JP3626163B2 - 両面露光装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、帯状又は枚葉状のワークの両面に、パターンを形成したマスクを介して光を照射することで、前記ワークにマスクのパターンを露光して形成する両面露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
プリント配線板、液晶基板などの基板を製造するフォトリソグラフィ工程では、フォトマスク又はレチクル(以下、マスクという)に形成されたパターンをフォトレジストが塗布されたワーク上に露光することが行われる。
【0003】
最近の高度化したプリント配線板等の製造においては、ワークの両面を有効利用するために、ワークの表裏両面に相対位置精度を確保しながらパターンを形成することが求められるようになり、特開2000−275862号公報に記載されているような密着式両面露光装置や、特開2000−155430号公報に記載されているプロキシミティ式両面露光装置が一般に用いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、前者の密着式両面露光装置は、光線の回折現象が最小となり、また、光線のワークに対しての直角度が悪い場合でも良い結果を与えるので、解像度に対しては望ましい方式と言えるが、マスクがワーク面に直接密着するので、マスクの表面に損傷や異物の付着があり、マスク寿命の著しい低下をもたらすことになる。また、プリント配線板の回路パターンが細密になるにつれて、ワークにごみが付着していた場合、マスクにごみが転写され、連続欠陥として、回路が断線するなどの問題がある。
【0005】
一方、後者のプロキシミティ式両面露光装置では、上述のごときマスクにごみが転写されるといった問題はないが、両マスクとワークの間隔を数μm〜数10μmに保って非接触で露光を行うので、両マスクの位置合わせ及び両マスクとワークとの位置合わせと共に、両マスクとワーク間の間隔の調整手段が必要である。
【0006】
そこで、本発明の目的は、一方の面に細密な回路パターンを、また、他方の面はそれ程細密ではない回路パターンを形成するプリント配線板を製造するために適し、かつ、両マスクの位置合わせ、及び両マスクとワークとの位置合わせが簡単に行える両面露光装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の第1の発明である両面露光装置は、プロキシミティ露光部と密着露光部を対向して設けたことを特徴とする。
【0008】
かかる構成により、最近の実装フィルムであるCOF(チップ・オン・フィルム)の両面露光に対応し得る。即ち、COFでは、表面のチップ実装側の回路は極めて細密であり、裏面の回路パターンはアウターリードを形成することが多いため、表面の回路に比べて回路密度は粗い。そこで、高密度な回路を要求されているチップ実装側をプロキシミティ露光部に対応させると、ごみの転写による連続欠陥を防止することができ、また、裏面の回路パターン側を密着露光部に対応させれば、解像度の良好なパターンが得られることになる。
【0009】
なお、本発明で使用するワークとしては、帯状、枚葉の何れも用いることができるが、帯状ワークを用いる場合には、帯状ワークを水平に搬送させ、その搬送路を挟んで、上方には、プロキシミティ露光部を、下方には、密着露光部をそれぞれ設けるのが望ましい。
【0010】
次に、本発明の第2の発明である両面露光装置は、ベース枠体に固定したマスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構の上部にマスク/マスク・アライメント機構搭載ベースを設け、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を介在して密着露光部における密着露光用マスクホルダを設けると共に、側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダの昇降機構を設け、前記プロキシミティ露光用マスクホルダと前記密着露光用マスクホルダの間に帯状ワークの搬送路を形成せしめたことを特徴とする。
【0011】
かかる構成により、先ず、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、密着露光部のマスクとプロキシミティ露光部のマスクとの位置合わせを行い、次いで、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、両マスクとワークとの位置合わせを行うことができるので、位置合わせは正確であるのみならず、短時間で行える。
【0012】
更に、密着露光用マスクホルダに固定した密着露光用マスクの下部に、ワーク/マスク・アライメント用光学系と、マスク/マスク・アライメント用光学系をそれぞれ設けるようにすれば、かかる光学系を固定的に設けることができるので、位置合わせ時と待機時とで移動させることがなく、位置合わせ時間の短縮に寄与する。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【0014】
本発明の両面露光装置は、図1及び図2に示す如く、送り出し機構部10と、第1エアダンサー部20と、露光部30と、第2エアダンサー部40と、巻き取り機構部50とから構成されている。
【0015】
送り出し機構部10は、露光すべき帯状ワーク1を巻き出す送り出しリール11を取り付け得るように構成されている。
【0016】
第1エアダンサー部20は、入口部と出口部にそれぞれガイドプレート21、21を有し、下部は真空機構(図示せず)に接続されており、帯状ワーク1をループ状にして一定量貯留するように構成されている。また、出口部側には上流部移動グリップフィード部22が設けられている。また、23はクリーニングロールで、帯状ワーク1に付着したごみが次工程である露光部30に持ち込まれないよう除去する。
【0017】
露光部30は、図3に示すように帯状ワーク1の搬送路を挟んで、上方にプロキシミティ露光部が、また、下方に密着露光部が配設されている。プロキシミティ露光部は、冷却ユニット61を接続するランプハウス60内に設けられた上面露光照明ランプ61−1と、上楕円ミラー62−1と、上コールドミラー63−1と、上インテグレータ64−1と、上コールドミラー65−1と、露光室30の上部に設けた上コリメーションミラー31−1とから成る上照明系と、プロキシミティ露光用マスクホルダ32に固定されたプロキシミティ露光用マスク33とから構成され、また、密着露光部は、ランプハウス60内に設けられた下面露光照明ランプ61−2と、下楕円ミラー62−2と、下コールドミラー63−2と、下インテグレータ64−2と、下コールドミラー65−2と、露光室30の下部に設けた下コリメーションミラー31−2とから成る下照明系と、密着露光用マスクホルダ34に固定された密着露光用マスク35とから構成されている。
【0018】
露光室30のプロキシミティ露光用マスク及び密着露光用マスクの部分の詳細は図4に示す通りであり、ベース枠体2に固定したワーク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構36(詳細は、特開平10−43978号公報に記載の通りである。)の上部には、マスク/マスク・アライメント機構搭載ベース37が設けられており、その上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構38を介在して、密着露光部における密着露光用マスクホルダ34が設けられていると共に、その側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダ32の昇降機構39が設けられている。
【0019】
また、図5に示すように、ベース枠体2に固定したブラケット3、3には、ワーク/マスク・アライメント用光学系4、4が設けられていると共に、ブラケット5、5には、マスク/マスク・アライメント用光学系6、6が設けられている。
【0020】
図1に戻って、40は第2エアダンサー部であり、第1エアダンサー部20と同様に、入口部と出口部にそれぞれガイドプレート41、41を有し、下部は真空機構(図示せず)に接続されており、露光後の帯状ワーク1をループ状にして一定量貯留するように構成されている。また、入口部側には、下流部移動グリップフィード部42が設けられている。。
【0021】
上記両面露光装置において、帯状ワークの露光処理は次のように行われる。
【0022】
送り出し機構部10の送り出しリール11から巻き出された帯状ワーク1は上流部移動グリップフィード部22と下流部移動グリップフィード部42により、その露光すべき箇所が露光部に搬送される。その際、帯状ワーク1の一定量が第1エアーダンサー部20と第2エアーダンサー部40にそれぞれ貯留される。
【0023】
そして、露光部でのプロキシミティ露光用マスクと密着露光用マスクとのアライメント、及び、両マスクと帯状ワークとのアライメントは次のように行われる。
【0024】
先ず、プロキシミティ露光用マスク33と、密着露光用マスク35のそれぞれの対角線上に形成したアライメントマークを、図5に示すように、2個のマスク/マスク・アライメント用光学系6、6で観察して、マスク・マスク・アライメント用XYθ駆動機構38駆動して、アライメントを行う。
【0025】
次いで、密着露光用マスク35に形成されたマークと帯状ワーク1に形成されたマークとをワーク/マスク・アライメント用光学系4により観察して、両マークのズレがある場合には、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構36を駆動してアライメントを行う。
【0026】
アライメント終了後、密着機構(図示せず)で帯状ワーク1の露光すべき箇所を密着露光用マスク35に密着せしめると共に、昇降機構39を駆動して、プロキシミティ露光用マスク33と帯状ワーク1の間隔を調整し、プロキシミティ露光部における上照明系と、密着露光部における下照明系により両面露光が行われる。
【0027】
このようにして、両面露光が行われた帯状ワーク1は第2エアーダンサー部40を経て、巻き取り機構部50の巻き取りリール51に巻き上げられる。
【0028】
【発明の効果】
本発明の両面露光装置は、プロキシミティ露光部と密着露光部を対向して設けたことを特徴とし、かかる構成により、高密度な回路を要求されているチップ実装側をプロキシミティ露光部に対応させると、ごみの転写による連続欠陥を防止することができ、また、裏面の回路パターン側を密着露光部に対応させれば、解像度の良好なパターンが得られることになる。
【0029】
また、本発明の第2の発明である両面露光装置は、ベース枠体に固定したマスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構の上部にマスク/マスク・アライメント機構搭載ベースを設け、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を介在して密着露光部における密着露光用マスクホルダを設けると共に、側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダの昇降機構を設け、前記プロキシミティ露光用マスクホルダと前記密着露光用マスクホルダの間に帯状ワークの搬送路を形成せしめたことを特徴とするものであり、かかる構成により、先ず、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、密着露光部のマスクとプロキシミティ露光部のマスクとの位置合わせを行い、次いで、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、両マスクとワークとの位置合わせを行うことができるので、位置合わせは正確であるのみならず、短時間で行えるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の両面露光装置の正面図である。
【図2】本発明の両面露光装置の平面図である。
【図3】図1のA−A断面図である。
【図4】本発明のプロキシミティ露光用マスクと密着露光用マスクの部分の詳細図である。
【図5】本発明のプロキシミティ露光用マスク及び密着露光用マスクとワークとの位置合わせ部の詳細図である。
【符号の説明】
1 帯状ワーク
2 ベース枠体
4 ワーク/マスク・アライメント用光学系
6 マスク/マスク・アライメント用光学系
10 送り出し機構部
20 第1エアーダンサー部
30 露光部
32 プロキシミティ露光用マスクホルダ
33 プロキシミティ露光用マスク
34 密着露光用マスクホルダ
35 密着露光用マスク
36 ワーク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構
37 マスク/マスク・アライメント機構搭載ベース
38 マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構
39 昇降機構
40 第2エアーダンサー部
50 巻き取り機構部
Claims (5)
- プロキシミティ露光部と密着露光部を対向して設けたことを特徴とする両面露光装置。
- 帯状ワークの搬送路を挟んで、上方には、前記プロキシミティ露光部を、下方には、前記密着露光部をそれぞれ設けたことを特徴とする請求項1に記載の両面露光装置。
- 前記プロキシミティ露光部は、少なくとも上面露光照明ランプと、プロキシミティ露光用マスクホルダに保持されたマスクとから成り、前記密着露光部は、少なくとも下面露光照明ランプと、密着露光用マスクホルダに保持されたマスクとから成ることを特徴とする請求項1又は2に記載の両面露光装置。
- ベース枠体に固定したマスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構の上部にマスク/マスク・アライメント機構搭載ベースを設け、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を介在して密着露光部における密着露光用マスクホルダを設けると共に、側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダの昇降機構を設け、前記プロキシミティ露光用マスクホルダと前記密着露光用マスクホルダの間に帯状ワークの搬送路を形成せしめたことを特徴とする両面露光装置。
- 前記密着露光用マスクホルダに固定した密着露光用マスクの下部に、ワーク/マスク・アライメント用光学系と、マスク/マスク・アライメント用光学系をそれぞれ設けたことを特徴とする請求項4に記載の両面露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002323245A JP3626163B2 (ja) | 2002-11-07 | 2002-11-07 | 両面露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002323245A JP3626163B2 (ja) | 2002-11-07 | 2002-11-07 | 両面露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004157341A JP2004157341A (ja) | 2004-06-03 |
JP3626163B2 true JP3626163B2 (ja) | 2005-03-02 |
Family
ID=32803150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002323245A Expired - Lifetime JP3626163B2 (ja) | 2002-11-07 | 2002-11-07 | 両面露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3626163B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005197441A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-07-21 | Dainippon Kaken:Kk | 露光装置および露光方法 |
JP2007142265A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Fuji Koken Kk | 露光装置及び露光方法 |
CN110376853A (zh) * | 2019-08-27 | 2019-10-25 | 爱司凯科技股份有限公司 | 高精度全自动双面曝光机 |
CN110488577A (zh) * | 2019-09-06 | 2019-11-22 | 东莞科视自动化科技有限公司 | 一种双层自由移动的高精度对位平台 |
-
2002
- 2002-11-07 JP JP2002323245A patent/JP3626163B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004157341A (ja) | 2004-06-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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