JP3653265B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、帯状又は枚葉状のワークの両面又は片面に、パターンを形成したマスクを介して光を照射することで、前記ワークにマスクのパターンを露光して形成する露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
プリント配線板、液晶基板などの基板を製造するフォトリソグラフィ工程では、フォトマスク又はレチクル(以下、マスクという)に形成されたパターンをフォトレジストが塗布されたワーク上に露光することが行われる。
【0003】
最近の高度化したプリント配線板等の製造においては、ワークの両面を有効利用するために、ワークの表裏両面に相対位置精度を確保しながらパターンを形成することが求められるようになり、特開2000−275862号公報に記載されているような密着式両面露光装置や、特開2000−155430号公報に記載されているプロキシミティ式両面露光装置が一般に用いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、前者の密着式両面露光装置は、光線の回折現象が最小となり、また、光線のワークに対しての直角度が悪い場合でも良い結果を与えるので、解像度に対しては望ましい方式と言えるが、マスクがワーク面に直接密着するので、マスクの表面に損傷や異物の付着があり、マスク寿命の著しい低下をもたらすことになる。また、プリント配線板の回路パターンが細密になるにつれて、ワークにごみが付着していた場合、マスクにごみが転写され、連続欠陥として、回路が断線するなどの問題がある。
【0005】
一方、後者のプロキシミティ式両面露光装置では、上述のごときマスクにごみが転写されるといった問題はないが、両マスクとワークの間隔を数μm〜数10μmに保って非接触で露光を行うので、両マスクの位置合わせ及び両マスクとワークとの位置合わせと共に、両マスクとワーク間の間隔の調整手段が必要である。
【0006】
また、露光工程によっては片面露光だけの露光が必要な場合も生じてくるが、上述の如き従来の両面露光装置では片面露光を行うことができず、同じ工場内に両面露光装置と片面露光装置を設置する必要がある。しかし、このように同じ工場内に両面露光装置と片面露光装置を設置することは、工場スペースの問題、それに伴う用役設備及びクリーンルームの増設に伴うエネルギーロスなどの問題が生じる。
【0007】
そこで、本発明の目的は、一方の面に細密な回路パターンを、また、他方の面はそれ程細密ではない回路パターンを形成するプリント配線板を製造するために適し、かつ、両マスクの位置合わせ、及び両マスクとワークとの位置合わせが簡単に行えると共に、かかる両面露光装置で片面のみの露光が行える露光装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の第1の発明である露光装置は、マスクをワークの両面から対向させて、または片面に配置し、両面または片面に露光する露光装置において、プロキシミティ露光部と密着露光部を対向して設けると共に、前記密着露光部における密着露光用マスクホルダを取り外し自在に構成せしめたことを特徴とする。
【0009】
かかる構成により、先ず、最近の実装フィルムであるCOF(チップ・オン・フィルム)の両面露光に対応し得る。即ち、COFでは、表面のチップ実装側の回路は極めて細密であり、裏面の回路パターンはアウターリードを形成することが多いため、表面の回路に比べて回路密度は粗い。そこで、高密度な回路を要求されているチップ実装側をプロキシミティ露光部に対応させると、ごみの転写による連続欠陥を防止することができ、また、裏面の回路パターン側を密着露光部に対応させれば、解像度の良好なパターンが得られることになる。更に、生産計画から片面露光を行う場合には、密着露光用マスクホルダを取り外し、その箇所に吸着ステージを取り付けるようにすれば片面にプロキシミティ露光のみを行うことができる。
【0010】
なお、本発明で使用するワークとしては、帯状、枚葉の何れも用いることができるが、帯状ワークを用いる場合には、帯状ワークを水平に搬送させ、その搬送路を挟んで、上方には、プロキシミティ露光部を、下方には、密着露光部をそれぞれ設けるのが望ましい。
【0011】
次に、本発明の第2の発明である両面露光装置は、ベース枠体に固定したマスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構の上部にマスク/マスク・アライメント機構搭載ベースを設け、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を介在してテーブルを設け、前記テーブル上に固定した支柱の上面に形成したガイドに、密着露光部における密着露光用マスクホルダの下面に形成したガイド部材を取り外し自在に係合せしめると共に、また、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダの昇降機構を設け、前記プロキシミティ露光用マスクホルダと前記密着露光用マスクホルダの間に帯状ワークの搬送路を形成せしめたことを特徴とする。
【0012】
かかる構成により、先ず、両面露光の場合は、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、密着露光部のマスクとプロキシミティ露光部のマスクとの位置合わせを行い、次いで、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、両マスクと帯状ワークとの位置合わせを行うことができるので、位置合わせは正確であるのみならず、短時間で行える。次に、片面露光の場合は、密着露光部における密着露光用マスクホルダを、テーブル上に固定した支柱の上面から取り外し、望ましくは、吸着ステージを取り付けてマスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構のみを駆動すれば、プロキシミティ露光用マスクとワークとの位置合わせを正確に行うことができる。
【0013】
更に、密着露光用マスクホルダに固定した密着露光用マスクの下部に、ワーク/マスク・アライメント用光学系と、マスク/マスク・アライメント用光学系を露光領域からそれぞれ待避できるように設けるのが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【0015】
本発明の両面露光装置は、図1及び図2に示す如く、送り出し機構部10と、第1エアダンサー部20と、露光部30と、第2エアダンサー部40と、巻き取り機構部50とから構成されている。
【0016】
送り出し機構部10は、露光すべき帯状ワーク1を巻き出す送り出しリール11を取り付け得るように構成されている。
【0017】
第1エアダンサー部20は、入口部と出口部にそれぞれガイドプレート21、21を有し、下部は真空機構(図示せず)に接続されており、帯状ワーク1をループ状にして一定量貯留するように構成されている。また、出口部側には上流部移動グリップフィード部22が設けられている。また、23はクリーニングロールで、帯状ワーク1に付着したごみが次工程である露光部30に持ち込まれないよう除去する。
【0018】
露光部30には、図3に示すように帯状ワーク1の搬送路を挟んで、上方にプロキシミティ露光部が、また、下方に密着露光部が配設されている。プロキシミティ露光部は、冷却ユニット61を接続するランプハウス60内に設けられた上面露光照明ランプ61-1と、上楕円ミラー62-1と、上コールドミラー63-1と、上インテグレータ64-1と、上コールドミラー65-1と、露光室30の上部に設けた上コリメーションミラー31-1とから成る上照明系と、プロキシミティ露光用マスクホルダ32-1に固定されたプロキシミティ露光用マスク33-1とから構成され、また、密着露光部は、ランプハウス60内に設けられた下面露光照明ランプ61-2と、下楕円ミラー62-2と、下コールドミラー63-2と、下インテグレータ64-2と、下コールドミラー65-2と、露光室30の下部に設けた下コリメーションミラー31-2とから成る下照明系と、密着露光用マスクホルダ32-2に固定された密着露光用マスク33-2とから構成されている。
【0019】
露光室30のプロキシミティ露光用マスク及び密着露光用マスクの部分の詳細は図4に示す通りであり、ベース枠体2に固定したワーク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構34(詳細は、特開平10−43978号公報に記載の通りである。)の上部には、マスク/マスク・アライメント機構搭載ベース35が設けられており、その上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構36を介在してテーブル37が設けられ、更に、テーブル37上に固定した支柱38の上面に形成したガイド8、例えば、ガイド溝に、密着露光部における密着露光用マスクホルダ32-2の下面に形成したガイド部材7、例えば、スライドベアリングを取り外し自在に係合されている。そして、マスク/マスク・アライメント機構搭載ベース35の側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダ32-1の昇降機構39が設けられている。
【0020】
このように、密着露光用マスクホルダ32-2は支柱38の上面に取り外し自在に係合されているので、両面露光時はこのまま使用するが、片面露光時、即ち、ワーク1の上面にプロキシミティ露光のみ行う場合は、密着露光用マスクホルダ32-2を取り外し、吸着ステージを取り付ける。吸着ステージはいかなる構成のものでも適用可能であるが、例えば、下面側を真空源に接続した燒結金属からなる多孔板が望ましい。
【0021】
また、図5に示すように、ベース枠体2に固定したスライド自在のブラケット3、3には、ワーク/マスク・アライメント用光学系4、4が設けられていると共に、ブラケット5、5には、マスク/マスク・アライメント用光学系6、6がスライド自在に設けられている。
【0022】
図1に戻って、40は第2エアダンサー部であり、第1エアダンサー部20と同様に、入口部と出口部にそれぞれガイドプレート41、41を有し、下部は真空機構(図示せず)に接続されており、露光後の帯状ワーク1をループ状にして一定量貯留するように構成されている。また、入口部側には、下流部移動グリップフィード部42が設けられている。。
【0023】
上記露光装置において、帯状ワークの両面露光処理は次のように行われる。送り出し機構部10の送り出しリール11から巻き出された帯状ワーク1は上流部移動グリップフィード部22と下流部移動グリップフィード部42により、その露光すべき箇所が露光部に搬送される。その際、帯状ワーク1の一定量が第1エアーダンサー部20と第2エアーダンサー部40にそれぞれ貯留される。
【0024】
そして、露光部でのプロキシミティ露光用マスクと密着露光用マスクとの位置合わせ、及び、両マスクと帯状ワークとの位置合わせは次のように行われる。
【0025】
先ず、プロキシミティ露光用マスク33-1と、密着露光用マスク33-2のそれぞれの対角線上に形成したアライメントマークを、図5に示すように、2個のマスク/マスク・アライメント用光学系6、6で観察して、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構36を駆動して、位置合わせを行う。
【0026】
次いで、密着露光用マスク33-2に形成されたマークと帯状ワーク1に形成されたマークとをワーク/マスク・アライメント用光学系4、4により観察して、両マークのズレがある場合には、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構34を駆動して位置合わせを行う。
【0027】
かかる位置合わせ終了後、密着機構(図示せず)で帯状ワーク1の露光すべき箇所を密着露光用マスク33-2に密着せしめると共に、昇降機構39を駆動して、プロキシミティ露光用マスク33-1と帯状ワーク1の間隔を調整し、プロキシミティ露光部における上照明系と、密着露光部における下照明系により両面露光が行われる。
【0028】
このようにして、両面露光が行われた帯状ワーク1は第2エアーダンサー部40を経て、巻き取り機構部50の巻き取りリール51に巻き上げられる。
【0029】
なお、片面露光の場合の帯状ワーク1とプロキシミティ露光用マスク33-1との位置合わせは次のようにして行われる。
【0030】
密着露光用マスクホルダ32-2は吸着テーブルと交換されており、送り出し機構部10の送り出しリール11から巻き出された帯状ワーク1は上流部移動グリップフィード部22と下流部移動グリップフィード部42により、その露光すべき箇所が露光部に搬送される。その際、帯状ワーク1は吸着ステージに吸着されず、プロキシミティ露光用マスク33-1に形成されたマークと帯状ワーク1に形成されたマークとをワーク/マスク・アライメント用光学系4、4により観察して、両マークのズレがある場合には、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構34を駆動して位置合わせを行い、帯状ワーク1を吸着ステージに吸着させる。
【0031】
【発明の効果】
本発明のマスクをワークの両面から対向させて、または片面に配置し、両面または片面に露光する露光装置は、プロキシミティ露光部と密着露光部を対向して設けると共、前記密着露光部における密着露光用マスクホルダを取り外し自在に構成せしめたことを特徴とし、かかる構成により、高密度な回路を要求されているチップ実装側をプロキシミティ露光部に対応させると、ごみの転写による連続欠陥を防止することができ、また、裏面の回路パターン側を密着露光部に対応させれば、解像度の良好なパターンが得られることになると共に、密着露光用マスクホルダを取り外せば、片面露光にも対応し得る。
【0032】
また、本発明の第2の発明である露光装置は、ベース枠体に固定したマスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構の上部にマスク/マスク・アライメント機構搭載ベースを設け、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を介在してテーブルを設け、前記テーブル上に固定した支柱の上面に形成したガイドに、密着露光部における密着露光用マスクホルダの下面に形成したガイド部材を取り外し自在に係合せしめると共に、また、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダの昇降機構を設け、前記プロキシミティ露光用マスクホルダと前記密着露光用マスクホルダの間に帯状ワークの搬送路を形成せしめたことを特徴とするものであり、かかる構成により、先ず、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、密着露光部のマスクとプロキシミティ露光部のマスクとの位置合わせを行い、次いで、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して、両マスクと帯状ワークとの位置合わせを行うことができるので、位置合わせは正確であるのみならず、短時間で行えると共に、密着露光用マスクホルダを取り外して片面露光を行う場合も、マスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構を駆動して正確に位置合わせを行い得るという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の露光装置の正面図である。
【図2】本発明の露光装置の平面図である。
【図3】図1のA−A断面図である。
【図4】本発明のプロキシミティ露光用マスクと密着露光用マスクの部分の詳細図である。
【図5】本発明のプロキシミティ露光用マスク及び密着露光用マスクと帯状ワークとの位置合わせ部の詳細図である。
【符号の説明】
1 帯状ワーク
2 ベース枠体
4 ワーク/マスク・アライメント用光学系
6 マスク/マスク・アライメント用光学系
7 ガイド部材
8 ガイド
10 送り出し機構部
20 第1エアーダンサー部
30 露光部
32-1 プロキシミティ露光用マスクホルダ
33-1 プロキシミティ露光用マスク
32-2 密着露光用マスクホルダ
33-2 密着露光用マスク
34 ワーク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構
35 マスク/マスク・アライメント機構搭載ベース
36 マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構
37 テーブル
38 支柱
39 昇降機構
40 第2エアーダンサー部
50 巻き取り機構部
Claims (6)
- マスクをワークの両面から対向させて、または片面に配置し、両面または片面に露光する露光装置において、プロキシミティ露光部と密着露光部を対向して設けると共に、前記密着露光部における密着露光用マスクホルダを取り外し自在に構成せしめたことを特徴とする露光装置。
- マスクをワークの両面から対向させて、または片面に配置し、両面または片面に露光する露光装置において、前記密着露光部における密着露光用マスクホルダを取り外し後、吸着ステージを取り付け得るように構成せしめたことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- マスクをワークの両面から対向させて、または片面に配置し、両面または片面に露光する露光装置において、帯状ワークの搬送路を挟んで、上方には、前記プロキシミティ露光部を、下方には、前記密着露光部をそれぞれ設けたことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記プロキシミティ露光部は、少なくとも上面露光照明ランプと、プロキシミティ露光用マスクホルダに保持されたマスクとから成り、前記密着露光部は、少なくとも下面露光照明ランプと、密着露光用マスクホルダに保持されたマスクとから成ることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の露光装置。
- ベース枠体に固定したマスク/ワーク・アライメント用XYθ駆動機構の上部にマスク/マスク・アライメント機構搭載ベースを設け、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの上部には、マスク/マスク・アライメント用XYθ駆動機構を介在してテーブルを設け、前記テーブル上に固定した支柱の上面に形成したガイドに、密着露光部における密着露光用マスクホルダの下面に形成したガイド部材を取り外し自在に係合せしめると共に、また、前記マスク/マスク・アライメント機構搭載ベースの側部には、プロキシミティ露光部におけるプロキシミティ露光用マスクホルダの昇降機構を設け、前記プロキシミティ露光用マスクホルダと前記密着露光用マスクホルダの間に帯状ワークの搬送路を形成せしめたことを特徴とする露光装置。
- 前記密着露光用マスクホルダに固定した密着露光用マスクの下部に、ワーク/マスク・アライメント用光学系と、マスク/マスク・アライメント用光学系をそれぞれ設けたことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002363745A JP3653265B2 (ja) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002363745A JP3653265B2 (ja) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004198487A JP2004198487A (ja) | 2004-07-15 |
JP3653265B2 true JP3653265B2 (ja) | 2005-05-25 |
Family
ID=32761807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002363745A Expired - Lifetime JP3653265B2 (ja) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3653265B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005197441A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-07-21 | Dainippon Kaken:Kk | 露光装置および露光方法 |
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- 2002-12-16 JP JP2002363745A patent/JP3653265B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004198487A (ja) | 2004-07-15 |
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