CN101887217B - 曝光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够维持高生产性且减少设备费的曝光装置。曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元(1、2)；该一对曝光单元(1、2)分别共用的光源机构(3)。曝光单元(1、2)分别具备：用于将带状基板(4)沿其长度方向间歇性地传送的传送机构(5、6、7、8)；成为配置在带状基板(4)的传送路径上的曝光部(9)，并至少具有一个光掩膜(10)的曝光部(9)。为了将绘制在光掩膜(10)上的图案向带状基板(4)的曝光面上转印，光源机构(3)形成为能够向一对曝光单元(1、2)中的各曝光部(9)交替地照射光。

Description

曝光装置
技术领域
本发明涉及用于对柔性的带状基板在每规定长度区域进行曝光的曝光装置。
背景技术
已知有一种曝光装置，其间歇性地传送柔性的带状基板，在带状基板的规定长度区域，穿透光掩膜照射光，由此将绘制在光掩膜上的图案(例如电路)转印到带状基板的规定长度区域，其中，所述带状基板中至少单面具有在表面形成有感光层的曝光面。每次间歇性地传送带状基板时，带状基板的新的规定长度区域占据与光掩膜对置的位置，连续不断地进行曝光作业。
与对预先切割为规定的长度的片状的基板进行置换并同时进行曝光的情况相比，利用了带状基板的曝光更高效。
专利文献1：日本特开2005-326550号公报
专利文献2：日本特开2006-301170号公报
然而，与现有的曝光装置相比，希望提供一种以更便宜的成本能得到高生产性的曝光装置。
发明内容
为了解决上述课题，根据本发明，提供一种曝光装置，用于对柔性的带状基板在每规定长度区域进行曝光，该带状基板中至少单面具有在表面形成有感光层的曝光面，
其中，所述曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元；该一对曝光单元分别共用的光源机构，
所述一对曝光单元分别具备：用于将所述带状基板沿其长度方向间歇性地传送的传送机构；配置在所述带状基板的传送路径上的曝光部，所述曝光部至少具有一个设为相对于所述曝光面能够接近或分离的光掩膜，
为了将绘制在所述光掩膜上的图案向所述带状基板的所述曝光面转印，所述光源机构形成为能够向所述一对曝光单元中的各所述曝光部交替地照射光。
所述光源机构能够移动到能够向所述一对曝光单元中的各所述曝光部照射光的位置。
所述光源机构也可以包括由多个发光元件构成的扫描型光源。
所述发光元件也可以为半导体发光元件。
所述光源机构具备光源和分别设置在所述一对曝光单元上的一对反射镜，
所述光源能够变更照射角度，以将光分别交替投射到所述一对反射镜上。
能够将所述曝光部中的所述带状基板的传送路径形成为垂直。
所述光掩膜在垂直状态的所述带状基板的两侧各配置一个，
上述一对光掩膜在相互对置的位置上具有对位用标记，
所述曝光装置还具备：至少一个CCD照相机，其用于读取该对位用标记；移动机构，其用于根据该CCD照相机所读取的所述对位用标记的读取数据，使所述一对光掩膜中至少一个在其面内沿X、Y、θ方向移动而进行对位。
为了进行所述带状基板与所述光掩膜的对位，可以将设置在所述光掩膜上的对位用标记和能够对位的对位用标记形成在所述带状基板上。
形成在所述带状基板上的所述对位用标记能够由所述带状基板的侧缘代替。
根据本发明的曝光装置，通过一个曝光单元进行曝光后，为了进行下一次的曝光而间歇性地传送带状基板并进行对位，在此期间，能够在另一个曝光单元的曝光中使用光源机构。因此，对于一对曝光单元而言，能够共用光源机构。其结果是，能够维持高生产性并减少设备费。
附图说明
图1是示出本发明的曝光装置的一实施方式的图，上图是俯视图，下图是侧视图。
图2是示出本发明的曝光装置的另一实施方式的图，上图是俯视图，下图是侧视图。
图3是示出本发明的曝光装置的再一实施方式的图，上图是俯视图，下图是侧视图。
符号说明：
1第一曝光单元
2第二曝光单元
3光源机构
3a光源(灯)
3b平面镜
3c  反射镜
3d光源(扫描型光源)
4带状基板
5送出用卷轴(传送机构)
6卷绕用卷轴(传送机构)
7驱动装置(传送机构)
7a驱动辊(传送机构)
8引导辊(传送机构)
9曝光部
10光掩膜
11CCD照相机
12移动机构
13直动导轨
14发光元件
具体实施方式
图1示出本发明的曝光装置的一实施方式。曝光装置包括：第一曝光单元1；第二曝光单元2；第一及第二曝光单元1、2所共用的光源机构3。第一及第二曝光单元1、2相互相邻且平行配置。
曝光单元1、2分别具备：送出用卷轴5，其将柔性的带状基板4卷绕成圆筒状，该带状基板4具有在表面形成有感光层的曝光面；卷绕用卷轴6，其用于卷绕从送出用卷轴5送出的带状基板4；驱动装置7，其用于将带状基板4从送出用卷轴5间歇性地传送到卷绕用卷轴6。送出用卷轴5、卷绕用卷轴6及驱动装置7与引导辊8一起构成用于将带状基板4沿其长度方向间歇性地传送的传送机构。
驱动装置7具备驱动辊7a。驱动辊7a将卷绕在送出用卷轴5上的带状基板4每隔规定长度量间歇性地拉出。在图示实施方式中，带状基板4的传送路径在中途成为垂直。在另一实施方式中，带状基板4的传送路径也可以不具有垂直路径。
曝光单元1、2分别具有配置在带状基板4的垂直路径上的曝光部9。曝光部9具有光掩膜10，该光掩膜10设为能够相对于带状基板4的曝光面接近或分离。在图示实施方式的情况下，由于曝光面设置在带状基板4的两面，因此分别相对于曝光单元1、2，各设置两个光掩膜10。在曝光面仅设置在带状基板4的单面的情况下，分别相对于曝光单元1、2，各设置一个光掩膜10。
此外，关于光源机构3的数目，在曝光面设置在带状基板4的两面的图示实施方式中，曝光单元1、2所共用的光源机构3设为两个。在曝光面仅设置在带状基板4的单面的情况下，曝光单元1、2所共用的光源机构为一个即可。
在带状基板4的传送路径不具有垂直路径的实施方式中，也可以将曝光部9配置在带状基板4的水平路径上。然而，水平状态的带状基板4由于自重发生挠曲而具有变形的倾向。而且，也容易附着灰尘。因此，优选在带状基板4的垂直路径上配置曝光部9。
在光掩膜10上绘制有需要转印到带状基板4的曝光面上的图案(例如电路图案)。当从光源机构3向曝光部9照射光时，图案被转印到曝光部9中的带状基板4的规定长度区域的曝光面上。
带状基板4由传送机构传送，当其规定长度区域到达曝光部9时传送停止，进行对位作业。使光掩膜10接近带状基板4的曝光面。夹着带状基板4相互面对的两个光掩膜10在相互对置的位置上具有对位用标记。至少一个CCD照相机11读取所述对位用标记。根据读取数据，移动机构12使一对光掩膜10中的至少一方在其面内沿X、Y、θ方向移动，而进行一对光掩膜10彼此的对位。
在进行带状基板4与光掩膜10的对位时也使用形成在带状基板4上的对位用标记。形成在带状基板4上的对位用标记能够与光掩膜10的对位用标记对位。
形成在带状基板4上的对位用标记也可以用带状基板4的侧缘代替。
在图1的实施方式中，第一及第二曝光单元所共用的光源机构3具备作为灯的光源3a、平面镜3b、反射镜3c。从光源3a发出的光由平面镜3b向反射镜3c传递。具有凹状面的反射镜3c将传递来的光形成为平行光向曝光部9照射。
在图1中，由实线表示的光源机构3处于能够向第一曝光单元1的曝光部9照射光的位置。光源机构3搭载在以横穿带状基板4的传送方向的方式延伸的一对直动导轨13上。光源机构3在直动导轨13上滑动，从而能够移动到能够向第二曝光单元2的曝光部9照射光的位置(双点划线所示)。
在第一曝光单元1中，当带状基板4的规定长度区域的曝光结束时，光源机构3在直动导轨13上滑动，从能够向第一曝光单元1的曝光部9照射光的位置移动到能够向第二曝光单元2的曝光部9照射光的位置，而对第二曝光单元2的曝光部9进行照射。在此期间，在第一曝光单元1中，光掩膜10从带状基板4的曝光面分离，进行带状基板4的间歇性的传送。当带状基板4的下一个规定长度区域定位在曝光部9时，光掩膜10接近带状基板4的曝光面，进行对位作业。结束了向第二曝光单元2的曝光部9的照射的光源机构3再次滑动移动到能够向第一曝光单元1的曝光部9照射光的位置，透过结束了对位的光掩膜10进行照射。
如此，光源机构3形成为向第一及第二曝光部1、2中的各个曝光部9交替地照射光。能够利用现有技术中光源机构3停歇的对位作业时间使光源机构3向相邻的其他的曝光单元移动而在那里进行曝光作业，因此对于两个曝光单元而言呢，光源机构为一个即可。
在图2的实施方式中，光源机构3包括由多个发光元件14构成的扫描型光源3d。本实施方式中的扫描型光源3d利用半导体发光元件。
在使用利用了此种半导体发光元件的扫描型光源时，能够缩小光源自身且能够省略反射镜一类的光学设备，因此能够使带状基板4的传送方向上的曝光装置整体的尺寸紧凑。
在图2的实施方式中，在第一曝光单元1中进行对位作业时，扫描型光源3d向第二曝光单元2侧移动，同时，对第二曝光单元2的曝光部9进行扫描曝光。在第二曝光单元2的曝光结束而在第二曝光单元2中进行带状基板4的间歇性传送和对位作业期间，扫描型光源3d向第一曝光单元1侧移动，同时，对第一曝光单元1的曝光部9进行扫描曝光。
在图3的实施方式中，光源机构3具备作为灯的光源3a、一对平面镜3b、一对反射镜3c。光源3a通过能够转动的平面镜(未图示)能够将光的照射方向在某角度范围内进行变更。光源3a在某照射角度的设定下，经由第一曝光单元1侧的平面镜3b向反射镜3c投射光，对第一曝光单元1的曝光部9进行照射。在第一曝光单元1的曝光结束而在第一曝光单元1中进行带状基板4的间歇性传送和对位作业期间，光源3a被设定为其他的照射角度，经由第二曝光单元2侧的平面镜3b向反射镜3c投射光，对第二曝光单元2的曝光部9进行照射。
在图1至图3的任一实施方式中，对于一对曝光单元而言，能够以交替使用的形式共用光源机构。因此，能够维持高生产性并减少设备成本。
此外，在图1及图3的实施方式中，根据光源机构3的结构，也可以省略平面镜。
再者，在图1及图3的实施方式中，也可以使用灯以外的光源，在图2的实施方式中，也可以使用半导体发光元件以外的光源。

Claims (13)

1.一种曝光装置，其用于对柔性的带状基板在每规定长度区域进行曝光，该带状基板中至少单面具有在表面形成有感光层的曝光面，其中，
所述曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元；该一对曝光单元分别共用的光源机构，
所述一对曝光单元分别具备：用于将所述带状基板沿其长度方向间歇性地传送的传送机构；配置在所述带状基板的传送路径上的曝光部，所述曝光部至少具有一个设为相对于所述曝光面能够接近或分离的光掩膜，
为了将绘制在所述光掩膜上的图案向所述带状基板的所述曝光面转印，所述光源机构形成为能够向所述一对曝光单元中的各所述曝光部交替地照射光，
在所述一对曝光单元中的一方进行所述带状基板的间歇性传送和对位作业期间，所述光源机构向所述一对曝光单元中的另一方所具备的所述曝光部照射光。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
所述光源机构形成为，能够移动到能够向所述一对曝光单元中的各所述曝光部照射光的位置。
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，
所述光源机构包括由多个发光元件构成的扫描型光源。
4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，
所述发光元件为半导体发光元件。
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
所述光源机构具备光源和分别设置在所述一对曝光单元上的一对反射镜，
所述光源形成为，能够变更照射角度，以将光分别交替投射到所述一对反射镜上。
6.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，
所述曝光部中的所述带状基板的传送路径形成为垂直。
7.根据权利要求5所述的曝光装置，其中，
所述曝光部中的所述带状基板的传送路径形成为垂直。
8.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，
所述光掩膜在垂直状态的所述带状基板的两侧各配置一个，
上述一对光掩膜在相互对置的位置上具有对位用标记，
所述曝光装置还具备：至少一个CCD照相机，其用于读取该对位用标记；移动机构，其用于根据该CCD照相机所读取的所述对位用标记的读取数据，使所述一对光掩膜中至少一个在其面内沿X、Y、θ方向移动而进行对位。
9.根据权利要求7所述的曝光装置，其中，
所述光掩膜在垂直状态的所述带状基板的两侧各配置一个，
上述一对光掩膜在相互对置的位置上具有对位用标记，
所述曝光装置还具备：至少一个CCD照相机，其用于读取该对位用标记；移动机构，其用于根据该CCD照相机所读取的所述对位用标记的读取数据，使所述一对光掩膜中至少一个在其面内沿X、Y、θ方向移动而进行对位。
10.根据权利要求8所述的曝光装置，其中，
为了进行所述带状基板与所述光掩膜的对位，将能够与设置在所述光掩膜上的对位用标记对位的对位用标记形成在所述带状基板上。
11.根据权利要求9所述的曝光装置，其中，
为了进行所述带状基板与所述光掩膜的对位，将能够与设置在所述光掩膜上的对位用标记对位的对位用标记形成在所述带状基板上。
12.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，
形成在所述带状基板上的所述对位用标记由所述带状基板的侧缘代替。
13.根据权利要求11所述的曝光装置，其中，
形成在所述带状基板上的所述对位用标记由所述带状基板的侧缘代替。
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