JP2006301170A - 露光装置およびその方法 - Google Patents
露光装置およびその方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006301170A JP2006301170A JP2005120873A JP2005120873A JP2006301170A JP 2006301170 A JP2006301170 A JP 2006301170A JP 2005120873 A JP2005120873 A JP 2005120873A JP 2005120873 A JP2005120873 A JP 2005120873A JP 2006301170 A JP2006301170 A JP 2006301170A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- substrate
- belt
- unit
- feeding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【課題】 基板の垂れが発生せず基板にしわがよらず、高い品質と生産性のよい帯状基板を製造する。
【解決手段】 露光装置1は、帯状基板9をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光する。感光材が付着された露光面を有するフレキシブルな帯状基板9は、送り駆動装置23、25によって、繰り出し用ロール7を有する繰り出し部と、巻き取り用ロール15を有する巻き取り部との間を移動する。前記繰り出し部と前記巻き取り部との間には、垂直経路部が形成されている。前記垂直経路部には露光部が設けられている。露光部は、フォトマスク41、43を有する。フォトマスクに描かれたパターンは、光学系装置45の光源47の光51によって帯状基板の露光面に転写される。前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられている。
【選択図】図1
【解決手段】 露光装置1は、帯状基板9をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光する。感光材が付着された露光面を有するフレキシブルな帯状基板9は、送り駆動装置23、25によって、繰り出し用ロール7を有する繰り出し部と、巻き取り用ロール15を有する巻き取り部との間を移動する。前記繰り出し部と前記巻き取り部との間には、垂直経路部が形成されている。前記垂直経路部には露光部が設けられている。露光部は、フォトマスク41、43を有する。フォトマスクに描かれたパターンは、光学系装置45の光源47の光51によって帯状基板の露光面に転写される。前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられている。
【選択図】図1
Description
この発明は、帯状基板の少なくとも片面にフォトマスクを通して光を照射することにより、前記フォトマスクに描かれた例えばパターンなどを前記帯状基板に転写する露光装置およびその方法に関する。
従来、フレキブルな帯状基板(DF+CCL)を露光する方法としては、帯状基板を所定長さにカットし、そのカットした基板を1枚ずつ露光する枚葉露光方法(特許文献1参照)と、帯状基板が円筒状に巻かれている繰り出し用ロールと、この帯状基板を円筒状に巻き取る巻き取りロールとの間で、帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、この帯状基板を所定長さの領域ごとに露光するロールツウロール露光方法が知られている。この二つの露光方法を比較すると、基板をカットするなどの作業工数を少なくできること、作業者のハンドリングに起因する不良を減少させることができること、さらには後工程でのオーバーエッチングを減少させることができること、など品質の点、生産性の点でロールツウロール露光方法の方が有利であり、今後この露光方法が普及していくと考えられる。ロールツウロール露光方法に対応した露光装置は、帯状基板を水平状態で露光する水平型露光装置と、帯状基板を垂直状態で露光する垂直型露光装置が考えられる。
特開2002−148810号公報
しかし上述した従来の垂直型露光装置は、構成上、露光部が大きくなるため、露光部の横に設置される繰り出し部および巻き取り部を含めた装置全体が水平型露光装置に比べ大型になってしまうことと、露光部に対して帯状基板を垂直に通す構造のため、帯状基板のセットがしにくいことなどが問題であった。一方上述した水平型露光装置は、構造上帯状基板が自重によって下方に撓んでしまう傾向がある。この撓みが、露光を行う上で大きな問題を生じさせていた。帯状基板を長手方向に間欠的に送る時、および、フォトマスクを帯状基板に対して位置合わせする時、あるいはフォトマスク同士を位置合わせする時、帯状基板とフォトマスクとが接触しないように両者間には隙間が形成される。しかしながら、位置合わせ時には、帯状基板とフォトマスク、あるいはフォトマスク同士双方に形成された位置合わせマークを同時に一台のCCDカメラで読みとる必要があるため、上記の隙間は、CCDカメラの焦点深度以内の狭い距離にする必要がある。そのため、露光部では、帯状基板に長手方向の大きな張力を加え、自重による帯状基板の撓みが小さくなるようにしていたが、その長手方向の大きな張力によって帯状基板は長手方向に伸び、張力がない状態に比べ寸法変化が生じる。その状態で位置合わせを行うため、帯状基板とフォトマスクとを精度良く位置合わせして均一な品質の製品を提供することが難しかった。
水平型露光装置のもう一つの問題は、ゴミの付着である。水平状態の帯状基板にはゴミが付着しやすい。帯状基板の露光面にゴミが付着したまま露光を行うと、露光不良を起こしやすかった。また、帯状基板の下方に配置されたフォトマスクや光源の反射鏡の上には、帯状基板から落下したゴミが溜まりやすい。このような蓄積されたゴミは、多くの露光不良製品を生じさせる大きな原因となっていた。
そこで本発明が解決しようとする課題は、帯状基板の姿勢変化と、帯状基板、フォトマスクや反射鏡などへのゴミの付着を無くし、高性能でコンパクトな露光装置とそれを用いた露光方法を提供することにある。
上記発明が解決しようとする課題を達成するためにこの発明の露光装置は、帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光するための露光装置において、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に形成された、前記帯状基板が垂直状態になるところの垂直経路部と、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送るための送り駆動装置と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも1つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記帯状基板の前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることを特徴とするものである。
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に形成された、前記帯状基板が垂直状態になるところの垂直経路部と、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送るための送り駆動装置と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも1つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記帯状基板の前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることを特徴とするものである。
この発明の露光装置は、前記露光装置において、前記露光部の上方部に設けられた前記繰り出し部または前記巻き取り部が上下方向に移動可能であることが好ましい。
この発明の露光装置は、前記露光装置において、前記繰り出し部と前記露光部との間に、前記帯状基板に付着した付着物を除去する付着物除去手段が交換可能に設けられていることが好ましい。
この発明の露光方法は、帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光する露光方法であって、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に設けられた、前記帯状基板が垂直状態になる垂直経路部と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも1つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送り、前記帯状基板が停止した状態で、前記露光部において、前記露光面を前記フォトマスクに近接、または接触させると共に前記光学系装置からの光を前記フォトマスクを通して前記露光面に照射することで前記フォトマスクに描かれたパターンなどを前記露光面に転写することを特徴とするものである。
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に設けられた、前記帯状基板が垂直状態になる垂直経路部と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも1つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送り、前記帯状基板が停止した状態で、前記露光部において、前記露光面を前記フォトマスクに近接、または接触させると共に前記光学系装置からの光を前記フォトマスクを通して前記露光面に照射することで前記フォトマスクに描かれたパターンなどを前記露光面に転写することを特徴とするものである。
この発明の露光方法は、前記露光方法において、前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることが好ましい。
以上のごとき課題を解決するための手段の説明から理解されるように、この発明の露光装置およびこの方法によれば、帯状基板は、垂直状態になるところの垂直経路において露光されるので、自重による帯状基板の撓みは生じない。したがって、撓みを小さくするために帯状基板に大きな張力を加えるという必要がないので、帯状基板の伸びによる寸法変化に伴う問題は生じない。
また、垂直経路において垂直状態になった帯状基板は、わずかな張力で十分な平面性を維持できるので、フォトマスクに対する良好な平行性を得ることができ、その結果、両者間の位置合わせの精度が向上する。
さらに、垂直状態の帯状基板は、水平状態の帯状基板に比べてゴミが付着しにくい。さらに構造上フォトマスクおよび光源の反射鏡も垂直状態に設けることができるので、帯状基板、フォトマスクおよび光源の反射鏡に付着または蓄積するゴミに起因する露光不良を、大きく低減させることができる。
さらに、繰り出し部および巻き取り部を露光部の上方または下方に配置することで、コンパクトな装置構成にすることができる。
結局、本発明によれば、帯状基板の露光に関して、コンパクトな装置で従来よりもはるかに高い品質と生産性とを得ることができる。
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1および図2を参照するに、露光装置1は、左右方向へ延伸されたベース3と、このベース3上に設けられた筐体5とを備えている。この筐体5内における前記ベース3上の図1において右端部には、繰り出し用ロール7が設けられている。この繰り出し用ロール7にはフレキシブルな帯状基板9が円筒11状に巻かれている。
一方、前記筐体5内における図1において左側の上方にはベース13が図示省略の駆動装置により実線の位置から2点鎖線の位置まで上下動可能に設けられている。前記ベース13上には巻き取り用ロール15が設けられている。この巻き取り用ロール15には露光処理されたフレキシブルな帯状基板9が円筒17状に巻きとられるようになっている。
前記ベース13上の右端部には支持部材19が立設されており、この支持部材19の上部にはガイドローラ21が設けられている。このガイドローラ21の右側には一対の送り駆動ローラ23、25からなる送り駆動装置27が設けられている。この送り駆動装置27の一対の送り駆動ローラ23、25を回転させることにより、前記繰り出し用ロール7上に巻かれた帯状基板9を所定長さ分ずつ間欠的に引き出す。
繰り出し用ロール7から引き出された帯状基板9は、ガイドローラ29、31、33、35および付着物除去手段としての例えば一対のクリーンローラ37を経て垂直経路に入り、垂直状態になる。帯状基板9が垂直状態になっている区域が露光部となる。垂直状態で露光部を通過した帯状基板9は、前記送り駆動装置27の一対の送り駆動ローラ23、25、ガイドローラ21を経て、巻き取り用ロール15上に円筒17状に巻きとられる。なおり前記ガイドローラ29とガイドローラ31との間には前記帯状基板9の接合作業などを行う際に使用される作業台39が設けられている。
前記帯状基板9の少なくとも片面は、感光材が付着された露光面になっている。前記露光部には露光面に対応した位置にフォトマスクユニットU1、又はU2が配置されている。図示した実施形態では、両面に露光面が形成されている。したがって、露光部には、垂直状態の帯状基板9を挟んで両側にフォトマスクユニットU1およびU2が配置されている。フォトマスクユニットU1およびU2にはそれぞれ、帯状基板9の露光面に対向するようにフォトマスク41、43が設けられている。
このフォトマスク41、43には、例えば電気回路のようなパターンが描かれており、フォトマスク41、43の奥側図2において上方には光学系装置45の一部を構成する光源47が配置されている。この光源47の前方図2において右側には実線の位置から2点鎖線の位置までシャッター49が上下動可能に設けられている。フォトマスク41、43の帯状基板9の反対側には前記光源47からの光51を帯状基板9の方へ導入する反射鏡53、55が配置されている。前記光源47からの光51が、反射鏡53、55を介し、フォトマスク41、43を通って帯状基板9の露光面に照射されることにより、パターンが帯状基板9上に転写される。光51は平行光であることが望ましく、また反射鏡53、55を含む露光部は前記筐体5によって覆うことが望ましい。
フォトマスクユニットU1、U2の少なくとも1つには、他方に対して近接および離反させるための機構(図示せず)が取り付けられている。フォトマスクユニットU1,U2は、フォトマスク41,43を保持するためのフォトマスク用フレーム65,67、フォトマスク用フレーム65,67をその面内でX、Y、θ方向に移動させる移動機構61、63を備えたフレーム状のベープレート57、59から構成されている。なお、フォトマスク用フレーム65,67はフォトマスク41,43を密着固定できる機構(図示せず)を有している。フォトマスク用フレーム65、67の少なくとも一方の、帯状基板9に対向した面の外周部には、環状の封止部材69、71が設けられている。露光の際にフォトマスクユニットU1、U2を互いに近接せしめた時、帯状基板9を含むフォトマスク用フレーム65、67、封止部材69、71およびフォトマスク41、43からなる密閉空間が形成され、その密閉空間内を減圧することで帯状基板9とフォトマスク41、43とを互いに、密着させることができる。
フォトマスクユニットU1、U2の少なくとも一方には、フォトマスク41、43同士、または各フォトマスク41、43と帯状基板9とを位置合わせする際に使用されるCCDカメラ73が備えられている。本実施例ではフォトマスクユニットU1のみに設けられている。このCCDカメラ73は、ベースプレート57に取り付けられた移動機構75、77によって、フォトマスク41の面と平行な面内をX、Y方向に移動可能である。
図3を参照しながら、露光装置1を用いた露光方法について説明する。図3は、露光部において垂直経路内で垂直状態になっている帯状基板9とフォトマスク41、43との相対位置を示す概略図であり、図1における矢印IIIの方向から見た図である。
帯状基板9は、2点鎖線で示した所定長さの領域79ごとに露光される。したがって、送り駆動ローラ23、25は、この領域79の長さを含む長さPをピッチとして帯状基板9を間欠的に送る。帯状基板9が送られている間、図1に示すように、フォトマスクユニットU1、U2は後退位置にあり、フォトマスク41、43と帯状基板9との間には所定の隙間が形成されている。
帯状基板9の送りが所定の位置で停止されると、フォトマスクユニットU1、U2の少なくとも一方が他方に対して接近せしめられる。その結果、フォトマスク41、43は、対向する帯状基板9の領域79に対して接近して、位置合わせの態勢に入る。フォトマスク41、43のそれぞれの対向した位置に、位置合わせ用マーク81、81’が少なくとも一つ設けられている。位置合わせ用マーク81、81’は、帯状基板9から外れた位置にある。位置合わせ用マーク81、81’の位置をCCDカメラ73によって読み取り、読み取ったデータに基づいて、フォトマスク41、43の少なくとも一方をX、Y、θ方向に移動させ、フォトマスク41と43との位置合わせを行う。
帯状基板9には、その上に位置合わせ用マーク83を有するものと、有しないものとがある。帯状基板9が位置合わせ用マーク83を有する場合には、フォトマスク41、43の帯状基板9の位置合わせ用マーク83に対向した位置に設けられた位置合わせ用マーク81(図示せず)と帯状基板9の位置合わせ用マーク83の位置をCCDカメラ73で同時に読み取り、読み取ったデータに基づいてフォトマスク41、43と帯状基板9との位置合わせを行えばよい。
帯状基板9がその上に位置合わせ用マーク83を有しない場合には、帯状基板9の側縁と、それに対向する位置に設けられたフォトマスク41、43の位置合わせ用マーク(図示せず)との位置をCCDカメラ73で読み取り、双方の相対関係に基づいて帯状基板9とフォトマスク41、43との位置合わせを行えばよい。この場合、帯状基板9の側縁が位置合わせ用マーク83にとって代わっている。
フォトマスク41、43相互間およびフォトマスク41、43と帯状基板9との間の位置合わせが終了したならば、フォトマスクユニットU1、U2をさらに接近させ、帯状基板9を含むフォトマスクフレーム65、67、封止部材69、71およびフォトマスク41、43からなる密閉空間を形成する。この密閉空間を減圧装置(図示せず)によって減圧することにより、フォトマスク41、43と帯状基板9とを互いに密着させることができる。
次いで、光源47からの光51を反射鏡53、55を介して、フォトマスク41、43を通して帯状基板9の領域79上に照射する。それによって、フォトマスク41、43に描かれたパターンが帯状基板9の領域79上に転写される。
なお、光51を片面ずつ照射するようにしてもよいし、光源47を二つ用いて、シャッターを無くし、光51を、帯状基板9の両面に対して同時に照射するようにしてもよい。
1回の露光が終了したら、密閉空間の減圧状態を解除し、フォトマスクユニットU1、U2を離反させ、図1に示すように、フォトマスク41、43と帯状基板9との間に所定の隙間を形成する。以降、帯状基板9を長さPだけ間欠的に送って露光する動作を繰り返す。
上記の構成によって、帯状基板9のカテナリーによる垂れ、しわが無い垂直状態で露光が行えるため、従来よりもはるかに高精度な露光を行うことができ、高い品質の帯状基板9を製造することができる。
前記繰り出し用ロール7が前記露光部の例えば下方部に設けられていると共に前記巻き取り用ロール15が前記露光部の上、下方部の上方部に設けられていることで、前記送り出し作業性がよく、生産性が向上することができる。また、前記繰り出し用ロール7が前記露光部の例えば上方部に設けられていると共に前記巻き取り用ロール15が前記露光部の上、下方部の下方部に設けられていることでも対応可能である。
前記巻き取り用ロール15が図1に示したごとく実線の位置から2点鎖線の位置まで上下方向へ往復移動可能に設けられているから、段取り替え時に、送り駆動ローラ23、25の回転を逆転させて、巻き取られている帯状基板9の一部を巻き戻した状態で下方へ移動させると、段取り替え時の作業性を向上させることができる。さらに、繰り出し用ロール7、巻き取り用ロール15が垂直経路部に設けられた露光部の上、下方部に設けられているので、コンパクトな装置となり、省スペ−ス化を図ることができる。繰り出し用ロール7を露光部の上方に設けて、上下方向へ往復移動可能に設けられているようにしても、同様の作用と効果を有する。
例えば前記露光部の下方にクリーンローラ37を備えた付着物除去手段が交換可能に設けられているから、帯状基板9に付着したゴミなどの付着物を容易に除去することができると共にクリーンローラ37が汚れてきたら付着物除去手段を交換して新しいものに容易に交換することができる。
前記フォトマスク用フレーム65、67の後部(図1において右部)に各フォトマスク41、43と帯状基板9との位置調整を行う位置調整用撮像手段としてのCCDカメラ73が前後方向の両側に設けられていると共に各CCDカメラ73が上下方向へ移動可能に設けられているから、4点でアライメントの調整ができ、正確なアライメントの調整を行うことができる。
前記巻き取り用ロール15と前記露光部との間に送り駆動装置27の送り駆動ローラ23、25が設けられているから、巻き取り用ロール15が下方へ移動する際に、送り駆動ローラ23、25の回転を逆転させることで、巻き取り用ロール15に巻かれた帯状基板9が容易に巻き戻され、段取り替え時の線出し作業を容易に行うことができる。
1 露光装置
3 ベース
5 筐体
7 繰り出し用ロール
9 帯状基板
11 円筒
13 ベース
15 巻き取り用ロール
17 円筒
19 支持部材
21 ガイドローラ
23、25 送り駆動ローラ
27 送り駆動装置
29、31、33,35 ガイドローラ
37 クリーンローラ
39 作業台
41、43 フォトマスク
45 光学系装置
47 光源
49 シャッター
51 光
53、55 反射鏡
57、59 ベースプレート
61、63 移動機構
65、67 フォトマスク用フレーム
69、71 封止部材
73 CCDカメラ
75、77 移動機構
79 領域
81、81’ 位置合わせマーク
83 位置合わせマーク
U1、U2 フォトマスクユニット
3 ベース
5 筐体
7 繰り出し用ロール
9 帯状基板
11 円筒
13 ベース
15 巻き取り用ロール
17 円筒
19 支持部材
21 ガイドローラ
23、25 送り駆動ローラ
27 送り駆動装置
29、31、33,35 ガイドローラ
37 クリーンローラ
39 作業台
41、43 フォトマスク
45 光学系装置
47 光源
49 シャッター
51 光
53、55 反射鏡
57、59 ベースプレート
61、63 移動機構
65、67 フォトマスク用フレーム
69、71 封止部材
73 CCDカメラ
75、77 移動機構
79 領域
81、81’ 位置合わせマーク
83 位置合わせマーク
U1、U2 フォトマスクユニット
Claims (5)
- 帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光するための露光装置において、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に形成された、前記帯状基板が垂直状態になるところの垂直経路部と、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送るための送り駆動装置と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも1つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記帯状基板の前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることを特徴とする露光装置。 - 前記露光部の上方部に設けられた前記繰り出し部または前記巻き取り部が上下方向に移動可能であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記繰り出し部と前記露光部との間に、前記帯状基板に付着した付着物を除去する付着物除去手段が交換可能に設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
- 帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光する露光方法であって、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に設けられた、前記帯状基板が垂直状態になる垂直経路部と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも1つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンなどを前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送り、前記帯状基板が停止した状態で、前記露光部において、前記露光面を前記フォトマスクに近接、または接触させると共に前記光学系装置からの光を前記フォトマスクを通して前記露光面に照射することで前記フォトマスクに描かれたパターンなどを前記露光面に転写することを特徴とする露光方法。 - 前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることを特徴とする請求項4に記載の露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005120873A JP2006301170A (ja) | 2005-04-19 | 2005-04-19 | 露光装置およびその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005120873A JP2006301170A (ja) | 2005-04-19 | 2005-04-19 | 露光装置およびその方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006301170A true JP2006301170A (ja) | 2006-11-02 |
Family
ID=37469546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005120873A Pending JP2006301170A (ja) | 2005-04-19 | 2005-04-19 | 露光装置およびその方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006301170A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101887217A (zh) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | 曝光装置 |
JP2011095719A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-05-12 | Nec Lcd Technologies Ltd | 光学素子の製造方法、光学素子用露光装置、光学素子、照明光学装置、表示装置、および電子機器 |
WO2014203650A1 (ja) * | 2013-06-18 | 2014-12-24 | 株式会社 ベアック | 露光装置 |
JP2017083518A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 東レエンジニアリング株式会社 | 帯状ワーク通材機構およびそれを備えた露光装置 |
KR20190064472A (ko) * | 2017-11-30 | 2019-06-10 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 마스크 쌍, 양면 노광 장치 및 마스크 교환 방법 |
CN115627443A (zh) * | 2020-11-18 | 2023-01-20 | 匠博先进材料科技(广州)有限公司 | 蒸镀掩模、组件、装置、显示装置及其制造方法和装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172216A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Shinku Lab:Kk | 露光方法 |
JPH08152718A (ja) * | 1994-11-28 | 1996-06-11 | Nippon Seiko Kk | 露光装置 |
JP2001125274A (ja) * | 1999-10-26 | 2001-05-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 回路板製造用露光装置 |
JP2001272791A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Think Laboratory Co Ltd | フレキシブルプリント基板の連続製造方法 |
JP2002148810A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板露光方法及び装置 |
JP2005091903A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2005092027A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2005326550A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Sanee Giken Kk | 露光装置 |
JP2006227207A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Toray Eng Co Ltd | 両面露光装置 |
-
2005
- 2005-04-19 JP JP2005120873A patent/JP2006301170A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172216A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-14 | Shinku Lab:Kk | 露光方法 |
JPH08152718A (ja) * | 1994-11-28 | 1996-06-11 | Nippon Seiko Kk | 露光装置 |
JP2001125274A (ja) * | 1999-10-26 | 2001-05-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 回路板製造用露光装置 |
JP2001272791A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Think Laboratory Co Ltd | フレキシブルプリント基板の連続製造方法 |
JP2002148810A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板露光方法及び装置 |
JP2005091903A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2005092027A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2005326550A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Sanee Giken Kk | 露光装置 |
JP2006227207A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Toray Eng Co Ltd | 両面露光装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101887217A (zh) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | 曝光装置 |
JP2010266763A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | San Ei Giken Inc | 露光装置 |
TWI485528B (zh) * | 2009-05-15 | 2015-05-21 | Sanei Giken Co Ltd | Exposure device |
JP2011095719A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-05-12 | Nec Lcd Technologies Ltd | 光学素子の製造方法、光学素子用露光装置、光学素子、照明光学装置、表示装置、および電子機器 |
WO2014203650A1 (ja) * | 2013-06-18 | 2014-12-24 | 株式会社 ベアック | 露光装置 |
JP5655177B1 (ja) * | 2013-06-18 | 2015-01-14 | 株式会社 ベアック | 露光装置 |
JP2017083518A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 東レエンジニアリング株式会社 | 帯状ワーク通材機構およびそれを備えた露光装置 |
KR20190064472A (ko) * | 2017-11-30 | 2019-06-10 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 마스크 쌍, 양면 노광 장치 및 마스크 교환 방법 |
JP2019101198A (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 株式会社アドテックエンジニアリング | マスク対、両面露光装置及びマスク交換方法 |
KR102652832B1 (ko) | 2017-11-30 | 2024-03-29 | 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 | 마스크 쌍, 양면 노광 장치 및 마스크 교환 방법 |
CN115627443A (zh) * | 2020-11-18 | 2023-01-20 | 匠博先进材料科技(广州)有限公司 | 蒸镀掩模、组件、装置、显示装置及其制造方法和装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI382276B (zh) | Exposure device | |
TWI541932B (zh) | A substrate processing apparatus and a substrate processing method | |
JP6510768B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2006301170A (ja) | 露光装置およびその方法 | |
JP4218418B2 (ja) | 帯状ワークの両面投影露光装置 | |
JP5451175B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6638835B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TW425496B (en) | Exposure device capable of aligning while moving mask | |
JP6723831B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6554330B2 (ja) | マスクレス露光装置および露光方法 | |
JP3626163B2 (ja) | 両面露光装置 | |
JP2005092027A (ja) | 露光装置 | |
CN212515345U (zh) | 一种用于卷对卷双面数字化光刻的基材平整装置 | |
TWI765664B (zh) | 切割線形成裝置及切割線形成方法 | |
JP4775076B2 (ja) | 露光方法及び装置 | |
JP2005091903A (ja) | 露光装置 | |
JP4950647B2 (ja) | プリント配線板の単板接続装置及びその方法 | |
JP3653265B2 (ja) | 露光装置 | |
TWI632400B (zh) | 線光源發生裝置及其柱狀透鏡板系統 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100323 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100713 |