图5(a)、(b)是设置在基座上的排气罩的立体图。
图6是表示液晶显示装置的TFT基板的制造步骤的一例的流程图。
图7是表示液晶显示装置的彩色滤光片基板的制造步骤的一例的流程图。
1：基板
2：掩模
3：基座
4：X导板
5：X平台
6：Y导板
7：Y平台
8：θ平台
9：夹盘支撑台
10：夹盘
20：掩模支架
21：支架框
22：支柱
30：本体室
31：侧壁
32：附带过滤器的出气口
40、50：排气罩
41、51：吸气口
42：附有过滤器的风扇
43、53：电缆拖链
44、54：拖链座
55：排气管道
60：恒温送风机
61：送风管道
101：薄膜形成步骤
102：抗蚀剂涂布步骤
103：曝光步骤
104：显影步骤
105：蚀刻步骤
106：剥离步骤
201：黑色矩阵形成步骤
202：着色图案形成步骤
203：保护膜形成步骤
204：透明电极膜形成步骤
X、Y、Z：方向
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的接近式曝光装置、基板温度控制方法及面板基板制造方法其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚的呈现。为了方便说明，在以下的实施例中，相同的元件以相同的编号表示。
图1是本发明的一实施形态的接近式曝光装置的俯视图。此外，图2是本发明的一实施形态的接近式曝光装置的侧视图。本实施形态表示了具备两个支撑基板的夹盘的接近式曝光装置的例子，但是夹盘的数量并不限定于两个，也可以是一个或大于等于三个。接近式曝光装置包括基座(base)3、X导板(guide)4、X平台5、Y导板6、Y平台7、θ平台8、夹盘支撑台9、夹盘10、掩模支架20、支架框(holder frame)21、支柱22、本体室30、侧壁31、附带过滤器的出气口32、排气罩40、50、排气管道55、恒温送风机60、以及送风管道61。接近式曝光装置除了包括这些零件之外，还包括将基板1向夹盘10搬入且从夹盘10上搬出基板1的基板搬送机器人、照射曝光光束的照射光学系统等。
另外，以下说明的实施形态中的XY方向是例示，也可以将X方向与Y方向调换。
在图1及图2中，各夹盘10位于进行基板1的装载及卸载的各个装载/卸载位置处。在各个装载/卸载位置处，利用未图示的基板搬送机器人，而将基板1向夹盘10搬入，并从夹盘10上搬出基板1。向夹盘10上装载基板1及从夹盘10上卸载基板1是使用设置在夹盘10上的多个顶出销(ejector pin)来进行。顶出销收纳在夹盘10的内部，并从夹盘10的内部上升，将基板1装载到夹盘10上时，从基板搬送机器人处接收基板1，将基板1从夹盘10上卸载时，向基板搬送机器人交付基板1。
在各夹盘10的内部设置着例如由流通调温用水的导管(pipe)等构成的调温机构，通过从基板1向夹盘10传递热，而进行基板1的调温。
图3是表示向曝光位置移动其中一个夹盘的状态的侧视图。在进行基板1的曝光的曝光位置的上空，配置着用来保持掩模2的掩模支架20。掩模支架20安装在支架框21上，且支架框21是利用支柱22而支撑在曝光位置的上空。在掩模支架20上设置着让曝光光束通过的开口，掩模支架20利用设置在开口的周围的未图示的吸附槽，而真空吸附掩模2的周边部并加以保持。在保持于掩模支架20上的掩模2的上空，配置着未图示的照射光学系统。曝光时，来自照射光学系统的曝光光束通过掩模2而向基板1照射，借此将掩模2的图案转印到基板1的表面上，从而在基板上形成图案。
在图2及图3中，各夹盘10是经由夹盘支撑台9而搭载于θ平台8上，且在θ平台8的下方设置着Y平台7及X平台5。X平台5是搭载于设置在基座3上的X导板4上，并沿着X导板4而向X方向(图2及图3的图纸横方向)移动。Y平台7是搭载于设置在X平台5上的Y导板6上，并沿着Y导板6而向Y方向(图2及图3的图纸纵深方向)移动。X平台5及Y平台7是由滚珠螺杆(ball screw)及电动机(motor)、或线性电动机(linear motor)等未图示的驱动装置而驱动。θ平台8是搭载于Y平台7上，并向θ方向旋转。夹盘支撑台9搭载于θ平台8上，并在多个部位支撑夹盘10。
通过X平台5向X方向的移动及Y平台7向Y方向的移动，使各夹盘10在各个装载/卸载位置与曝光位置之间移动。在各个装载/卸载位置上，通过X平台5向X方向的移动、Y平台7向Y方向的移动、及θ平台8向θ方向的旋转，而对搭载于夹盘10上的基板1进行预对准(pre-alignment)。在曝光位置上，通过X平台5向X方向的移动及Y平台7向Y方向的移动，而进行搭载于夹盘10上的基板1向XY方向的步进(step)移动。而且，通过X平台5向X方向的移动、Y平台7向Y方向的移动、及θ平台8向θ方向的旋转，而进行基板1的对准。此外，利用未图示的Z-倾斜机构来使掩模支架20向Z方向(图3的图纸上下方向)移动及倾斜，借此来进行掩模2与基板1的间隙对准。
另外，在本实施形态中，是通过使掩模支架20向Z方向移动及倾斜，而进行掩模2与基板1的间隙对准，但也可以通过在夹盘支撑台9上设置Z-倾斜机构，使夹盘10向Z方向移动及倾斜，而进行掩模2与基板1的间隙对准。
以下，对本发明的一实施形态的接近式曝光装置的基板温度控制方法加以说明。在图1～图3中，在基座3的外侧设置着本体室30，所述本体室30收纳基座3、X导板4、X平台5、Y导板6、Y平台7、θ平台8、夹盘支撑台9、夹盘10、掩模支架20、支架框21、及支柱22。在本体室30的顶部，设置着让来自未图示的照射光学系统的曝光光束通过的窗口。在本体室30的侧壁31上设置着附带过滤器的出气口32，附带过滤器的出气口32向本体室30内横向地供给调温后的洁净空气。利用从附带过滤器的出气口32所供给的空气，如图2及图3的箭头所示，在本体室30内形成向横向流动的空气的侧流。
在图1～图3中，在X平台5的向Y方向延伸的两个侧面上，跨Y平台7的移动范围，而分别设置着排气罩40。而且，在基座3的向X方向延伸的两个侧面上，跨X平台5的移动范围，而分别设置着排气罩50。
图4是设置在X平台上的排气罩的立体图。各排气罩40的内部为空腔，且在两个排气罩的互相面对面的侧面上，跨Y平台7的移动范围，而分别设置着吸气口41。在各排气罩40的两端分别安装着附带过滤器的风扇42。利用各附带过滤器的风扇42的工作，如图4的箭头所示，使本体室30内的空气从各吸气口41向各排气罩40内被引入，并从各附带过滤器的风扇42排出。
图5(a)、(b)是设置在基座上的排气罩的立体图。各排气罩50的内部为空腔，在两个排气罩50的互相面对面的侧面上，跨X平台5的移动范围而分别设置着吸气口51。而且，在各排气罩50的与设置着吸气口51的侧面为相反侧的侧面上，分别设置着多个排气管道55。如图5(a)、(b)的箭头所示，从图4的各附带过滤器的风扇42所排出的空气，从各吸气口51被向各排气罩50内引入，并从多个排气管道55向本体室30外排出。
由于是向本体室30内横向地供给调温后的洁净空气，所以能够在本体室30内形成向横向流动的空气的侧流。而且，由于是从设置在夹盘10的下方的吸气口41引入本体室30内的空气并向本体室30外排出，所以如图2及图3的箭头所示，向横向流动的空气顺着基板1的表面而向设置在夹盘10的下方的吸气口41转入，即便如图3所示将掩模2接近基板1而配置在基板1的上方，也可以向基板1的表面供给调温后的洁净空气。而且，由于使设置在夹盘10的下方的吸气口41随着夹盘10而移动，所以能够始终向基板1的表面供给调温后的洁净空气。因此，可以有效地进行基板1的温度控制。
此外，由于在X平台5上设置跨Y平台7的移动范围而具有吸气口41的排气罩40，所以吸气口41通过X平台5而随着夹盘10移动。而且，由于是利用附带过滤器的风扇42来排出排气罩40内的空气，并利用排气罩50而将所排出的空气向本体室30外排出，所以通过使用了排气罩40、附带过滤器的风扇42及排气罩50的简单的构成，可将从吸气口41所引入的空气向本体室30外排出。
在图1～图3中，排气管道55连接到设置在本体室30外的恒温送风机60上。恒温送风机60对从排气管道55排出的空气的温度进行调节，并将调温后的空气经由送风管道61而向设置在本体室30的侧壁31上的附带过滤器的出气口32供给。
在图4及图5(a)、(b)中，在排气罩40、50内分别设置着电缆拖链(Cable-conveyor)43、53，且在电缆拖链43、53内分别收纳着向平台的驱动装置、气压回路、夹盘10的调温机构等供给电力、压缩空气、调温用水等的电缆及配管。在图4中，电缆拖链43的一端连接在Y平台7上，由设置在Y平台7上的拖链座44而支撑着，并且随着Y平台7移动。此外，在图5(a)、(b)中，电缆拖链53的一端连接在X平台5上，由设置在X平台5上的拖链座54而支撑着，并且随着X平台5移动。将连接于Y平台7的电缆及配管收纳在排气罩40内，并将连接于X平台5的电缆及配管收纳在排气罩50内，所以因电缆及配管的移动而产生的灰尘不会向本体室30内扩散，而是与空气一起向本体室30外排出。
根据以上所说明的实施形态，在本体室30内，利用夹盘10来支撑基板1，利用掩模支架20来保持掩模2，并利用X平台5及Y平台7来移动夹盘10，向本体室30内横向地供给调温后的洁净空气，并一边使设置在夹盘10的下方的吸气口41随着夹盘10而移动，一边从吸气口41引入本体室30内的空气并向本体室30外排出，借此可以有效地进行基板1的温度控制。
另外，在X平台5上设置跨Y平台7的移动范围而具有吸气口41的排气罩40，利用附带过滤器的风扇42来排出排气罩40内的空气，并利用排气罩50将所排出的空气向本体室30外排出，借此利用简单的构成就可以使吸气口41随着夹盘10移动，且可以将从吸气口41所引入的空气向本体室30外排出。
而且，在排气罩40内收纳连接于Y平台7的电缆及配管，在排气罩50内收纳连接于X平台5的电缆及配管，借此可以使因连接于X平台5或Y平台7的电缆及配管的移动而产生的灰尘不向本体室30内扩散，而是与空气一起向本体室30外排出。
使用本发明的接近式曝光装置来进行基板的曝光，或者，一边使用本发明的接近式曝光装置的基板温度控制方法来控制基板的温度，一边进行基板的曝光，借此可以有效地进行基板的温度控制，因此可以精度良好地进行图案的曝光，从而可制造高品质的显示用面板基板。
例如，图6是表示液晶显示装置的TFT基板的制造步骤的一例的流程图。在薄膜形成步骤(步骤101)中，利用溅镀(sputter)法或等离子化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)法等方法，而在基板上形成作为液晶驱动用透明电极的导电体膜及绝缘体膜等薄膜。在抗蚀剂(resist)涂布步骤(步骤102)中，利用辊涂法等方法来涂布感光树脂材料(光致抗蚀剂(photoresist))，在薄膜形成步骤(步骤101)中所形成的薄膜上形成光致抗蚀剂膜。在曝光步骤(步骤103)中，使用接近式曝光装置或投影曝光装置等，将掩模的图案转印到光致抗蚀剂膜上。在显影步骤(步骤104)中，利用喷淋(shower)显影法等方法将显影液供给到光致抗蚀剂膜上，而除去光致抗蚀剂膜的多余部分。在蚀刻(etching)步骤(步骤105)中，利用湿式蚀刻(wet etching)而除去薄膜形成步骤(步骤101)中所形成的薄膜内的未由抗蚀剂膜遮盖的部分。在剥离步骤(步骤106)中，利用剥离液而剥离在蚀刻步骤(步骤105)中已完成掩模作用的光致抗蚀剂膜。在所述各步骤之前或之后，视需要而实施基板的清洗/干燥步骤。重复数次这些步骤，从而在基板上形成TFT阵列(array)。
此外，图7是表示液晶显示装置的彩色滤光片基板的制造步骤的一例的流程图。在黑色矩阵(black matrix)形成步骤(步骤201)中，通过抗蚀剂涂布、曝光、显影、蚀刻、剥离等处理，而在基板上形成黑色矩阵。在着色图案形成步骤(步骤202)中，利用染色法、颜料分散法、印刷法、电沉积法(electrodeposition method)等方法，而在基板上形成着色图案。针对R、G、B的着色图案而重复所述步骤。在保护膜形成步骤(步骤203)中，在着色图案上形成保护膜，在透明电极膜形成步骤(步骤204)中，在保护膜上形成透明电极膜。在所述各步骤之前、中途或之后，视需要而实施基板的清洗/干燥步骤。
在图6所示的TFT基板的制造步骤的曝光步骤(步骤103)、图7所示的彩色滤光片基板的制造步骤的黑色矩阵形成步骤(步骤201)及着色图案形成步骤(步骤202)的曝光处理中，可以应用本发明的接近式曝光装置或本发明的接近式曝光装置的基板温度控制方法。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (8)

1.一种接近式曝光装置，在掩模与基板之间设置微小的间隙，将掩模的图案向基板转印，所述接近式曝光装置的特征在于包括：
夹盘，用来支撑基板；
掩模支架，用来保持掩模；
平台，使所述夹盘移动；
本体室，用来收纳所述夹盘、所述掩模支架及所述平台；
空气供给机构，向所述本体室内横向地供给调温后的洁净空气；以及
排气机构，在所述夹盘的下方具有随着所述夹盘而移动的吸气口，从所述吸气口引入所述本体室内的空气并向所述本体室外排出。
2.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于其中所述的平台具有第一平台、及搭载在所述第一平台上且向与所述第一平台的移动方向正交的方向移动的第二平台，
所述排气机构具有：第一排气罩，设置在所述第一平台上，且跨所述第二平台的移动范围而具有所述吸气口；风扇，排出所述第一排气罩内的空气；以及第二排气罩，将由所述风扇排出的空气向所述本体室外排出。
3.根据权利要求2所述的接近式曝光装置，其特征在于其中所述的第一排气罩在内部收纳连接于所述第二平台的电缆及配管，
所述第二排气罩在内部收纳连接于所述第一平台的电缆及配管。
4.一种接近式曝光装置的基板温度控制方法，其是在掩模与基板之间设置微小的间隙，将掩模的图案向基板转印的接近式曝光装置的基板温度控制方法，其特征在于：
在本体室内，
利用夹盘来支撑基板，
利用掩模支架来保持掩模，
并利用平台来使夹盘移动，
向本体室内横向地供给调温后的洁净空气，
一边使设置在夹盘的下方的吸气口随着夹盘而移动，
一边从吸气口引入本体室内的空气并向本体室外排出。
5.根据权利要求4所述的接近式曝光装置的基板温度控制方法，其特征在于：
由第一平台、及搭载于第一平台上且向与第一平台的移动方向正交的方向移动的第二平台来构成平台，
在第一平台上设置跨第二平台的移动范围而具有吸气口的第一排气罩，
利用风扇而排出第一排气罩内的空气，
并利用第二排气罩将所排出的空气向本体室外排出。
6.根据权利要求5所述的接近式曝光装置的基板温度控制方法，其特征在于：
在第一排气罩内收纳连接于第二平台的电缆及配管，
在第二排气罩内收纳连接于第一平台的电缆及配管。
7.一种显示用面板基板的制造方法，其特征在于：使用根据权利要求1至3中任一权利要求所述的接近式曝光装置来进行基板的曝光。
8.一种显示用面板基板的制造方法，其特征在于：使用根据权利要求4至6中任一权利要求所述的接近式曝光装置的基板温度控制方法，来一边控制基板的温度，一边进行基板的曝光。
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