JP2001272791A - フレキシブルプリント基板の連続製造方法 - Google Patents
フレキシブルプリント基板の連続製造方法Info
- Publication number
- JP2001272791A JP2001272791A JP2000083122A JP2000083122A JP2001272791A JP 2001272791 A JP2001272791 A JP 2001272791A JP 2000083122 A JP2000083122 A JP 2000083122A JP 2000083122 A JP2000083122 A JP 2000083122A JP 2001272791 A JP2001272791 A JP 2001272791A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flexible printed
- continuous web
- printed circuit
- optical fibers
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】回路パターンの潜像を連続ウエブの両面へ焼き
付けることができ、低出力でパルス発振する半導体レー
ザが使えて恒久的に良好な露光制御ができて、しかも露
光作業に工程時間を大幅に短縮でき、フレキシブルプリ
ント基板の製造速度を速めることができるフレキシブル
プリント基板の連続製造方法。 【解決手段】全組の全本数の光ファイバー１０bの前記
先端面からレーザ光を同時に放射したときに、連続ウエ
ブＷの両面にウエブ移送方向に対して直角一直線となる
ようにレーザ光が一列連鎖状配列をなして照射するよう
に、光ファイバー１０bの先端面の斜め配列と各光ファ
イバー１０bの先端面の配列位置に対応してレーザ光の
点滅発振のタイミングとを相関させ、もって各半導体レ
ーザをそれぞれに割り当てられる回路パターンに対応す
るデータに基づいてレーザ光の点滅発振を行なうことに
より、全体として回路パターンの潜像を連続ウエブＷの
両面へ焼き付ける。
付けることができ、低出力でパルス発振する半導体レー
ザが使えて恒久的に良好な露光制御ができて、しかも露
光作業に工程時間を大幅に短縮でき、フレキシブルプリ
ント基板の製造速度を速めることができるフレキシブル
プリント基板の連続製造方法。 【解決手段】全組の全本数の光ファイバー１０bの前記
先端面からレーザ光を同時に放射したときに、連続ウエ
ブＷの両面にウエブ移送方向に対して直角一直線となる
ようにレーザ光が一列連鎖状配列をなして照射するよう
に、光ファイバー１０bの先端面の斜め配列と各光ファ
イバー１０bの先端面の配列位置に対応してレーザ光の
点滅発振のタイミングとを相関させ、もって各半導体レ
ーザをそれぞれに割り当てられる回路パターンに対応す
るデータに基づいてレーザ光の点滅発振を行なうことに
より、全体として回路パターンの潜像を連続ウエブＷの
両面へ焼き付ける。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、多数の半導体レー
ザを用いて多数本のレーザ光を一列に次々にずれて重ね
ることができて連続ウエブの走行方向と直交方向の一列
線上にレーザ光の点滅発振を行なうことにより、全体と
して回路パターンの潜像を連続ウエブの両面へ焼き付け
ることができ、良好な露光制御ができて露光作業に工程
時間を大幅に短縮でき、フレキシブルプリント基板の製
造速度を速めることができる、フレキシブルプリント基
板の連続製造方法に関する。
ザを用いて多数本のレーザ光を一列に次々にずれて重ね
ることができて連続ウエブの走行方向と直交方向の一列
線上にレーザ光の点滅発振を行なうことにより、全体と
して回路パターンの潜像を連続ウエブの両面へ焼き付け
ることができ、良好な露光制御ができて露光作業に工程
時間を大幅に短縮でき、フレキシブルプリント基板の製
造速度を速めることができる、フレキシブルプリント基
板の連続製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】両面に感光膜を塗布形成したフレキシブ
ルプリント基板用の連続ウエブに、露光装置により回路
パターンの潜像を焼き付けてから現像し、次いで、エッ
チング又はメッキを行ってプリント基板を連続製造する
フレキシブルプリント基板の連続製造方法としては、本
願出願人の出願に係る特公昭６１−７２２１６号に開示
されている。特公昭６１−７２２１６号の露光方法は、
露光装置の光源にアルゴンイオンレーザやヘリウム−ネ
オンガスレーザや炭酸ガスレーザあるいは連続発振する
半導体レーザを用い、変調器でレーザ光のオンオフを行
い、光を振る装置でラスタースキャンしている。
ルプリント基板用の連続ウエブに、露光装置により回路
パターンの潜像を焼き付けてから現像し、次いで、エッ
チング又はメッキを行ってプリント基板を連続製造する
フレキシブルプリント基板の連続製造方法としては、本
願出願人の出願に係る特公昭６１−７２２１６号に開示
されている。特公昭６１−７２２１６号の露光方法は、
露光装置の光源にアルゴンイオンレーザやヘリウム−ネ
オンガスレーザや炭酸ガスレーザあるいは連続発振する
半導体レーザを用い、変調器でレーザ光のオンオフを行
い、光を振る装置でラスタースキャンしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】特公昭６１−７２２１
６号の露光方法は、光源にアルゴンイオンレーザ等を用
いると光の強さと光径と光軸に変動が起きるのを抑制す
るために、レーザ装置からプリズムまでの間の図示しな
い光学系が大がかりになっていた。又、特公昭６１−７
２２１６号の露光方法の権利範囲上は、連続発振する半
導体レーザも光源として含んでいるが、レーザ光をプリ
ズムで等分すると光の強さが不足すること、連続発振す
るレーザ光の強さに若干の変動が起きることにより採用
できなかった。又、アルゴンイオンレーザ等及び連続発
振する半導体レーザの寿命は５０００時間位であった。
他方、パルス発振する半導体レーザは、近年、高出力・
高寿命が開発されてきているが、寿命はやはり５０００
時間位である。しかし、低出力でよければ、パルス発振
する半導体レーザの寿命は極めて半永久的であるので、
低出力でパルス発振する半導体レーザが使える露光方法
・装置の開発が課題であった。
６号の露光方法は、光源にアルゴンイオンレーザ等を用
いると光の強さと光径と光軸に変動が起きるのを抑制す
るために、レーザ装置からプリズムまでの間の図示しな
い光学系が大がかりになっていた。又、特公昭６１−７
２２１６号の露光方法の権利範囲上は、連続発振する半
導体レーザも光源として含んでいるが、レーザ光をプリ
ズムで等分すると光の強さが不足すること、連続発振す
るレーザ光の強さに若干の変動が起きることにより採用
できなかった。又、アルゴンイオンレーザ等及び連続発
振する半導体レーザの寿命は５０００時間位であった。
他方、パルス発振する半導体レーザは、近年、高出力・
高寿命が開発されてきているが、寿命はやはり５０００
時間位である。しかし、低出力でよければ、パルス発振
する半導体レーザの寿命は極めて半永久的であるので、
低出力でパルス発振する半導体レーザが使える露光方法
・装置の開発が課題であった。
【０００４】本発明は、上述した点に鑑み案出したもの
で、多数の半導体レーザを用いて多数本のレーザ光を一
列に次々にずれて重ねることができて連続ウエブの走行
方向と直交方向の一列線上にレーザ光の点滅発振を行な
うことにより、全体として回路パターンの潜像を連続ウ
エブの両面へ焼き付けることができ、低出力でパルス発
振する半導体レーザが使えて恒久的に良好な露光制御が
できて、しかも露光作業に工程時間を大幅に短縮でき、
フレキシブルプリント基板の製造速度を速めることがで
きる、フレキシブルプリント基板の連続製造方法を提供
することを目的としている。
で、多数の半導体レーザを用いて多数本のレーザ光を一
列に次々にずれて重ねることができて連続ウエブの走行
方向と直交方向の一列線上にレーザ光の点滅発振を行な
うことにより、全体として回路パターンの潜像を連続ウ
エブの両面へ焼き付けることができ、低出力でパルス発
振する半導体レーザが使えて恒久的に良好な露光制御が
できて、しかも露光作業に工程時間を大幅に短縮でき、
フレキシブルプリント基板の製造速度を速めることがで
きる、フレキシブルプリント基板の連続製造方法を提供
することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本願発明は、両面に感光
膜を塗布形成したフレキシブルプリント基板用の連続ウ
エブに、露光装置により回路パターンの潜像を焼き付け
てから現像し、次いで、エッチング又はメッキを行って
フレキシブルプリント基板を連続製造するフレキシブル
プリント基板の連続製造方法において、前記露光装置に
よる回路パターンの潜像を焼き付けは、所要数の半導体
レーザから放射するレーザ光をそれぞれ光ファイバーと
光学系を介して連続ウエブの両面へ垂直方向に照射する
構成であって、光ファイバーの先端面の配列を斜め配列
として、各光ファイバーの先端面の配列位置に対応して
レーザ光の点滅発振のタイミングに必要な遅延を図り、
全本数の光ファイバーの先端面からレーザ光を同時に放
射したときに、連続ウエブの両面にウエブ移送方向に対
して直角一直線となるようにレーザ光が一列連鎖状配列
をなして照射するように、前記光ファイバーの先端面の
斜め配列と各光ファイバーの先端面の配列位置に対応し
てレーザ光の点滅発振のタイミングとを相関させ、もっ
て各半導体レーザをそれぞれに割り当てられる回路パタ
ーンに対応するデータに基づいてレーザ光の点滅発振を
行なうことにより、全体として回路パターンの潜像を連
続ウエブの両面へ焼き付けることを特徴とするフレキシ
ブルプリント基板の連続製造方法を提供するものであ
る。
膜を塗布形成したフレキシブルプリント基板用の連続ウ
エブに、露光装置により回路パターンの潜像を焼き付け
てから現像し、次いで、エッチング又はメッキを行って
フレキシブルプリント基板を連続製造するフレキシブル
プリント基板の連続製造方法において、前記露光装置に
よる回路パターンの潜像を焼き付けは、所要数の半導体
レーザから放射するレーザ光をそれぞれ光ファイバーと
光学系を介して連続ウエブの両面へ垂直方向に照射する
構成であって、光ファイバーの先端面の配列を斜め配列
として、各光ファイバーの先端面の配列位置に対応して
レーザ光の点滅発振のタイミングに必要な遅延を図り、
全本数の光ファイバーの先端面からレーザ光を同時に放
射したときに、連続ウエブの両面にウエブ移送方向に対
して直角一直線となるようにレーザ光が一列連鎖状配列
をなして照射するように、前記光ファイバーの先端面の
斜め配列と各光ファイバーの先端面の配列位置に対応し
てレーザ光の点滅発振のタイミングとを相関させ、もっ
て各半導体レーザをそれぞれに割り当てられる回路パタ
ーンに対応するデータに基づいてレーザ光の点滅発振を
行なうことにより、全体として回路パターンの潜像を連
続ウエブの両面へ焼き付けることを特徴とするフレキシ
ブルプリント基板の連続製造方法を提供するものであ
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】本願発明の実施の形態に係るフレ
キシブルプリント基板の連続製造方法を図面を参照して
説明する。図１に示すように、このフレキシブルプリン
ト基板の連続製造方法は、銅やニッケルや四二アロイな
どの金属フィルム、或いは、プラスチックフィルムの両
面に銅やニッケルや四二アロイなどの金属をラミネート
してなるフレキシブルフィルムであるフレキシブルプリ
ント基板用の連続ウエブを巻いてなる原反ロールＲから
連続ウエブＷを繰り出す。そして、原反ロールＲから繰
り出した連続ウエブＷを、ガイドロール１に巻き掛けて
下向きに走行させて、感光液を貯留するタンク２内に設
けられたガイドロール３に巻き掛けかつタンク２内に設
けられた塗布膜厚を薄く均一にする役目を果たす一対の
ドクター付き転圧ロール４a，４b間に通してからタンク
外へ上向きに走行させ、連続ウエブＷに感光膜を均一な
薄膜（例えば２〜４μｍｍ）となるように塗布する。次
いで、温風が対向して吹き出すように一対の温風乾燥機
からなる乾燥手段５により、上向きに走行させる連続ウ
エブＷの両面に塗布した感光膜を乾固し、それから連続
ウエブＷをガイドロール６，７に巻き掛けて下向きに走
行させる。次いで、連続ウエブＷを下向き走行の途中で
上に一対、下に一対の計二対の振れ止め規制ロール８a,
８b、９a,９bに通し、上下の振れ止め規制ロール間に設
ける露光装置１０により回路パターンの潜像を焼き付け
てから現像液を貯留するタンク１１内に設けられたガイ
ドロール１２，１３に巻き掛けてタンク外へ上向きに走
行させ、もって、連続ウエブＷの両面に回路パターンの
潜像を焼き付けて現像する。次いで、ガイドロール１
４，１５に巻き掛けて下向きに走行させ、エッチング液
又はメッキ液を貯留するタンク１６内に設けられたガイ
ドロール１７に巻き掛けてタンク外へ上向きに走行し、
以後、ガイドロール１８に巻き掛けて図示しない一又は
二以上の処理装置へ走行し所要の処理工程を行ってプリ
ント基板を連続製造するものである。
キシブルプリント基板の連続製造方法を図面を参照して
説明する。図１に示すように、このフレキシブルプリン
ト基板の連続製造方法は、銅やニッケルや四二アロイな
どの金属フィルム、或いは、プラスチックフィルムの両
面に銅やニッケルや四二アロイなどの金属をラミネート
してなるフレキシブルフィルムであるフレキシブルプリ
ント基板用の連続ウエブを巻いてなる原反ロールＲから
連続ウエブＷを繰り出す。そして、原反ロールＲから繰
り出した連続ウエブＷを、ガイドロール１に巻き掛けて
下向きに走行させて、感光液を貯留するタンク２内に設
けられたガイドロール３に巻き掛けかつタンク２内に設
けられた塗布膜厚を薄く均一にする役目を果たす一対の
ドクター付き転圧ロール４a，４b間に通してからタンク
外へ上向きに走行させ、連続ウエブＷに感光膜を均一な
薄膜（例えば２〜４μｍｍ）となるように塗布する。次
いで、温風が対向して吹き出すように一対の温風乾燥機
からなる乾燥手段５により、上向きに走行させる連続ウ
エブＷの両面に塗布した感光膜を乾固し、それから連続
ウエブＷをガイドロール６，７に巻き掛けて下向きに走
行させる。次いで、連続ウエブＷを下向き走行の途中で
上に一対、下に一対の計二対の振れ止め規制ロール８a,
８b、９a,９bに通し、上下の振れ止め規制ロール間に設
ける露光装置１０により回路パターンの潜像を焼き付け
てから現像液を貯留するタンク１１内に設けられたガイ
ドロール１２，１３に巻き掛けてタンク外へ上向きに走
行させ、もって、連続ウエブＷの両面に回路パターンの
潜像を焼き付けて現像する。次いで、ガイドロール１
４，１５に巻き掛けて下向きに走行させ、エッチング液
又はメッキ液を貯留するタンク１６内に設けられたガイ
ドロール１７に巻き掛けてタンク外へ上向きに走行し、
以後、ガイドロール１８に巻き掛けて図示しない一又は
二以上の処理装置へ走行し所要の処理工程を行ってプリ
ント基板を連続製造するものである。
【０００７】図２，図３に示すように、露光装置１０
は、所要数の半導体レーザ１０aと、各半導体レーザ１
０aから放射するレーザ光をそれぞれ所定位置に導く光
ファイバー１０bと、光ファイバー１０bの先端面から放
射するレーザ光の光径を縮小し該縮径したレーザ光を連
続ウエブＷの両面へ照射する光学系１０cを備え、所要
数の半導体レーザ１０aから放射するレーザ光をそれぞ
れ光ファイバー１０bと光学系１０cを介して連続ウエブ
Ｗの両面へ垂直方向に照射するように構成されている。
そして、光ファイバー１０bを数本乃至十数本を一組と
するようにして所要組数に分けて、各組の光ファイバー
１０bの前記先端面の配列を所要斜め配列としてある。
半導体レーザ１０a，１０a，・・は、五個ずつ積み重な
って四列設けられ、いずれもレーザ光を平行に放射する
ように取付け具１９で固定されている。光ファイバー１
０b，１０b，・・は、半導体レーザ１０a，１０a，・・
と同数備えられそれぞれの基端部をファイバー固定具２
０の孔に差込み固定されていることにより、それぞれの
基端面を半導体レーザ１０aに精密に対向近接されてい
てレーザ光を導入するようになっているとともに、先端
部をファイバー固定具２１の孔に差込み固定されている
ことにより、光ファイバー１０b，１０b，・・が半導体
レーザ１０a，１０a，・・の五個ずつ積み重なりに対応
した組に分けられて、図３に示す如く各組の光ファイバ
ー１０b，１０b，・・の前記先端面の配列を所要角度の
斜め配列としてある。そして、露光装置１０による回路
パターンの潜像を焼き付けは、各光ファイバー１０bの
先端面の配列位置に対応してレーザ光の点滅発振のタイ
ミングに必要な遅延を図り、全組の全本数の光ファイバ
ー１０bの前記先端面からレーザ光を同時に放射したと
きに、連続ウエブＷの両面にウエブ移送方向に対して直
角一直線となるようにレーザ光が一列連鎖状配列（レー
ザ光のスポットが次々にずれて重なる一列状態の配列）
をなして照射するように、前記光ファイバー１０bの先
端面の斜め配列と各光ファイバー１０bの先端面の配列
位置に対応してレーザ光の点滅発振のタイミングとを相
関させ、もって各半導体レーザ１０aをそれぞれに割り
当てられる回路パターンに対応するデータに基づいてレ
ーザ光の点滅発振を行なうことにより、全体として回路
パターンの潜像を連続ウエブＷの両面へ焼き付けるよう
になっている。
は、所要数の半導体レーザ１０aと、各半導体レーザ１
０aから放射するレーザ光をそれぞれ所定位置に導く光
ファイバー１０bと、光ファイバー１０bの先端面から放
射するレーザ光の光径を縮小し該縮径したレーザ光を連
続ウエブＷの両面へ照射する光学系１０cを備え、所要
数の半導体レーザ１０aから放射するレーザ光をそれぞ
れ光ファイバー１０bと光学系１０cを介して連続ウエブ
Ｗの両面へ垂直方向に照射するように構成されている。
そして、光ファイバー１０bを数本乃至十数本を一組と
するようにして所要組数に分けて、各組の光ファイバー
１０bの前記先端面の配列を所要斜め配列としてある。
半導体レーザ１０a，１０a，・・は、五個ずつ積み重な
って四列設けられ、いずれもレーザ光を平行に放射する
ように取付け具１９で固定されている。光ファイバー１
０b，１０b，・・は、半導体レーザ１０a，１０a，・・
と同数備えられそれぞれの基端部をファイバー固定具２
０の孔に差込み固定されていることにより、それぞれの
基端面を半導体レーザ１０aに精密に対向近接されてい
てレーザ光を導入するようになっているとともに、先端
部をファイバー固定具２１の孔に差込み固定されている
ことにより、光ファイバー１０b，１０b，・・が半導体
レーザ１０a，１０a，・・の五個ずつ積み重なりに対応
した組に分けられて、図３に示す如く各組の光ファイバ
ー１０b，１０b，・・の前記先端面の配列を所要角度の
斜め配列としてある。そして、露光装置１０による回路
パターンの潜像を焼き付けは、各光ファイバー１０bの
先端面の配列位置に対応してレーザ光の点滅発振のタイ
ミングに必要な遅延を図り、全組の全本数の光ファイバ
ー１０bの前記先端面からレーザ光を同時に放射したと
きに、連続ウエブＷの両面にウエブ移送方向に対して直
角一直線となるようにレーザ光が一列連鎖状配列（レー
ザ光のスポットが次々にずれて重なる一列状態の配列）
をなして照射するように、前記光ファイバー１０bの先
端面の斜め配列と各光ファイバー１０bの先端面の配列
位置に対応してレーザ光の点滅発振のタイミングとを相
関させ、もって各半導体レーザ１０aをそれぞれに割り
当てられる回路パターンに対応するデータに基づいてレ
ーザ光の点滅発振を行なうことにより、全体として回路
パターンの潜像を連続ウエブＷの両面へ焼き付けるよう
になっている。
【０００８】本願発明のフレキシブルプリント基板の連
続製造方法によれば、半導体レーザ１０aのレーザ光を
５〜１０μｍｍ位の光径に縮小して一列連鎖状に配列
（レーザ光の光径の1/2ずつずれるように配列）して照
射するものであり、従って、携帯電話機等の超小型のフ
レキシブルプリント基板の製造でも数千個の半導体レー
ザが必要となる。これを実現するために、本願発明で
は、光ファイバーの先端面を図３のように斜め配列にし
て光ファイバー１０a,１０a,・・を物理的に可能な配置
にしてレーザ光の点滅発振のタイミングを遅延処理した
ときには、レーザ光を一列連鎖状配列に照射できるよう
にしたものである。
続製造方法によれば、半導体レーザ１０aのレーザ光を
５〜１０μｍｍ位の光径に縮小して一列連鎖状に配列
（レーザ光の光径の1/2ずつずれるように配列）して照
射するものであり、従って、携帯電話機等の超小型のフ
レキシブルプリント基板の製造でも数千個の半導体レー
ザが必要となる。これを実現するために、本願発明で
は、光ファイバーの先端面を図３のように斜め配列にし
て光ファイバー１０a,１０a,・・を物理的に可能な配置
にしてレーザ光の点滅発振のタイミングを遅延処理した
ときには、レーザ光を一列連鎖状配列に照射できるよう
にしたものである。
【０００９】
【発明の効果】以上説明してきたように、本願発明のフ
レキシブルプリント基板の連続製造方法によれば、多数
の半導体レーザを用いて多数本のレーザ光を一列に次々
にずれて重ねることができて連続ウエブの走行方向と直
交方向の一列線上にレーザ光の点滅発振を行なうことに
より、全体として回路パターンの潜像を連続ウエブの両
面へ焼き付けることができ、低出力でパルス発振する半
導体レーザが使えて恒久的に良好な露光制御ができて、
しかも露光作業に工程時間を大幅に短縮でき、フレキシ
ブルプリント基板の製造速度を速めることができる。
レキシブルプリント基板の連続製造方法によれば、多数
の半導体レーザを用いて多数本のレーザ光を一列に次々
にずれて重ねることができて連続ウエブの走行方向と直
交方向の一列線上にレーザ光の点滅発振を行なうことに
より、全体として回路パターンの潜像を連続ウエブの両
面へ焼き付けることができ、低出力でパルス発振する半
導体レーザが使えて恒久的に良好な露光制御ができて、
しかも露光作業に工程時間を大幅に短縮でき、フレキシ
ブルプリント基板の製造速度を速めることができる。
【図１】本発明のフレキシブルプリント基板の連続製造
方法の概略のプロセス図。
方法の概略のプロセス図。
【図２】本発明の要部である露光装置の片側部分を示す
概略平面図。
概略平面図。
【図３】本発明の要部である露光装置の光ファイバーの
先端面の配列と、レーザ光の一列連鎖状の配列の関係を
示す図。
先端面の配列と、レーザ光の一列連鎖状の配列の関係を
示す図。
Ｒ・・・原反ロール、Ｗ・・・連続ウエブ、１・・・ガ
イドロール、２・・・感光液を貯留するタンク、３・・
・ガイドロール、４a，４b・・・ドクター付き転圧ロー
ル、５・・・乾燥手段、６，７・・・ガイドロール、８
a,８b、９a,９b・・・振れ止め規制ロール、１０・・・
露光装置、１０a・・・半導体レーザ、１０b・・・光フ
ァイバー、１０c・・・光学系、１１・・・現像液を貯
留するタンク、１２，１３・・・ガイドロール、１４、
１５・・・ガイドロール、１６・・・エッチング液又は
メッキ液を貯留するタンク、１７・・・ガイドロール、
１８・・・ガイドロール、１９・・・取付け具、２０・
・・ファイバー固定具、２１・・・ファイバー固定具、
イドロール、２・・・感光液を貯留するタンク、３・・
・ガイドロール、４a，４b・・・ドクター付き転圧ロー
ル、５・・・乾燥手段、６，７・・・ガイドロール、８
a,８b、９a,９b・・・振れ止め規制ロール、１０・・・
露光装置、１０a・・・半導体レーザ、１０b・・・光フ
ァイバー、１０c・・・光学系、１１・・・現像液を貯
留するタンク、１２，１３・・・ガイドロール、１４、
１５・・・ガイドロール、１６・・・エッチング液又は
メッキ液を貯留するタンク、１７・・・ガイドロール、
１８・・・ガイドロール、１９・・・取付け具、２０・
・・ファイバー固定具、２１・・・ファイバー固定具、
Claims (1)
- 【請求項１】 両面に感光膜を塗布形成したフレキシブ
ルプリント基板用の連続ウエブに、露光装置により回路
パターンの潜像を焼き付けてから現像し、次いで、エッ
チング又はメッキを行ってフレキシブルプリント基板を
連続製造するフレキシブルプリント基板の連続製造方法
において、前記露光装置による回路パターンの潜像を焼
き付けは、所要数の半導体レーザから放射するレーザ光
をそれぞれ光ファイバーと光学系を介して連続ウエブの
両面へ垂直方向に照射する構成であって、光ファイバー
の先端面の配列を斜め配列として、各光ファイバーの先
端面の配列位置に対応してレーザ光の点滅発振のタイミ
ングに必要な遅延を図り、全本数の光ファイバーの先端
面からレーザ光を同時に放射したときに、連続ウエブの
両面にウエブ移送方向に対して直角一直線となるように
レーザ光が一列連鎖状配列をなして照射するように、前
記光ファイバーの先端面の斜め配列と各光ファイバーの
先端面の配列位置に対応してレーザ光の点滅発振のタイ
ミングとを相関させ、もって各半導体レーザをそれぞれ
に割り当てられる回路パターンに対応するデータに基づ
いてレーザ光の点滅発振を行なうことにより、全体とし
て回路パターンの潜像を連続ウエブの両面へ焼き付ける
ことを特徴とするフレキシブルプリント基板の連続製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000083122A JP2001272791A (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | フレキシブルプリント基板の連続製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000083122A JP2001272791A (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | フレキシブルプリント基板の連続製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001272791A true JP2001272791A (ja) | 2001-10-05 |
Family
ID=18599817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000083122A Pending JP2001272791A (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | フレキシブルプリント基板の連続製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001272791A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006301170A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Fujikura Ltd | 露光装置およびその方法 |
| JP2011209589A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成方法、カラーフィルターの製造方法、およびパターン形成装置 |
| TWI382276B (zh) * | 2004-05-13 | 2013-01-11 | Sanei Giken Co Ltd | Exposure device |
-
2000
- 2000-03-24 JP JP2000083122A patent/JP2001272791A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI382276B (zh) * | 2004-05-13 | 2013-01-11 | Sanei Giken Co Ltd | Exposure device |
| JP2006301170A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Fujikura Ltd | 露光装置およびその方法 |
| JP2011209589A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成方法、カラーフィルターの製造方法、およびパターン形成装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20150328662A1 (en) | Deposition mask production method and laser processing apparatus | |
| US20150259780A1 (en) | Production method for deposition mask | |
| JP3929084B2 (ja) | 未処理製品の表面を照射する方法 | |
| JP2005522733A (ja) | 光変調エンジン | |
| WO2015152217A1 (ja) | 基板処理装置、デバイス製造方法及び基板処理装置の調整方法 | |
| WO2015152218A1 (ja) | 基板処理装置、デバイス製造方法及び基板処理方法 | |
| TWI580506B (zh) | 雷射光束照射裝置及包含該裝置之基板封合裝置 | |
| KR20060051877A (ko) | 묘화 장치 | |
| KR100203524B1 (ko) | 레이저가공기 및 그 가공기를 사용한 액정표시소자의 제조방법 | |
| KR20060051792A (ko) | 묘화장치 | |
| KR20120018200A (ko) | 기판을 포토이미징하기 위한 방법 및 장치 | |
| US7098423B2 (en) | Laser machining apparatus | |
| US5310986A (en) | Laser machining apparatus | |
| JP2001272791A (ja) | フレキシブルプリント基板の連続製造方法 | |
| JP7175457B2 (ja) | レーザ加工装置、レーザ加工方法及び成膜マスクの製造方法 | |
| JP5057382B2 (ja) | 露光装置及び基板の製造方法 | |
| JP3194248B2 (ja) | レーザドリル装置及びレーザ穴あけ加工方法 | |
| CN105467773B (zh) | 直接曝光装置 | |
| JP3648516B2 (ja) | 走査式描画装置 | |
| KR20130113356A (ko) | 포토마스크 및 그것을 사용하는 레이저 어닐링 장치 및 노광 장치 | |
| JPS6172216A (ja) | 露光方法 | |
| KR100254833B1 (ko) | 액정표시소자의제조방법및그의레이저가공기 | |
| JP2004090062A (ja) | レーザ加工装置、加工方法、および当該加工方法を用いた回路基板の製造方法 | |
| JPS60158449A (ja) | 露光装置 | |
| JP4475631B2 (ja) | プロキシミティ露光装置及びこのプロキシミティ露光装置を用いた露光方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20041126 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20041129 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070131 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090626 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090629 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091021 |