TWI485528B - Exposure device - Google Patents

Description

曝光裝置

本發明係為了對於每特定長度範圍，將可撓性之帶狀基板進行曝光的曝光裝置。

知道有將至少於單面具有形成感光層於表面的曝光面之可撓性之帶狀基板，間歇性地傳送，於帶狀基板的特定長度範圍，經由通過光罩而照射光之時，將描繪於光罩的圖案(例如電路)，轉印於帶狀基板的特定長度範圍之曝光裝置。在每次間歇性地傳送帶狀基板，帶狀基板之新的特定長度範圍乃佔據對向於光罩的位置，陸續進行曝光作業。

比較於置換預先切斷成特定長度之薄板狀的基板同時而進行曝光之情況，利用帶狀基板的曝光乃有效率。

以往技術文獻 [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2005-326550號公報

[專利文獻2]日本特開2006-301170號公報

但期望提供以較以往的曝光裝置更低成本，得到高生產性之曝光裝置。

為了解決前述課題，如根據本發明，係為用以將至少於單面具有形成感光層於表面的曝光面之可撓性之帶狀基板，曝光於各特定長度範圍的曝光裝置，其中，提供含有相互鄰接，且平行地加以配置之一對的曝光單元，和該一對之曝光單元之各自所共用之光源手段；前述一對之曝光單元各自乃具備為了將前述帶狀基板，沿著其長度方向間歇性地傳送之運送機構，和做成配置於前述帶狀基板之運送路徑的曝光部，對於前述曝光面而言，具有呈可接近或離反地加以設置之至少一個之光罩的曝光部，前述光源手段乃為了將描繪於前述光罩的圖案轉印於前述帶狀基板的前述曝光面，成為可交互地將光照射於前述一對之曝光單元之各前述曝光部的曝光裝置。

前述光源手段係作為可移動至可將光照射於前述一對之曝光單元之各前述曝光部的位置。

前述光源手段係亦可作為包含複數之發光元件所構成之掃描型光源者。

前述發光元件係亦可作為半導體發光元件。

前述光源手段係作為具備光源，和各設置於前述一對之曝光單元之一對反射鏡者，前述光源係可作為將光交互地投射於前述一對反射鏡之各個的照射角度可予以變更。

前述曝光部之前述帶狀基板的運送路徑可做成垂直者。

前述光罩乃各一個配置於垂直狀態之前述帶狀基板的兩側，此等一對之光罩係於相互對向之位置具有位置調整用標記，可更具備為了讀取該位置調整用標記之至少1個之CCD照像機，和依據經由該CCD照像機之前述位置調整用標記的讀取資料，將前述一對之光罩之中至少一方，在其面內移動於X，Y，θ方向，為了進行位置調整之移動機構者。

為了進行前述帶狀基板與前述光罩之位置調整，可將設置於前述光罩之位置調整用標記與可進行位置調整的位置調整用標記形成於前述帶狀基板者。

形成於前述帶狀基板之前述位置調整用標記係取代於前述帶狀基板之側緣。

如根據本發明之曝光裝置，由一方的曝光單元進行曝光之後，在為了進行下次的曝光而間歇性地傳送帶狀基板，進行位置調整之間，可將光源手段使用於另一方之曝光單元的曝光者。隨之，對於一對之曝光單元而言，可共用光源手段者。其結果，可維持高生產性同時，可減輕設備費用。

圖1乃顯示有關本發明之曝光裝置之一實施形態。曝光裝置乃包含第1之曝光單元1，和第2之曝光單元2，和第1及第2之曝光單元1，2所共有之光源手段3。第1及第2之曝光單元1，2係相互鄰接，且平行地加以配置。

各曝光單元1，2係具備將具有形成感光層於表面之曝光面的可撓性之帶狀基板4卷成圓筒狀之伸出用捲軸5，和為了纏繞從伸出用捲軸5所伸出的帶狀基板4之纏繞用捲軸6，和為了從伸出用捲軸5至纏繞用捲軸6之間，間歇性地傳送帶狀基板4之驅動裝置7。伸出用捲軸5，纏繞用捲軸6及驅動裝置7係構成與導輥8等同時，為了將帶狀基板4沿著其長度方向間歇性地傳送之運送機構。

驅動裝置7係具備驅動滾輪7a。驅動滾輪7a係將由伸出用捲軸5所捲入之帶狀基板4，以各特定長度間歇性地導出。在圖示實施形態中，帶狀基板4之運送路徑乃在途中成為垂直。在另外的實施形態中，帶狀基板4之運送路徑乃未具有垂直路徑亦可。

各曝光單元1，2係具備配置於帶狀基板4之垂直路徑的曝光部9。曝光部9係具有對於帶狀基板4之曝光面而言，呈可接近或離反地加以設置之光罩10。圖示實施形態之情況，因曝光面加以設置於帶狀基板4之兩面之故，對於各曝光單元1，2而言，光罩10係各加以設置2個。對於將曝光面只設置於帶狀基板4之單面情況，對於各曝光單元1，2而言，光罩10係成為各加以設置1個。

然而，關於光源手段3的數量而言，在將曝光面設置於帶狀基板4之兩面的圖示實施形態中，曝光單元1，2所共用之光源手段3乃加以設置2個。對於將曝光面只設置於帶狀基板4之單面情況，曝光單元1，2所共用之光源手段3乃1個即可。

在帶狀基板4之運送路徑乃未具有垂直路徑之實施形態中，亦可將曝光部9配置於帶狀基板4之水平路徑。但，水平狀態之帶狀基板4係有經由自重而產生彎曲變形之傾向。另外，亦容易附著灰塵。隨之，於帶狀基板4之垂直路徑配置曝光部9為佳。

對於光罩10係描繪有欲轉印於帶狀基板4之曝光面上的圖案(例如電路圖案)。當從光源手段3照射光至曝光部9時，轉印圖案至曝光部9之帶狀基板4之特定長度範圍之曝光面。

帶狀基板4乃經由運送機構所傳送，其特定長度範圍乃到達至曝光部9時，傳送則停止，進行位置調整作業。光罩10係對於帶狀基板4之曝光面加以接近。夾持帶狀基板4而相互對向之2個光罩10係於相互對向的位置，具有位置調整用標記。至少1個之CCD照像機11乃讀取此等之位置調整用標記。依據讀取資料，移動機構12乃將一對之光罩10之中至少一方，在其面內移動於X，Y，θ方向，進行一對之光罩10彼此的位置調整。

對於進行帶狀基板4與光罩10之位置調整，係亦使用形成於帶狀基板4之位置調整用標記。形成於帶狀基板4之位置調整用標記係成為可與光罩10之位置調整用標記進行位置調整的構成。

形成於帶狀基板4之位置調整用標記係亦可由帶狀基板4之側緣代用。

在圖1之實施形態中，第1及第2之曝光單元所共用之光源手段3係具備燈的光源3a，和平面鏡3b，和反射鏡3c。從光源3a所發射的光係經由平面鏡3b而傳達至反射鏡3c。具有凹狀面之反射鏡3c係將所傳達的光做成平行光而照射至曝光部9。

在圖1以實線所示之光源手段3係位於可照射光至第1之曝光單元1之曝光部9的位置。光源手段3係載置於將帶狀基板4之運送方向做成橫切而延伸之一對的直動導軌13上。光源手段3係滑動在直動導軌13上，可移動於可將光照射至第2之曝光單元2之曝光部9的位置(以兩點虛線顯示)。

在第1之曝光單元1中，當帶狀基板4之特定長度範圍之曝光結束時，光源手段3係滑動在直動導軌13上，從可照射光至第1之曝光單元1之曝光部9的位置，移動至可照射光至第2之曝光單元2之曝光部9的位置，照射第2之曝光單元2之曝光部9。其間，在第1之曝光單元1中，光罩10則從帶狀基板4之曝光面反離，進行帶狀基板4之間歇性的運送。而帶狀基板4之接下來的特定長度範圍乃加以位置於曝光部9時，光罩10則接近於帶狀基板4之曝光面，進行位置調整作業。結束對於第2之曝光單元2之曝光部9的照射之光源手段3係再次滑動移動至可照射光至第1之曝光單元1之曝光部9的位置，藉由位置調整結束之光罩10而進行照射。

如此作為，光源手段3係做成呈交互將光照射至第1及第2之曝光單元1，2之各曝光部9。如為以往，利用光源手段3休止之位置調整作業時間，移動光源手段3至鄰接其他的曝光單元，在此可進行曝光作業之故，對於2個曝光單元而言，光源手段係由1個即可完成。

在圖2的實施形態中，光源手段3係包含複數之發光元件14所成之掃描型光源3d。在本實施形態之掃描型光源3d係利用半導體發光元件。

使用利用如此之半導體發光元件的掃描型光源之情況，可縮小光源本身，且可省略如反射鏡之光學機器之故，可縮小在帶狀基板4之運送方向的曝光裝置全體尺寸者。

在圖2之實施形態中，在第1之曝光單元1中進行位置調整作業時，掃描型光源3d係移動於第2之曝光單元2側同時，對於第2之曝光單元2之曝光部9而言進行掃描曝光。在第2之曝光單元2之曝光結束，在第2之曝光單元2中進行帶狀基板4之間歇性運送與位置調整作業之間，掃描型光源3d係移動於第1之曝光單元1側同時，對於第1之曝光單元1之曝光部9而言進行掃描曝光。

在圖3之實施形態中，光源手段3係乃具備燈之光源3a，和一對之平面鏡3b，和一對之反射鏡3c。光源3a係做成可藉由可旋轉之平面反射鏡(未圖示)，以某角度範圍變更光的照射方向。光源3a係在某照射角度的設定，係藉由第1之曝光單元1側之平面鏡3b，投射光至反射鏡3c，照射第1之曝光單元1之曝光部9。在第1之曝光單元1之曝光結束，在第1之曝光單元1中進行帶狀基板4之間歇性運送與位置調整作業之間，光源3a係做成另外照射角度之設定，藉由第2之曝光單元2側之平面鏡3b，投射光至反射鏡3c，照射第2之曝光單元2之曝光部9。

在圖1乃至圖3任一之實施形態中，對於一對之曝光單元而言，亦可以交互使用之形態共用光源手段者。隨之，可維持高生產性之同時，可降低設備成本。

然而，在圖1及圖3之實施形態，經由光源手段3之構成為如何，亦可省略平面鏡者。

更且，在圖1及圖3之實施形態，亦可使用燈以外之光源，在圖2之實施形態，亦可使用半導體發光元件以外之光源。

1．．．第1之曝光單元

2．．．第2之曝光單元

3．．．光源手段

3a．．．光源(燈)

3b．．．平面鏡

3c．．．反射鏡

3d．．．光源(掃描型光源)

4．．．帶狀基板

5．．．伸出用捲軸(運送機構)

6．．．纏繞用捲軸(運送機構)

7．．．驅動裝置(運送機構)

7a．．．驅動滾輪(運送機構)

8．．．導輥(運送機構)

9．．．曝光部

10．．．光罩

11．．．CCD照像機

12．．．移動機構

13．．．直動導軌

14．．．發光元件

圖1乃顯示有關本發明之曝光裝置之一實施形態圖，上圖係平面圖，下圖係側面圖。

圖2乃顯示有關本發明之曝光裝置之其他實施形態圖，上圖係平面圖，下圖係側面圖。

圖3乃顯示有關本發明之曝光裝置之又其他實施形態圖，上圖係平面圖，下圖係側面圖。

1．．．第1之曝光單元

2．．．第2之曝光單元

3．．．光源手段

3a．．．光源(燈)

3b．．．平面鏡

3c．．．反射鏡

4．．．帶狀基板

5．．．伸出用捲軸(運送機構)

6．．．纏繞用捲軸(運送機構)

7．．．驅動裝置(運送機構)

7a．．．驅動滾輪(運送機構)

8．．．導輥(運送機構)

9．．．曝光部

10．．．光罩

11．．．CCD照像機

12．．．移動機構

13．．．直動導軌

Claims (11)

1. 一種曝光裝置，係為用以將至少於單面具有形成感光層於表面的曝光面之可撓性之帶狀基板，曝光於各特定長度範圍的曝光裝置，其特徵乃含有相互鄰接，且平行地加以配置之一對的曝光單元，和該一對之曝光單元之各自所共用之光源手段；前述一對之曝光單元各自乃具備為了將前述帶狀基板，沿著其長度方向間歇性地傳送之運送機構，和做成配置於前述帶狀基板之運送路徑的曝光部，對於前述曝光面而言，具有呈可接近或遠離地加以設置之至少一個之光罩的曝光部，前述光源手段乃為了將描繪於前述光罩的圖案轉印於前述帶狀基板的前述曝光面，成為可交互地將光照射於前述一對之曝光單元之各前述曝光部，在前述一對之曝光單元之一方，於進行前述帶狀基板之間歇運送與定位作業之間，前述光源手段係照射光線於前述一對之曝光單元之另一方之前述曝光部。
2. 一種曝光裝置，係為用以將至少於單面具有形成感光層於表面的曝光面之可撓性之帶狀基板，曝光於各特定長度範圍的曝光裝置，其特徵乃含有相互鄰接，且平行地加以配置之一對的曝光單元中，包含為了處理不同前述帶狀基板，二系列化之一對之曝光單元、和該一對之曝光單元之各自所共用之二個之光源手段； 前述一對之曝光單元各自乃具備為了將前述帶狀基板，沿著其長度方向間歇性地傳送之運送機構，和做成配置於前述帶狀基板之運送路徑的曝光部，對於前述曝光面而言，具有呈可接近或遠離地加以設置之至少一個之光罩的曝光部，前述光源手段乃為了將描繪於前述光罩的圖案轉印於前述帶狀基板的前述曝光面，成為可交互地將光照射於前述一對之曝光單元之各前述曝光部，前述各別二個之光源手段係於前述一對之曝光單元之各舍之前述曝光部之任一者，照射光線之時，朝向前述各個曝光部，向同一方向照射光線，在前述各別一對之曝光單元中，從前述二個之光源手段之一方，對於前述帶狀基板之一方之面，照射光線的同時，從前述二個之光源手段之另一方，對於前述帶狀基板之另一方之面，照射光線，使前述帶狀基板之兩面可同時曝光地加以構成。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項記載之曝光裝置，其中，前述光源手段乃成為可移動至可將光照射於前述一對之曝光單元之各前述曝光部的位置。
4. 如申請專利範圍第3項記載之曝光裝置，其中，前述光源手段乃包含複數之發光元件所構成之掃描型光源者。
5. 如申請專利範圍第4項記載之曝光裝置，其中，前述發光元件乃半導體發光元件。
6. 如申請專利範圍第1項或第2項記載之曝光裝置，其中，前述光源手段乃具備光源，和各設置於前述一對之曝光單元之一對反射鏡，前述光源乃成為將光交互地投射於前述一對反射鏡之各個的照射角度可予以變更。
7. 如申請專利範圍第1項記載之曝光裝置，其中，前述曝光部之前述帶狀基板的運送路徑乃垂直者。
8. 如申請專利範圍第2項記載之曝光裝置，其中，前述曝光部之前述帶狀基板之運送路徑乃垂直者。
9. 如申請專利範圍第7項或第8項記載之曝光裝置，其中，前述光罩乃各一個配置於垂直狀態之前述帶狀基板的兩側，此等一對之光罩係於相互對向之位置具有位置調整用標記，更具備為了讀取該位置調整用標記之至少1個之CCD照像機，和依據經由該CCD照像機之前述位置調整用標記的讀取資料，將前述一對之光罩之中至少一方，在其面內移動於X，Y，θ方向，為了進行位置調整之移動機構者。
10. 如申請專利範圍第9項記載之曝光裝置，其中，為了進行前述帶狀基板與前述光罩之位置調整，將設置於前述光罩之位置調整用標記與可進行位置調整的位置調整用標記形成於前述帶狀基板者。
11. 如申請專利範圍第10項記載之曝光裝置，其中， 形成於前述帶狀基板之前述位置調整用標記乃取代於前述帶狀基板之側緣。