CN104204957A - 曝光描绘装置及曝光描绘方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低的曝光描绘装置及曝光描绘方法。即，本发明的曝光描绘装置具备：台座(11)，载置被曝光基板；固定部(31a～31d)，从预先规定的第一位置移动到第二位置，在第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；描绘部，通过在端部被固定的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；及形成部(51)，与固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。

Description

曝光描绘装置及曝光描绘方法

技术领域

本发明涉及曝光描绘装置及曝光描绘方法。本发明特别是涉及对基板描绘图像的曝光描绘装置及曝光描绘方法。

背景技术

近年来，作为将平面基板作为被曝光基板而形成电路图案的曝光描绘装置，开发了不使用转印掩膜而直接将描绘光照射到基板上从而描绘电路图案的曝光描绘装置。可是，在对要求高分辨率的基板描绘电路图案的情况下，有时在孔加工中附着的灰尘及在移动过程中附着于孔的灰尘等落入到其他基板，或由于保护层涂敷等加工中的加热而使得孔周边发生变形。在该情况下，在基板的一面(以下，称作“第一面”)所描绘的电路图案和在与上述一面相向的另一面(以下，称作“第二面”)所描绘的电路图案的相对位置有时会发生偏移。

作为解决上述情况的技术，提出了在被曝光基板的第一面及第二面描绘电路图案的描绘所需的对准用的标记的曝光描绘装置。作为与此相关的技术，在日本特开2008－292915号公报中，公开了一种曝光描绘装置，其对被曝光基板的第一面及第二面分别描绘第一及第二对准用的标记，基于第一及第二对准用的标记，在基板的第一面及第二面描绘电路图案。

另外，美国专利6，701，197 B2号说明书中公开了一种描绘曝光装置，其使用与台座处于已知的位置关系的被固定的紫外线光源，与被曝光基板的第一面的曝光同时地在第二面形成对准用的标记。

发明内容

发明要解决的课题

然而，在上述美国专利6，701，197 B2号说明书所公开的曝光描绘装置中，紫外线光源被固定。因此，利用紫外线光源的工作槽，不会发生被曝光基板从台座浮起等现象。然而，载置于台座的被曝光基板在端部没有被切实地固定的情况下，基板有可能翘曲、或从台座浮起。在该情况下，第二面的标记形状有可能变得不稳定。

本发明提供能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低的曝光描绘装置及曝光描绘方法。

用于解决课题的手段

本发明的第一方式是图像描绘装置，具备：台座，载置被曝光基板；固定部，从预先规定的第一位置移动到第二位置，在第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；描绘部，通过在由固定部固定了端部的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；及形成部，与固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。

根据本发明的第一方式的曝光描绘装置，利用台座对被曝光基板进行载置，利用从预先规定的第一位置移动到第二位置的固定部，在第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持于该固定部与台座之间而固定。

在此，在本发明的第一方式中，利用描绘部在由固定部固定了端部的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，从而在该第一面描绘预先规定的电路图案。此外，利用与固定部的移动联动地移动的形成部，在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记。

即，在本发明的第一方式中，将被曝光基板载置于台座，在被曝光基板的端部由固定部固定了的状态下，在被曝光基板的第一面描绘电路图案，另一方面，在被曝光基板的第二面形成标记。另外，在本发明的第一方式中，在第二面描绘电路图案时，通过根据在该第二面形成的标记对描绘位置进行调整，来进行被曝光基板的表面和背面的对位。

如此，根据本发明的第一方式的曝光描绘装置，能够在由固定部固定了被曝光基板的端部的状态下在被曝光基板的第二面形成对位用的标记。该结果为，在本发明的第一方式中，能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面(第一面及第二面)的对位用的标记的品质降低。

另外，本发明的第二方式在上述第一方式的基础上，也可以是，还具备对形成部的位置进行计测的位置计测部。由此，在本发明的第二方式中，能够使用计测出的形成部的位置而对电路图案相对于第二面的描绘位置进行调整。

另外，本发明的第三方式在上述第二方式的基础上，也可以是，在台座形成贯通孔，由夹紧件构成固定部，该夹紧件通过贯通孔向基板载置侧突出而固定被曝光基板。由此，在本发明的第三方式中，能够将被曝光基板牢固地固定于台座。

另外，本发明的第四方式在上述第三方式的基础上，也可以是，形成部通过贯通孔而在被曝光基板的第二面形成标记。由此，在本发明的第四方式中，无需在台座设置新的贯通孔而能够在被曝光基板的第二面形成标记。

另外，本发明的第五方式在上述第四方式的基础上，也可以是，形成部具有出射紫外线束的光源，通过使从该光源出射的紫外线束通过贯通孔而照射到被曝光基板的第二面来形成标记。由此，在本发明的第五方式中，能够在被曝光基板的第二面精度良好地形成标记。

另外，本发明的第六方式在上述第二至第五方式的基础上，也可以是，位置计测部针对各个形成部具有与形成部的移动联动地移动的、作为形成部的位置基准的基准部，该基准部设于在将被曝光基板载置于台座的状态下向该被曝光基板的外部露出的位置。由此，在本发明的第六方式中，能够对形成部的位置简易地进行计测。

另外，本发明的第七方式在上述第六方式的基础上，也可以是，基准部经由贯通孔而向外部露出。由此，在本发明的第七方式中，无需在台座设置新的贯通孔而能够对形成部的位置进行计测。

另外，本发明的第八方式在上述第六或第五方式的基础上，也可以是，还具备：存储单元，存储对应的各形成部和基准部的位置关系；计测单元，对基准部的位置进行计测；及导出单元，根据由计测单元计测出的基准部的位置和存储于存储单元的位置关系而导出形成部的位置。由此，在本发明的第八方式中，能够对形成部的位置简易地进行计测。

另外，本发明的第九方式在上述第八方式的基础上，也可以是，基准部是多个位置识别用标记，存储单元分别存储多个位置识别用标记的各个位置识别用标记和形成部的位置关系，计测单元对与描绘电路图案的位置具有已知的关系的、多个位置识别用标记的各个位置识别用标记的位置进行计测，导出单元根据由计测单元计测出的各位置识别用标记的位置和存储于存储单元的位置关系而导出形成部的位置。由此，在本发明的第九方式中，能够对形成部的位置更简易地进行计测。

另外，本发明的第十方式在上述第九方式的基础上，也可以是，台座能够沿预定方向往复移动，在各露出部中，多个位置识别用标记的各个位置识别用标记以在与台座的往复移动方向交叉的方向上并列的方式设置。由此，在本发明的第十方式中，能够在同一时刻对多个位置识别用标记进行计测。

另外，本发明的第十一方式在上述方式的基础上，也可以是，形成部以相对于台座能够在预先规定的范围内移动的方式设置。由此，在本发明的第十一方式中，能够在与被曝光基板的尺寸对应的适当的位置形成标记。

另外，本发明的第十二方式在上述第六或第五方式的基础上，也可以是，在台座设有从第一面或第二面的方向对被曝光基板进行固定的其他固定部。由此，在本发明的第十二方式中，能够进一步防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低。

另外，本发明的第十三方式在上述第十二方式的基础上，也可以是，其他固定部通过从第一面或者第二面的方向吸附被曝光基板而将被曝光基板固定于台座。由此，在本发明的第十三方式中，能够进一步防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低。

本发明的第十四方式是一种曝光描绘方法，是曝光描绘装置中的曝光描绘方法，所述曝光描绘装置具备：台座，载置被曝光基板；固定部，从预先规定的第一位置移动到第二位置，将载置于台座的被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；描绘部，通过在由固定部固定了端部的状态下对被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；形成部，与固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的被曝光基板的与第一面相向的第二面形成预先规定的标记；及基准部，与形成部的移动联动地移动并作为形成部的位置基准，该曝光描绘方法具备：存储步骤，存储对应的各形成部和基准部的位置关系；位置计测步骤，对基准部的位置进行计测；及导出步骤，根据计测步骤中计测出的基准部的位置和存储步骤中所存储的位置关系而导出形成部的位置。

根据该本发明的第十四方式的曝光描绘方法，由于与本发明的第一方式的曝光描绘装置同样地发挥作用，因此能够与本发明的第一方式同样地，防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面(第一面及第二面)的对位用的标记的品质降低。

发明效果

根据本发明的上述方式，能够防止由被曝光基板的端部的翘曲、浮起等引起的表面和背面的对位用的标记的品质降低。

附图说明

图1是表示本发明的例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统的整体的结构的结构图。

图2是表示本发明的例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统的功能的框图。

图3A是表示对本发明的例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统的被曝光基板的表面进行了曝光的情况下的该表面的一例的主视图。

图3B是表示对本发明的例示性实施方式所涉及的被曝光基板的背面进行了曝光的情况下的该背面的一例的主视图。

图4是表示本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二描绘曝光描绘装置的结构的立体图。

图5是本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二曝光描绘装置的基板夹紧机构部的分解立体图。

图6是用于对本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二曝光描绘装置的光电传感器的功能进行说明的放大剖视图。

图7A是用于对本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二曝光描绘装置的位置计测部件进行说明的主要部分放大剖视图。

图7B是用于对本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二曝光描绘装置的位置计测部件进行说明的主要部分放大俯视图。

图8是表示本发明的例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统的翻转装置中的翻转机构的结构的概略侧主视图。

图9是表示本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置及第二曝光描绘装置的电气系统的结构图。

图10是表示本发明的例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统中台座的移动方向和摄影部的移动方向的关系的图。

图11是表示在本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置中载置有被曝光基板的台座的概略主视图及详示图。

图12是用于说明在本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置中利用基板夹紧机构对载置于台座的被曝光基板的端部进行固定的流程的概略侧视图。

图13A是表示在以往的曝光描绘装置中载置有被曝光基板的台座的概略主视图。

图13B是表示在图13A的b－b剖面处进行切断所得的概略剖视图的图。

图14是表示本发明的例示性实施方式所涉及的曝光前处理程序的处理的流程的流程图。

图15是用于本发明的例示性实施方式所涉及的曝光前处理的说明的概略主视图。

图16是表示本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光处理程序的处理的流程的流程图。

图17是用于本发明的例示性实施方式所涉及的第一曝光处理的说明的概略主视图。

图18是表示本发明的例示性实施方式所涉及的第二曝光处理程序的处理的流程的流程图。

图19是用于本发明的例示性实施方式所涉及的第二曝光处理的说明的概略主视图。

具体实施方式

以下，使用附图对本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统详细地进行说明。另外，在本例示性实施方式中，作为曝光描绘系统1，以将印制电路布线基板及平板显示器用玻璃基板等平板基板作为被曝光基板C、并对被曝光基板C的第一面(以下，也称作“表面”)C1及第二面(以下，也称作“背面”)C2这双方进行曝光描绘的系统为例进行说明。

图1是表示本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1的整体的结构的结构图。另外，图2是表示本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1的功能的框图。如图1及图2所示，曝光描绘系统1具备第一曝光描绘装置2、翻转装置3、第二曝光描绘装置4、第一搬运部5、第二搬运部6、第三搬运部7及第四搬运部8。第一曝光描绘装置2是在对紫外线光源51的位置进行计测后，对被曝光基板C的表面C1进行曝光并且在被曝光基板C的背面C2形成对准用的标记M。翻转装置3使被曝光基板C的表面和背面翻转。第二曝光描绘装置4利用对准用的标记M对描绘位置进行调整而对被曝光基板C的背面C2进行曝光。第一搬运部5将被曝光基板C搬运到第一曝光描绘装置2。第二搬运部6将被曝光基板C从第一曝光描绘装置2搬运到翻转装置3。第三搬运部7将被曝光基板C从翻转装置3搬运到第二曝光描绘装置4。第四搬运部8从第二曝光描绘装置4搬运被曝光基板C。

图3A是表示在对被曝光基板C的表面C1进行了曝光的情况下的该表面C1的一例的主视图，图3B是表示在对被曝光基板C的背面C2进行了曝光的情况下的该背面C2的一例的主视图。

如图3A所示，在被曝光基板C的表面C1，由第一曝光描绘装置2描绘表面用图像(本例示性实施方式中，为“F”的形状的图像)P1。另外，如图3B所示，在被曝光基板C的背面C2，利用第二曝光描绘装置4以与对表面C1的表面用图像P1进行描绘的坐标系(以下，称作“图像坐标系”)对应的图像坐标系来描绘背面用图像(本例示性实施方式中，为对与上述表面C1中的“F”的形状的图像对应的背面C2的区域进行包围的矩形框的形状的图像)P2。另外，在被曝光基板C的背面C2，在正面视上部中央侧及正面视下部中央侧，利用第一曝光描绘装置2对多个(本例示性实施方式中，为2个)对准用的标记M进行描绘。该对准用的标记M是用于使在被曝光基板C的表面C1及背面C2分别描绘的表面用图像P1的位置和背面用图像P2的位置相互对应的标记。

在本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1中，在被曝光基板C的搬运方向的上游侧设置第一曝光描绘装置2。若由第一搬运部5搬运的未曝光的被曝光基板C被搬入到装置内，则第一曝光描绘装置2在将被曝光基板C载置于台座10的状态下对后述的紫外线光源51的位置进行计测，并对被曝光基板C的表面C1进行曝光而在表面描绘表面用图像P1，在被曝光基板C的背面C2形成对准用的标记M。另外，针对紫外线光源51的位置的计测方法后述。

在本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1中，以从φ0.5mm到φ1mm左右的圆形来描绘对准用的标记M。对准用的标记M的大小、形状不限于此，大小只要是不与表面用图像P1及背面用图像P2的描绘重叠的大小即可，可以将形状任意地设定成十字型的形状、矩形型的形状等。

在第一曝光描绘装置2的被曝光基板C的搬运方向的下游侧，设置使被曝光基板C的表面和背面翻转的翻转装置3。若利用第一曝光描绘装置2对表面C1进行曝光且将描绘有对准用的标记M的被曝光基板C搬入，则翻转装置3为了在接下来的工序中对被曝光基板C的背面C2进行曝光而使被曝光基板C的表面和背面翻转。

在翻转装置3的被曝光基板C的搬运方向的下游侧，设置对被曝光基板C的背面C2进行曝光的第二曝光描绘装置4。若将利用翻转装置3翻转后的被曝光基板C搬入到装置内，则第二曝光描绘装置4对被曝光基板C的背面C2进行曝光而描绘背面用图像P2。此时，第二曝光描绘装置4使用由第一曝光描绘装置2在被曝光基板C上所描绘的对准用的标记M进行对位，之后对背面C2进行曝光。

另外，本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1具有第一搬运装置5、第二搬运装置6、第三搬运装置7及第四搬运装置8。第一搬运装置5将被曝光基板C搬运至第一曝光描绘装置2，从而搬入到第一曝光描绘装置2。第二搬运装置6将从第一曝光描绘装置2排出的被曝光基板C搬运至翻转装置3，从而搬入到翻转装置3。第三搬运装置7将从翻转装置3排出的被曝光基板C搬运至第二曝光描绘装置4，从而搬入到第二曝光描绘装置4。第四搬运装置8对从第二曝光描绘装置4排出的被曝光基板C进行搬运。

上述各搬运装置具有多个旋转辊和使旋转辊旋转的驱动马达。将旋转辊多根平行地敷设，在旋转辊的一端安装承受由传送带或丝线传递的旋转力的带齿卷盘或滑轮。作为对使旋转辊旋转的驱动马达的旋转力进行传递的单元，除了传送带或丝线以外，也能够采用基于圆筒状的磁体的传递方法。

另外，在本例示性实施方式中，为了提高被曝光基板C的生产率(单位时间的生产量)，使用第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置4这两台曝光描绘装置，第一曝光描绘装置2对被曝光基板C的表面C1进行曝光，第二曝光描绘装置4对被曝光基板C的背面C2进行曝光。然而，不限于此，也可以将被曝光基板C从表面C1向背面C2翻转而仅由第一曝光描绘装置2对被曝光基板C的两面进行描绘。

接下来，对第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置4的结构进行说明。

图4是表示本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二描绘曝光描绘装置4的结构的立体图。在此对第一曝光描绘装置2的结构进行说明，关于第二曝光描绘装置4的结构，对与第一曝光描绘装置2共通的结构省略说明，仅对与第一曝光描绘装置2的差异进行说明。另外，以下，将台座10所移动的方向定为Y方向，将在水平面内与该Y方向正交的方向定为X方向，将在铅垂面内与Y方向正交的方向定为Z方向，并且将以Z轴为中心的旋转方向定为θ方向。

如图4所示，第一曝光描绘装置2具备用于对被曝光基板C进行固定的平板状的台座10。在台座10的上表面，在载置被曝光基板C的区域，设置具有多个吸引空气的吸附孔的吸附机构(省略图示)。当将被曝光基板C固定于台座10的上表面时，该吸附机构从吸附孔10a对被曝光面C及台座10间的空气进行吸引，从而将被曝光基板C真空吸附在台座10的上表面，将被曝光基板C吸附保持于台座10。另外，台座10构成为能够移动，并且固定于台座10的被曝光基板C与台座10的移动相伴而将被曝光基板C移动至曝光位置，利用后述的曝光部16照射光束而在第一面C1描绘表面用图像P1。

台座10支撑在能够移动地设置于桌状的基体11的上表面的平板状的基台12。另外，在基台12和台座10之间设置移动机构部13，该移动机构部13具有由马达等构成的移动驱动机构(省略图示)。台座10利用移动机构部13而相对于基台12以台座10的中央部的垂线为中心轴沿θ方向旋转移动。

在基体11的上表面设置1根或者多根(本例示性实施方式中为2根)导轨14。基台12由导轨14支撑为能够往复自如地移动，利用由马达等构成的台座驱动部(后述的台座驱动部71)进行移动。并且，台座10支撑在该能够移动的基台12的上表面，从而沿导轨14进行移动。

在基体11的上表面，以横跨导轨14的方式竖立设置门型的门架15，在该门架15安装有曝光部16。曝光部16由多个(本例示性实施方式中，为16个)曝光头16a所构成，并且固定配置在台座10的移动路径上。在曝光部16分别连接有从光源单元17拉出的光纤18和从图像处理单元19拉出的信号线缆20。

各曝光头16a具有作为反射型的空间光调制元件的数字微镜芯片(DMD)。各曝光头16a基于从图像处理单元19输入的图像数据而对DMD进行控制并对来自光源单元17的光束进行调制，将该光束照射到载置于台座10的被曝光基板C。由此，进行基于第一曝光描绘装置2的曝光。另外，作为空间光调制元件，也可以使用液晶等透过型的空间光调制元件。

在基体11的上表面，还以横跨导轨14的方式设置门架22。在门架22，安装有用于对载置于台座10的被曝光基板C进行摄影的1个或者多个(本例示性实施方式中为2个)摄像部23。摄影部23是内置有1次发光时间极短的闪光灯的CCD相机等。各个摄影部23在水平面能够沿与台座10的移动方向(Y方向)垂直的方向(X方向)移动地设置，为了对后述的位置计测部件52及在被曝光基板C所描绘的对准用的标记M进行摄影而设置。另外，摄影部23相对于台座10的相对位置根据台座10或者摄影部23的移动而被计测，并存储于系统控制部70所具有的存储单元中。另外，在对位置计测部件52中的紫外线光源51进行摄影的情况下，在未载置被曝光基板C的状态下进行。

第一曝光描绘装置2根据利用摄影部23对位置计测部件52进行摄影所得的图像，导出紫外线光源51在被曝光基板C中的位置。另外，第二曝光描绘装置4根据利用摄影部23对对准用的标记M进行摄影所得的图像，与第一曝光描绘装置2中的紫外线光源51的位置进行比较而对该位置偏移量(X，Y，θ方向的偏移量)进行检测。该对准用的标记M的位置偏移量的信息用于在被曝光基板C的表面C1描绘的表面用图像P1和在背面C2描绘的背面用图像P2的位置的校正。

另外，理想为根据与位置计测部件52的个数(或者对准用的标记M的个数)对应的个数而设置摄影部23。然而，不限于此，也可以设置一个摄影部23，并通过使该摄影部23移动而对多个标记形成部52或者多个对准用的标记M进行摄影。

另外，在台座10的上表面设置用于将被曝光基板C牢固地固定于台座的基板夹紧机构部30。

图5是本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置4的基板夹紧机构部30的分解立体图。如图5所示，基板夹紧机构部30具有：一对夹紧杆31a、31b，从上方对被曝光基板C的一方向上的两端部进行夹紧；一对夹紧杆31c、31d，从上方对被曝光基板C的水平面中与上述一方向垂直的方向上的两端部进行夹紧；移动单元32a至32d，使这些夹紧杆31a至31d分别在水平方向上平行移动。夹紧杆31a至31d分别配置于台座10的上表面，移动单元32至32d配置于台座10的下方。

夹紧杆31a、31b在Y方向上为长条且在X方向上相向，夹紧杆31c、31d在X方向上为长条且在Y方向上相向。夹紧杆31a、31b的长度形成得比夹紧杆31b、31d短，并构成为即使在被曝光基板C的尺寸比较小的情况下，也不相互干扰。

夹紧杆31a包括：金属制(例如铝)的夹紧保持件33；树脂制的夹紧叶片34，固定在夹紧保持件33的下表面的内侧区域(台座10的中心侧区域)，并与被曝光基板C的表面C1接触；及2根支撑柱35，设置于夹紧保持件33的下表面的外侧区域(台座10的外侧区域)。在台座10，在各边以预定间隔形成一个或者多个(本例示性实施方式中，在各边为2个(共计8个))插通孔37，该插通孔37在表面和背面方向上贯通且以从端部朝着中央的方式在Y方向或者X方向上延伸，夹紧杆31a的2根支撑柱35插通于各边的2个插通孔37。夹紧杆31b至31d也是与夹紧杆31a同样的结构。

移动单元32a具有对2根支撑柱35进行支撑的支撑板40和使该支撑板40沿Z方向滑动移动的气缸41。气缸41的活塞杆42的前端固定于支撑板40的下表面。气缸41利用由马达等构成的驱动部而使活塞杆42下降及上升。活塞杆42的可动范围被限制，下降时、上升时均停止在预定位置。

在活塞杆42下降时，夹紧杆31a与活塞杆42一起下降，夹紧杆31a被压靠在台座10。在此，在将被曝光基板C载置于台座10的情况下，被曝光基板C由夹紧杆31a所夹紧。另一方面，在活塞杆42上升时，夹紧杆31a与活塞杆42一起上升，夹紧杆31a从台座10沿Z方向离开。夹紧杆31a从台座10离开的距离比被曝光基板C的厚度大。

移动单元32a还具有：沿X方向排列的驱动滑轮44和从动滑轮45；架设在这些滑轮44、45的同步带46；及使驱动滑轮44旋转的带驱动马达47。带驱动马达47能够正转及反转。在同步带46经由安装部48而安装有气缸41，若同步带46进行驱动，则气缸41及支撑板40沿X方向移动，由此夹紧杆31a沿X方向移动。夹紧杆31a使支撑柱35沿插通孔37滑动移动，在支撑柱35位于插通孔37的外侧的端部的退避位置和支撑柱35位于插通孔37的内侧的端部的中央位置之间移动。另外，将夹紧杆31a对被曝光基板C的周缘部进行夹紧时的夹紧杆31a的位置(退避位置和中央位置之间的任一位置)称作夹紧位置。

移动单元32b、32c、32d是与移动单元32a同样的结构。其中，移动单元32b使夹紧杆31b沿Z方向及X方向移动，移动单元32c使夹紧杆31c沿Z方向及Y方向移动，移动单元32d使夹紧杆31d沿Z方向及Y方向移动。

图6是用于对本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置4的光电传感器49的功能进行说明的放大剖视图。如图5及图6所示，在移动单元32a的支撑板40，设置用于检测有无被曝光基板C的反射型的光电传感器(基板端缘传感器)49。将光电传感器49安装于支撑板40并设置在与插通孔37对应的位置即从上方观察光电传感器49从插通孔37露出的位置。光电传感器49具有向上方发出检查光的投光部和对由被曝光基板C的背面C2反射的检查光进行接收的受光部，在受光部接收到检查光的情况下输出有基板信号，在受光部没有接收到检查光的情况下输出无基板信号。

夹紧杆31a的夹紧叶片34位于光电传感器49的上方。为了防止来自光电传感器49的检查光由夹紧叶片34反射而朝着光电传感器49返回，在夹紧叶片34的与插通孔37对应的部位形成倾斜面50。在各移动单元32b、32c、32d的支撑板40也设置与移动单元32a同样的光电传感器49。

另外，在各个支撑板40，设置有相对于载置于台座10的被曝光基板C形成对准用的标记M的位置计测部件52。图7A是用于对本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置4的位置计测部件52进行说明的主要部分放大剖视图。图7B是用于对本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置4的位置计测部件52进行说明的主要部分放大俯视图。另外，图7B中为了对紫外线光源51的结构进行说明而省略被曝光基板C。

如图5、图7A及图7B所示，各个位置计测部件52与各边上设置多个的插通孔37中的设置于中央的插通孔37对应，并形成为在沿插通孔37的方向上延伸的板状。在位置计测部件52，在台座10的中央侧，设置向台座10的方向产生紫外线束(短波长的光束)UV的紫外线光源51。使由该紫外线光源51产生的紫外线束UV通过插通孔37并照射到被曝光基板C，从而在被曝光基板C的第二面(与台座10相接一侧的面)C2描绘对准用的标记M。

另外，在位置计测部件52，在台座10的端部侧，将多个(本例示性实施方式中为2个)位置识别用标记52a设置在能够从台座10的上方视觉确认的同一面上。另外，在将被曝光基板C载置于台座10且固定于基板夹紧机构30的状态下，这些位置识别用标记52a形成于不由被曝光基板C所遮蔽而能够通过插通孔37从外部视觉确认的位置。由此，各个位置识别用标记52a能够在由摄影部23得到的摄影图像中进行识别。

各个位置计测部件52分别与移动单元32a至32d的移动联动而移动。与各个标记形成部52对应的插通孔37设置在包含各个位置计测部件52的移动路径的区域。紫外线光源51也能够在由曝光部16对被曝光基板C的表面C1进行曝光的期间，以对支撑柱35未插通的插通孔37进行贯通的方式产生紫外线束UV。另外，关于紫外线束UV的照射时间，可以根据涂敷在被曝光基板C的感光材料而设定各个最佳的时间。

另外，在各个位置计测部件52中，设置为紫外线光源51和位置识别用标记52a相互处于已知的位置关系，并且对各个位置关系预先进行计测并存储于系统控制部70所具有的存储单元。由此，在紫外线光源51位于被曝光基板C的背部的情况下等，即使在无法由摄影部23对紫外线光源51进行摄影的情况下，也能够通过对各个位置识别用标记52a进行摄影而对位置进行计测，并根据所计测的各个位置识别用标记52a的位置与所存储的紫外线光源51和位置识别用标记52a的位置关系，导出紫外线光源51的位置。

另外，第一曝光描绘装置2具备多个紫外线光源51，但是第二曝光描绘装置4未必一定具备多个紫外线光源51。也可以在第一曝光描绘装置2设置多个紫外线光源，并且通过使该紫外线光源移动而对多个对准用的标记M进行描绘。

第一曝光描绘装置2具备将由第一搬运装置5搬运来的被曝光基板C搬入到第一曝光描绘装置2的内部的自动搬运手(以下，AC手)62。AC手62形成为平板状，并且以能够与水平面平行地在水平方向及铅垂方向上移动的方式设置。另外，在AC手62的下表面设置：吸附机构，具有通过吸引空气而利用真空吸附对被曝光基板C进行吸附保持的吸附部63；及按压机构，具有将被曝光基板C向下方按压的上下移动自如的按压部64。

AC手62利用吸附机构对载置于第一搬运装置5的未曝光的被曝光基板C进行吸附保持，从而向上方吊起，将吊起后的被曝光基板C载置于台座10的上表面的预先规定的位置。在载置被曝光基板C时，一边利用按压机构将被曝光基板C按压在台座10一边将基于吸附部63的吸附解除，从而使得台座10的真空吸附发挥作用，将被曝光基板C牢固地固定在台座10。

另外，AC手62利用吸附机构对载置于台座10的上表面的曝光结束的被曝光基板C进行吸附保持，从而向上方吊起，使吊起后的被曝光基板C以吸附保持的状态移动至第二搬运装置6，然后将基于吸附机构的吸附解除，从而使被曝光基板C移动到第二搬运装置6。

根据本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1的基板夹紧机构部30，是如下结构：能够将被曝光基板C的周缘部切实地夹紧而对被曝光基板C的翘曲及变形进行矫正，并且使紫外线光源51、位置识别部件52及光电传感器59与夹紧杆31a至31d一起移动，不需要用于紫外线光源51及光电传感器59的移动机构，因此能够抑制基板夹紧机构部30的制造成本。

图8是表示本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1的翻转装置3中的翻转机构的结构的概略侧主视图。如图7所示，翻转装置3具备辊单元3b，所述辊单元3b具有夹持被曝光基板C的多个辊3a。辊单元3b由支撑棒3c所支撑，并在夹持被曝光基板C时，在被支撑棒3c抬起的状态下以设置于辊单元3b的中央部的旋转轴3d为中心而旋转。在辊单元3b旋转180度后，将被曝光基板C从辊单元3b释放，从而使得被曝光基板C的表面和背面翻转。另外，翻转机构的结构不限于上述的结构，也可以使用将被曝光基板C的一端抬起并使被曝光基板C旋转180度而使被曝光基板C的表面和背面翻转的方法、其他以往已知的方法。

图9是表示本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2及第二曝光描绘装置4的电气系统的结构图。

如图9所示，在第一曝光描绘装置2，设置分别与装置各部电连接的系统控制部70，该系统控制部70对各部集中地进行控制。系统控制部70对AC手62进行控制而进行被曝光基板C向台座10的搬入动作及排出动作。另外，系统控制部70一边对台座驱动部71进行控制而进行台座10的移动，一边利用摄影部23进行对准用的标记M的摄影从而根据对准标记M的位置来对图像的描绘位置进行调整，并且对光源单元17及图像处理单元19进行控制而使曝光头16a进行曝光处理。操作装置73具有显示部和输入部，例如，在输入被曝光基板C的外形尺寸时被操作。

基板载置位置决定部72决定被曝光基板C相对于台座10的载置位置(将该载置位置称作适当载置位置)。另外，在Y方向上通过对摄影部23的摄像时机进行调整而能够使对准用的标记M位于摄影区域的中央，因此Y方向上的适当载置位置也可以设定于台座10上的任一位置，本例示性实施方式中Y方向上的适当载置位置设定于被曝光基板C的中心和台座10的中心一致的位置。

在基板载置位置决定部72中，基于由进行向被曝光基板C的曝光动作前所进行的准备动作而得到的信息，算出X方向上的基板的适当载置位置(对准用的标记M的适当位置)。在该准备动作中，在X方向上将被曝光基板C载置于台座10的适当的位置(以在Y方向上使被曝光基板C的中心和台座10的中心一致、并使台座10的一方相向的边和被曝光基板C的一方相向的边分别平行的方式进行载置)后，利用摄影部23对对准用的标记M进行摄影，算出X方向上的摄影区域的中心位置和对准用的标记M的位置的偏移量，基于该偏移量算出X方向上的基板的适当载置位置。在准备动作中，对多枚(例如5枚)基板进行该处理，从而能够准确地求出适当的载置位置。另外，在该准备动作中，也决定摄影部23的摄影时机。算出的基板的适当载置位置信息及摄影时机信息被发送到系统控制部70，并存储于系统控制部70所具有的存储单元。

移动控制部74基于系统控制部70的指示，在台座10移动时，在对紫外线光源51的位置进行计测的情况下，以多个位置计测部件52的各个位置识别用标记52a通过多个摄影部23的各个摄影区域的方式对摄影部23的移动驱动进行控制。另外，移动控制部74基于系统控制部70的指示，在对被曝光基板C进行曝光描绘的情况下，以在被曝光基板C上形成的多个对准用的标记M通过多个摄影部23的各个摄影区域的方式对摄影部23的移动驱动进行控制。

移动控制部74基于系统控制部70的指示，分别对移动单元32a至32d的驱动进行控制。移动控制部74对来自移动单元32a至32d的光电传感器49的信号(有基板信号或者无基板信号)进行监视，并基于该信号对移动单元32a至32d的气缸41及带驱动马达75的驱动进行控制，使夹紧杆31a至31d进行夹紧动作。

在移动控制部74中，基于从操作装置73输入的基板尺寸信息及由准备动作算出的基板的适当载置位置信息，对台座10上的区域中的载置有被曝光基板C的区域进行推测，基于该推测出的区域将夹紧杆31a至31d的移动速度在高速/低速之间进行切换。具体来说，在台座10上，在比从被曝光基板C的周缘离开距离L1(例如40mm)的位置(图6参照)靠外侧的位置设定为高速移动，在比该位置靠内侧的位置设定为低速移动。由此，由于在低速移动时进行被曝光基板C的检测，因此能够对被曝光基板C切实地进行检测。另外，将从被曝光基板C的周缘离开了距离L1的位置称作减速位置(切换点)。夹紧杆31a至31d停止在从检测出被曝光基板C的位置向内侧进入了预定距离(例如5mm)的夹紧位置，并在该夹紧位置进行夹紧。该夹紧位置成为夹紧杆31a至31d的支撑柱35不与被曝光基板C的端缘抵接的位置。

在夹紧杆31a至31d高速移动时检测出被曝光基板C的情况下，移动控制部74判断为实际的基板尺寸比所输入的基板尺寸大，使夹紧杆31a至31d的移动立即停止并且向系统控制部70输出异常信号。系统控制部70接收到异常信号，而使操作装置73的显示部显示基板尺寸较大这一内容的错误信息。另外，也可以替代显示错误信息而产生警告音。

另外，在夹紧杆31a至31d低速移动而未检测出被曝光基板C且低速移动持续了预定时间的情况下，移动控制部74判断为实际的基板尺寸比所输入的基板尺寸小，或者，判定为未载置基板，使夹紧杆31a至31d的移动立即即停止并且向系统控制部70输出异常信号。系统控制部70接收到异常信号而使操作装置73的显示部显示基板尺寸小、或者未载置被曝光基板C这一内容的错误信息。

图10是表示本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1中台座10的移动方向和摄影部23的移动方向的关系的图。如图10所示，摄影部23的移动方向是在水平方向上与台座10的移动方向(Y方向)垂直的方向(X方向)。在利用摄影部23对多个紫外线光源51或者在被曝光基板C所描绘的对准用的标记M进行摄影时，通过使台座10移动而对Y方向的位置进行控制，通过使摄影部23移动而对X方向的位置进行控制，从而以多个位置计测部件52或者对准用的标记M包含于摄影部23的摄影区域的方式对各个相对位置进行控制。另外，摄影部23的移动方向不限于X方向，只要能够对位置计测部件52或者在被曝光基板C所描绘的对准用的标记M进行摄影即可，可以是能够在X方向及Y方向这两个方向上移动，或者也可以是能够在除X方向及Y方向以外的其他方向上移动。

在此，在本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1中，为了利用紫外线光源51的位置进行在第一面C1所描绘的图像和在第二面C2所描绘的图像的相互的对位，而利用位置计测部件52对紫外线光源51的位置进行计测。

图11是表示本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2中载置有被曝光基板C的台座10的概略主视图及详示图。另外，后述的图12是表示在图11的a－a剖面处进行切断所得的概略剖视图的图。

如图11所示，在将被曝光基板C载置于台座10且利用基板夹紧机构30的夹紧保持件33将被曝光基板C的端部固定的状态下，在从正面观察台座10的情况下，紫外线光源51位于被曝光基板C的背部，因此无法进行视觉确认，但是各个位置计测部件52的位置识别用标记52a配置在不与被曝光基板C重合的位置，因此能够进行视觉确认。

另外，如图11所示，分别将一个紫外线光源51和一个位置计测部件52(两个位置识别用标记52a)组合，以各个组中紫外线光源51和各个位置识别用标记52a分别处于已知的位置关系的方式进行设置。另外，对各个位置识别用标记52a和紫外线光源51的位置关系预先进行计测而存储于系统控制部70所具有的存储单元。由此，即使在紫外线光源51位于被曝光基板C的背部的情况下等无法对紫外线光源51的位置直接进行计测的情况下，也能够通过对各个位置识别用标记52a的位置进行计测，从而根据所计测的各个位置与所存储的各个位置识别用标记52a和紫外线光源51的位置关系，而导出紫外线光源51的位置。

另外，在本例示性实施方式中，为了包含旋转成分而准确地导出紫外线光源51的位置，设置两个以上的位置识别用标记52a，但是不限于此，如果位置识别用标记52a的形状是能够对紫外线光源51所存在的方向进行确定的形状的标记，且对位置识别用标记52a和紫外线光源51的距离预先进行计测而存储，则能够从一个位置识别用标记52a导出紫外线光源51的位置，因此位置识别用标记52a也可以是一个。

另外，四组分别对应的紫外线光源51及位置识别用标记52a中的两组紫外线光源51及位置识别用标记52a在载置有矩形状的被曝光基板C的载置区域中，以分别成为同一直线状的方式设置在与被曝光基板C的一方相向的边平行(例如Y方向)且不通过载置区域的中央的位置。其他两组紫外线光源51及位置识别用标记52a也在载置有矩形状的被曝光基板C的载置区域中，以分别成为同一直线状的方式设置在与被曝光基板C的另一方相向的边平行(例如X方向)且不通过载置区域的中央的位置。由此，针对沿Y方向延伸的同一直线状的两组紫外线光源51及位置识别用标记52a，能够通过使台座10沿Y方向移动而利用一个摄影部23进行摄影。此时，如上述那样，各个紫外线光源51及位置识别用标记52a以成为不通过载置区域的中央的同一直线状的方式进行设置，从而能够利用紫外线光源51或者位置识别用标记52a的位置对被曝光基板C的左右方向、上下方向进行识别。

此外，各个紫外线光源51也可以在载置有矩形状的被曝光基板C的载置区域中的各边的中央附近形成对准用的标记M。由此，能够减小对被曝光基板C的第一面C1及第二面C2的描绘时的对位的误差，提高对位的精度。

此后，使一个位置计测部件52中的多个位置识别用标记52中的各个位置识别用标记52a在与台座10的移动方向正交的X方向上并列，从而在与台座10的移动相伴而由摄影部23进行摄影时，能够以相同时机进行摄影，因此能够以相同时机对各个位置识别用标记52a的位置进行计测。

在此，在被曝光基板产生了翘曲、变形的情况下，在以往的曝光描绘装置的台座上载置有被曝光基板的状态下，被曝光基板的端部从台座浮起，在要在被曝光基板的端部形成对准用的标记时，难以将对准用的标记准确地形成在予测的位置。另一方面，在本例示性实施方式中，如上述那样，利用基板夹紧机构30的夹紧保持件33将载置于台座10的被曝光基板C的端部夹持并固定于夹紧保持件33与台座10之间，从而能够防止被曝光基板C的端部从台座10浮起。

图12是用于说明利用基板夹紧机构30对本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2中载置于台座10的被曝光基板C的端部进行固定的流程的概略侧视图。

如图12的(1)所示，在将被曝光基板C载置于台座10的上表面的状态下，如图12的(2)所示，夹紧保持件33为了将被曝光基板C的端部夹持于夹紧保持件33与台座10之间而移动到上方并停止。另外，若如图12的(3)所示，夹紧保持件33在沿着台座10的上表面的平面内移动，并移动至与被曝光基板C的端部在Z方向上重合的位置并停止，则如图12的(4)所示，接下来夹紧保持件33移动到下方，在将被曝光基板C的端部夹持于夹紧保持件33与台座10之间的状态下停止。由此，将被曝光基板C的端部固定于台座10和夹紧保持件33之间。如此，在将被曝光基板C的端部夹持并固定的状态下对被曝光基板C照射紫外线光源UV而形成对准用的标记M，从而能够始终在准确的位置以准确的形状形成对准用的标记M。

图13A是表示以往的曝光描绘装置中载置有被曝光基板的台座的概略主视图，图13B是表示在图13A的b－b剖面处进行切断所得的概略剖视图的图。

如图13A所示，在将被曝光基板载置于台座的状态下，针对台座上的设置有插通孔的区域，不将被曝光基板吸附固定于台座。由此，如图13B所示，被曝光基板在设置有插通孔的区域有可能从台座变形而浮起。在这种情况下，在以往的曝光描绘装置中，由于在被曝光基板发生变形的状态下进行曝光描绘，从而使得曝光描绘失败而产生废品。

在本例示性实施方式所涉及的第一曝光描绘装置2中，利用基板夹紧机构30对被曝光基板C的端部进行固定，从而能够将被曝光基板C的设置有插通孔37的区域的变形消除。

接下来，对本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1中的曝光描绘处理的流程进行说明。

图14是表示本例示性实施方式所涉及的曝光前处理程序的处理的流程的流程图，将该程序预先存储在作为第一曝光描绘装置2的系统控制部70所具备的记录介质的ROM的预定区域。另外，图15是用于本例示性实施方式所涉及的曝光前处理的说明的概略主视图。

第一曝光描绘装置2的系统控制部70在预先规定的时机(本例示性实施方式中，为将被曝光基板C载置于台座10的时机)，执行该曝光前处理程序。

若将被曝光基板C载置于台座10，则在步骤S101中，系统控制部70使紫外线光源51相对于被曝光基板C的位置移动。在本例示性实施方式中，与基板夹紧机构部30的移动单元32a至32d的移动联动而进行移动。因此，系统控制部70通过对移动单元32a进行控制，而使开状态的夹紧杆31a至31d从台座10的端部向中央部的移动开始，从而使紫外线光源51的位置移动，并且在从光电传感器49接收到有基板信号的情况下，在接收到的位置或者接收后原样移动预定距离后的位置，使夹紧杆31a至31d转移到闭状态。由此，在夹紧杆31a至31d将被曝光基板C夹持在夹紧杆31a至31d与台座10之间的状态下进行固定，与此相伴，紫外线光源51的位置也被固定。

在步骤S103中，系统控制部70利用摄影部23对多个位置识别用标记52a中的各个位置识别用标记52a进行摄影，根据该摄影图像对位置识别用标记52a的位置进行计测，从所计测的位置识别用标记52a的位置导出紫外线光源51的位置。另外，对紫外线光源51的位置进行计测的方法不限于上述的方法，也可以是如下方法：夹紧杆31a至31d与紫外线光源51的位置关系已知，对夹紧杆31a至31d的位置进行计测，从夹紧杆31a至31d与紫外线光源51的相对位置导出紫外线光源51的位置。在该情况下，系统控制部70取得带驱动马达75所具备的步进马达的脉冲，从而对夹紧杆31a至31d的位置进行计测。

另外，在步骤S105中，系统控制部70在台座10上设置对应的坐标系(以下，称作“台座坐标系”)，结束曝光前处理程序。如图15所示，在曝光前处理的阶段，在台座坐标系中预先规定的位置配置各个紫外线光源51。

第一曝光描绘装置2的系统控制部70在曝光前处理完成的时机执行第一曝光处理。图16是表示本例示性实施方式所涉及的第一曝光处理程序的处理的流程的流程图，该程序预先存储在作为第一曝光描绘装置2的系统控制部70所具备的记录介质的ROM的预定区域。另外，图17是用于本例示性实施方式所涉及的第一曝光处理的说明的概略主视图。

在步骤S201中，系统控制部70基于步骤S103中计测的紫外线光源51的位置，对被曝光基板C设定用于描绘表面用图像P1的坐标系即图像坐标系。如图15所示，在第一曝光处理的阶段，根据紫外线光源51相对于台座坐标系的位置而设定图像坐标系。也可以向任意的图像坐标系导入紫外线光源51的位置。

在步骤S203中，系统控制部70基于步骤S201中设定的图像坐标系，使台座10移动到曝光位置。此时，系统控制部70使台座10沿导轨14在X方向上移动，并且使台座10移动至基于曝光头16a的曝光对象位置与在被曝光基板C对表面用图像P1进行描绘时的开始位置一致的位置。

在步骤S205中，系统控制部70开始基于各曝光头16a的曝光，在被曝光基板C的表面C1的、基于在步骤S201中设定的图像坐标系的位置描绘表面用图像P1。另外，在步骤S207中，系统控制部20从紫外线光源51产生紫外线束UV，在被曝光基板C的背面C2描绘对准用的标记M。另外，步骤205的对被曝光基板C的表面C1的处理和步骤S207的对被曝光基板C的背面C2的处理并不妨碍相互的处理，能够同时并行地进行，因此可以同时进行步骤S205及步骤S207的处理，或者，也可以在步骤S205的处理前进行步骤S207的处理。如图17所示，基于图像坐标系，在被曝光基板C的表面C1描绘表面用图像P1，在背面C2描绘对准用的标记M。

如此，在对被曝光基板C的表面C1的表面用图像P1的描绘处理中在背面C2描绘对准用的标记M，从而没有必要另行进行描绘对准用的标记M的处理，因此不会对曝光描绘处理的周期时间造成影响，能够较长地确保对准用的标记M的印刷的保持时间，能够提高对背面C2的描绘处理中的对准用的标记M的摄影图像的对比度，因此能够抑制对准用的标记M的识别偏差。

另外，由于对准用的标记M在被紫外线束UV照射后而被印刷，从而在被曝光基板C中能够视觉确认地被显示，因此能够通过利用摄影部23进行摄影而对其位置、形状进行确认。

在步骤S209中，系统控制部70将台座10移动至载置有被曝光基板C的位置，结束第一曝光处理程序。若台座10移动到被曝光基板C的载置位置，则被曝光基板C由AC手62吸附保持从而移动到第二搬运装置6，由第二搬运装置6搬运到翻转装置3，利用翻转装置3将表面和背面翻转后，由第三搬运装置7搬运到第二曝光描绘装置4。

第二曝光描绘装置4的系统控制部70以预先规定的时机(本例示性实施方式中，为将被曝光基板C载置于台座10的时机)，执行该曝光前处理程序。

图18是表示本例示性实施方式所涉及的第二曝光处理程序的处理的流程的流程图，该程序被预先存储在作为第二曝光描绘装置4的系统控制部70所具备的记录介质的ROM的预定区域。另外，图19是用于本例示性实施方式所涉及的第二曝光处理的说明的概略主视图。

在步骤S301中，系统控制部70将载置有被曝光基板C的台座10移动到使步骤S207中描绘的对准用的标记M的整体包含在基于摄像装置23的摄像图像的位置。此时，系统控制部70使台座10沿导轨14在Y方向上移动，并且使台座10移动到设置摄影部23的位置和设置对准用的标记M的位置在Y方向上大致一致的位置。

另外，基于摄影部23的摄影区域是在被曝光基板C的背面C2设置有对准用的标记M的区域，比包含被曝光基板C的设置误差的区域大。由此，即使在被曝光基板C的设置位置从预先设定的设置位置偏移的情况下，如果将以位于对准用的标记M的中心部的方式设定的位置为中心而进行摄影，则也包含在区域摄影部23的摄影区域。

在步骤S303中，系统控制部70根据利用摄像部23对对准用的标记M进行摄像的摄像图像，计测对准用的标记M的位置。另外，在步骤S305中，系统控制部70基于步骤S303中计测的对准用的标记M的位置，对图像坐标系进行设定，该图像坐标系用于决定对被曝光基板C的背面C2描绘背面用图像P2的位置。此时，以与步骤S201中设定的图像坐标系对应的方式，即以步骤S103中计测的紫外线光源51的位置和表面用图像C1的描绘位置的相对位置与对准用的标记M的位置和背面用图像C2的描绘位置的相对位置相互对应的方式设定图像坐标系。如图19所示，在第二曝光处理的阶段，基于对准用的标记M的位置来设定图像坐标系，因此台座坐标系和图像坐标系的相对位置有时也与第一曝光处理的阶段不同。

在步骤S307中，系统控制部70基于步骤S305中设定的图像坐标系，使台座10向曝光位置移动。此时，系统控制部70使台座10沿导轨14在Y方向上移动，并且使台座10移动至基于曝光头16a的曝光对象位置与在被曝光基板C描绘背面用图像P2时的开始位置一致的位置。

在步骤S309中，系统控制部70开始基于各曝光头16a的曝光，在被曝光基板C的背面C2描绘背面用图像P2。如图17所示，基于图像坐标系，在被曝光基板C的背面C2描绘背面用图像P2。

在步骤S311中，系统控制部70使台座10移动至载置有被曝光基板C的位置，结束第二曝光处理程序。若台座10移动至被曝光基板C的载置位置，则在表面C1及背面C2的两面描绘了图像后的被曝光基板C由AC手62吸附保持，从而移动到第四搬运装置8，并由第四搬运装置8搬运。

图18是表示在本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1中被曝光基板C的尺寸和对准用的标记M的描绘位置的关系的概略主视图。在本例示性实施方式中，夹紧杆31a至31d利用基板夹紧机构部30的移动单元32a至32d而移动时，紫外线光源51与该移动联动而移动。因此，如图18所示，光电传感器49对被曝光基板C的端部进行探测，夹紧杆31a至31d将被曝光基板C的端部固定，从而自动地固定到紫外线光源51对被曝光基板C的端部照射紫外线束UV的位置。另外，夹紧杆31a至31d的位置和紫外线光源51的位置关系能够自由地设计。由此，在本例示性实施方式中，不会依赖于被曝光基板C的尺寸，能够在被曝光基板C的预先规定的位置描绘对准用的标记M。

另外，步骤S103中对紫外线光源51的位置进行计测的方法因所要求的计测精度而不同，基板夹紧机构部30的移动单元32a至32d具备步进马达，也可以利用该步进马达的脉冲进行计测。或者，移动单元32a至32d也可以具备旋转编码器，利用旋转编码器的脉冲对位置进行计测。或者，也可以在第一曝光描绘装置2的任一部位设置光学式的距离传感器或者利用了超声波的距离传感器，通过这些距离传感器来计测位置。

在使用位置识别用标记52a对紫外线光源51的位置进行计测的情况下，即使无法对紫外线光源51进行摄影，只要利用摄影部23对两个以上的位置识别用标记进行摄影即可，因此对紫外线光源51的位置进行计测的时机不限于步骤S103的时机，只要在前处理或者第一曝光处理中的任一时机对紫外线光源51的位置进行计测即可。

另外，在利用摄影图像中的紫外线光源51的位置相对于理论值的偏差量对紫外线光源51的位置进行计测时，优选为紫外线光源51处于摄像部23的焦点深度内，但在紫外线光源51不处于摄像部23的焦点深度内的情况下，可以以紫外线光源51位于摄像部23的焦点深度内的方式对台座10的高度(Z方向上的位置)进行变更。

另外，在本例示性实施方式中，对两个对准用的标记M进行了描绘，但是不限于此，对准用的标记M的数目只要是两个以上则可以任意地进行设定。对准用的标记M的数目越多，则越能够提高被曝光基板C的表面和背面的对准精度。

另外，在本例示性实施方式中，使用紫外线光源51在被曝光基板C描绘对准用的标记M，但是不限于此，也可以通过喷涂油墨或转印而进行描绘。

另外，在本例示性实施方式中，紫外线光源51设置成能够在X方向或者Y方向上移动，但是不限于此，也可以使用能够在任意方向上移动的紫外线光源。另外，紫外线光源的移动路径可以是横穿被曝光基板C的中央部的路径，也可以是横穿被曝光基板C的任意位置的路径。

在本例示性实施方式中，使紫外线光源51与夹紧机构部30的移动单元32a至32d联动而移动，但是不限于此，也可以通过由马达等构成的移动机构使紫外线光源51分别单独地移动。在该情况下，可以对被曝光基板C的尺寸及台座10的载置位置预先进行存储，紫外线光源51以移动到根据所存储的尺寸及载置位置而预先规定的位置的方式进行设定。

另外，在步骤S205中表面用图像P1的描绘失败的情况下，可以不进行步骤S207的处理(对准用的标记M的描绘处理)而转移到步骤S209的处理。在该情况下，不在表面用图像P1的描绘失败的被曝光基板C描绘对准用的标记M，因此使用者对各个被曝光基板C确认有无对准用的标记M，从而能够对表面用图像P1的描绘是成功还是失败进行判别。

另外，也可以在步骤S309中对背面用图像P2进行描绘时，使操作装置73的显示部显示在步骤S305中设定了图像坐标系后的背面用图像P2。由此，使用者通过对显示部所显示的背面用图像P2进行确认，能够对台座坐标系和图像坐标系的偏移量进行推测。

另外，可以将紫外线光源51的移动范围设定为包含从作为曝光对象的最小尺寸的基板的端面的位置到最大尺寸的基板的端面的位置的范围。由此，无论作为曝光对象的基板尺寸是哪一种尺寸，都能够通过紫外线光源51描绘对准用的标记M。

另外，在本例示性实施方式所涉及的曝光描绘系统1中，将紫外线光源51及位置计测部件52固定于支撑板40(即移动单元32)，但是不限于此，也可以是紫外线光源51及位置计测部件52相对于移动单元32而移动的结构。在该情况下，例如，可以使紫外线光源51及位置计测部件52经由具有马达等的移动机构而设置于移动单元32。即，只要紫外线光源51和位置计测部件52的相互的位置关系已知而能够通过对位置计测部件52的位置进行计测来导出紫外线光源51的位置即可。能够不依赖于基板夹紧机构30的移动单元32a至32d的可移动区域，通过使紫外线光源51及位置识别部件52移动而在该位置在被曝光基板C形成对准用的标记M。

通过参照将日本申请2012－082559的公开内容整体引入到本说明书中。

关于本说明书中记载的全部文献、专利申请及技术规格，与将各文献、专利申请及技术规格通过参照而引入这一情况具体且分别记述的情况相同程度地通过参照而引入到本说明书中。

Claims (14)

1.一种曝光描绘装置，具备：

台座，载置被曝光基板；

固定部，从预先规定的第一位置移动到第二位置，在所述第二位置，将载置于所述台座的所述被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；

描绘部，通过在由所述固定部固定了端部的状态下对所述被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；及

形成部，与所述固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的所述被曝光基板的与所述第一面相向的第二面形成预先规定的标记。

2.根据权利要求1所述的曝光描绘装置，其中，

还具备对所述形成部的位置进行计测的位置计测部。

3.根据权利要求2所述的曝光描绘装置，其中，

在所述台座形成贯通孔，

由夹紧件构成所述固定部，所述夹紧件通过所述贯通孔向基板载置侧突出而固定所述被曝光基板。

4.根据权利要求3所述的曝光描绘装置，其中，

所述形成部通过所述贯通孔而在所述被曝光基板的所述第二面形成所述标记。

5.根据权利要求4所述的曝光描绘装置，其中，

所述形成部具有出射紫外线束的光源，通过使从该光源出射的紫外线束通过所述贯通孔而照射到所述被曝光基板的所述第二面来形成所述标记。

6.根据权利要求2～5中任一项所述的曝光描绘装置，其中，

所述位置计测部针对各个所述形成部具有与所述形成部的移动联动地移动的、作为所述形成部的位置基准的基准部，该基准部设于在将所述被曝光基板载置于所述台座的状态下向该被曝光基板的外部露出的位置。

7.根据权利要求6所述的曝光描绘装置，其中，

所述基准部经由所述贯通孔而向外部露出。

8.根据权利要求6所述的曝光描绘装置，其中，

还具备：

存储单元，存储对应的各所述形成部和所述基准部的位置关系；

计测单元，对所述基准部的位置进行计测；及

导出单元，根据由所述计测单元计测出的所述基准部的位置和存储于所述存储单元的所述位置关系而导出所述形成部的位置。

9.根据权利要求8所述的曝光描绘装置，其中，

所述基准部是多个位置识别用标记，

所述存储单元分别存储所述多个位置识别用标记的各个位置识别用标记和所述形成部的位置关系，

所述计测单元对与描绘电路图案的位置具有已知的关系的、所述多个位置识别用标记的各个位置识别用标记的位置进行计测，

所述导出单元根据由所述计测单元计测出的各所述位置识别用标记的位置和存储于所述存储单元的所述位置关系而导出所述形成部的位置。

10.根据权利要求9所述的曝光描绘装置，其中，

所述台座能够沿预定方向往复移动，

在各所述露出部中，所述多个位置识别用标记的各个位置识别用标记以在与所述台座的往复移动方向交叉的方向上并列的方式设置。

11.根据权利要求1所述的曝光描绘装置，其中，

所述形成部以相对于所述台座能够在预先规定的范围内移动的方式设置。

12.根据权利要求1所述的曝光描绘装置，其中，

在所述台座设有从所述第一面或所述第二面的方向对所述被曝光基板进行固定的其他固定部。

13.根据权利要求12所述的曝光描绘装置，其中，

所述其他固定部通过从所述第一面或所述第二面的方向吸附所述被曝光基板而将所述被曝光基板固定于所述台座。

14.一种曝光描绘方法，是曝光描绘装置中的曝光描绘方法，

所述曝光描绘装置具备：

台座，载置被曝光基板；

固定部，从预先规定的第一位置移动到第二位置，将载置于所述台座的所述被曝光基板的端部夹持在该固定部与该台座之间而固定；

描绘部，通过在由所述固定部固定了端部的状态下对所述被曝光基板的第一面进行曝光，在该第一面描绘预先规定的电路图案；

形成部，与所述固定部的移动联动地移动，并在由该固定部固定了端部的状态下的所述被曝光基板的与所述第一面相向的第二面形成预先规定的标记；及

基准部，与所述形成部的移动联动地移动并作为所述形成部的位置基准，

所述曝光描绘方法具备：

存储步骤，存储对应的各所述形成部和所述基准部的位置关系；

位置计测步骤，对所述基准部的位置进行计测；及

导出步骤，根据所述计测步骤中计测出的基准部的位置和所述存储步骤中所存储的所述位置关系而导出所述形成部的位置。