JP2007248644A - 接着剤硬化装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】接着剤の硬化条件が変化した場合でも、接着剤の硬化を適切に行うことのできる接着剤硬化装置を提供する。
【解決手段】基板同士を光硬化型の接着剤を介在させて重ね合わせた貼合せ基板Wに、硬化光を照射して接着剤Sを硬化させる接着剤硬化装置16において、貼合せ基板Wを載置する基板ステージ51と、基板ステージ51上の貼合せ基板Wに硬化光を照射する光照射手段40と、基板ステージ51の直上に配設した遮光マスク67と、遮光マスク67を保持するマスクステージ66と、基板ステージ51に対しマスクステージ66を相対的に上下動させて、貼合せ基板Wと遮光マスク66との離間距離を調整するZ軸テーブル65と、を備えた。
【選択図】図4
【解決手段】基板同士を光硬化型の接着剤を介在させて重ね合わせた貼合せ基板Wに、硬化光を照射して接着剤Sを硬化させる接着剤硬化装置16において、貼合せ基板Wを載置する基板ステージ51と、基板ステージ51上の貼合せ基板Wに硬化光を照射する光照射手段40と、基板ステージ51の直上に配設した遮光マスク67と、遮光マスク67を保持するマスクステージ66と、基板ステージ51に対しマスクステージ66を相対的に上下動させて、貼合せ基板Wと遮光マスク66との離間距離を調整するZ軸テーブル65と、を備えた。
【選択図】図4
Description
本発明は、基板同士を光硬化型の接着剤を介在させて重ね合わせた貼合せ基板に、硬化光を照射して接着剤を硬化させる接着剤硬化装置に関するものである。
従来、この種の接着剤硬化装置として、基板同士を光硬化型の接着剤を介在させて重ね合わせた貼合せ基板の上方から、遮光マスクを介して紫外線を接着剤に照射して、これを硬化させるものが知られている(特許文献1参照)。この場合、貼合せ基板および遮光マスクは、上下方向において固定的に設けられており、貼合せ基板と遮光マスクとの離間距離は、予め定められた距離となっている。
特開2003−222884号公報
しかしながら、上記の構成によれば、硬化させる接着剤の種類、接着剤の塗着量や塗着パターン等により接着剤の硬化条件が変化した場合でも、貼合せ基板と遮光マスクとの離間距離を変えることなく接着剤を硬化させるため、その硬化条件に合わせた適切な硬化を行うことができない。例えば、硬化時間が長い接着剤を用いる場合、この硬化時間を短縮するために、接着剤への紫外線照射量を増大させる。すると、紫外線が照射された遮光マスクが熱を持ち、この熱が離間距離を介して基板に伝わってしまう。このため、接着剤または基板が熱膨張することにより、貼り合わせた基板同士の位置ズレが発生してしまう問題があった。これを回避するため、貼合せ基板と遮光マスクとの離間距離を広げればいいが、例えば、紫外線を照射しない貼合せ基板の非照射エリアが、デリケートな構成となっている場合は、離間距離を広げることにより、紫外線が遮光マスクの透過部を介して回折してしまい、非照射エリアに紫外線が照射され、これを損傷してしまう虞がある。
本発明は、接着剤の硬化条件が変化した場合でも、接着剤の硬化を適切に行うことのできる接着剤硬化装置を提供することを課題とする。
本発明の接着剤硬化装置は、基板同士を光硬化型の接着剤を介在させて重ね合わせた貼合せ基板に、硬化光を照射して接着剤を硬化させる接着剤硬化装置において、貼合せ基板を載置する基板ステージと、基板ステージ上の貼合せ基板に硬化光を照射する光照射手段と、基板ステージの直上に配設した遮光マスクと、遮光マスクを保持するマスクステージと、基板ステージに対しマスクステージを相対的に上下動させて、貼合せ基板と遮光マスクとの離間距離を調整するZ軸テーブルと、を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、適切な離間距離で貼合せ基板に遮光マスクを臨ませることができる。つまり、貼合せ基板および接着剤が熱膨張しないよう、遮光マスクから貼合せ基板へ熱が伝わりにくい離間距離とすることができると共に、貼合せ基板の非照射エリアに硬化光が照射されることのないよう、硬化光を接着剤へ適切に照射することができる。これにより、接着剤の硬化条件が変わった場合でも、適宜離間距離を調整することで、接着剤の硬化条件に最適な硬化を行うことができる。なお、この離間距離は、接着剤の硬化条件に合わせた最適な離間距離となるよう予め実験等により求められる。
この場合、マスクステージに対し基板ステージをX・Y・θ方向に相対的に移動させ、マスクステージと基板ステージとの位置合せを行う移動テーブルを、更に備えることが、好ましい。
また、このとき、基板ステージに載置した貼合せ基板のアライメントマークと、マスクステージに保持された遮光マスクのアライメントマークとを画像認識する画像認識手段と、画像認識手段の認識結果に基づいて、移動テーブルの駆動を制御する制御手段と、を更に備えることが、好ましい。
この構成によれば、貼合せ基板と遮光マスクとをアライメントすることができるため、貼合せ基板の接着剤に対し、遮光マスクの透過部を適切に臨ませることができる。これにより、貼合せ基板と遮光マスクとの位置ズレによる非照射エリアの損傷を防止することができる。なお、前者の構成の場合、移動テーブルは手動で操作するもの(マイクロヘッド)であってもよい。
この場合、遮光マスクと貼合せ基板との間隙に、冷却用エアーを送気する第1エアーブロー手段を、更に備えることが、好ましい。
この構成によれば、冷却用エアーにより、遮光マスクおよび貼合せ基板を冷却することができるため、より効果的に貼合せ基板および接着剤の熱膨張を防止することができる。
この場合、遮光マスクの上面に、冷却用エアーを送気する第2エアーブロー手段を、更に備えたことが、好ましい。
この構成によれば、冷却用エアーにより、遮光マスクを冷却することができるため、遮光マスクから貼合せ基板への放射熱を抑制することができる。このため、
より効果的に貼合せ基板および接着剤の熱膨張を防止することができる。また、
硬化光により遮光マスクが熱膨張することによるたわみを防止することができるため、貼合せ基板に遮光マスクが接触することがない。
より効果的に貼合せ基板および接着剤の熱膨張を防止することができる。また、
硬化光により遮光マスクが熱膨張することによるたわみを防止することができるため、貼合せ基板に遮光マスクが接触することがない。
この場合、基板ステージには、冷却用媒体を通液する冷却コイルが組み込まれていることが、好ましい。
この構成によれば、基板ステージにより、載置した貼合せ基板を冷却することができるため、貼合せ基板および接着剤の熱膨張を、抑制することができる。
この場合、光照射手段は、光源とレンズとを有しており、貼合せ基板の接着剤に対する焦点深度を微調整する焦点深度調整機構を、更に備えることが、好ましい。
この構成によれば、接着剤の内部から外部に向かって硬化させることができるため、硬化時の接着剤にシワ等が生ずるのを防止するこができる。また、異なる厚みの接着剤を硬化させる場合でも、これを適切に硬化させることができる。
この場合、焦点深度調整機構は、基板ステージに対し光照射手段を相対的に上下動させる上下動機構で構成されていることが、好ましい。
この構成によれば、簡易な構成で焦点深度を微調整することができる。
この場合、光照射手段は、硬化光光源と、貼合せ基板に硬化光を照射するレンズ付の光ヘッドと、硬化光光源と光ヘッドとを接続する光導波路と、貼合せ基板に対し、光ヘッドを相対的に走査するヘッド走査機構と、を有していることが、好ましい。
この構成によれば、光ヘッドで狙った部分にのみ硬化光を照射することができるため、時間を要するものの比較的小型の光源で接着剤を硬化させることができる。また、接着剤の凹凸形状等に合わせた硬化形態を実行することができる。
この場合、接着剤は、紫外線硬化型のシール性接着剤であり、貼合せ基板は、接着剤で液晶を封止した液晶パネル基板であることが、好ましい。
この構成によれば、貼合せ基板が位置ズレすることなく、また、非照射エリアが損傷することなく接着剤の硬化を行うことができるため、適切に液晶を封止することができる。これにより、液晶パネル基板の品質を高めることができる。
以下、添付の図面を参照して、本実施形態に係る接着剤硬化装置について説明する。この接着剤硬化装置は、液晶パネル基板を製造する生産ラインに組み込まれており、液晶パネル基板を構成する上下2枚の基板の間に液晶を封止するシール性の接着剤(シール剤)を介在させて重ね合わせた貼合せ基板の、接着剤を硬化させるものである。なお、以下の説明では、接着剤を一方の基板に塗着させると共に、その基板に液晶を滴下し、これを他方の基板と貼り合わせて製造した貼合せ基板の接着剤を硬化させる場合について説明する。先ず、貼合せ基板を製造する製造ラインについて説明する。
図1に示すように、貼合せ基板Wの製造ライン1は、貼合せ基板Wを製造する処理装置群2と、処理装置群2に臨ませる基板をストックする搬入トレイ3と、処理後の貼合せ基板Wをストックする搬出トレイ4と、処理装置群2への給材および処理装置群2からの除材を行うと共に、各処理装置間の基板の搬送を行う搬送ロボット5と、を有している。
図2に示すように、貼合せ基板Wに用いられる円形の2枚の基板のうち、一方の基板は、ベースとなるガラス基板に液晶パネルとなる複数のチップ部7が形成されており、各チップ部7には、画素電極等が形成され、その上面に配向膜が成膜されている。他方の基板も同様に、ベースとなるガラス基板に液晶パネルとなる複数のチップ部が形成されており、各チップ部7には、対向電極等が形成され、その上面に配向膜が成膜されている。これらの基板を貼り合わせる際は、液晶を各チップ部7に滴下した後、相互に配向膜が内側となるよう貼り合わせられる。なお、貼合せ基板Wには、後述する遮光マスク67と位置合わせを行うための基板アライメントマーク8が形成されている(図5参照)。
処理装置群2は、図示左側から、給材した一方の基板の各チップ部に対し、方形枠状に接着剤Sを塗着させる接着剤塗着装置10を有する塗着ステーション11と、基板に塗着した複数の接着剤S枠内の中央に液晶Eを滴下する液晶滴下装置12を有する滴下ステーション13と、液晶Eを滴下した一方の基板に他方の基板を重ねるように貼り合せる貼合せ装置14を有する貼合せステーション15と、貼合せ基板Wの接着剤Sを硬化させる接着剤硬化装置16を有する硬化ステーション17と、から構成されている。接着剤塗着装置10により塗着される接着剤Sは、紫外線等により硬化する光硬化型のシール性接着剤であり、接着剤硬化装置16は、紫外線(硬化光)を照射して、この接着剤Sを硬化させる。
搬送ロボット5が、搬入トレイ3から一方の基板をピックアップし、接着剤塗着装置10に臨ませると、接着剤塗着装置10は、この基板に接着剤Sを塗着する。塗着後の基板は、搬送ロボット5により接着剤塗着装置10から液晶滴下装置12に移載される。移載された基板が液晶滴下装置12に臨むと、その基板に液晶Eが滴下される。この後、搬送ロボット5は、滴下後の基板を貼合せ装置14に臨ませると共に、搬入トレイ3から他方の基板をピックアップし、貼合せ装置14に給材する。貼合せ装置14は、この2枚の基板を重ねて貼り合せ(図2参照)、貼り合わせた貼合せ基板Wは搬送ロボット5により接着剤硬化装置16に移載される。接着剤硬化装置16は、貼合せ基板Wの接着剤Sを硬化させ、接着剤S硬化後、搬送ロボット5は、接着剤硬化装置16から貼合せ基板Wを除材して、搬出トレイ4に移載する。
次に、図3を参照して、硬化ステーション17について説明する。硬化ステーション17は、共通ベッド20と、共通ベッド20の中央に配設した接着剤硬化装置16と、接着剤硬化装置の右隣に配設した反転装置21と、により構成されている。接着剤硬化装置16に導入された貼合せ基板Wは、一方の面から紫外線照射を受け、反転装置21により表裏反転させた後、他方の面から紫外線照射を受けて、表裏両側から接着剤Sの硬化が行なわれる。この場合、共通ベッド20の前中央部が位置合わせエリア25となっており、後中央部が露光エリア26となっていて、この部分に接着剤硬化装置16が配設されている。また、位置合わせエリア25の左側が貼合せ基板Wを載置するための載置エリア27、右側が貼合せ基板Wを反転させるための反転エリア28となっていて、この反転エリア28に反転装置21が配設されている。
図4に示すように、接着剤硬化装置16は、共通ベッド20上の中央に配設されると共に、位置合わせエリア25から露光エリア26までX軸上に延在するエリア移動X軸テーブル30と、エリア移動X軸テーブル30に固定された基板搭載ユニット31と、基板搭載ユニット31を跨いでエリア移動X軸テーブル30に固定されたマスク搭載ユニット32と、露光エリア26に移動したマスク搭載ユニット32の直上に位置する紫外線照射ユニット33と、露光エリア26に移動したマスク搭載ユニット32の側方に配設されたエアーブローユニット34と、位置合わせエリア25と露光エリア26とを仕切る遮蔽板35(図3参照)と、これらを統括制御する制御装置(図示省略)と、を備えている。
紫外線照射ユニット33は、光源となる紫外線照射ランプ40と、これを覆うと共に下面に照射口を設けた長方体状のケース41と、紫外線照射ランプ40の背面に設けられ紫外線照射ランプ40から照射された紫外線を集光する集光ミラー42(凹面鏡)と、を有している。紫外線照射ランプ40が点灯すると、集光ミラー42により紫外線が集光され、照射口から露光エリア26に臨んだマスク搭載ユニット32に向けて紫外線が照射される。
遮蔽板35は、紫外線照射ユニット33から照射された紫外線(散乱光)が、露光エリア26から位置合わせエリア25に入射しないよう設けられたものであり、遮蔽板35には、基板搭載ユニット31およびマスク搭載ユニット32の出入口となるシャッタ付きのユニット出入口(図示省略)が設けられている。
図4に示すように、エリア移動X軸テーブル30は、基板搭載ユニット31およびマスク搭載ユニット32を支持固定する共通テーブル45と、共通テーブル45を位置合わせエリア25と露光エリア26との間でX軸方向に移動させるテーブル本体46と、で構成されている。基板搭載ユニット31およびマスク搭載ユニット32により貼合せ基板Wと後述する遮光マスク67との位置合わせが行なわれた後、このエリア移動X軸テーブル30により、貼合せ基板Wおよび遮光マスク67が露光エリア26に導入され、紫外線照射ユニット33により露光(紫外線照射)がおこなわれる。
基板搭載ユニット31は、共通テーブル45の中央に固定された移動テーブル50と、移動テーブル50上に搭載され、貼合せ基板Wを位置決め載置する基板ステージ51と、を備えている。移動テーブル50は、基台上をY軸方向に移動するY軸テーブル55と、Y軸テーブル55上をX軸方向に移動するX軸テーブル56と、X軸テーブル56上をZ軸方向に移動するZ軸テーブル57と、鉛直軸を中心にZ軸テーブル57上を回転移動するθテーブル58と、を有している。
移動テーブル50は、基板ステージ51に貼合せ基板Wがセットされると、制御装置の制御に基づいて、基板ステージ51にセットした貼合せ基板Wと、紫外線照射ユニット33との離間距離(照射距離H1)を調整するよう、Z軸テーブル57を移動させると共に、遮光マスク67と、貼合せ基板Wとのアライメントを行うべく、θテーブル58を回転させると共に、X軸テーブル56およびY軸テーブル55を適宜移動させる。また、移動テーブル50は、貼合せ基板Wをセットする場合には、基板ステージ51を載置エリアに臨ませるようY軸テーブル55を移動させ、さらに、貼合せ基板Wの表裏を反転させる場合には、基板ステージ51を反転エリア28に臨ませるようY軸テーブル55を移動させる。
基板ステージ51は、円板状に形成されており、その内部には、冷却機構60が組み込まれている。冷却機構60は、基板ステージ51内を蛇行状に配管した冷却コイル61を有しており、冷却コイル61は、外部の冷却水供給設備に接続され、冷却コイル61内に冷却水が流れることで、基板ステージ51上を冷却している(図6(b)参照)。これにより、基板ステージ51上に載置された貼合せ基板Wを冷却することができる。なお、基板ステージ51の形状は、貼合せ基板Wの形状に対応して、円板状に設けたが、載置する基板に応じた形状とすることが好ましい。また、冷却コイル61内には、冷却水(簡易には常温の水道水で可)に限らず、各種の冷媒(液体)を通液してもよい。
一方、マスク搭載ユニット32は、共通テーブル45の四隅に立設した4本のマスクZ軸テーブル65と、基板ステージ51の上方に位置するように4本のマスクZ軸テーブル65に支持されたマスクステージ66と、マスクステージ66の中央に水平に保持された遮光マスク67と、遮光マスク67の上方から臨む2つの位置合わせ用カメラ68と、を有している。
4本のマスクZ軸テーブル65は、基板ステージ51よりもやや背が高くなるよう構成されており、マスクステージ66を4点で支えながら、これをZ軸方向に昇降自在に搭載している。すなわち、4本のマスクZ軸テーブル65は、基板ステージ51にセットした貼合せ基板Wと遮光マスク67との離間距離(マスク間距離H2)を調整する。また、マスクステージ66は、方形状に形成され、その中央には遮光マスク67が位置決め状態で着脱自在に保持されている。
図5に示すように、遮光マスク67は、紫外線の照射を遮光する遮光部70と、紫外線の照射を透過する透過部71とからなっており、透過部71は、上記複数のチップ部7に対応しており、硬化させる接着剤Sの塗着パターンに倣って方形枠状に複数形成されている。また、遮光マスク67には、貼合せ基板Wと位置合わせを行うためのマスクアライメントマーク72が設けられている。
2つの位置合わせ用カメラ68は、位置合わせエリア25の上方に設けられており、下方に臨んだ遮光マスク67および貼合せ基板Wの位置合わせを行うため、各アライメントマーク8、72を画像認識する(図5(b)参照)。これにより、基板ステージ51上に貼合せ基板Wがセットされると、位置合わせエリア25において、各位置合わせ用カメラ68は、各アライメントマーク8、72を画像認識し、その認識結果を制御装置へ入力する。制御装置は、認識結果に基づいて、移動テーブル50を適宜移動させ、遮光マスク67および貼合せ基板Wを位置合わせする(図5(a)参照)。
エアーブローユニット34は、露光エリア26に臨んだマスク搭載ユニット32に対し、遮光マスク67と貼合せ基板Wとの間隙にエアーを送気する間隙エアーノズル75と、遮光マスク67の上面にエアーを送気するマスクエアーノズル76と、を有しており、これらの各エアーノズル75、76は、工場内のブロワーや冷却用エアー供給設備に接続されている。各エアーノズル75、76からエアーを吹き付けると、間隙エアーノズル75は、貼合せ基板Wおよび遮光マスク67の間隙に冷却用エアーを吹き付けてこれらを冷却すると共に、マスクエアーノズル76は、遮光マスク67の上面に冷却用エアーを吹き付けて遮光マスク67を冷却する。これにより、遮光マスク67が上方から照射される紫外線により熱の影響を受けても、これを冷却することができるため、遮光マスク67が熱膨張によりたわんでしまうことを防止することができる。なお、冷却用エアーは、冷却されたエアーでもよいが、常温のエアーでもよい。また、接着剤Sによっては、冷却用エアーとして窒素ガス等の不活性ガスを吹き付けるようにしてもよい。
ここで、接着剤硬化装置16により貼合せ基板Wの接着剤Sを硬化させる一連の動作について説明する。先ず、搬送ロボット5は、貼合せ基板Wを貼合せ装置14から接着剤硬化装置16へ向けて搬送を行うと共に、載置エリア27に臨んだ状態で待機している基板ステージ51へ、仮位置決めした状態(プリアライメント)で貼合せ基板Wをセットする。この後、基板ステージ51は、移動テーブル50(Y軸テーブル)により位置合わせエリアに移動し、貼合せ基板Wと遮光マスク67との本位置決め(アライメント)を行う。
アライメント終了後、今度は、Z軸テーブル57を昇降して、照射距離H1を調整する(図6(a)参照)。なお、この照射距離H1は、貼合せ基板Wの接着剤Sに対し紫外線の吸収効率がよい距離となっており、予め実験等により求められる。次に、マスク間距離H2を調整するべく、マスクZ軸テーブル65によりマスクステージ66を昇降させる。このマスク間距離H2も、使用する接着剤Sの種類、接着剤Sの塗着量や塗着パターン等の接着剤Sの硬化条件、更には基板の種類に応じて、遮光マスク67の熱が貼合せ基板Wに伝わらないよう、また、紫外線照射ユニット33からの紫外線が、遮光マスク67の透過部を回折して、非照射エリアに照射しないよう、予め実験等により求められる。各離間距離(照射距離H1およびマスク間距離H2)を調整した後、これらの状態を維持しつつ遮蔽板35のユニット出入口を通って露光エリア26へ共通テーブル45を移動させる。
共通テーブル45が露光エリア26へ臨むと、紫外線照射ユニット33は、遮光マスク67の直上から紫外線を照射する。照射された紫外線は、遮光マスク67の透過部71を介して接着剤Sに入射し、接着剤Sを硬化させる(図6(b)参照)。一方、エアーブローユニット34は、露光エリア26に臨んだ遮光マスク67の上面および貼合せ基板Wと遮光マスク67との間隙に冷却用エアーを吹き付け、これらを冷却する。露光終了後、共通テーブル45は、再び位置合わせエリア25へ移動する。位置合わせエリア25に臨んだ共通テーブル45上の基板ステージ51は、移動テーブル50により反転エリア28に臨むと共に、反転装置21により、貼合せ基板Wの表裏を反転させる。そして、基板ステージ51は、位置合わせエリア25に戻った後、再び、アライメント、照射距離H1およびマスク間距離H2を調整して、露光エリア26に臨ませ、露光終了後、位置合わせエリア25に移動する。表裏面からの接着剤Sの硬化が終了すると、搬送ロボット5は貼合せ基板Wを搬出トレイ4へ移載する。
以上の構成によれば、接着剤Sの種類、接着剤Sの塗着量や塗着パターン等の接着剤Sの硬化条件が変化した場合でも、接着剤Sの硬化を適切に行うことができる。つまり、接着剤Sの硬化速度を優先する場合は、接着剤Sの硬化速度を早くすることができ、配向膜へのダメージを避けたい場合には、非照射エリアへの照射を防止することができる。なお、図7に示すように、マスクZ軸テーブル65に代えて、マスクステージを4本の支柱80で支持すると共に、紫外線照射ユニット33を支持し、これを昇降させる4本の紫外線Z軸テーブル81を設けてもよい。これによれば、移動テーブル50のZ軸テーブル57を昇降させることでマスク間距離H2を調整し、4本の紫外線Z軸テーブル81を昇降させることで、照射距離H1を調整することができる。また、搬送ロボット5から基板ステージ51に貼合せ基板Wを載置する際、搬送ロボット5の載置精度が良くない場合には、載置エリア27に貼合せ基板Wをプリアライメントする基板アライナを設けてもよい。
次に、図8を参照して、第1実施形態の変形例について説明する。この接着剤硬化装置16は、紫外線照射ユニット33が、内部に光源となる紫外線照射ランプ40を有する光源ユニット90と、下面に照射レンズを有し、Y軸方向に延在するスキャンヘッド91と、一端を光源ユニット90に接続すると共に、他端をスキャンヘッド91に接続した光ケーブル92(光導波路)と、スキャンヘッド91の上方に設けられた上下動機構93と、スキャンヘッド91および上下動機構93をX軸方向に走査させるヘッド走査機構94と、を有している。このとき、マスクZ軸テーブル65に代えて、マスクステージ66を4本の支柱80で支持している。
マスク間距離H2および照射距離H1を調整した状態において、露光エリア26に共通テーブル45が臨むと、紫外線照射ユニット33は、ヘッド走査機構94により遮光マスク67のX軸方向にスキャンヘッド91を走査させて、接着剤Sを硬化させる。また、接着剤Sの塗着パターンによっては、接着剤Sの厚みが異なる場合があるため、このときは、上下動機構93によりスキャンヘッド91を上下動させて、照射レンズの焦点深度を微調整し、接着剤Sの内部から外部に向かって紫外線を照射する。これにより、接着剤Sにシワ等を生ずることなく硬化させることができる。以上の構成においても、接着剤Sの硬化条件に応じて、接着剤Sの硬化を適切に行うことができる。
次に、図9ないし図11を参照して、第2実施形態に係る接着剤硬化装置16について説明する。この接着剤硬化装置16にセットされる貼合せ基板Wは、マザー基板100に対し、複数の対向基板101が液晶注入口102を設けた状態で貼り合せられたもの(図9参照)であり、接着剤硬化装置16は、この貼合せ基板Wの複数の液晶注入口102を封止した接着剤S(封止剤)を硬化させるものである。なお、重複した記載を避けるため、異なる部分についてのみ説明する。先ず、貼合せ基板Wに液晶Eを注入した後、液晶注入口102を封止する製造ライン103について説明する。
図10に示すように、貼合せ基板Wの製造ライン103の処理装置群2は、図示左側から、貼合せ基板Wの複数の液晶注入口102から液晶Eを注入する液晶注入装置104と、液晶E注入後の各液晶注入口102に接着剤Sを封止するよう塗着する接着剤塗着装置10と、塗着した接着剤Sを硬化させる接着剤硬化装置16と、を有している。
搬送ロボット5が、搬入トレイ3から貼合せ基板Wをピックアップし、液晶注入装置104に臨ませると、液晶注入装置104は、液晶注入口102から液晶Eを真空注入する。注入後の貼合せ基板Wは、搬送ロボット5により接着剤塗着装置10に移載され、接着剤塗着装置10は、移載された貼合せ基板Wの複数の液晶注入口102に、接着剤Sを塗着させて封止する(図9(b)参照)。この後、搬送ロボット5は、封止後の貼合せ基板Wを、接着剤硬化装置16に臨ませ、接着剤硬化装置16は、接着剤Sに紫外線を照射して接着剤Sを硬化させる。
接着剤硬化装置16は、貼合せ基板Wの片面のみに紫外線を照射して接着剤Sを硬化させるものであるため、反転装置21を有していない構成となっている。また、図11(a)に示すように、遮光マスク67の透過部71は、接着剤Sの塗着パターンに倣って、長方形状に複数形成されている。
照射距離H1およびマスク間距離H2を調整した状態において、露光エリア26に共通テーブル45が臨むと、紫外線照射ユニット33は、遮光マスク67の上方から紫外線を照射させて、接着剤Sを硬化させる(図11(b)参照)。
以上の構成においても、本発明の接着剤硬化装置16を、液晶注入口102を封止する接着剤Sを硬化させる場合にも適用するができるため、接着剤Sの種類、塗着量および塗着パターンに応じて、接着剤Sを適切に硬化させることができる。なお、これらの実施形態に限らず、本発明の範囲内であれば、適宜応用可能であることは言うまでもなく、また、処理対象となる貼合せ基板も液晶パネルに限らず、その他の電気光学部品に用いることが可能である。
16…接着剤硬化装置 40…紫外線照射ランプ 50…移動テーブル 51…基板ステージ 57…Z軸テーブル 61…冷却コイル 65…マスクZ軸テーブル 66…マスクステージ 67…遮光マスク 68…位置合わせ用カメラ 75…間隙エアーノズル 76…マスクエアーノズル 81…紫外線Z軸テーブル 90…光源ユニット 91…スキャンヘッド 92…光ケーブル 93…上下動機構 94…ヘッド走査機構 W…貼合せ基板 S…接着剤
Claims (10)
- 基板同士を光硬化型の接着剤を介在させて重ね合わせた貼合せ基板に、硬化光を照射して前記接着剤を硬化させる接着剤硬化装置において、
前記貼合せ基板を載置する基板ステージと、
前記基板ステージ上の前記貼合せ基板に前記硬化光を照射する光照射手段と、
前記基板ステージの直上に配設した遮光マスクと、
前記遮光マスクを保持するマスクステージと、
前記基板ステージに対し前記マスクステージを相対的に上下動させて、前記貼合せ基板と前記遮光マスクとの離間距離を調整するZ軸テーブルと、を備えたことを特徴とする接着剤硬化装置。 - 前記マスクステージに対し前記基板ステージをX・Y・θ方向に相対的に移動させ、前記マスクステージと前記基板ステージとの位置合せを行う移動テーブルを、更に備えたことを特徴とする請求項1に記載の接着剤硬化装置。
- 前記基板ステージに載置した前記貼合せ基板のアライメントマークと、前記マスクステージに保持された前記遮光マスクのアライメントマークとを画像認識する画像認識手段と、
前記画像認識手段の認識結果に基づいて、前記移動テーブルの駆動を制御する制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項2に記載の接着剤硬化装置。 - 前記遮光マスクと前記貼合せ基板との間隙に、冷却用エアーを送気する第1エアーブロー手段を、更に備えたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の接着剤硬化装置。
- 前記遮光マスクの上面に、冷却用エアーを送気する第2エアーブロー手段を、更に備えたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の接着剤硬化装置。
- 前記基板ステージには、冷却用媒体を通液する冷却コイルが組み込まれていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の接着剤硬化装置。
- 前記光照射手段は、光源とレンズとを有しており、
前記貼合せ基板の前記接着剤に対する焦点深度を微調整する焦点深度調整機構を、更に備えたことを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の接着剤硬化装置。 - 前記焦点深度調整機構は、前記基板ステージに対し前記光照射手段を相対的に上下動させる上下動機構で構成されていることを特徴とする請求項7に記載の接着剤硬化装置。
- 前記光照射手段は、硬化光光源と、
前記貼合せ基板に前記硬化光を照射するレンズ付の光ヘッドと、
前記硬化光光源と前記光ヘッドとを接続する光導波路と、
前記貼合せ基板に対し、前記光ヘッドを相対的に走査するヘッド走査機構と、を有していることを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の接着剤硬化装置。 - 前記接着剤は、紫外線硬化型のシール性接着剤であり、
前記貼合せ基板は、前記接着剤で液晶を封止した液晶パネル基板であることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の接着剤硬化装置。
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---|---|---|---|
JP2006069820A JP2007248644A (ja) | 2006-03-14 | 2006-03-14 | 接着剤硬化装置 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012073533A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Shibaura Mechatronics Corp | 貼合装置及び貼合方法 |
JP2012073534A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Shibaura Mechatronics Corp | 貼合装置及び貼合方法 |
JP2015045883A (ja) * | 2014-11-26 | 2015-03-12 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 貼合ワークの製造装置及び貼合ワークの製造方法 |
EP4258429A1 (en) * | 2022-04-05 | 2023-10-11 | Volvo Car Corporation | Fixture unit for holding a prismatic battery cell |
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2006
- 2006-03-14 JP JP2006069820A patent/JP2007248644A/ja active Pending
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