JP2000081706A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JP2000081706A JP2000081706A JP10263891A JP26389198A JP2000081706A JP 2000081706 A JP2000081706 A JP 2000081706A JP 10263891 A JP10263891 A JP 10263891A JP 26389198 A JP26389198 A JP 26389198A JP 2000081706 A JP2000081706 A JP 2000081706A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- platen
- exposure
- fluid
- channel
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- Pending
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラテンの温度上昇のない露光装置を提供す
る。 【解決手段】 プラテン１に流路２１を設け、流体循環
／温度調整装置２０により流路２１内に所定温度の流体
を循環させ、プラテン１の温度を調整する。
る。 【解決手段】 プラテン１に流路２１を設け、流体循環
／温度調整装置２０により流路２１内に所定温度の流体
を循環させ、プラテン１の温度を調整する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、露光装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】プリント基板等の製造に際して、プリン
ト基板に感光性レジストや液状感光性樹脂レジストを塗
布しておき、露光装置によりパターンを焼き付け、現像
或いはエッチングする手法が従来より広く行われてい
る。露光装置は、通常ＸＹＺ及びθ方向に移動制御可能
なプラテンを有し、この上に露光対象物であるプリント
基板等を載置し、アートワークマスク取付枠に装着され
たアートワークマスクとの間の位置合わせを行い、両者
を密着或いは近接させて光を照射して露光を行うように
なっている。
ト基板に感光性レジストや液状感光性樹脂レジストを塗
布しておき、露光装置によりパターンを焼き付け、現像
或いはエッチングする手法が従来より広く行われてい
る。露光装置は、通常ＸＹＺ及びθ方向に移動制御可能
なプラテンを有し、この上に露光対象物であるプリント
基板等を載置し、アートワークマスク取付枠に装着され
たアートワークマスクとの間の位置合わせを行い、両者
を密着或いは近接させて光を照射して露光を行うように
なっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この露光装置における
露光は連続的に行われるため、前記プラテンやアートワ
ークマスクの温度が上昇する問題がある。特に液状感光
性樹脂レジストを塗布したプリント基板の場合、液状感
光性樹脂レジストは半硬化の状態であり粘着性を持って
いるため、上記温度上昇により更に粘着性が増す。その
ため、該粘着性によりプリント基板と接している部材と
分離しなくなる不具合が発生したり、或いは液状感光性
樹脂レジストが部材に転写、付着し、その後露光するプ
リント基板の露光不良の原因となる等の問題があった。
この欠点を解決するために、従来はプラテンとアートワ
ークマスク上を冷風により冷却していたが、露光中はプ
ラテンとプリント基板及びアートワークマスクは互いに
接触しているため、十分な冷却ができず、上記問題点を
解決することは難しかった。本発明は上記従来技術の欠
点を改善することを目的とする。
露光は連続的に行われるため、前記プラテンやアートワ
ークマスクの温度が上昇する問題がある。特に液状感光
性樹脂レジストを塗布したプリント基板の場合、液状感
光性樹脂レジストは半硬化の状態であり粘着性を持って
いるため、上記温度上昇により更に粘着性が増す。その
ため、該粘着性によりプリント基板と接している部材と
分離しなくなる不具合が発生したり、或いは液状感光性
樹脂レジストが部材に転写、付着し、その後露光するプ
リント基板の露光不良の原因となる等の問題があった。
この欠点を解決するために、従来はプラテンとアートワ
ークマスク上を冷風により冷却していたが、露光中はプ
ラテンとプリント基板及びアートワークマスクは互いに
接触しているため、十分な冷却ができず、上記問題点を
解決することは難しかった。本発明は上記従来技術の欠
点を改善することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は露光対象物を載置するプラテンを備えた露
光装置において、前記プラテンの温度を所定温度に制御
するための温度調整装置を備えた、ことを特徴とする。
該露光対象物としては、液状感光樹脂レジストを塗布さ
れている回路基板等が典型的である。好適な実施形態に
おいて、該温度調整装置はプラテン内部に設けられた流
体流路と、該流路に温度制御された流体を供給するため
の流体供給装置とを有する。流体としては、気体、液体
等を使用可能である。また単に通気孔を設けて空気を流
通させ、自然冷却を行うようにすることも可能である。
更に露光室の室温を所定の温度に制御するための室温調
整装置を備えるようにしても良い。
に、本発明は露光対象物を載置するプラテンを備えた露
光装置において、前記プラテンの温度を所定温度に制御
するための温度調整装置を備えた、ことを特徴とする。
該露光対象物としては、液状感光樹脂レジストを塗布さ
れている回路基板等が典型的である。好適な実施形態に
おいて、該温度調整装置はプラテン内部に設けられた流
体流路と、該流路に温度制御された流体を供給するため
の流体供給装置とを有する。流体としては、気体、液体
等を使用可能である。また単に通気孔を設けて空気を流
通させ、自然冷却を行うようにすることも可能である。
更に露光室の室温を所定の温度に制御するための室温調
整装置を備えるようにしても良い。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図１において、プラテン１はプラテ
ン駆動装置１０によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能であ
り、アートワークマスク取付枠３に対して相対的に移動
できるようになっている。アートワークマスク取付枠３
側を移動可能としても良く、またプラテン１とアートワ
ークマスク取付枠３の両方を移動可能としても良い。
基づいて説明する。図１において、プラテン１はプラテ
ン駆動装置１０によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能であ
り、アートワークマスク取付枠３に対して相対的に移動
できるようになっている。アートワークマスク取付枠３
側を移動可能としても良く、またプラテン１とアートワ
ークマスク取付枠３の両方を移動可能としても良い。
【０００６】プラテン１上には露光対象物である回路基
板等の液状感光樹脂レジストが塗布されたワークＷが載
置されるようになっている。アートワークマスク取付枠
３は露光波長透過性の物質から構成され、アートワーク
マスク３０をワークＷに対向して装着し、露光光源６か
らの露光によりアートワークマスク取付枠３に描かれた
パターンをワークＷ上に焼き付けるようになっている。
板等の液状感光樹脂レジストが塗布されたワークＷが載
置されるようになっている。アートワークマスク取付枠
３は露光波長透過性の物質から構成され、アートワーク
マスク３０をワークＷに対向して装着し、露光光源６か
らの露光によりアートワークマスク取付枠３に描かれた
パターンをワークＷ上に焼き付けるようになっている。
【０００７】アートワークマスク３０とワークＷ上には
アライメントマークが設けられており、ＣＣＤカメラ
５、５により該マークを基準としてアートワークマスク
取付枠３とプラテン１のアライメントを行うようになっ
ている。このアライメントはコンピュータを用いた画像
処理によりプラテン１とアートワークマスク取付枠３の
位置の合致を判断して行うようになっているが、目視に
よって行っても良い。
アライメントマークが設けられており、ＣＣＤカメラ
５、５により該マークを基準としてアートワークマスク
取付枠３とプラテン１のアライメントを行うようになっ
ている。このアライメントはコンピュータを用いた画像
処理によりプラテン１とアートワークマスク取付枠３の
位置の合致を判断して行うようになっているが、目視に
よって行っても良い。
【０００８】アートワークマスク取付枠３側にシールパ
ッキン２が設けられており、プラテン１とアートワーク
マスク取付枠３の間をシールして、該間隙を真空に引い
て、ワークＷとアートワークマスク３０を真空密着さ
せ、この状態で露光させるようになっている。
ッキン２が設けられており、プラテン１とアートワーク
マスク取付枠３の間をシールして、該間隙を真空に引い
て、ワークＷとアートワークマスク３０を真空密着さ
せ、この状態で露光させるようになっている。
【０００９】図１及び図２に示すようにプラテン１には
内部に流路２１が形成され、この流路２１に連通して流
体循環／温度調整装置２０が設けられている。流体循環
／温度調整装置２０においては、流路２１に流す流体を
強制的に循環させる循環装置と、該流体の温度を制御す
る温度調整装置が備えられており、所定温度の流体を流
路２１に循環させるように構成されている。
内部に流路２１が形成され、この流路２１に連通して流
体循環／温度調整装置２０が設けられている。流体循環
／温度調整装置２０においては、流路２１に流す流体を
強制的に循環させる循環装置と、該流体の温度を制御す
る温度調整装置が備えられており、所定温度の流体を流
路２１に循環させるように構成されている。
【００１０】またこの装置全体は、露光室２５内に納め
られており、室温調整装置２６により室温が所定温度に
調整されている。
られており、室温調整装置２６により室温が所定温度に
調整されている。
【００１１】以上の構成において、ＣＣＤカメラ５、５
により撮像した画像データに基づいて所定の画像処理を
行い、ワークＷとアートワークマスク３０のアライメン
トを行い、最適の位置にワークＷを設定してアライメン
トを行う。そして、プラテン１とアートワークマスク取
付枠３の間隙を真空に引いて、ワークＷとアートワーク
マスク３０を真空密着させ、露光を実行する。この間プ
ラテン１は流路２１を循環する流体により所定温度に維
持されるため、露光を繰り返しても温度が上昇すること
がなく、ワークＷ上の液状感光樹脂レジストの粘着性が
増すことがなく、他の部材への付着や転写等を未然に防
止できる。また、露光室２５内部も所定温度に維持され
るため、更に上記効果が増大する。
により撮像した画像データに基づいて所定の画像処理を
行い、ワークＷとアートワークマスク３０のアライメン
トを行い、最適の位置にワークＷを設定してアライメン
トを行う。そして、プラテン１とアートワークマスク取
付枠３の間隙を真空に引いて、ワークＷとアートワーク
マスク３０を真空密着させ、露光を実行する。この間プ
ラテン１は流路２１を循環する流体により所定温度に維
持されるため、露光を繰り返しても温度が上昇すること
がなく、ワークＷ上の液状感光樹脂レジストの粘着性が
増すことがなく、他の部材への付着や転写等を未然に防
止できる。また、露光室２５内部も所定温度に維持され
るため、更に上記効果が増大する。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置に
よれば、露光を繰り返すことによるプラテンの温度上昇
がなく、良好な露光を連続的に行うことができる効果が
ある。
よれば、露光を繰り返すことによるプラテンの温度上昇
がなく、良好な露光を連続的に行うことができる効果が
ある。
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態におけるプラテン１の構造
を示す平面図。
を示す平面図。
１：プラテン、２：シールパッキン、３：アートワーク
マスク取付枠、５：ＣＣＤカメラ、６：露光光源、１
０：プラテン駆動装置、２０：流体循環／温度調整装
置、２１：流路、２５：露光室、２６：室温調整装置、
３０：アートワークマスク。
マスク取付枠、５：ＣＣＤカメラ、６：露光光源、１
０：プラテン駆動装置、２０：流体循環／温度調整装
置、２１：流路、２５：露光室、２６：室温調整装置、
３０：アートワークマスク。
Claims (4)
- 【請求項１】 露光対象物を載置するプラテンを備えた
露光装置において、 前記プラテンの温度を所定温度に制御するための温度調
整装置を備えた、 ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記温度調整装置が、 プラテン内部に設けられた流体流路と、 該流路に温度制御された流体を供給するための流体供給
装置と、 を有する請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項３】 露光対象物を載置するプラテンと、露光
パターンを描いたマスクと、少なくとも前記プラテンと
マスクとを内包する露光室とを備えた露光装置におい
て、 前記プラテンの温度を所定温度に維持するための温度調
整装置と、 前記露光室の室温を所定の温度に制御するための室温調
整装置と、 を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項４】 前記露光対象物が、液状感光性樹脂レジ
ストを塗布されている、 請求項１又は２又は３に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10263891A JP2000081706A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10263891A JP2000081706A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000081706A true JP2000081706A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17395701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10263891A Pending JP2000081706A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000081706A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011002567A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
-
1998
- 1998-09-03 JP JP10263891A patent/JP2000081706A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011002567A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040830 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040913 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050516 |