JP2003222884A - 液晶表示パネルのシール剤硬化方法及び硬化装置 - Google Patents

液晶表示パネルのシール剤硬化方法及び硬化装置

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JP2003222884A
JP2003222884A JP2002022732A JP2002022732A JP2003222884A JP 2003222884 A JP2003222884 A JP 2003222884A JP 2002022732 A JP2002022732 A JP 2002022732A JP 2002022732 A JP2002022732 A JP 2002022732A JP 2003222884 A JP2003222884 A JP 2003222884A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 貼り合わせた一対の基板間のずれを防止し、
広範囲の照射エリアでも一定の紫外線の照度分布が得ら
れ、基板とマスクを容易に分離すること等が可能で、液
晶パネルの生産効率、品質を向上させることのできるシ
ール剤硬化方法及び硬化装置を提供する。 【解決手段】 紫外線遮光板2を位置決めして重ね合わ
せ位置まで搬送し、重ね合わせ位置における紫外線遮光
板2の位置データを記憶して位置決め位置まで搬送し、
一方の基板1aに液晶材料1cを滴下し、他方の基板1
dに紫外線硬化型のシール剤1bを塗布して貼り合わさ
れた一対の基板1を位置決めして重ね合わせ位置まで搬
送し、重ね合わせ位置における一対の基板1の位置デー
タを記憶し、これらの位置データを比較して一対の基板
1の位置を調整し、一対の基板1に紫外線遮光板2を位
重ね合わせ、両者1、2に紫外線を照射して他方の基板
1に塗布されたシール剤1bを硬化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネルの
シール剤硬化方法及び硬化装置に関し、特に、液晶モニ
タ付機器等に用いられる液晶表示パネルを滴下工法で貼
り合わせた基板間のシール部分を一括硬化させるシール
剤硬化方法及び硬化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図12は、従来の液晶表示パネルの滴下
工法の製造工程図を示し、(a)の滴下装置によってシ
ール剤を塗布するとともに、液晶を滴下して貼り合わ
せ、(b)の硬化装置によって紫外線を照射してシール
剤を硬化させ、(c)のオーブンによって本硬化が行わ
れる。この種のシール剤硬化装置では、貼り合わせた基
板間のシール部分を均一に硬化させることが重要な要素
の一つとなる。そのため、通常、第1の基板上に紫外線
硬化型シール剤を所定のパターンに形成した後、シール
剤に囲まれた領域に液晶を滴下し、真空中で第2の基板
を貼り合わせ、基板の片側面に紫外線遮光板(以下「マ
スク」という)を密着させ、マスクを介して紫外線照射
装置より紫外線を照射する手法が採用されている。
【0003】また、特開平9−73096号公報に記載
の液晶表示素子の製造方法では、図13に示すように、
液晶表示素子101の製造工程において、シール剤10
1bの硬化を行うにあたって、内面に各々配光膜を形成
し、ラビング処理を施した一対のガラス基板101c
(または101d)の対向面に紫外線硬化型樹脂からな
るシール剤101bを塗布し、他方のガラス基板101
dの対向面に液晶材料を滴下して貼り合わせる。ここ
で、液晶表示素子101に紫外線103aを照射するた
めの紫外線照射装置103には、反射板103bが設け
られ、ガラス基板101c側から液晶表示素子101の
全面に紫外線103aが照射される。
【0004】さらに、紫外線照射装置103と液晶表示
素子101との間には、液晶表示素子101と接触する
ように遮光マスク102を配置している。遮光マスク1
02は、透明性基板102aに遮光膜102bを形成し
たものであり、シール剤101bのパターンに応じて遮
光膜102bのパターンが決定される。尚、透明性基板
102aはガラス製であって、板厚が4mm以上である
と熱等の影響で反ったりせず、また、遮光膜102bは
黒色インキでパターン化して形成される。紫外線照射装
置103から照射された紫外線103aは、遮光マスク
102の遮光膜102bが形成されていない透明部10
2eを透過してシール剤101bのみに照射され、シー
ル剤101bが硬化する。尚、シール剤101bと遮光
マスク102のパターン合わせについては、紫外線10
3aの漏れによって局部的に液晶や配光膜に紫外線10
3aが照射され、配向乱れやしきい値むらを起こさない
程度の精度が必要である。
【0005】また、図14に示すように、従来の他のシ
ール剤硬化装置211は、位置制御手段としてのXYθ
テーブル208、紫外線照射装置203、マスクガラス
202、及び中央部がガラスで構成された透明基準板2
14の他、透明基準板214を駆動する図示しないボー
ルスプライン、加圧シリンダ、CFセットテーブル、及
び使用者がアライメント時等に使用する顕微鏡等で概略
構成される。
【0006】そして、使用者が、XYθテーブル208
を引き出し、駆動基板を保持し、CFセットテーブルに
対向基板をセットした後、CFセットテーブルを回転し
て駆動基板上にセットする。次に、XYθテーブル20
8を所定位置まで移動し、加圧シリンダによってボール
スプラインを経て、透明基準板214を下方に移動す
る。さらに、使用者は顕微鏡等を用いて透明基準板21
4の下方に位置するXYθテーブル208を、X、Y、
θ方向に制御して液晶表示パネル201を加圧しつつ、
前述のアライメントマークを基準とするアライメントを
行う。そして、XYθテーブル208を所定の位置まで
加圧することにより、液晶表示パネル201のセルギャ
ップを最適に制御し、紫外線照射装置203によりマス
クガラス202をマスクとして紫外線光を照射してシー
ル剤の一括硬化を行う。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のシ
ール剤硬化装置等においては、紫外線照射装置より照射
される紫外線の中に熱線も含まれているので、基板の照
射面側と基板の保持側とで温度差が発生し、貼り合わせ
た2枚の基板の膨張の程度が異なるため、基板間にずれ
が生じるおそれがあるという問題があった。また、紫外
線照射装置と基板との間に熱線フィルタと基板保持板に
冷却機能を付加して温度コントロールをした場合でも、
熱線フィルタを設置した紫外線照射装置での照射時の基
板温度は、照射時間40秒で基板の照射面とその反対面
で約8℃の差が生じ、シール剤にもよるが、熱線フィル
タによってカットされる波長域にシール剤自身の硬化波
長域も一部入っているため、照射時間が倍以上必要にな
り温度差が広がるという問題があった。
【0008】また、第2の問題点として、従来のシール
剤硬化装置等においては、特に大型の基板を扱うような
場合には、照射エリアが広いため、紫外線照射装置の紫
外線照射ランプが1灯しか存在しなかったり、紫外線照
射装置のランプ寿命による影響で照射時間も一定になら
ないこともあるため、紫外線照射装置から照射される紫
外線の照度分布がばらつき、シール剤の硬化時間にずれ
が生じ、未硬化の部分が発生するおそれがあるという問
題があった。
【0009】さらに、従来のシール剤硬化装置等におい
ては、基板の表示エリアへの紫外線による影響を防ぐた
め、基板の紫外線照射面側にマスクを重ね合わせてい
る。このマスクは、透明ガラスに紫外線を遮光する部分
に遮光膜を形成したもので、この状態で基板にマスクを
重ね合わせると、基板とマスクとの間が密接になり、基
板とマスクを分離することが困難になるという問題があ
った。尚、基板とマスクの間に透明基準板を配置する従
来例もあるが、その厚み分だけ紫外線の回り込み(反
射)が発生し、表示面への悪影響を及ぼすおそれがある
という問題があった。
【0010】また、従来は、紫外線による影響を防止す
るにあたって、紫外線の照射エリアを狭くすることが重
要であるため、基板とマスクの重ね合わせ精度が要求さ
れるが、品種交換時に生じるマスク交換(位置合わせ)
に長時間を要するという問題もあった。
【0011】さらに、第5の問題点として、人手作業に
より基板の供給、位置出し、回収とマスクの重ね合わせ
を行っているため、マスクの重ね合わせ時のずれによっ
て基板の品質がばらつくおそれがあった。また、各作業
に時間を要するので、量産のためには、シール剤硬化装
置が複数台必要になり、設備費用が増大するという問題
もあった。
【0012】そこで、本発明は、上記従来のシール剤硬
化装置等における問題点に鑑みてなされたものであっ
て、貼り合わせた一対の基板間のずれを防止することが
でき、広範囲の照射エリアが存在する場合であっても一
定の紫外線の照度分布が得られ、基板とマスクを容易に
分離すること等が可能で、液晶パネルの生産効率を向上
させ、品質を向上させることも可能な液晶表示パネルの
シール剤硬化方法及び硬化装置を提供することを目的と
する。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明は、一対の基板の一方に液晶材
料を滴下し、他方に紫外線硬化型のシール剤を塗布し、
該一対の基板を貼り合わせ、前記シール剤に対応する部
分を残して遮光し、紫外線を照射して前記シール剤を硬
化させる液晶表示パネルのシール剤硬化方法において、
シール剤に対応する部分を残して遮光するための紫外線
遮光板を位置決めして重ね合わせ位置まで搬送し、該重
ね合わせ位置における該紫外線遮光板の位置データを記
憶して前記位置決め位置まで搬送し、一方の基板に液晶
材料を滴下し、他方の基板に紫外線硬化型のシール剤を
塗布して貼り合わされた一対の基板を位置決めして重ね
合わせ位置まで搬送し、該重ね合わせ位置における該一
対の基板の位置データを記憶し、該重ね合わせ位置にお
ける前記一対の基板の位置データと前記紫外線遮光板の
位置データとを比較して該重ね合わせ位置における前記
一対の基板の位置を調整し、該重ね合わせ位置における
前記一対の基板に、前記紫外線遮光板を前記位置決め位
置から該重ね合わせ位置まで搬送して重ね合わせ、該重
ね合わされた一対の基板及び紫外線遮光板に紫外線を照
射して前記他方の基板に塗布されたシール剤を硬化させ
ることを特徴とする。
【0014】また、請求項2記載の発明は、一対の基板
の一方に液晶材料を滴下し、他方に紫外線硬化型のシー
ル剤を塗布し、該一つの基板を貼り合わせ、前記シール
剤に対応する部分を残して遮光し、紫外線を照射して前
記シール剤を硬化させる液晶表示パネルのシール剤硬化
装置であって、シール剤に対応する部分を残して遮光す
るための紫外線遮光板、及び一方の基板に液晶材料を滴
下し、他方の基板に紫外線硬化型のシール剤を塗布して
貼り合わされた一対の基板を位置決めする位置決め手段
と、前記紫外線遮光板及び一対の基板を、前記位置決め
位置から重ね合わせ位置まで搬送する搬送手段と、該重
ね合わせ位置における前記紫外線遮光板及び一対の基板
の位置データを記憶する記憶手段と、該記憶手段に記憶
された前記紫外線遮光板及び一対の基板の位置データを
比較して前記一対の基板または前記紫外線遮光板の位置
を調整する調整手段と、重ね合わされた一対の基板及び
紫外線遮光板に紫外線を照射して前記他方の基板に塗布
されたシール剤を硬化させる紫外線照射手段と、装置全
体を制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【0015】そして、請求項1または請求項2記載の液
晶表示パネルのシール剤硬化方法または硬化装置によれ
ば、一対の基板及び紫外線遮光板を位置決めして重ね合
わせ位置まで搬送して両者を重ね合わせ、重ね合わせ位
置における両者の位置データを記憶し、これらの位置デ
ータを比較して両者の位置を調整することができるた
め、紫外線遮光板の重ね合わせ時のずれを最小限に抑え
ることができ、液晶表示パネルの品質のばらつきを低減
することができる。また、一対の基板及び紫外線遮光板
の位置決めから重ね合わせまでの工程を自動化すること
により、1台のシール剤硬化装置により液晶表示パネル
を量産することができる。
【0016】請求項3記載の発明は、請求項2記載の液
晶表示パネルのシール剤硬化装置において、前記搬送手
段は、前記一対の基板を保持する保持板を備え、該保持
板は、内部に前記一対の基板の加熱冷却手段を備えるこ
とを特徴とする。
【0017】請求項3記載の発明によれば、保持板の内
部に設けた加熱冷却手段によって一対の基板を加熱冷却
することにより、紫外線照射時に発生する基板の温度上
昇の際、基板の表裏で約5℃以上の温度差を生じさせな
いようにすることができるため、貼り合わせた一対の基
板間のずれを防止することができる。
【0018】請求項4記載の発明は、請求項2記載の液
晶表示パネルのシール剤硬化装置において、前記紫外線
照射手段は、紫外線光量計と、紫外線発光ランプから前
記一対の基板に照射される紫外線の光量を調整する補助
ミラーとを備え、前記紫外線光量計によって測定される
紫外線光量に応じて前記補助ミラーの位置を調整するこ
とを特徴とする。
【0019】請求項4記載の発明によれば、紫外線光量
計によって測定される紫外線光量に応じて補助ミラーの
位置を調整することにより、一定の紫外線の照度分布が
得られ、液晶表示パネルの品質を向上させることができ
る。また、広範囲のエリアを照射できるように紫外線照
射装置のランプを複数灯使用した場合でも、紫外線照射
部の内部に各々のランプに反応する紫外線光量計を設置
することにより、紫外線照射面の照度を一定にすること
ができる。紫外線照射装置のランプから発生する紫外線
の照度を紫外線光量計で感知し、照度設定値との差分を
紫外線照射装置の制御にフィードバックすることで粗調
整を行い、微調整として補助ミラーの一部の角度を可変
とすることで常に一定の照度を得ることもできる。
【0020】請求項5記載の発明は、請求項2記載の液
晶表示パネルのシール剤硬化装置において、前記記憶手
段は、前記一対の基板及び前記紫外線遮光板を重ね合わ
せる前と重ね合わせた後で、各々に配置したアライメン
トマークを読み取る撮像手段を備えることを特徴とす
る。
【0021】請求項5記載の発明によれば、一対の基板
及び紫外線遮光板にアライメントマークを配置し、両者
を重ね合わせる前と重ね合わせた後でアライメントマー
クを読み取ることにより、重ね合わせ状態を確認するこ
とができる。
【0022】請求項6記載の発明は、請求項2乃至5の
いずれかに記載の液晶表示パネルのシール剤硬化装置に
おいて、前記紫外線遮光板の前記基板との接触面に紫外
線を遮光する遮光膜を成膜して該遮光膜の断面形状を溝
型とするか、または、前記紫外線遮光板と前記基板との
間にスペーサを介装したことを特徴とする。
【0023】請求項6記載の発明によれば、紫外線遮光
板の遮光膜の断面形状を溝型とするか、紫外線遮光板の
前記基板との間にスペーサを介装したため、基板と紫外
線遮光板との間に空気の巡回層ができ、基板と紫外線遮
光板とが吸着状態(真空状態)になって分離が困難にな
ることを防止することができる。
【0024】請求項7記載の発明によれば、請求項2乃
至6のいずれかに記載の液晶表示パネルのシール剤硬化
装置において、前記位置決め手段における前記紫外線遮
光板の位置決め位置を複数設けたことを特徴とする。
【0025】請求項7記載の発明によれば、複数の紫外
線遮光板の位置決め位置を設けたため、液晶表示パネル
の生産途中での品種を切り替える必要性が生じた場合で
も容易に対応することができる。
【0026】
【発明の実施の形態】次に、本発明にかかる液晶表示パ
ネルのシール剤硬化方法及び硬化装置の実施の形態の具
体例を図面を参照しながら説明する。
【0027】図1は、本発明にかかる液晶表示パネルの
シール剤硬化装置の一実施例を示し、このシール剤硬化
装置は、大きく分けて、基板1をころを介して搬送する
ローダ部30と、アライメント機能を有し、基板1と、
この基板1の表示エリア1f(図11参照)への紫外線
による影響を防ぐためのマスク2とを重ね合わせた状態
でクランプする搬送部70と、基板1とマスク2を個別
にX、Y方向に位置決めする位置決め部50と、ローダ
部30と搬送部70との間で基板1を搬送するととも
に、マスク2のための位置決め部50と搬送部70との
間でマスク2を搬送するハンドラ部40と、基板1とマ
スク2のアライメントマーク1e、2c(図11参照)
を読み取るカメラ部60と、基板1とマスク2とを重ね
合わせた状態で紫外線を照射する紫外線の照射部80
と、紫外線の照射が終了した基板をカセット内に収納す
るアンローダ部90とで構成される。
【0028】次に、図2乃至図7を参照しながら各機構
部について詳細に説明する。
【0029】ローダ部30は、図2に示すように、モー
タ32と、このモータ32の動力をベルトを介してころ
31に伝達してコンベア方式にて基板1を搬送するコン
ベア部30aと、同様のコンベア機能を備え、基板1の
巾方向をクランプするクランプシリンダ33と、基板1
を水平方向に反転させる反転シリンダ34を備えた反転
部30bとで構成される。
【0030】図3に示すように、ハンドラ部40は、基
板1(図1参照)を吸着するパッド43と、パッド43
を上下移動させる上下シリンダ42と、基板1及びマス
ク2(図11参照)の移動手段としてパルスモータ駆動
のスライダ41とで構成され、基板1をローダ部30
(図2参照)の反転部30b側のクランプ位置と搬送部
70(図5参照)の保持板73との間で、また、マスク
2を位置決め部50のマスク2側の位置決め位置と搬送
部70の保持板73との間で吸着搬送する。
【0031】位置決め部50は、図4に示すように、マ
スクステージ53上のマスク2をシリンダ52によって
駆動される回転自在なローラ51によって外形位置決め
する機構と、搬送部70(図5参照)の保持板73上の
基板1をシリンダ52で駆動される回転自在なローラ5
1によって外形位置決めする機構とで構成される。
【0032】図4に示すように、カメラ部60は、XY
Z方向の微調整ができるXYZステージ61の上に画像
処理のカメラ62が取り付けられ、カメラ62にレンズ
63が取り付けられ、レンズ63によって平面画像を取
り込む。同様の構成で2ヶ所にカメラ部60が設置さ
れ、基板1及びマスク2のアライメントマーク2c(図
11参照)の位置データを取り込む。本実施例では、カ
メラ62を水平方向に並置した例を示したが、垂直方向
に並置してもよい。
【0033】図5及び図6に示すように、搬送部70
は、基板1側の位置決め位置から紫外線照射部80の照
射位置まで、基板1及びマスク2を搬送するスライドテ
ーブル71と、このスライドテーブル71の上に取り付
けられ、カメラ部60で取り込んだアライメントデータ
によってXYθ方向に移動するXYθステージ72と、
XYθステージ72の上に設けられ、加熱冷却機能を有
する保持板73とで構成される。加熱冷却機能は、ヒー
タと恒温水による温度コントロール、またはSMC製の
加熱冷却板による制御によって発揮される。また、保持
板73は、基板1を吸着保持するための吸着孔が穿設さ
れた吸着板73aと、加熱冷却機能を有する放熱板73
bとで構成される。放熱板73bの加熱冷却機能は、ヒ
ータ73cと恒温水配管73d内を流れる恒温水による
温度制御、またはSMC製の加熱冷却板による制御によ
って発揮される。また、保持板73の上で吸着保持した
基板1の上にマスク2をハンドラ部40で重ね合わせた
後マスク2を保持するための爪75と、爪75を移動さ
せるクランプシリンダ74とが設けられる。
【0034】図7及び図8に示すように、紫外線照射部
80は、搬送部70の走行位置に開口エリアを備えるボ
ックス81と、このボックス81の開口エリアを塞ぐよ
うに上下移動するシャッター82と、シャッター82の
駆動源としてのシリンダ83と、ボックス81の内部に
配置され、紫外線発光ランプ84aを装備した紫外線灯
具84と、紫外線灯具84より発光する紫外線の不要な
波長域をカットするフィルタボックス85と、照射エリ
アに均一な紫外線照度を与えるための補助ミラー86
と、補助ミラー86の下部に図8(a)の矢印方向に回
転可能に支持され、パルスモータ88によって駆動され
る可動ミラー87と、補助ミラー86の下面に設けられ
た紫外線光量計89とで構成される。
【0035】図9に示すように、アンローダ部90は、
基板1(図11参照)のための収納カセット5を保持す
る受け台91と、受け台91を固定し図示しないパルス
モータによって駆動されるZスライダ92と、ローダ部
30(図2参照)の反転部30b側のころ31と同一高
さに配置されたころ94にモータ95の動力をベルトに
よって伝達するコンベア部93とで構成され、基板1の
収納は、カセット5の上段より順次行われる。
【0036】次に、上記構成を有するシール剤硬化装置
の動作について図10を中心に参照しながら説明する。
【0037】まず、ステップS1において、図9(a)
に示す受け台91上にカセット5をセットした後、Zス
ライダ92によってカセット5の最上段位置がころ94
の搬送位置になるように受け台91を下降させる。
【0038】次に、ステップS2において、図4に示す
ように、マスクステージ53の上にセットしたマスク2
を、シリンダ52によって駆動される回転自在なローラ
51によって外形位置決めする。そして、図3のハンド
ラ部40のパッド43によってマスク2を図5に示す搬
送部70の保持板73上に搬送する。この状態で保持板
73がマスク2を吸着保持した後、図4のカメラ部60
のカメラ62によってマスク2のアライメントマーク2
cの位置を画像処理し、アライメントマーク2cの重心
点かパターンマッチングによってXY座標の位置データ
を取り込む。このとき、面積データも一緒に取り込む。
アライメントマーク2cの位置が読み取られたマスク2
は、前記動作の逆の動作によって元の位置に戻り、外形
位置決めされる。
【0039】次に、ステップS3において、図2のコン
ベア部30aのころ31の上に投入した基板1を、モー
タ32の駆動によって反転部30bの所定位置まで搬送
し、クランプシリンダ33によって基板1の巾方向をク
ランプする。その後、図3のハンドラ部40のパッド4
3によって図5の搬送部70の保持板73上に搬送す
る。図4において、基板1をシリンダ52によって駆動
される回転自在なローラ51によって外形位置決めを行
い、図5の保持板73によって基板1を吸着保持する。
【0040】そして、ステップS4において、図4のカ
メラ部60のカメラ62によって基板1のアライメント
マーク1eの位置を画像処理し、アライメントマーク1
eの重心点によってXY座標の位置データを取り込む。
次に、前記マスク2のアライメントマーク位置との差分
だけ、図5のXYθステージ72によって基板1をXY
θ方向に移動させる。
【0041】次に、ステップS5において、アライメン
ト動作の終了した基板1上に外形位置決めをしたマスク
2を図3のハンドラ部40のパッド43によって搬送し
て重ね合わせる。そして、ステップS6において、この
状態で、図5のクランプシリンダ74で駆動される爪7
5によってマスク2をクランプする。図4のカメラ部6
0のカメラ62によって、基板1とマスク2が重ね合わ
された状態(図11(c)参照)のアライメントマーク
1e、2cの画像処理を行う。マスク2のアライメント
マーク2cにマスクをかけた時の面積データとマスク2
のアライメント動作によって取り込んだ面積データとを
比較し、面積の増加によって基板1とマスク2の重ね合
わせ位置を確認する。例えば、重ね合わせ状態が図11
(d)の状態であった場合には、基板1のアライメント
マーク1eの形状が丸形から丸形の下側が削られた形状
になる。すなわち、面積データが減少しているので、基
板1とマスク2の重ね合わせがずれたことになる。
【0042】ステップS6において基板1とマスク2と
が良好に重ね合わされている場合には、ステップS7に
移動し、基板1を図5の搬送部70のスライドテーブル
71によって紫外線照射位置まで移動し、図7のシリン
ダ83で駆動されるシャッター82を下降させ、紫外線
照射時に紫外線の漏れを防ぐ。紫外線照射位置に移動し
た基板1に、事前に設定された積算光量値(または照射
時間)に達するまで紫外線照射部80の紫外線灯具84
によって紫外線を照射する。補助ミラー86の側面に取
り付けた紫外線光量計89によって1秒毎の照度値を測
定し、基板1のシール剤1bが未硬化になることを防止
する。
【0043】また、紫外線照射時に発生する温度上昇に
合わせて加熱冷却機能を有する保持板73によって基板
1の吸着面側を温め、基板1の表裏の温度差をなくして
いる。照度分布は、紫外線灯具84の配置によって多少
の違いは発生するが、図8(a)の状態のように補助ミ
ラー86と可動ミラー87の内面が同一位置の場合、そ
の照度分布は、図8(b)のようになり、両端(紫外線
発光ランプ84aと平行な方向)で照度が中心より高い
傾向になる。この現象は、可動ミラー87の部分で反射
する紫外線が、基板1の両端部分に集光するためと考え
られる。図8(a)の矢印方向にパルスモータ88によ
って可動ミラー87を移動させ紫外線の集光を減らす動
作をすることで図8(d)の照度分布が得られ、約5%
の改善が達成される。
【0044】次に、ステップS8において、重ね合わせ
た基板1、マスク2を、図5の搬送部70のスライドテ
ーブル71によって元の位置に戻し、爪75を元の位置
に戻し、マスク2を図3のハンドラ部40によって、図
4の位置決め部50のマスクステージ53上に戻す。そ
して、マスク2を、位置決め部50のローラ51によっ
て外形位置決めする。マスク2を分離する際に、マスク
2の遮光膜2bの形状が複数の溝型になっていることで
基板1との間に空気の層ができ分離しやすくなってい
る。また、図11(b)に示したスペーサ2dを基板1
とマスク2との間に介装することによって同様の効果を
得ることができる。
【0045】次に、ステップS9において、図5の搬送
部70のXYθステージ72が元の位置に戻った後、マ
スク2を分離した基板1を、図3のハンドラ部40のパ
ッド43によって図2の反転部30bのころ31上に搬
送する。クランプシリンダ33で基板1の巾方向をクラ
ンプし、搬送方向がアンローダ部90(図9参照)の側
に向くように反転シリンダ34によって反転する。反転
部30bのモータ32とアンローダ部90のモータ95
を駆動し、各々のころ31、94を回転し、基板1の搬
送を行い、カセット5に収納する。基板1の収納が終了
すると、Zスライダ92でカセット5を1ピッチ上昇さ
せ、次の基板1の収納に備える。
【0046】尚、上記実施例においては、図11(b)
に示すように、マスク2を基板1に重ね合わせたときに
接触する面にスペーサ2dを塗布するが、耐熱製のテー
プを使用することもできる。この際、テープの厚さは、
0.1mm以下のものが望ましい。テープの貼付位置
は、遮光膜2b内のエリアであればどこでもよいが、図
5の搬送部70の爪75がクランプしたときにガラス2
aが割れない位置にするのが望ましい。
【0047】また、図1のマスク2の位置決め位置を複
数設置することにより、品種の混在生産が可能になる。
設置方向は、ハンドラ40の搬送方向が望ましいが、そ
の直角方向でもよい。これは、直角方向に移動するスラ
イダを設置することで可能になる。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる液
晶表示パネルのシール剤硬化方法及び硬化装置によれ
ば、貼り合わせた一対の基板間のずれの防止、一定の紫
外線の照度分布、基板とマスクとの容易な分離等が可能
となり、液晶パネル等の生産効率を向上させ、品質を向
上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるシール剤硬化装置の一実施例を
示す斜視図である。
【図2】図1のシール剤硬化装置のローダ部を示す斜視
図である。
【図3】図1のシール剤硬化装置のハンドラ部を示す斜
視図である。
【図4】図1のシール剤硬化装置の位置決め部及びカメ
ラ部を示す斜視図である。
【図5】図1のシール剤硬化装置の搬送部を示す斜視図
である。
【図6】(a)は図5の搬送部を示す断面図、(b)は
(a)の放熱板を示す断面図である。
【図7】図1のシール剤硬化装置の紫外線照射部を示す
斜視図である。
【図8】(a)は図7の紫外線照射部を示す断面図、
(b)は(a)の状態での照度分布を示すグラフ、
(c)は図7の紫外線照射部の可動ミラーの動作説明
図、(d)は(c)の状態での照度分布を示すグラフで
ある。
【図9】図1のシール剤硬化装置のアンローダ部を示す
斜視図である。
【図10】図1のシール剤硬化装置の動作フローを示す
図である。
【図11】本発明にかかるシール剤硬化装置で取り扱う
基板及びマスクを示す図であって、(a)は基板の平面
図、(b)はマスクの平面図、(c)及び(d)は基板
及びマスクのアライメントマークを示す平面図、(e)
は(b)の部分拡大図である。
【図12】従来の液晶表示パネルの滴下工法を説明する
ための製造工程図である。
【図13】従来のシール剤硬化装置の一例を示す構成図
である。
【図14】従来のシール剤硬化装置の他の例を示す断面
図である。
【符号の説明】
1 基板 1a 基板 1b シール剤 1c 液晶材料 1d 基板 1e アライメントマーク 1f 表示エリア 2 マスク 2a ガラス 2b 遮光膜 2c アライメントマーク 2d スペーサ 5 収納カセット 30 ローダ部 30a コンベア部 30b 反転部 31 ころ 32 モータ 33 クランプシリンダ 34 反転シリンダ 40 ハンドラ部 41 スライダ 42 上下シリンダ 43 パッド 50 位置決め部 51 ローラ 52 シリンダ 53 マスクステージ 60 カメラ部 61 XYZステージ 62 カメラ 63 レンズ 70 搬送部 71 スライドテーブル 72 XYθステージ 73 保持板 73a 吸着板 73b 放熱板 73c ヒータ 73d 恒温水配管 74 クランプシリンダ 75 爪 80 紫外線照射部 81 ボックス 82 シャッター 83 シリンダ 84 紫外線灯具 84a 紫外線発光ランプ 85 フィルタボックス 86 補助ミラー 87 可動ミラー 88 パルスモータ 89 紫外線光量計 90 アンローダ部 91 受け台 92 Zスライダ 93 コンベア部 94 ころ 95 モータ
フロントページの続き Fターム(参考) 2H088 FA01 FA03 FA04 FA16 FA17 FA24 FA30 GA01 HA01 HA03 MA20 2H089 NA05 NA37 NA39 NA44 NA45 NA60 QA12 QA16 TA01 TA04 TA06 TA13

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の基板の一方に液晶材料を滴下し、
    他方に紫外線硬化型のシール剤を塗布し、該一対の基板
    を貼り合わせ、前記シール剤に対応する部分を残して遮
    光し、紫外線を照射して前記シール剤を硬化させる液晶
    表示パネルのシール剤硬化方法において、 シール剤に対応する部分を残して遮光するための紫外線
    遮光板を位置決めして重ね合わせ位置まで搬送し、該重
    ね合わせ位置における該紫外線遮光板の位置データを記
    憶して前記位置決め位置まで搬送し、 一方の基板に液晶材料を滴下し、他方の基板に紫外線硬
    化型のシール剤を塗布して貼り合わされた一対の基板を
    位置決めして重ね合わせ位置まで搬送し、該重ね合わせ
    位置における該一対の基板の位置データを記憶し、 該重ね合わせ位置における前記一対の基板の位置データ
    と前記紫外線遮光板の位置データとを比較して該重ね合
    わせ位置における前記一対の基板の位置を調整し、 該重ね合わせ位置における前記一対の基板に、前記紫外
    線遮光板を前記位置決め位置から該重ね合わせ位置まで
    搬送して重ね合わせ、 該重ね合わされた一対の基板及び紫外線遮光板に紫外線
    を照射して前記他方の基板に塗布されたシール剤を硬化
    させることを特徴とする液晶表示パネルのシール剤硬化
    方法。
  2. 【請求項2】 一対の基板の一方に液晶材料を滴下し、
    他方に紫外線硬化型のシール剤を塗布し、該一つの基板
    を貼り合わせ、前記シール剤に対応する部分を残して遮
    光し、紫外線を照射して前記シール剤を硬化させる液晶
    表示パネルのシール剤硬化装置であって、 シール剤に対応する部分を残して遮光するための紫外線
    遮光板、及び一方の基板に液晶材料を滴下し、他方の基
    板に紫外線硬化型のシール剤を塗布して貼り合わされた
    一対の基板を位置決めする位置決め手段と、 前記紫外線遮光板及び一対の基板を、前記位置決め位置
    から重ね合わせ位置まで搬送する搬送手段と、 該重ね合わせ位置における前記紫外線遮光板及び一対の
    基板の位置データを記憶する記憶手段と、 該記憶手段に記憶された前記紫外線遮光板及び一対の基
    板の位置データを比較して前記一対の基板または前記紫
    外線遮光板の位置を調整する調整手段と、 重ね合わされた一対の基板及び紫外線遮光板に紫外線を
    照射して前記他方の基板に塗布されたシール剤を硬化さ
    せる紫外線照射手段と、 装置全体を制御する制御手段とを備えることを特徴とす
    る液晶表示パネルのシール剤硬化装置。
  3. 【請求項3】 前記搬送手段は、前記一対の基板を保持
    する保持板を備え、該保持板は、内部に前記一対の基板
    の加熱冷却手段を備えることを特徴とする請求項2記載
    の液晶表示パネルのシール剤硬化装置。
  4. 【請求項4】 前記紫外線照射手段は、紫外線光量計
    と、紫外線発光ランプから前記一対の基板に照射される
    紫外線の光量を調整する補助ミラーとを備え、前記紫外
    線光量計によって測定される紫外線光量に応じて前記補
    助ミラーの位置を調整することを特徴とする請求項2記
    載の液晶表示パネルのシール剤硬化装置。
  5. 【請求項5】 前記記憶手段は、前記一対の基板及び前
    記紫外線遮光板を重ね合わせる前と重ね合わせた後で、
    各々に配置したアライメントマークを読み取る撮像手段
    を備えることを特徴とする請求項2記載の液晶表示パネ
    ルのシール剤硬化装置。
  6. 【請求項6】 前記紫外線遮光板の前記基板との接触面
    に紫外線を遮光する遮光膜を成膜して該遮光膜の断面形
    状を溝型とするか、または、前記紫外線遮光板と前記基
    板との間にスペーサを介装したことを特徴とする請求項
    2乃至5のいずれかに記載の液晶表示パネルのシール剤
    硬化装置。
  7. 【請求項7】 前記位置決め手段における前記紫外線遮
    光板の位置決め位置を複数設けたことを特徴とする請求
    項2乃至6のいずれかに記載の液晶表示パネルのシール
    剤硬化装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006235617A (ja) * 2005-01-28 2006-09-07 Shibaura Mechatronics Corp 紫外光照射装置及び照射方法、基板製造装置及び基板製造方法
KR100780367B1 (ko) 2006-12-22 2007-11-30 (주)리드 액정표시패널용 기판의 밀봉재 경화장치 및 이를 이용한경화방법
WO2008081518A1 (ja) * 2006-12-27 2008-07-10 Nagase & Co., Ltd. スペーサの配置方法
KR100847292B1 (ko) * 2007-01-15 2008-07-21 (주)리드 액정표시패널용 기판의 밀봉재 열 경화시스템 및 이를이용한 경화방법
WO2012134007A1 (ko) * 2011-03-25 2012-10-04 Han Dong Hee 패널 접착장치 및 패널 접착방법
KR20200141644A (ko) * 2019-06-11 2020-12-21 세메스 주식회사 약액 경화 장치
CN114890221A (zh) * 2022-05-17 2022-08-12 广东立迪智能科技有限公司 一种背光模组覆膜设备

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61216387A (ja) * 1985-03-22 1986-09-26 株式会社日立製作所 セラミツク基板等の印刷方法
JPH03157615A (ja) * 1989-11-15 1991-07-05 Shinetsu Eng Kk 液晶表示板用ガラス基板の貼合せ方法及びその貼合せ装置
JPH03163515A (ja) * 1989-11-22 1991-07-15 Toshiba Corp 位置決め装置
JPH05232481A (ja) * 1992-02-20 1993-09-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
JPH06308474A (ja) * 1993-04-21 1994-11-04 Seiko Epson Corp 液晶表示素子の製造方法及び装置
JPH08304836A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Hitachi Electron Eng Co Ltd 紫外線によるシール材硬化装置
JPH0961829A (ja) * 1995-08-21 1997-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH0973096A (ja) * 1995-09-05 1997-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH11326857A (ja) * 1998-05-13 1999-11-26 Toshiba Corp 基板の組立て装置及び組立て方法
JP2000100685A (ja) * 1998-09-17 2000-04-07 Nikon Corp 露光装置及び該装置を用いた露光方法
JP2000193986A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Seiko Epson Corp 液晶装置の製造方法および製造装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61216387A (ja) * 1985-03-22 1986-09-26 株式会社日立製作所 セラミツク基板等の印刷方法
JPH03157615A (ja) * 1989-11-15 1991-07-05 Shinetsu Eng Kk 液晶表示板用ガラス基板の貼合せ方法及びその貼合せ装置
JPH03163515A (ja) * 1989-11-22 1991-07-15 Toshiba Corp 位置決め装置
JPH05232481A (ja) * 1992-02-20 1993-09-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
JPH06308474A (ja) * 1993-04-21 1994-11-04 Seiko Epson Corp 液晶表示素子の製造方法及び装置
JPH08304836A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Hitachi Electron Eng Co Ltd 紫外線によるシール材硬化装置
JPH0961829A (ja) * 1995-08-21 1997-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH0973096A (ja) * 1995-09-05 1997-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH11326857A (ja) * 1998-05-13 1999-11-26 Toshiba Corp 基板の組立て装置及び組立て方法
JP2000100685A (ja) * 1998-09-17 2000-04-07 Nikon Corp 露光装置及び該装置を用いた露光方法
JP2000193986A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Seiko Epson Corp 液晶装置の製造方法および製造装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006235617A (ja) * 2005-01-28 2006-09-07 Shibaura Mechatronics Corp 紫外光照射装置及び照射方法、基板製造装置及び基板製造方法
KR100780367B1 (ko) 2006-12-22 2007-11-30 (주)리드 액정표시패널용 기판의 밀봉재 경화장치 및 이를 이용한경화방법
WO2008081518A1 (ja) * 2006-12-27 2008-07-10 Nagase & Co., Ltd. スペーサの配置方法
KR100847292B1 (ko) * 2007-01-15 2008-07-21 (주)리드 액정표시패널용 기판의 밀봉재 열 경화시스템 및 이를이용한 경화방법
WO2012134007A1 (ko) * 2011-03-25 2012-10-04 Han Dong Hee 패널 접착장치 및 패널 접착방법
KR20200141644A (ko) * 2019-06-11 2020-12-21 세메스 주식회사 약액 경화 장치
KR102232034B1 (ko) 2019-06-11 2021-03-25 세메스 주식회사 약액 경화 장치
CN114890221A (zh) * 2022-05-17 2022-08-12 广东立迪智能科技有限公司 一种背光模组覆膜设备

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