JP2891769B2 - フィルム露光装置 - Google Patents
フィルム露光装置Info
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- JP2891769B2 JP2891769B2 JP2330551A JP33055190A JP2891769B2 JP 2891769 B2 JP2891769 B2 JP 2891769B2 JP 2330551 A JP2330551 A JP 2330551A JP 33055190 A JP33055190 A JP 33055190A JP 2891769 B2 JP2891769 B2 JP 2891769B2
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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- Atmospheric Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、レチクルに描かれた回路パターンを、フィ
ルムに露光するフィルム露光装置に関するものであり、
特にその装置の中で、レチクルや投影レンズ及びフィル
ム面に塵や埃が付着しないようにする構造に関するもの
である。
ルムに露光するフィルム露光装置に関するものであり、
特にその装置の中で、レチクルや投影レンズ及びフィル
ム面に塵や埃が付着しないようにする構造に関するもの
である。
物体の表面に微細加工を施す技術としては、フォトリ
ソグラフィの技術がある。最近では、この技術がフィル
ム回路基板の制作にも応用されている。
ソグラフィの技術がある。最近では、この技術がフィル
ム回路基板の制作にも応用されている。
この技術に使う露光装置は、光源を有する光源部と、
光源部からの放射光が照射され露光されるべき回路パタ
ーンを描かれたレチクルと、レチクルを通過した光をフ
ィルムに投影する投影レンズと、フィルムを保持するフ
ィルムステージと、フィルムステージへ露光するべきフ
ィルムの１コマを搬送する搬送機構等により構成され
る。
光源部からの放射光が照射され露光されるべき回路パタ
ーンを描かれたレチクルと、レチクルを通過した光をフ
ィルムに投影する投影レンズと、フィルムを保持するフ
ィルムステージと、フィルムステージへ露光するべきフ
ィルムの１コマを搬送する搬送機構等により構成され
る。
そして、この露光装置についても、露光するべき回路
パターンの微細化が要求されてきている。
パターンの微細化が要求されてきている。
このように、微細化が要求されている露光装置では、
露光線幅がかなり小さいレベルまで実用化していくこと
が検討されている。しかしながら露光装置周辺の雰囲気
中に塵、埃等の異物が浮遊して、パターンが描かれたレ
チクルの上面及び下面に塵埃が付着するとパターン欠陥
を生じることがある。このことはフィルムのレジスト面
や投影レンズについてもいえる。投影レンズの場合は長
時間使用すれば、その上下面に塵埃が付着して像のボケ
や光量の現象を生じる。さらには光源部におけるコンデ
ンサレンズについても同様に光量減少等が生じる。
露光線幅がかなり小さいレベルまで実用化していくこと
が検討されている。しかしながら露光装置周辺の雰囲気
中に塵、埃等の異物が浮遊して、パターンが描かれたレ
チクルの上面及び下面に塵埃が付着するとパターン欠陥
を生じることがある。このことはフィルムのレジスト面
や投影レンズについてもいえる。投影レンズの場合は長
時間使用すれば、その上下面に塵埃が付着して像のボケ
や光量の現象を生じる。さらには光源部におけるコンデ
ンサレンズについても同様に光量減少等が生じる。
このような塵埃の影響を防止するためには、操作室全
体をクリーンルーム化すればよいが、設備費がかかり、
採算的に問題がある。また露光装置全体を加圧して、装
置の中に塵埃が侵入しない構造も考えられているが、装
置自体、特にフィルム搬送系、から発生する塵埃は防ぎ
きれない。
体をクリーンルーム化すればよいが、設備費がかかり、
採算的に問題がある。また露光装置全体を加圧して、装
置の中に塵埃が侵入しない構造も考えられているが、装
置自体、特にフィルム搬送系、から発生する塵埃は防ぎ
きれない。
本発明は、このように装置周辺に浮遊する塵や埃の影
響を受けることなく、露光することができる露光装置を
提供することを目的とする。
響を受けることなく、露光することができる露光装置を
提供することを目的とする。
このような課題を解決するために、本発明のフィルム
露光装置は、光源部と、光源部から光が照射されるレチ
クルと、レチクルを保持して、ガイド部材上を光軸方向
に移動するレチクル保持台と、レチクルを通過した光を
露光面に結び、レチクルのパターンを投影する投影レン
ズと、投影レンズを保持して、ガイド部材上を光軸方向
に移動する投影レンズ保持台と、投影レンズによる像の
投影位置に、フィルムを載せて保持するフィルムステー
ジとからなるフィルム露光装置において、光源部と繋が
った第１のレチクルケースと、前記レチクル保持台に繋
がった第２のレチクルケースとを、隙間を持ってはめ合
わせ、前記レチクル保持台に繋がった第１の投影レンズ
ケースと、前記投影レンズ保持台に保持された第２の投
影レンズケースとを、隙間を持ってはめ合わせ、第１及
び第２のレチクルケース、及び第１及び第２の投影レン
ズケースによってレチクル加圧室を形成し、このレチク
ル加圧室に圧力供給器を接続したことを特徴とする。さ
らに、本発明のフィルム露光装置は、光源部と、光源部
から光が照射されるレチクルと、レチクルを保持して、
ガイド部材上を光軸方向に移動するレチクル保持台と、
レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、投影レンズを保持して、
ガイド部材上を光軸方向に移動する投影レンズ保持台
と、投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せ
て保持するフィルムステージとからなるフィルム露光装
置において、前記投影レンズ保持台と繋がった第２の投
影レンズケースと、フィルムステージに繋がったステー
ジケースとを隙間を持ってはめ合わせ、フィルム上に前
記ステージケースを隙間を持って配置し、第２の投影レ
ンズケース、ステージケース及びフィルムによってステ
ージ加圧室を形成し、このステージ加圧室に圧力供給器
を接続したことを特徴とする。
露光装置は、光源部と、光源部から光が照射されるレチ
クルと、レチクルを保持して、ガイド部材上を光軸方向
に移動するレチクル保持台と、レチクルを通過した光を
露光面に結び、レチクルのパターンを投影する投影レン
ズと、投影レンズを保持して、ガイド部材上を光軸方向
に移動する投影レンズ保持台と、投影レンズによる像の
投影位置に、フィルムを載せて保持するフィルムステー
ジとからなるフィルム露光装置において、光源部と繋が
った第１のレチクルケースと、前記レチクル保持台に繋
がった第２のレチクルケースとを、隙間を持ってはめ合
わせ、前記レチクル保持台に繋がった第１の投影レンズ
ケースと、前記投影レンズ保持台に保持された第２の投
影レンズケースとを、隙間を持ってはめ合わせ、第１及
び第２のレチクルケース、及び第１及び第２の投影レン
ズケースによってレチクル加圧室を形成し、このレチク
ル加圧室に圧力供給器を接続したことを特徴とする。さ
らに、本発明のフィルム露光装置は、光源部と、光源部
から光が照射されるレチクルと、レチクルを保持して、
ガイド部材上を光軸方向に移動するレチクル保持台と、
レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、投影レンズを保持して、
ガイド部材上を光軸方向に移動する投影レンズ保持台
と、投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せ
て保持するフィルムステージとからなるフィルム露光装
置において、前記投影レンズ保持台と繋がった第２の投
影レンズケースと、フィルムステージに繋がったステー
ジケースとを隙間を持ってはめ合わせ、フィルム上に前
記ステージケースを隙間を持って配置し、第２の投影レ
ンズケース、ステージケース及びフィルムによってステ
ージ加圧室を形成し、このステージ加圧室に圧力供給器
を接続したことを特徴とする。
本発明の装置では、回路パターンが描かれたレチクル
は、第１のレチクルケースと、第２のレチクルケース
と、第１の投影レンズケースからなるレチクル加圧室に
配置されている。そしてガスを常に供給することによっ
て、レチクル加圧室外部からの塵埃の混入を防止するこ
とができる。さらには第２の投影レンズケースとステー
ジケースからなるステージ加圧室によって、同様に塵埃
の混入を防止することができる。また、加圧室をレチク
ル及び投影レンズの周辺のみに設けることで、大量のク
リーンエアを必要とせず、装置が小型で済み、設備費が
少ない装置を提供することができる。
は、第１のレチクルケースと、第２のレチクルケース
と、第１の投影レンズケースからなるレチクル加圧室に
配置されている。そしてガスを常に供給することによっ
て、レチクル加圧室外部からの塵埃の混入を防止するこ
とができる。さらには第２の投影レンズケースとステー
ジケースからなるステージ加圧室によって、同様に塵埃
の混入を防止することができる。また、加圧室をレチク
ル及び投影レンズの周辺のみに設けることで、大量のク
リーンエアを必要とせず、装置が小型で済み、設備費が
少ない装置を提供することができる。
以下、本発明の実施例を説明する。第１図は本発明の
フィルム露光装置の全体の概略図である。装置の働きを
説明するために第１のレチクルケース、第２のレチクル
ケース、第１の投影レンズケース、第２の投影レンズケ
ース、ステージケース及びこれらで構成される加圧室や
圧力供給器は省略している。
フィルム露光装置の全体の概略図である。装置の働きを
説明するために第１のレチクルケース、第２のレチクル
ケース、第１の投影レンズケース、第２の投影レンズケ
ース、ステージケース及びこれらで構成される加圧室や
圧力供給器は省略している。
フィルムＦには、フォトレジスト層が設けられて、こ
のレジストに、光源からのレジスト感光波長が照射され
る。そしてフィルムＦは搬送系で露光位置５に１コマず
つステップ送りされる。
のレジストに、光源からのレジスト感光波長が照射され
る。そしてフィルムＦは搬送系で露光位置５に１コマず
つステップ送りされる。
光源部10は、超高圧水銀ランプのようなレジスト感光
波長を良好に放射するランプ11と、この放射光を効率よ
く反射集束する凹面鏡12と、放射光を導く平面鏡14と、
シャッター15と、コンデンサレンズ13等より構成され
る。
波長を良好に放射するランプ11と、この放射光を効率よ
く反射集束する凹面鏡12と、放射光を導く平面鏡14と、
シャッター15と、コンデンサレンズ13等より構成され
る。
一方、光源部10からの放射光を受ける投影系20は、レ
チクル２と、レチクル保持台21、レチクル２を通過した
光を効率よくフィルムＦに投影する投影レンズ３と投影
レンズ保持台31より構成される。
チクル２と、レチクル保持台21、レチクル２を通過した
光を効率よくフィルムＦに投影する投影レンズ３と投影
レンズ保持台31より構成される。
搬送系は、フィルムＦが巻かれていて、露光位置５に
供給するフィルム供給リール41と、露光後のフィルムＦ
を巻き取るフィルム巻き取りリール42と、レジストを保
護するためのスペイサーのためのリール43、44をそれぞ
れに有する。またフィルムＦの駆動ローラ46と、これに
従動されるローラ45がスプロケット式に構成される。そ
して補助ローラ46、47がある。
供給するフィルム供給リール41と、露光後のフィルムＦ
を巻き取るフィルム巻き取りリール42と、レジストを保
護するためのスペイサーのためのリール43、44をそれぞ
れに有する。またフィルムＦの駆動ローラ46と、これに
従動されるローラ45がスプロケット式に構成される。そ
して補助ローラ46、47がある。
５は露光位置であり、フィルムステージ51上に構成さ
れる。またステージには、図示略のフィルム吸着機構
や、フィルムやレチクルの位置検出用センサー部52を有
する。F10はフィルムＦの幅方向に２つ設けられた位置
検出用の穴であり、これによって露光されるべき１コマ
が正しく搬送されたことを検出する。53はフィルムＦの
搬送の度にフィルムステージ51を昇降させる昇降機構で
ある。
れる。またステージには、図示略のフィルム吸着機構
や、フィルムやレチクルの位置検出用センサー部52を有
する。F10はフィルムＦの幅方向に２つ設けられた位置
検出用の穴であり、これによって露光されるべき１コマ
が正しく搬送されたことを検出する。53はフィルムＦの
搬送の度にフィルムステージ51を昇降させる昇降機構で
ある。
このような露光装置において、露光位置５は、レチク
ル２や投影レンズ３と正しい位置関係をもって、設定さ
れている。特にこの間の距離は、焦点や倍率を決定する
うえで重要である。そして位置関係がずれた時は、レチ
クル２や投影レンズ３を専用の移動機構によって光軸方
向に移動させることによって制御できる。
ル２や投影レンズ３と正しい位置関係をもって、設定さ
れている。特にこの間の距離は、焦点や倍率を決定する
うえで重要である。そして位置関係がずれた時は、レチ
クル２や投影レンズ３を専用の移動機構によって光軸方
向に移動させることによって制御できる。
第２図は、本発明を具体的に説明するための要部拡大
図である。光源部10内のコンデンサレンズ13は、コンデ
ンサレンズ保持部材130に保持される。一方レチクル２
はレチクルカバー２′に載置されて、レチクル保持部材
21に保持されている。レチクル保持部材21はガイド部材
24に沿って、光軸方向に移動する。この移動は専用の移
動機構、例えばモータよりなる、によって行われる。ガ
イド部材24は基板25に固着されている。一方投影レンズ
３は第２の投影レンズケース32によって保持されて、さ
らに第２の投影レンズケース32は投影レンズ保持台31に
保持される。投影レンズ保持台31はガイド部材24に沿っ
て、光軸方向に移動する。
図である。光源部10内のコンデンサレンズ13は、コンデ
ンサレンズ保持部材130に保持される。一方レチクル２
はレチクルカバー２′に載置されて、レチクル保持部材
21に保持されている。レチクル保持部材21はガイド部材
24に沿って、光軸方向に移動する。この移動は専用の移
動機構、例えばモータよりなる、によって行われる。ガ
イド部材24は基板25に固着されている。一方投影レンズ
３は第２の投影レンズケース32によって保持されて、さ
らに第２の投影レンズケース32は投影レンズ保持台31に
保持される。投影レンズ保持台31はガイド部材24に沿っ
て、光軸方向に移動する。
レチクル２に対しては、コンデンサレンズ保持部材13
0に繋がった第１のレチクルケース22とレチクル保持部
材21に繋がった第２のレチクルケース23、及び第１の投
影レンズケース30によって、レチクル加圧室１が形成さ
れる。
0に繋がった第１のレチクルケース22とレチクル保持部
材21に繋がった第２のレチクルケース23、及び第１の投
影レンズケース30によって、レチクル加圧室１が形成さ
れる。
また投影レンズ３に対しては、第２の投影レンズケー
ス32とステージケース33によってステージ加圧室１′が
形成される。
ス32とステージケース33によってステージ加圧室１′が
形成される。
これら加圧室には、浄化作用も合わせて持つ、圧力供
給器６が管60、62によって接続されている。61、63は流
量調節器である。圧力供給器６としてはコンプレッサが
適用される。
給器６が管60、62によって接続されている。61、63は流
量調節器である。圧力供給器６としてはコンプレッサが
適用される。
一方、各々の加圧室は、前述の如くレチクル保持部材
21と投影レンズ保持台31とが光軸方向に移動するので、
第１のレチクルケース22と第２のレチクルケース23、第
１の投影レンズケース30と第２の投影レンズケース32、
および第２の投影レンズケース32とステージケース33
は、それぞれ隙間を設けてはめ合わされている。例えば
レチクル加圧室１の場合、レチクル保持部材21が光軸方
向に移動しても、常に隙間から、外部に向けて洗浄な空
気Ａ、Ｂが流れる。またステージ加圧室１′の場合、投
影レンズ保持台31が光軸方向に移動しても、常に隙間か
ら、外部に向けて洗浄な空気Ｃ、Ｄが流れる。これは加
圧室内の方が圧力は高いためである。このため塵埃が加
圧室内に混入することはなく、その影響を受けることも
ない。とくにレチクル２に塵埃が付着しないので、（レ
チクルの上面、下面両方）パターン欠陥を生じることが
ない。さらに投影レンズ３の上面及び下面、さらにはコ
ンデンサレンズ13の下面13′においてもその影響は受け
ない。またステージケース１′については風Ｄによっ
て、フィルムＦのレジスト面に付着した塵埃を吹き飛ば
すことができる。
21と投影レンズ保持台31とが光軸方向に移動するので、
第１のレチクルケース22と第２のレチクルケース23、第
１の投影レンズケース30と第２の投影レンズケース32、
および第２の投影レンズケース32とステージケース33
は、それぞれ隙間を設けてはめ合わされている。例えば
レチクル加圧室１の場合、レチクル保持部材21が光軸方
向に移動しても、常に隙間から、外部に向けて洗浄な空
気Ａ、Ｂが流れる。またステージ加圧室１′の場合、投
影レンズ保持台31が光軸方向に移動しても、常に隙間か
ら、外部に向けて洗浄な空気Ｃ、Ｄが流れる。これは加
圧室内の方が圧力は高いためである。このため塵埃が加
圧室内に混入することはなく、その影響を受けることも
ない。とくにレチクル２に塵埃が付着しないので、（レ
チクルの上面、下面両方）パターン欠陥を生じることが
ない。さらに投影レンズ３の上面及び下面、さらにはコ
ンデンサレンズ13の下面13′においてもその影響は受け
ない。またステージケース１′については風Ｄによっ
て、フィルムＦのレジスト面に付着した塵埃を吹き飛ば
すことができる。
以上説明したように、加圧室はレチクル加圧室、ステ
ージ加圧室の両方を有するフィルム露光装置について説
明したが、何れか一方でも可能である。また圧力供給器
６は、両方の加圧室に別々に設けてもよい。
ージ加圧室の両方を有するフィルム露光装置について説
明したが、何れか一方でも可能である。また圧力供給器
６は、両方の加圧室に別々に設けてもよい。
以上説明したように、本考案のフィルム露光装置によ
れば、レチクル、投影レンズ、コンデンサレンズ、フィ
ルムのレジスト面に対して塵埃が付着しないように加圧
室の設けたので、投影像のボケや光量の減少を生じるこ
とはない。また、加圧室をレチクル及び投影レンズの周
辺のみに設けているので、大量のクリーンエアを必要と
せず、装置が小型で済み、設備費が少ない装置を提供す
ることができる。
れば、レチクル、投影レンズ、コンデンサレンズ、フィ
ルムのレジスト面に対して塵埃が付着しないように加圧
室の設けたので、投影像のボケや光量の減少を生じるこ
とはない。また、加圧室をレチクル及び投影レンズの周
辺のみに設けているので、大量のクリーンエアを必要と
せず、装置が小型で済み、設備費が少ない装置を提供す
ることができる。
第１図は、本発明のフィルム露光装置の全体の概略図を
示す。 第２図は、本発明を説明するための要部拡大図である。 図中、 1:レチクル加圧室 １′：ステージ加圧室 2:レチクル 3:投影レンズ 10:光源部 21:レチクル保持台 51:フィルムステージ 22:第１のレチクルケース 30:第１の投影レンズケース 32:第２の投影レンズケース 33:ステージケース 6:圧力供給器
示す。 第２図は、本発明を説明するための要部拡大図である。 図中、 1:レチクル加圧室 １′：ステージ加圧室 2:レチクル 3:投影レンズ 10:光源部 21:レチクル保持台 51:フィルムステージ 22:第１のレチクルケース 30:第１の投影レンズケース 32:第２の投影レンズケース 33:ステージケース 6:圧力供給器
Claims (2)
- 【請求項１】光源部と、 光源部から光が照射されるレチクルと、 レチクルを保持して、ガイド部材上を光軸方向に移動す
るレチクル保持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズを保持して、ガイド部材上を光軸方向に移動
する投影レンズ保持台と、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージとからなるフィルム露光装置に
おいて、 光源部と繋がった第１のレチクルケースと、前記レチク
ル保持台に繋がった第２のレチクルケースとを、隙間を
持ってはめ合わせ、 前記レチクル保持台に繋がった第１の投影レンズケース
と、前記投影レンズ保持台に保持された第２の投影レン
ズケースとを、隙間を持ってはめ合わせ、 第１及び第２のレチクルケース、及び第１及び第２の投
影レンズケースによってレチクル加圧室を形成し、 このレチクル加圧室に圧力供給器を接続したこと を特徴とするフィルム露光装置。 - 【請求項２】光源部と、 光源部から光が照射されるレチクルと、 レチクルを保持して、ガイド部材上を光軸方向に移動す
るレチクル保持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズを保持して、ガイド部材上を光軸方向に移動
する投影レンズ保持台と、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージとからなるフィルム露光装置に
おいて、 前記投影レンズ保持台と繋がった第２の投影レンズケー
スと、フィルムステージに繋がったステージケースとを
隙間を持ってはめ合わせ、 フィルム上に前記ステージケースを隙間を持って配置
し、 第２の投影レンズケース、ステージケース及びフィルム
によってステージ加圧室を形成し、 このステージ加圧室に圧力供給器を接続したこと を特徴とするフィルム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330551A JP2891769B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | フィルム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330551A JP2891769B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | フィルム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204534A JPH04204534A (ja) | 1992-07-24 |
| JP2891769B2 true JP2891769B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=18233913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2330551A Expired - Fee Related JP2891769B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | フィルム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2891769B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5451175B2 (ja) * | 2009-05-15 | 2014-03-26 | サンエー技研株式会社 | 露光装置 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2330551A patent/JP2891769B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04204534A (ja) | 1992-07-24 |
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