CN101063828A - 曝光装置 - Google Patents

Abstract

提供一种可使曝光装置小型化、有效利用工厂等的设置空间，并且可降低曝光装置的制造成本的曝光装置，其中，曝光装置(PE101)并列配置有多个曝光单元(1000A、1000B)，具有：收容多个掩模(M)的掩模储料器(171)；以及从掩模储料器(171)将预定的掩模M提供到掩模台(110A、110B)的一台掩模装载机(170)。

Description

曝光装置

技术领域

本发明涉及一种曝光装置，具体而言涉及一种制造半导体、液晶显示面板、等离子显示器等大型平板面板显示器时使用的曝光装置。

背景技术

如图5所示，在现有的曝光装置PE100中，通常为了提高生产效率，并列配置多台(在图5中为二台)曝光单元1000A、1000B。该曝光单元1000A、1000B具有可存储掩模图案不同的多个掩模M的掩模储料器102A、102B。和该掩模储料器102A、102B相邻配置的掩模装载机103A、103B从掩模储料器102A、102B取出预定的掩模M，安装到掩模台104A、104B上，或者更换所安装的掩模M。

但是，在现有的曝光装置PE100中，每个曝光单元101A、101B中分别配置专用的掩模装载机103A、103B(根据情况不同，也分别设置掩模储料器102A、102B)，因此曝光装置PE100大型化，可能会妨碍工厂等设置空间的有效利用。并且，曝光装置PE100的制造成本增加。

发明内容

本发明鉴于以上情况而产生，其目的在于提供一种能够使曝光装置小型化、有效利用工厂等的设置空间，并且可降低曝光装置的制造成本的曝光装置。

本发明的上述目的通过以下构成来实现。

(1)一种曝光装置，具有多个曝光单元，多个曝光单元具有：保持作为被曝光材料的基板的基板台；与基板相对配置并保持掩模的掩模台；通过掩模将图案曝光用的光照射到基板的照射装置；以及移动基板台，使基板与掩模在预定位置相对的基板台传送机构，该曝光装置的特征在于，并列配置有曝光单元，并具有：收容多个掩模的掩模储料器；以及从掩模储料器将预定的掩模提供到掩模台的一台掩模装载机。

(2)根据上述(1)所述的曝光装置，其特征在于，多台掩模储料器并列配置，构成掩模库，一台掩模装载机构成为可自由移动至分别与掩模储料器及曝光单元对应的位置。

根据上述(1)所述的曝光装置，多个曝光单元并列配置，并且通过一台掩模装载机向各曝光单元的掩模台提供掩模，因此多个曝光单元可共用一台掩模装载机。这样一来，可使曝光装置小型化，有效利用工厂等设置空间，并降低曝光装置的制造成本。

根据上述(2)所述的曝光装置，具有由多台掩模储料器构成的掩模库；及为了对应各掩模储料器及各曝光单元而可自由移动地构成的一台掩模装载机，通过一台掩模装载机从掩模库取出预定的掩模，并将掩模提供到各曝光单元的掩模台，因此可将多个掩模收容到掩模库中作准备，易于对应多种掩模图案。并且，可通过一台掩模装载机向多个曝光单元提供掩模，因此可使曝光装置小型化，有效利用工厂等的设置空间，并降低曝光装置的制造成本。

根据本发明的曝光装置，并列配置有曝光单元，并具有：收容多个掩模的掩模储料器、以及从掩模储料器将预定的掩模提供给掩模台的一台掩模装载机，因此可通过一台掩模装载机向并列配置的多个曝光单元的各掩模台提供掩模。这样一来，可使曝光装置小型化，有效利用工厂等的设置空间，并降低曝光装置的制造成本。

附图说明

图1是说明本发明涉及的曝光装置的第一实施方式的整体构造的俯视图。

图2是图1所示的曝光单元的主要部分的侧视图。

图3是图1所示工件装载机的侧视图。

图4是说明本发明涉及的曝光装置的第二实施方式的整体构造的俯视图。

图5是说明现有的曝光装置的整体构造的俯视图。

图6是用于说明本发明涉及的曝光装置的整体构造的概要俯视图。

图7是图6所示的曝光单元的主要部分的正视图。

图8是图7所示的基板台的侧视图。

图9是图6所示基板装载机的侧视图。

图10是用于说明现有的曝光装置的俯视图。

具体实施方式

以下对本发明涉及的曝光装置的各实施方式参照附图进行详细说明。

(第一实施方式)

首先参照图1至图3说明本发明涉及的曝光装置的第一实施方式。

图1是说明本发明涉及的曝光装置的第一实施方式的整体构造的俯视图，图2是图1所示的曝光单元的主要部分的侧视图，图3是图1所示工件装载机的侧视图。

如图1及图2所示，本实施方式的曝光装置PE101并列配置二台曝光单元1000A、1000B。曝光单元1000A、1000B分别具有以下装置：保持掩模M的掩模台110A、110B；保持作为被曝光材料的玻璃基板(被曝光材料)W的基板台120、120；通过掩模M将图案曝光用的光照射到玻璃基板W的照射装置130、130；基板台传送机构140、140，移动基板台120、120，使玻璃基板W与掩模M在预定位置相对；以及将玻璃基板W运送到基板台120、120的工件装载机160、160，并且，曝光单元1000A、1000B放置在装置底座150、150上。

并且，曝光装置PE101中，在可与二台曝光单元1000A、1000B对应的位置(二台曝光单元1000A、1000B之间)上，配置一台掩模装载机170及一台掩模储料器171。

此外，玻璃基板W(以下称为“基板W”)与掩模M相对配置，在应曝光转印该掩模M上描绘的掩模图案的表面上(和掩模M相对的面)涂敷感光剂。

掩模台110A、110B可在Z轴方向上移动地被装置底座150、150上直立设置的四根支柱151、及设置在该支柱151上端部的Z轴移动装置152支持，配置在基板台120的上方。Z轴移动装置152例如具有由电机及滚珠丝杠等构成的电动致动器、或空压气缸等，通过进行单纯的上下动作，使掩模台110A、110B升降到预定位置。并且，掩模台110A、110B中，矩形的开口部111形成在中央，该开口部111中，通过掩模架112保持掩模M。

基板台120如图2所示，设置在基板台移动机构140上，在其上表面设置用于将基板W保持在基板台120上的工件夹盘121。并且工件夹盘121通过真空吸附保持基板W。

基板台移动机构140如图2所示具有：在装置底座150的上表面沿Y轴方向设置的Y轴传送机构141；被Y轴传送机构141可在Y轴方向上移动地支持的Y轴台142；在Y轴台142的上表面沿X轴方向设置的X轴传送机构143；被X轴传送机构143可在X轴方向上移动地支持的X轴台144；设置在X轴台144上，支持基板台120的下表面的三台Z-倾斜调整机构145。该基板台移动机构140使基板台120在X轴、Y轴、Z轴方向移动，并且进行基板台120的倾斜调整。

照射装置130配置在开口部111的上方，具有紫外线照射用光源，例如高压水银灯、凹面镜、光学积分器、平面镜、球面镜、曝光控制用挡板等。照射装置130将图案曝光用的光通过掩模M照射到基板台120的工件夹盘121所保持的基板W上。这样一来，掩模M的掩模图案被曝光转印到基板W上。

工件装载机160如图3所示，是在装置底座150上固定的支柱161上可自由摆动地设置多个运送部162、163的多关节型装载机器。多个运送部162、163通过升降机构(未图示)沿支柱161上下移动，并且分别配置有伺服电机，可以被彼此独立地驱动。各运送部162、163具有：第一及第二臂部164、165；以及在第一臂部164的前端平行设置多个棒状部件166的装载台167。并且，通过控制各个伺服电机使其动作，使装载台167升降、旋转及移动，运送装载台167上的基板W。

一台掩模装载机170配置在二台曝光单元1000A、1000B之间。掩模装载机170具有和图3所示的工件装载机160基本相同的构造，从掩模储料器171中存储的多个掩模M中选择预定的掩模M并保持，分别提供到掩模台110A、110B。此外，掩模装载机170中，运送部是一个。并且，掩模M向掩模台110A、110B的供给可以如本实施方式所示，通过掩模装载机170从掩模储料器171直接提供到掩模台110A、110B，但不限于此，也可通过掩模装载机170从掩模储料器171运送到从基板台120上的工件夹具121突出的未图示的掩模接收部，基板台120将掩模M提供到掩模台110A、110B。

具体而言，掩模装载机170从掩模储料器171中存储的多个掩模M中选择预定的掩模M，将选择的掩模M装载到掩模装载机170的装载台167上，运送到掩模台110A、110B，由掩模架112真空吸附并安装。并且，在更换掩模M时，将曝光转印后的掩模M装载到装载台167上并存储到掩模储料器171中。此外，掩模装载机170如图3所示的工件装载机160那样，具有二个运送部162、163时，则在将曝光转印前的掩模M保持在运送部162(163)的装载台167上的状态下，将曝光转印后的掩模M通过运送部163(162)的装载台167取下，可在取下后，将保持在运送部162(163)的曝光转印前的掩模M安装到掩模台110A、110B上。

掩模储料器171是用于收容掩模图案不同的多个掩模M的存储库，掩模M从未图示的掩模盒被提供，在将掩模M排列整齐的状态下，装载并收容在其内部设置的架子上。

在这种构造的曝光装置PE101中，配置在二台曝光单元1000A、1000B之间的一台掩模装载机170从掩模储料台171中存储的多个掩模M中选择预定的掩模M，并将选择的掩模M装载到掩模装载机170的装载台167上，运送到预定的曝光单元1000A、1000B的各掩模台110A、110B上并安装。即，一台掩模装载机170由二台曝光单元1000A、1000B共用。

因此，根据本实施方式的曝光装置PE101，并列配置有二台曝光单元1000A、1000B，并具有：收容多个掩模M的掩模储料器171；及从掩模储料器171将预定的掩模M提供到掩模台110A、110B的一台掩模装载机170，因此可通过一台掩模装载机170向并列配置的二台曝光单元1000A、1000B的各掩模台110A、110B提供掩模M。这样一来，可使曝光装置PE101小型化，有效利用工厂等的设置空间，并且降低曝光装置PE101的制造成本。

(第二实施方式)

接着参照图4说明本发明涉及的曝光装置的第二实施方式。并且，除了掩模储料器和掩模装载机的形态不同外，其他和第一实施方式的曝光装置相同，因此对和第一实施方式相同或同样的部分，在附图中标以相同的标号，并省略或简化其说明。

图4是用于说明本发明涉及的曝光装置的第二实施方式的整体构造的俯视图。

如图4所示，本实施方式的曝光装置PE102并列配置有三台曝光单元1000A、1000B、1000C。并且，在和曝光单元1000A、1000B、1000C相对的位置上配置有具有五台掩模储料器171、171…的掩模库180。进一步，在掩模库180和三台曝光单元1000A、1000B、1000C之间，配置有可沿未图示的导轨在箭头A及B方向上自由移动地构成的一台掩模装载机170。并且，曝光单元1000C具有和曝光单元1000A、1000B相同的构造。

一台掩模装载机170通过向箭头A及B方向移动，可以配置在与三台曝光单元1000A、1000B、1000C及五台掩模储料器171、171…相对的位置上。并且，一台掩模装载机170从掩模库180的预定掩模储料器171选择预定的掩模M，将选择的掩模M运送到预定的曝光单元1000A、1000B、1000C，并安装到各掩模台110A、110B、110C。

在这种构造的曝光装置PE102中，在掩模库180和三台曝光单元1000A、1000B、1000C之间，可在A方向及B方向上自由移动地构成的一台掩模装载机170从掩模库180的预定掩模储料台171中存储的多个掩模M中选择预定的掩模M，将选择的掩模M装载到掩模装载机170的装载台167上，运送到预定的曝光单元1000A、1000B、1000C的各掩模台110A、110B、110C上并安装。即，一台掩模装载机170由三台曝光单元1000A、1000B、1000C共用。

因此，根据本实施方式的曝光装置PE102，具有：由五台掩模储料器171、171…构成的掩模库180；以及可以对应各掩模储料器171及各曝光单元1000A、1000B、1000C而自由移动地构成的一台掩模装载机170，通过一台掩模装载机170从掩模库180取出预定的掩模M，向各曝光单元1000A、1000B、1000C的掩模台110A、110B、110C提供掩模M，因此可将多个掩模M收容在掩模库180中作准备，易于对应多种掩模图案。并且，通过一台掩模装载机170可向三台曝光单元1000A、1000B、1000C提供掩模M，因此可使曝光装置PE102小型化，有效利用工厂等的设置空间，并且降低曝光装置PE102的制造成本。

其他构造及作用效果和上述第一实施方式相同。

此外，本发明不限于上述各实施方式，可适当变形、改良等。

例如在各实施方式中，限定了曝光单元及掩模库的掩模储料器的台数，但该台数是任意的。

(第三实施方式)

以下对本发明涉及的曝光装置的一个实施方式参照附图进行详细说明。图6是说明本发明涉及的曝光装置的整体构造的概要俯视图，图7是图6所示曝光单元的主要部分的正视图，图8是图7所示的基板台的侧视图，图9是图6所示基板装载机的侧视图。

如图6及图7所示，本实施方式的曝光装置PE并列配置有二台曝光单元100A、100B。曝光单元100A、100B分别具有掩模台10A、10B；第一基板台11、11；第二基板台12、12；照明装置13、13；预调整部件14、14；第一基板装载机15、15；第二基板装载机16、16；掩模装载机17A、17B；以及掩模储料器18A、18B，其分别装载在基台21、21上。并且，向掩模储料器18A、18B供给掩模M，是通过在曝光单元100A、100B之间自由移动、且自由旋转的掩模盒20进行的。此外，为了明确掩模M的方向，掩模M用粗箭头表示。

掩模台10A、10B由基台21上配置的长方形的台底座23上设置的多个支柱22支持，配置在台底座23的上方。多个支柱22在台底座23的上方形成空间，使第一及第二基板台11、12向Y方向(图6的左右方向)移动并可进出掩模台10A、10B的下方。并且，掩模台10A、10B具有掩模保持部25，其在中央具有矩形的开口部24，相对于掩模台10A、10B可在X、Y、θ方向调整位置地被支持，具有应曝光的掩模图案的掩模M被掩模保持部25面向该开口部24地保持。并且，掩模台10A、10B上设有：检测掩模M相对于掩模保持部25的位置的掩模用调整相机(未图示)、以及检测掩模M和基板W之间的间隙的间隙传感器(未图示)。

如图7及图8所示，第一及第二基板台11、12在上表面分别具有保持作为被曝光材料的基板W的基板保持部31、31。并且，在第一及第二基板台11、12的下方分别设有具有Y轴台33、Y轴传送机构34、X轴台35、X轴传送机构36、及Z-倾斜调整机构37的基板台传送机构32、32。该基板台传送机构32相对于台底座23使第一及第二基板台11、12向X方向及Y方向传送驱动，并且为了微调掩模M和基板W之间的间隙，使第一及第二基板台11、12向Z轴方向微动且倾斜。

具体而言，Y轴传送机构34在台底座23和Y轴台33之间具有直线引导器38和Y轴传送驱动机构39。在台底座23上，二个导轨40沿Y轴方向平行配置，安装在Y轴台33的背面的滑块41通过转动体(未图示)架设。这样一来，二台Y轴台33沿二个导轨40可沿Y轴方向移动地被支持。

并且，在台底座23上，由电机42旋转驱动的滚珠丝杠轴43对应于第一及第二基板台11、12分别设置，滚珠丝杠轴43上螺合有安装在Y轴台33背面的滚珠丝杠螺母44。

并且，X轴传送机构36也如图8所示，在Y轴台33和X轴台35之间设有直线引导器45和X轴传送驱动机构46。在Y轴台33上，二个导轨47沿X轴方向平行配置，X轴台35的背面安装的滑块48通过转动体(未图示)架设。进一步，在Y轴台33上设有通过电机49旋转驱动的滚珠丝杠轴50，滚珠丝杠轴50上螺合有安装在Y轴台35背面的滚珠丝杠螺母51。

另一方面，Z-倾斜调整机构37具有由电机、滚珠丝杠、楔子组合而成的可动楔机构，通过设在X轴台35上表面的电机52旋转驱动滚珠丝杠轴53，并且将滚珠丝杠螺母54组装到楔状的移动体，使该楔子的斜面与从第一及第二基板台11、12的下表面突起设置的楔子55的斜面配合。

并且，旋转驱动该滚珠丝杠轴53时，滚珠丝杠螺母54在X轴方向上水平微动，该水平微动运动通过组装的楔状移动体的斜面变换为高精度的上下微动运动。该Z-倾斜调整机构37在X轴方向的一端配置二台、在另一端配置一台，共设置三台，分别被独立地驱动控制。

这样一来，Y轴传送机构34为了将各基板台11、12的基板保持部31上保持的基板W分别配置在掩模台10A、10B下方的曝光位置EP上，使第一基板台11在第一待机位置WP1和曝光位置EP之间沿导轨40向Y轴方向移动，使第二基板台12在第二待机位置WP2和曝光位置EP之间沿导轨40向Y轴方向移动。并且，Y轴传送机构34及X轴传送机构36移动第一及第二基板台11、12，使位于曝光位置EP的基板保持部31相对于掩模M向X、Y方向分步移动。并且，Y轴传送驱动机构39、X轴传送驱动机构46、及Z-倾斜调整机构37由电机和滚珠丝杠装置组合而成，但也可由具有定子和转子的直线电机构成。

并且，如图6至图8所示，第一及第二基板台11、12中，在各基板保持部31的X轴方向侧部和Y轴方向侧部分别安装条状镜61、62。并且，在台底座23的Y轴方向两侧、及台底座23的X轴方向的一侧设有三台激光干涉仪63、64、65。这样一来，激光从激光干涉仪63、64、65照射到条状镜61、62，接收由条状镜62反射的激光，测定激光与由条状镜61、62反射的激光的干涉，检测出第一及第二台11、12的位置。

如图7所示，照明装置13配置在掩模保持部25的开口部24的上方，具有紫外线照射用光源，例如高压水银灯、凹面镜、光学积分器、平面镜、球面镜、曝光控制用挡板等。照明装置13将图案曝光用的光线通过掩模M照射到移动到曝光位置EP的第一及第二基板台11、12的基板保持部31上所保持的基板W上。这样一来，掩模M的掩模图案被曝光转印到基板W。

预调整部件14用于在从基台21的外侧上设置的基板盒70A、70B运送来的基板W被提供到第一基板台11及第二基板台12之前进行预调整，使基板W相对掩模M的位置变为预定位置，图10中，配置在掩模台10A、10B的前方。预调整部件14具有未图示的X轴传送机构、Y轴传送机构、及旋转机构，将预调整部件14上装载的基板W的位置调整为预定的位置。

第一基板装载机15配置在图6中的预调整部件14的右侧，保持被运送到第二基板台12的基板W，并运送到预调整部件14，并且将已预调整的基板W从预调整部件14运送到第一基板台11。

第二基板装载机16相对于预调整部件14与第一基板装载机15相对配置，即，配置在图6中的预调整部件14的左侧，保持被运送到第一基板台11上的基板W并运送到预调整部件14，并且将已预调整的基板W从预调整部件14运送到第二基板台12。

如图9所示，第一及第二基板装载机15、16是在底座21上固定的支柱81上自由摆动地设置多个运送部82、83的多关节型装载机器。多个运送部82、83通过升降机构(未图示)沿支柱81上下移动，并且分别配置伺服电机，可彼此独立地被驱动。各运送部82、83具有：第一及第二臂部84、85；在第一臂部84的前端平行设置多个棒状部件86的装载台87。并且，通过控制各个伺服电机使其动作，使装载台87升降、旋转及移动，运送装载台87上的基板W。

具体而言，第一基板装载机15将基板盒70A中收容的基板W装载到装载台87上并运送到预调整部件14，将已预调整的基板W装载到装载台87上，从预调整部件14运送到第一基板台11，进一步将位于第一待机位置WP1的第一基板台11上的曝光转印后的基板W装载到装载台87上，向基板盒70A运送。

第二基板装载机16将基板盒70B中收容的基板W装载到装载台87上并向预调整部件14运送，将已预调整的基板W装载到装载台87上，从预调整部件14运送到第二基板台12，进一步将位于第二待机位置WP2的第二基板台12上的曝光转印后的基板W装载到装载台87上，向基板盒70B运送。

并且，在本实施方式中，如图6所示，掩模装载机17A及掩模储料器18A相对于曝光单元100B的侧面(图6的右侧面)相对配置，即，在图6中配置在曝光单元100A的上部左侧，掩模装载机17B及掩模储料器18B相对于曝光单元100A的侧面(图6的左侧面)相对配置，即，图6中配置在曝光单元100B的上部右侧方，掩模装载机17A及掩模储料器18A、和掩模装载机17B及掩模储料器18B彼此在对称位置上相对配置。

掩模装载机17A、17B具有和图9所示的第一及第二基板装载机15、16基本相同的构造，从掩模储料器18A、18B中存储的多个掩模M中选择并保持预定的掩模M，分别提供给掩模台10A、10B。此外，掩模装载机17A、17B中运送部为一个。并且，向掩模台10A、10B供给掩模M如本实施方式所示，可通过掩模装载机17A、17B从掩模储料器18A、18B直接提供到掩模台10A、10B，但不限于此，也可通过掩模装载机17A、17B从掩模储料器18A、18B暂时运送到第一及第二基板台11、12，之后通过第一及第二基板台11、12提供到掩模台10A、10B。

具体而言，掩模装载机17A从掩模储料器18A中存储的多个掩模M中选择预定的掩模M，将选择的掩模M装载到装载台87上，逆时针方向(图6的箭头A方向)运送，并安装到掩模台10A上。进一步，在更换掩模M时，将曝光转印后的掩模M装载到装载台87上，并存储到掩模储料器18A中。

并且，掩模装载机17B从掩模储料器18B中存储的多个掩模M中选择预定的掩模M，将选择的掩模M装载到装载台87上，顺时针方向(图6的箭头B方向)运送，并安装到掩模台10B上。进一步，在更换掩模M时，将曝光转印后的掩模M装载到装载台87上，并存储到掩模储料器18B中。

此外，掩模装载机17A、17B如图9所示的第一及第二基板装载机15、16那样，具有二个运送部82、83时，在将曝光转印前的掩模M保持在运送部82(83)的装载台87的状态下，将曝光转印后的掩模M通过运送部83(82)的装载台87取下，取下后可将运送部82(83)保持的曝光转印前的掩模M安装到掩模台10A、10B上。

掩模储料器18A、18B是用于收容掩模图案不同的多个掩模M的存储库，掩模M从掩模盒20被提供并被存储。并且，掩模储料器18A、18B的掩模供给口19A、19B互相相对配置。即，一个掩模供给口19A设置在曝光单元100A的上部左侧壁部，另一个掩模供给口19B设置在曝光单元100B的上部右侧壁部。

掩模盒20例如在底面具有脚轮(未图示)等，可在并列配置的曝光单元100A、100B之间自由移动、且自由旋转地构成，将向预定方向排列整齐的多个掩模M装载并收容到其内部设置的架子上。并且，在掩模盒20中，仅仅形成一处开口部20a，向掩模储料器18A、18B提供掩模M时，使掩模盒20移动及旋转，使开口部20a和掩模供给口19A或掩模供给口19B相对配置。这样一来，掩模M从箭头C方向提供到掩模储料器18A，从箭头D方向提供到掩模储料器18B(参照图6)。

在这种构造的曝光装置PE中，掩模M在粗箭头向左的状态下收容在掩模盒20中，将掩模M安装到曝光单元100A的掩模台10A时，掩模盒20以使其开口部20a和掩模储料器18A的掩模供给口19A相对的方式配置，掩模M使粗箭头向左方地提供并存储到掩模储料器18A。并且，掩模装载机17A从掩模储料器18A中存储的多个掩模M中选择并保持预定的掩模M，将选择的掩模向箭头A方向旋转大约90度并运送，安装到掩模台10A上。这样一来，掩模M以使粗箭头向下的方式安装到掩模台10A上。

并且，将掩模M安装到曝光单元100B的掩模台10B时，掩模盒20以使其开口部20a和掩模储料器18B的掩模供给口19B相对的方式配置，掩模M使粗箭头向右方地提供并存储到掩模储料器18B。并且，掩模装载机17B从掩模储料器18B中存储的多个掩模M中选择并保持预定的掩模M，将选择的掩模M向箭头B方向旋转大约90度并运送，安装到掩模台10B。这样一来，掩模M以使粗箭头向下的方式安装到掩模台10B。

即，对并列配置的曝光单元100A、100B的掩模储料台18A、18B的掩模M的供给可通过使一种掩模合20旋转180度来对应，可使掩模M向预定方向提供到掩模储料器18A、18B。

根据本实施方式的曝光装置PE，曝光单元100A、100B并列配置，曝光单元100A、100B具有：配置在各曝光单元100A、100B的对称位置上，收容多个掩模M，且以使掩模M的掩模供给口19A、19B彼此相对的方式配置的掩模储料器18A、18B；及从掩模储料器18A、18B将预定的掩模M提供到掩模台10A、10B的掩模装载机17A、17B，其中，由于具有将掩模M提供到掩模储料器18A、18B、并可在曝光单元100A、100B之间自由移动、且自由旋转的掩模盒20，因此可使用一种掩模盒20，将掩模M不会搞错插入方向地提供到多个曝光单元100A、100B的掩模储料器18A、18B中。这样一来，可将掩模M容易且高效地提供到各曝光单元100A、100B，因此可大幅提高作业效率。

此外，本发明不限于本实施方式，在不脱离本发明主旨的范围内可进行适当变更。

例如在本实施方式中，示例了将本发明适用于并列配置具有二台基板台的曝光单元的曝光装置的情况，但也可将本发明适用于并列配置具有一台基板台的曝光单元的曝光装置。

并且，在本实施方式中，示例了将本发明适用于并列配置二台曝光单元的曝光装置的情况，但不限于此，曝光单元的并列台数是任意的。

Claims (2)

1.一种曝光装置，具有：

并列配置的多个曝光单元，其具有：保持作为被曝光材料的基板的基板台；与所述基板相对配置并保持掩模的掩模台；通过所述掩模将图案曝光用的光照射到所述基板的照射装置；以及移动所述基板台，使所述基板与所述掩模在预定位置相对的基板台传送机构；

收容多个所述掩模的掩模储料器；以及

从所述掩模储料器将预定的所述掩模提供到所述掩模台的一台掩模装载机。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

多台所述掩模储料器并列配置，构成掩模库，

所述一台掩模装载机构成为在分别与所述掩模储料器及所述曝光单元对应的位置上自由移动。

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