JP2000066418A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
露光装置及び露光方法Info
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- JP2000066418A JP2000066418A JP10230643A JP23064398A JP2000066418A JP 2000066418 A JP2000066418 A JP 2000066418A JP 10230643 A JP10230643 A JP 10230643A JP 23064398 A JP23064398 A JP 23064398A JP 2000066418 A JP2000066418 A JP 2000066418A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 生産効率を低下させることがなく、回路パタ
ーンの歪み量を少なくして、回路基板の不良率を下げる
ことを可能とする。 【解決手段】 感光性のある基板１２０に、原版フィル
ム１１０に設けられた複数の回路パターン１２１，１２
２を露光する露光装置において，基板１２０と原版フィ
ルム１１０とを、回路パターン毎に整合する整合装置２
０と，回路パターン毎に露光する光源１１と，光源１１
の露光エリアを移動する露光エリア移動手段３０を備え
ている。
ーンの歪み量を少なくして、回路基板の不良率を下げる
ことを可能とする。 【解決手段】 感光性のある基板１２０に、原版フィル
ム１１０に設けられた複数の回路パターン１２１，１２
２を露光する露光装置において，基板１２０と原版フィ
ルム１１０とを、回路パターン毎に整合する整合装置２
０と，回路パターン毎に露光する光源１１と，光源１１
の露光エリアを移動する露光エリア移動手段３０を備え
ている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性のある基板
に、原版に設けられた複数の回路パターンを露光する露
光装置及び露光方法に関するものである。
に、原版に設けられた複数の回路パターンを露光する露
光装置及び露光方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来の露光装置の一例を示す図
である。従来の露光装置１００は、超高圧水銀ランプな
どの光源１０１と、光源１０１から発生した光を平行光
にするコレクタミラー１０２と、コレクタミラー１０２
で反射された光を拡散するインテグレータ１０３と、イ
ンテグレータ１０３からの光を、基板１１０側に導く凹
面鏡であるコリメータミラー１０４等から構成され、原
版フィルム１１０の回路パターンを、感光性のある基板
１２０に密着露光によって、転写していた。
である。従来の露光装置１００は、超高圧水銀ランプな
どの光源１０１と、光源１０１から発生した光を平行光
にするコレクタミラー１０２と、コレクタミラー１０２
で反射された光を拡散するインテグレータ１０３と、イ
ンテグレータ１０３からの光を、基板１１０側に導く凹
面鏡であるコリメータミラー１０４等から構成され、原
版フィルム１１０の回路パターンを、感光性のある基板
１２０に密着露光によって、転写していた。
【０００３】基板１２０は、エッチング工程その他の工
程において、生産効率を向上させるために、例えば、図
５（ｂ）に示すように、４つの同一の単位回路パターン
１２１〜１２４を、１回の露光で、同時に転写するよう
にしていた（４面付け）。したがって、基板１２０のサ
イズ（Ａ×Ｂ，例えば、１×１ｍ）と、露光エリア（ａ
×ｂ）とは、一致していた。そして、基板１２０は、回
路パターンが形成された後に、仮想線Ｃの位置で切断し
て使用される。
程において、生産効率を向上させるために、例えば、図
５（ｂ）に示すように、４つの同一の単位回路パターン
１２１〜１２４を、１回の露光で、同時に転写するよう
にしていた（４面付け）。したがって、基板１２０のサ
イズ（Ａ×Ｂ，例えば、１×１ｍ）と、露光エリア（ａ
×ｂ）とは、一致していた。そして、基板１２０は、回
路パターンが形成された後に、仮想線Ｃの位置で切断し
て使用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した従来
の露光装置は、光源１０１からの熱によって、原版フィ
ルム１１０の回路パターンや基板１２０の材料に熱変形
が発生し、その熱変形のムラによって、基板１２０に作
製された回路パターンが歪んでしまう、という問題があ
った。特に、最近の回路パターンは、５０μｍピッチ以
下の微細なものが多くなり、また、回路基板は、各基板
ごとに異なる回路パターンが多層に積層されることが多
いので、ぞれぞれの誤差が積算され、不良率が高くなっ
てしまう。
の露光装置は、光源１０１からの熱によって、原版フィ
ルム１１０の回路パターンや基板１２０の材料に熱変形
が発生し、その熱変形のムラによって、基板１２０に作
製された回路パターンが歪んでしまう、という問題があ
った。特に、最近の回路パターンは、５０μｍピッチ以
下の微細なものが多くなり、また、回路基板は、各基板
ごとに異なる回路パターンが多層に積層されることが多
いので、ぞれぞれの誤差が積算され、不良率が高くなっ
てしまう。
【０００５】本発明の課題は、生産効率を低下させるこ
とがなく、回路パターンの歪み量を少なくして、回路基
板の不良率を下げることができる露光装置及び露光方法
を提供することである。
とがなく、回路パターンの歪み量を少なくして、回路基
板の不良率を下げることができる露光装置及び露光方法
を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項１の発明は、感光性のある基板に、原版に設
けられた複数の回路パターンを露光する露光装置であっ
て，前記基板と前記原版とを、前記回路パターン毎に整
合する整合手段と，前記回路パターン毎に露光を行う光
源と，を備えたことを特徴とする露光装置である。
に、請求項１の発明は、感光性のある基板に、原版に設
けられた複数の回路パターンを露光する露光装置であっ
て，前記基板と前記原版とを、前記回路パターン毎に整
合する整合手段と，前記回路パターン毎に露光を行う光
源と，を備えたことを特徴とする露光装置である。
【０００７】請求項２の発明は、請求項１に記載の露光
装置において、前記光源の露光エリアを移動する露光エ
リア移動手段を備えたことを特徴とする露光装置であ
る。請求項３の発明は、請求項２に記載の露光装置にお
いて、前記原版は、前記複数の回路パターンが前記基板
の搬送方向と直交する方向に設けられており、前記露光
エリア移動手段は、前記搬送方向と直交する方向に、前
記露光エリアを移動することを特徴とする露光装置であ
る。
装置において、前記光源の露光エリアを移動する露光エ
リア移動手段を備えたことを特徴とする露光装置であ
る。請求項３の発明は、請求項２に記載の露光装置にお
いて、前記原版は、前記複数の回路パターンが前記基板
の搬送方向と直交する方向に設けられており、前記露光
エリア移動手段は、前記搬送方向と直交する方向に、前
記露光エリアを移動することを特徴とする露光装置であ
る。
【０００８】請求項４の発明は、感光性のある基板に、
原版に設けられた単一の回路パターンを複数露光する露
光装置であって，前記原版を露光毎に移動する原版移動
手段と，前記基板と前記原版とを、前記露光毎に整合す
る整合手段と，前記露光を行う光源と，を備えたことを
特徴とする露光装置である。
原版に設けられた単一の回路パターンを複数露光する露
光装置であって，前記原版を露光毎に移動する原版移動
手段と，前記基板と前記原版とを、前記露光毎に整合す
る整合手段と，前記露光を行う光源と，を備えたことを
特徴とする露光装置である。
【０００９】請求項５の発明は、請求項１又は請求項４
に記載の露光装置において、前記光源は、固定された発
光部と，前記発光部から発光した光束の光軸を変化させ
る光軸変化部と，を備えたことを特徴とする露光装置で
ある。
に記載の露光装置において、前記光源は、固定された発
光部と，前記発光部から発光した光束の光軸を変化させ
る光軸変化部と，を備えたことを特徴とする露光装置で
ある。
【００１０】請求項６の発明は、感光性のある基板に、
原版に設けられた単一又は複数の回路パターンを露光す
る露光方法であって、前記基板と前記原版とを、前記回
路パターン又は露光毎に整合することを特徴とする露光
方法である。
原版に設けられた単一又は複数の回路パターンを露光す
る露光方法であって、前記基板と前記原版とを、前記回
路パターン又は露光毎に整合することを特徴とする露光
方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、本発明
の実施の形態について、さらに詳しくに説明する。 （第１実施形態）図１は、本発明による露光装置の第１
実施形態を示す図である。第１実施形態の露光装置１０
は、光源１１と、後述する移動機構２５，２６によって
上下に移動可能な支持枠１２と、支持枠１２に支持さ
れ、原版フィルム１１０を貼付するアクリル等からなる
透明板１３と、基板１２０を真空吸着などの方法で保持
して搬送するキャリアテーブル１４と、キャリアテーブ
ル１４を搬送方向Ｙに移動させる移動機構１５と、原版
フィルム１１０と基板１２０とを整合（精密位置決め）
する整合装置２０と、光源１１からの露光エリアを変更
する露光エリア変更装置３０等とを備えている。
の実施の形態について、さらに詳しくに説明する。 （第１実施形態）図１は、本発明による露光装置の第１
実施形態を示す図である。第１実施形態の露光装置１０
は、光源１１と、後述する移動機構２５，２６によって
上下に移動可能な支持枠１２と、支持枠１２に支持さ
れ、原版フィルム１１０を貼付するアクリル等からなる
透明板１３と、基板１２０を真空吸着などの方法で保持
して搬送するキャリアテーブル１４と、キャリアテーブ
ル１４を搬送方向Ｙに移動させる移動機構１５と、原版
フィルム１１０と基板１２０とを整合（精密位置決め）
する整合装置２０と、光源１１からの露光エリアを変更
する露光エリア変更装置３０等とを備えている。
【００１２】この実施形態では、原版フィルム１１０
は、搬送方向Ｙと直交する方向Ｘに、２つの同一の回路
パターン１１１，１１２が形成されており、それぞれの
回路パターン１１１，１１２には、整合マークｍ１，ｍ
２と、ｍ３，ｍ４が設けられている。また、基板１１０
は、搬送方向Ｙ及びそれと直交する方向Ｘに、２つ宛、
合計４箇の露光予定エリア１２１〜１２４が設けられ、
それぞれの露光予定エリア１２１〜１２４には、整合マ
ークＭ１，Ｍ２と、Ｍ３，Ｍ４と、Ｍ５，Ｍ６と、Ｍ
７，Ｍ８が設けられている。
は、搬送方向Ｙと直交する方向Ｘに、２つの同一の回路
パターン１１１，１１２が形成されており、それぞれの
回路パターン１１１，１１２には、整合マークｍ１，ｍ
２と、ｍ３，ｍ４が設けられている。また、基板１１０
は、搬送方向Ｙ及びそれと直交する方向Ｘに、２つ宛、
合計４箇の露光予定エリア１２１〜１２４が設けられ、
それぞれの露光予定エリア１２１〜１２４には、整合マ
ークＭ１，Ｍ２と、Ｍ３，Ｍ４と、Ｍ５，Ｍ６と、Ｍ
７，Ｍ８が設けられている。
【００１３】整合装置（整合手段）２０は、支持枠１２
の上方に、原版フィルム１１０の整合マークｍ１，ｍ
２，ｍ３，ｍ４に対応して、４つのＣＣＤカメラ２１，
２２，２３，２４が配置されている。また、支持枠１２
には、左右に移動機構２５，２６が設けられている。移
動機構２５は、支持枠１２の左側をｙ方向に移動させる
機構であり、移動機構２６は、支持枠１２の右側をｘ，
ｙ方向に移動させる機構であり、支持枠１２の中心に対
して、疑似的にｘ，ｙ，θ方向に移動することができ
る。これらの移動機構２５，２６は、ＣＣＤカメラ２
１，２２からの撮像情報に基づいて、例えば、整合マー
クｍ１とＭ１，整合マークｍ２とＭ２とが一致するよう
に移動する。なお、移動機構２５，２６は、整合のため
だけでなく、原版フィルム１１１を基板１２０に密着さ
せるために、ｚ方向にも移動可能である。
の上方に、原版フィルム１１０の整合マークｍ１，ｍ
２，ｍ３，ｍ４に対応して、４つのＣＣＤカメラ２１，
２２，２３，２４が配置されている。また、支持枠１２
には、左右に移動機構２５，２６が設けられている。移
動機構２５は、支持枠１２の左側をｙ方向に移動させる
機構であり、移動機構２６は、支持枠１２の右側をｘ，
ｙ方向に移動させる機構であり、支持枠１２の中心に対
して、疑似的にｘ，ｙ，θ方向に移動することができ
る。これらの移動機構２５，２６は、ＣＣＤカメラ２
１，２２からの撮像情報に基づいて、例えば、整合マー
クｍ１とＭ１，整合マークｍ２とＭ２とが一致するよう
に移動する。なお、移動機構２５，２６は、整合のため
だけでなく、原版フィルム１１１を基板１２０に密着さ
せるために、ｚ方向にも移動可能である。
【００１４】次に、第１実施形態に係る露光装置の露光
方法について説明する。まず、支持枠１２の透明板１３
には、原版フィルム１１０が予め位置決めされて貼付さ
れる。キャリアテーブル１４は、前工程で、基板１１０
が予め粗位置決めされて吸着され、移動機構１５によっ
て、図１（ｂ）の位置まで、移動されている。
方法について説明する。まず、支持枠１２の透明板１３
には、原版フィルム１１０が予め位置決めされて貼付さ
れる。キャリアテーブル１４は、前工程で、基板１１０
が予め粗位置決めされて吸着され、移動機構１５によっ
て、図１（ｂ）の位置まで、移動されている。
【００１５】次に、移動機構２５，２６は、原版フィル
ム１１１の回路パターン１１１と、基板１２０の露光予
定エリア１２１とを、前述したように、整合マークｍ
１，Ｍ１と、整合マークｍ２，Ｍ２とによって整合させ
る。そして、整合が終わると、ｚ方向に移動して、原版
フィルム１１１と基板１２０とを密着させる。
ム１１１の回路パターン１１１と、基板１２０の露光予
定エリア１２１とを、前述したように、整合マークｍ
１，Ｍ１と、整合マークｍ２，Ｍ２とによって整合させ
る。そして、整合が終わると、ｚ方向に移動して、原版
フィルム１１１と基板１２０とを密着させる。
【００１６】ここで、光源１１を発光させて、基板１２
０の露光予定エリア１２１に回路パターン１１１を露光
する。移動機構２５，２６は、露光が終わると、ｚ方向
に移動して、原版フィルム１１１と基板１２０との密着
を解除する。
０の露光予定エリア１２１に回路パターン１１１を露光
する。移動機構２５，２６は、露光が終わると、ｚ方向
に移動して、原版フィルム１１１と基板１２０との密着
を解除する。
【００１７】ついで、露光エリア変更装置３０は、光源
１１をＸ方向に、破線の位置まで移動する。この位置
で、原版フィルム１１０の回路パターン１１２と、基板
１２０の露光予定エリア１２２とに対して、前述と同様
にして、整合、密着、露光、密着解除の動作を行う。
１１をＸ方向に、破線の位置まで移動する。この位置
で、原版フィルム１１０の回路パターン１１２と、基板
１２０の露光予定エリア１２２とに対して、前述と同様
にして、整合、密着、露光、密着解除の動作を行う。
【００１８】この後に、移動機構１５は、基板１２０の
露光予定エリア１２３，１２４が原版フィルム１１０の
位置になるように、Ｙ方向に移動し、前述と同様にし
て、露光予定エリア１２３，１２４を露光する。
露光予定エリア１２３，１２４が原版フィルム１１０の
位置になるように、Ｙ方向に移動し、前述と同様にし
て、露光予定エリア１２３，１２４を露光する。
【００１９】以上説明したように、第１実施形態によれ
ば、基板１２０の露光予定エリアごとに、原版フィルム
１１０の回路パターンとの整合を取って、露光を行うの
で、歪み量を少なくすることができる。また、回路パタ
ーンが１つのみの基板を作製するのに比較して、エッチ
ングなどの他の工程も考慮すれば、多面付けの大型基板
で露光するので、全体としての生産効率を落とすことが
ない。さらに、１枚の基板１２０に対して、４回の露光
を行うが、露光エリアは、ａ１×ｂ１と１／４になるの
で、１回当たりの照射時間は少なくて済み、全体として
の露光時間をあまり延長させることはない。
ば、基板１２０の露光予定エリアごとに、原版フィルム
１１０の回路パターンとの整合を取って、露光を行うの
で、歪み量を少なくすることができる。また、回路パタ
ーンが１つのみの基板を作製するのに比較して、エッチ
ングなどの他の工程も考慮すれば、多面付けの大型基板
で露光するので、全体としての生産効率を落とすことが
ない。さらに、１枚の基板１２０に対して、４回の露光
を行うが、露光エリアは、ａ１×ｂ１と１／４になるの
で、１回当たりの照射時間は少なくて済み、全体として
の露光時間をあまり延長させることはない。
【００２０】（第２実施形態）図２は、第２実施形態に
係る露光装置の露光エリア変更装置を示す図である。な
お、以下に説明する各実施形態では、第１実施形態と同
様な部分には、図示及び説明を適宜省略する。第１実施
形態の露光エリア変更装置３０は、光源１１を移動する
例で説明したが、第２実施形態の露光エリア変更装置３
０Ｂは、光源１１を固定して、可動部分を簡素化したも
のである。露光エリア変更装置３０Ｂは、図２（ａ）に
示すように、光源１１からの照射光を反射するミラー３
１と、ミラー３１で反射した光を拡散させるインテグレ
ータ３２と、インテグレータ３２からの光を、露光エリ
アに導くコリメータミラー３３とを備えている。
係る露光装置の露光エリア変更装置を示す図である。な
お、以下に説明する各実施形態では、第１実施形態と同
様な部分には、図示及び説明を適宜省略する。第１実施
形態の露光エリア変更装置３０は、光源１１を移動する
例で説明したが、第２実施形態の露光エリア変更装置３
０Ｂは、光源１１を固定して、可動部分を簡素化したも
のである。露光エリア変更装置３０Ｂは、図２（ａ）に
示すように、光源１１からの照射光を反射するミラー３
１と、ミラー３１で反射した光を拡散させるインテグレ
ータ３２と、インテグレータ３２からの光を、露光エリ
アに導くコリメータミラー３３とを備えている。
【００２１】露光エリア変更装置３０Ｂでは、図２
（ｂ）に示すように、ミラー３１は、軸３８に固定さ
れ、インテグレータ３２は、枠体３９に固定され、軸３
８に回転自在に支持されている。モータ３４は、ステッ
ピングモータ又はサーボモータ等であって、その出力軸
には、大小のプーリ３５Ａ，３５Ｂが設けられている。
プーリ３５Ａは、軸３８に固定されたプーリ３７Ａに、
ベルト３６Ａで連結されている。また、プーリ３５Ｂ
は、軸３８に回転自在に支持されたプーリ３７Ｂに、ベ
ルト３６Ｂで連結されている。そして、プーリ３７Ｂ
は、枠体３９に固定されている。
（ｂ）に示すように、ミラー３１は、軸３８に固定さ
れ、インテグレータ３２は、枠体３９に固定され、軸３
８に回転自在に支持されている。モータ３４は、ステッ
ピングモータ又はサーボモータ等であって、その出力軸
には、大小のプーリ３５Ａ，３５Ｂが設けられている。
プーリ３５Ａは、軸３８に固定されたプーリ３７Ａに、
ベルト３６Ａで連結されている。また、プーリ３５Ｂ
は、軸３８に回転自在に支持されたプーリ３７Ｂに、ベ
ルト３６Ｂで連結されている。そして、プーリ３７Ｂ
は、枠体３９に固定されている。
【００２２】モータ３４の回転は、プーリ３５Ａ、ベル
ト３６Ａ、プーリ３７Ａ、軸３８を介して、ミラー３１
を回転させる。一方、モータ３４の回転は、プーリ３５
Ｂ、ベルト３６Ｂ、プーリ３７Ｂ、枠体３９を介して、
インテグレータ３２を回転させる。従って、プーリ３５
Ａ，３５Ｂの半径の比に応じて、ミラー３１とインテグ
レータ３２の回転角度が変化する。この実施形態では、
ミラー３１がθ回転すると、インテグレータ３２が２θ
回転するように設定されている。
ト３６Ａ、プーリ３７Ａ、軸３８を介して、ミラー３１
を回転させる。一方、モータ３４の回転は、プーリ３５
Ｂ、ベルト３６Ｂ、プーリ３７Ｂ、枠体３９を介して、
インテグレータ３２を回転させる。従って、プーリ３５
Ａ，３５Ｂの半径の比に応じて、ミラー３１とインテグ
レータ３２の回転角度が変化する。この実施形態では、
ミラー３１がθ回転すると、インテグレータ３２が２θ
回転するように設定されている。
【００２３】従って、図２（ａ）に示すように、第１の
露光エリアＥ１（ａ１×ｂ１）を露光した後に、ミラー
３１をθ、インテグレータ３２を２θだけ回転するよう
にして、破線で示す位置に移動して、第１の露光エリア
Ｅ２（ａ１×ｂ１）を露光することができる。
露光エリアＥ１（ａ１×ｂ１）を露光した後に、ミラー
３１をθ、インテグレータ３２を２θだけ回転するよう
にして、破線で示す位置に移動して、第１の露光エリア
Ｅ２（ａ１×ｂ１）を露光することができる。
【００２４】第２実施形態によれば、光源１１を移動さ
せることなく、ミラー３１とインテグレータ３２を回転
するだけで、露光エリアを容易に変更することができる
ので、構造が非常に簡単になった。
せることなく、ミラー３１とインテグレータ３２を回転
するだけで、露光エリアを容易に変更することができる
ので、構造が非常に簡単になった。
【００２５】（第３実施形態）図３は、第３実施形態に
係る露光装置の露光エリア変更装置を示す機構図であ
る。第３実施形態の露光エリア変更装置３０Ｃは、ミラ
ー３１を、軸３８Ｂを介して駆動するモータ３４Ｂと、
インテグレータ３２を枠体３９，軸３８Ａを介して駆動
するモータ３４Ａとを、別々に設けた点で、第２の実施
形態の露光エリア変更装置３０Ｂと相違する。第３実施
形態によれば、機構が簡単になる上、モータ３４Ａ，モ
ータ３４Ｂを独立に設けたので、制御がしやすくなっ
た。
係る露光装置の露光エリア変更装置を示す機構図であ
る。第３実施形態の露光エリア変更装置３０Ｃは、ミラ
ー３１を、軸３８Ｂを介して駆動するモータ３４Ｂと、
インテグレータ３２を枠体３９，軸３８Ａを介して駆動
するモータ３４Ａとを、別々に設けた点で、第２の実施
形態の露光エリア変更装置３０Ｂと相違する。第３実施
形態によれば、機構が簡単になる上、モータ３４Ａ，モ
ータ３４Ｂを独立に設けたので、制御がしやすくなっ
た。
【００２６】（第４実施形態）図４は、本発明による露
光装置の第４実施形態を示す図である。この実施形態の
露光装置１０Ｄは、単一の回路パターンが形成された原
版フィルム１１０Ｄを貼付した支持枠１２Ｄと、この支
持枠をＸ方向にスライド移動する移動機構２７とを備え
ており、移動機構２７は、光源１１の移動に同期して、
図４の実線の位置から、破線の位置に移動する。整合や
基板の移動等は、第１実施形態と同様である。
光装置の第４実施形態を示す図である。この実施形態の
露光装置１０Ｄは、単一の回路パターンが形成された原
版フィルム１１０Ｄを貼付した支持枠１２Ｄと、この支
持枠をＸ方向にスライド移動する移動機構２７とを備え
ており、移動機構２７は、光源１１の移動に同期して、
図４の実線の位置から、破線の位置に移動する。整合や
基板の移動等は、第１実施形態と同様である。
【００２７】第４実施形態によれば、原版フィルムの作
製が容易となり、コストダウンを図ることができる。
製が容易となり、コストダウンを図ることができる。
【００２８】（変形形態）以上説明した実施形態に限定
されることなく、種々の変形や変更が可能であって、そ
れらも本発明の均等の範囲内である。例えば、露光エリ
アは、４面付けに限らず、６面，８面，９面，・・・付
けなどであってもよい。また、ＣＣＤカメラは、２台に
減らして、移動させるようにしてもよい。図１では、原
版フィルムは、２面付けの例で説明したが、４面付けで
あってもよい。
されることなく、種々の変形や変更が可能であって、そ
れらも本発明の均等の範囲内である。例えば、露光エリ
アは、４面付けに限らず、６面，８面，９面，・・・付
けなどであってもよい。また、ＣＣＤカメラは、２台に
減らして、移動させるようにしてもよい。図１では、原
版フィルムは、２面付けの例で説明したが、４面付けで
あってもよい。
【００２９】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によ
れば、生産効率を低下させることがなく、回路パターン
の歪み量を少なくして、回路基板の不良率を下げること
ができる、という効果がある。
れば、生産効率を低下させることがなく、回路パターン
の歪み量を少なくして、回路基板の不良率を下げること
ができる、という効果がある。
【図１】本発明による露光装置の第１実施形態を示す図
である。
である。
【図２】第２実施形態による露光装置の露光エリア変更
装置を示す図である。
装置を示す図である。
【図３】第３実施形態による露光装置の露光エリア変更
装置を示す図である。
装置を示す図である。
【図４】本発明による露光装置の第４実施形態を示す図
である。
である。
【図５】従来の露光装置の一例を示す図である。
１０ 露光装置 １１ 光源 １２ 支持枠 １３ 透明板 １４ キャリアテーブル １５ 移動機構 ２０ 整合装置 ２１，２２，２３，２４ ＣＣＤカメラ ２５，２６ 移動機構 ２７ 移動機構 ３０ 露光エリア変更装置 １１０ 原版フィルム １２０ 基板
Claims (6)
- 【請求項１】 感光性のある基板に、原版に設けられた
複数の回路パターンを露光する露光装置であって，前記
基板と前記原版とを、前記回路パターン毎に整合する整
合手段と，前記回路パターン毎に露光を行う光源と，を
備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の露光装置において、 前記光源の露光エリアを移動する露光エリア移動手段を
備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の露光装置において、 前記原版は、前記複数の回路パターンが前記基板の搬送
方向と直交する方向に設けられており、 前記露光エリア移動手段は、前記搬送方向と直交する方
向に、前記露光エリアを移動することを特徴とする露光
装置。 - 【請求項４】 感光性のある基板に、原版に設けられた
単一の回路パターンを複数露光する露光装置であって，
前記原版を露光毎に移動する原版移動手段と，前記基板
と前記原版とを、前記露光毎に整合する整合手段と，前
記露光を行う光源と，を備えたことを特徴とする露光装
置。 - 【請求項５】 請求項１又は請求項４に記載の露光装置
において、 前記光源は、 固定された発光部と，前記発光部から発光した光束の光
軸を変化させる光軸変化部と，を備えたことを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項６】 感光性のある基板に、原版に設けられた
単一又は複数の回路パターンを露光する露光方法であっ
て、 前記基板と前記原版とを、前記回路パターン又は露光毎
に整合することを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10230643A JP2000066418A (ja) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | 露光装置及び露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10230643A JP2000066418A (ja) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | 露光装置及び露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000066418A true JP2000066418A (ja) | 2000-03-03 |
Family
ID=16911012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10230643A Pending JP2000066418A (ja) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | 露光装置及び露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000066418A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005321506A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Protec Co Ltd | スクリーンプリンター |
| JP2006349769A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Ono Sokki Co Ltd | 整合装置 |
| CN101887217A (zh) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | 曝光装置 |
| JP2019101361A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 株式会社ユメックス | スキャン式露光装置 |
-
1998
- 1998-08-17 JP JP10230643A patent/JP2000066418A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005321506A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Protec Co Ltd | スクリーンプリンター |
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| CN101887217A (zh) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | 曝光装置 |
| TWI485528B (zh) * | 2009-05-15 | 2015-05-21 | Sanei Giken Co Ltd | Exposure device |
| JP2019101361A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 株式会社ユメックス | スキャン式露光装置 |
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