JP2015034846A - 縦型フィルム露光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】長尺感光性フィルムを間欠移動させながら停止時に露光するフィルム露光装置であって、フィルム平面性の確保が容易にできるフィルム露光装置を得ることを目的とする。【解決手段】供給側ロールと巻取側ロールの間で感光性フィルムを移動させるフィルム搬送機構と、このフィルム搬送機構中に設定された感光性フィルムを垂直に移動させる垂直移動区域と、この垂直移動区域における感光性フィルムのテンションを制御するテンション制御機構と、垂直移動区域のフィルムの表裏の少なくとも一方に対向させたフォトマスクと、該フォトマスクと感光性フィルムとの間隔を調整するマスク位置調整機構と、フォトマスクを介して感光性フィルムに露光する照明手段とを有する縦型フィルム露光装置。【選択図】図1

Description

本発明は、感光性フィルムに露光するフィルム露光装置に関し、特に感光性フィルムに新たに設定した垂直移動区域において露光する縦型フィルム露光装置に関する。
例えばプリント配線基板は、感光性フィルム(感光体を塗布した合成樹脂製柔軟フィルム)上に回路パターンを露光し、現像して同パターンを出現させるフォトリソグラフィー技術によって形成されている。この目的で使用される露光装置は基本的に、回路パターンを有するフォトマスク(露光マスク)を感光性フィルムに密着させた状態または近接させた状態(μmオーダーの僅かな隙間を与えた状態)で、光源装置からの光をフォトマスクを通して感光性フィルムに照射している(密着露光あるいはプロキシミティ露光)。
回路パターンは微細化が進行しており、線幅は従来の300μm程度から10μm程度に縮小しているのが現状である。回路パターンの微細化の進行には、感光性フィルムの平面性の確保、同フィルムあるいはフォトマスク上の塵埃(異物)除去が重要な技術課題となる。
特開2001-42118号公報 特開2007-102200号公報 特開2012-220608号公報
特許文献1ないし特許文献3は、長尺感光性フィルムを移動させながら露光する露光装置を提案しているが、移動させながら露光するため、そのフォトマスクのパターンは、繰り返しパターンに限られてしまう。また、フィルムまたはフォトマスクに付着する塵埃の除去について考慮が払われていない。
本発明は、長尺感光性フィルムを間欠移動させながら停止時に露光するフィルム露光装置であって、フィルム平面性の確保が容易にできるフィルム露光装置を得ることを目的とする。また本発明は、フィルムあるいはフォトマスク上に付着する塵埃の除去が容易にできるフィルム露光装置を得ることを目的とする。さらに本発明は、感光性フィルムとフォトマスクとの間の露光ギャップを容易に調整できるフィルム露光装置を得ることを目的とする。
本発明は、長尺感光性フィルムの移動領域に垂直移動区域を設定し、この垂直移動区域においてフィルムテンションをコントロールし、フィルム停止中に露光すれば、フィルムの平面性を容易に確保できるとの着眼に基づいて完成されたものである。停止時に露光するので、フォトマスクは繰り返しパターンに限られない。また、本発明は、垂直移動区域のフィルムの表裏の少なくとも一方に、フォトマスクを位置調整可能として対向させることにより、密着露光、プロキシミティ露光のいずれにも対応可能とし、さらに、垂直移動区域のフィルム表裏の少なくとも一面に対してエアカーテンを形成することにより、フィルムあるいはフォトマスク上に付着する塵埃を除去する。
すなわち、本発明の縦型フィルム露光装置は、供給側ロールと巻取側ロールの間で感光性フィルムを移動させるフィルム搬送機構と、このフィルム搬送機構中に設定された感光性フィルムを垂直に移動させる垂直移動区域と、この垂直移動区域における感光性フィルムのテンションを制御するテンション制御機構と、垂直移動区域のフィルムの表裏の少なくとも一方に対向させたフォトマスクと、該フォトマスクと感光性フィルムとの間隔を調整するマスク位置調整機構と、フォトマスクを介して感光性フィルムに露光する照明手段と、を有することを特徴としている。
本発明の縦型フィルム露光装置はさらに、垂直移動区域のフィルム表裏の少なくとも一方に対してエアカーテンを形成するエアカーテン手段を有することが好ましい。エアカーテン手段によるエア(気体)は、環境によっては不活性ガスであってもよい。また、エアカーテンによる気流が露光に悪影響を与えるならば露光時にはエアカーテンによるエア供給を停止してもよい。
本発明の縦型フィルム露光装置のマスク位置調機構は、上記垂直移動区域の上記感光性フィルムの移動平面をXY平面とし、XY平面と直交する方向をZ方向、XY平面で回転する方向をθ方向としたとき、XYZの直交3方向及びXY平面で回転するθ方向に位置調節可能であることが実際的である。
上記マスク位置調機構は、互いに直交するXYZ軸方向及びX軸、Y軸、Z軸と平行な軸回りの回転方向の6軸調整可能な機構であることが好ましい。
本発明の縦型フィルム露光装置は、長尺感光性フィルムの移動領域に垂直移動区域を設定し、この垂直移動区域においてフィルムテンションを制御し、フィルム停止中に露光するので、フィルムの平面性を容易に確保できる。そして、垂直移動区域のフィルムの表裏の少なくとも一方に、フォトマスクを位置調整可能として対向させているので、密着露光、プロキシミティ露光のいずれにも対応可能である。さらに、垂直移動区域のフィルム表裏の少なくとも一方に対してエアカーテンを形成することにより、フィルムあるいはフォトマスク上に付着する塵埃を除去することができる。従って、微細な回路パターンの形成に好適である。
本発明による縦型フィルム露光装置の一実施形態を示す正面図である。 図1のII-II線に沿う断面図である。 感光性フィルムの垂直移動領域周辺の構成を示す斜視図である。 縦型フィルム露光装置の駆動制御系の一実施形態をブロックで示す図である。 同縦型フィルム露光装置のフォトマスク位置調整機構の一実施形態のより具体的な構成を示す斜視図である。 同フォトマスク位置調整機構を他の方向から見た斜視図である。
図示実施形態は、感光性フィルムの両面に露光する両面露光装置に本発明を適用したものである。図1は、供給側ロール11から巻取側ロール12に、感光性フィルム10を送るフィルム搬送機構20を示している。感光性フィルム10は、柔軟な透光性の合成樹脂フィルムの両面(表裏)に予め感光体を塗布してなっている。
フィルム搬送機構20には、感光性フィルム10を垂直に移動させる垂直(鉛直)移動区域20Vが設定されている。垂直移動区域20Vを移動する感光性フィルム10を垂直移動フィルム10Vとする。この垂直移動区域20Vは、上部の入口側ローラ21と下部の出口側ローラ22との間に設定されている。入口側ローラ21と出口側ローラ22はそれぞれ、感光性フィルム10を挟む一対のローラからなる。フィルム搬送機構20には、垂直移動区域20Vにおいて垂直移動フィルム10Vに与えるテンションを制御するテンション制御機構23が備えられている。テンション制御機構23は、テンションローラ(ダンサー)、テンションセンサ等を有する周知の制御機構であり、垂直移動区域20Vにおける垂直移動フィルム10Vのテンションを制御することにより、その平面性を担保する。すなわち、垂直移動区域20Vにおける垂直移動フィルム10Vは、自重によって平面性が損なわれることがなく、テンション制御機構23によりテンションを適切に管理することで、平面性を確保することができる。また、フィルム搬送機構20は、そのフィルム搬送制御装置24により、感光性フィルム10の移動停止制御を行う。
回路パターンを有するフォトマスク30は、この垂直移動区域20Vにおける垂直移動フィルム10Vの表裏に対向させてそれぞれ配置されている。フォトマスク30はそれぞれ、マスクホルダ31に固定され、マスクホルダ31を介してマスク位置調整機構40により支持されている(図1)。フォトマスク30は、入口側ローラ21及び出口側ローラ22のローラ軸方向と平行な方向をX方向(X軸方向)、X方向と直交する方向をYZ方向(Y-Z軸方向)とし、垂直移動フィルム10Vの移動平面(ローラ軸を通る平面と平行な平面)をXY平面としたとき、マスク位置調整機構40により、XYZの直交3方向及びXY平面をZ方向と平行な軸Pを中心に回転させるθ方向に位置調節可能である。マスク位置調整機構40は、フォトマスク30をZ方向移動させることにより、フォトマスク30と垂直移動フィルム10Vとの距離を変化させてプロキシミティ露光の間隔を変化させることができ(あるいは密着露光を選択することができ)、XY方向に移動させることによりフォトマスク30と垂直移動フィルム10VとのXY平面上での相対位置を調整することができる。また、マスク位置調整機構40は、θ方向調整することにより、フォトマスク30の垂直移動フィルム10Vの表裏に対する相対回転位置(Z軸と平行な軸回りの回転方向、回転角)を調整することができる。マスク位置調整機構40は、マスク位置制御装置42の制御下で、フォトマスク30のXYZの直交3方向位置調整及び軸P(Z軸)を中心に回転位置調整動作をする。
マスク位置調整機構40は、図3に分解斜視図を示したように、一方のマスク位置調整機構40Bがマスクホルダ32(32B)に装着されたフォトマスク30(30B)を固定位置に保持し、他方のマスク位置調整機構40Aがマスクホルダ32(32A)に固定されたフォトマスク30(30A)を、Z方向と平行なスライドガイド41に沿って垂直移動フィルム10Vに対して接離移動または位置調整移動可能に、さらにX、Y方向位置及びZ軸と平行な軸を中心として回転調整可能に保持する。一方のマスク位置調整機構40Bは、他方のマスク位置調整機構40Aと同一の構成としてもよく、スライドガイドにより垂直移動フィルム10Vに対して接離移動可能な構成にしてもよい。なお、マスク位置調整機構40は、XYZの直交3方向位置調整及びZ軸を中心としたθ方向(Z軸と平行な軸回りの回転位置と角度)調整が可能な4軸調整機構であるが、さらにX軸及びY軸を中心とした回転方向(X軸またはY軸と平行な軸回りの回転位置と角度)調整が可能な6軸調整機構としてもよい。
照明装置(紫外線照明手段)50は、図1、図2に示すように、垂直移動フィルム10Vの両側のフォトマスク30に対応させて一対が備えられている。一対の照明装置50は、対称の同一構造であり、光源(UVランプ)51、第1ミラー(平面鏡)52、第2ミラー(凹面鏡)53及び第3ミラー(平面鏡)54を有している。光源51は図2の紙面に平行かつZ方向に延びるUVランプ本体とその背面の楕円面鏡からなっている。光源51の光軸51Xは、図1、図2の紙面に平行なZ方向に延びており、第1ミラー52によりXZ平面内において直角に曲げられる。第1ミラー52による反射後の光軸52XはXY平面内に位置しX方向に向く。第2ミラー53は、XY平面を進んできた光軸51X、光軸52XをZY平面に反射させて光軸53Xとし、第3ミラー54は、反射後の光軸をZY平面に位置しZ方向に向く光軸54Xとする。第2ミラー53は、X軸と平行な中心軸を有する凹面であり、入射光を光軸53Xと平行になるように反射する。したがって照明装置50は露光用光束として、光軸54Xと平行な光束を射出する。第3ミラー54の光軸54Xは、フォトマスク30(及び垂直移動フィルム10V)と直交するように、マスク位置調整機構40によって調整される。各照明装置50は、照明制御装置56により発光状態が制御される。
エアカーテン装置(気流形成手段)60は、図1、図3に示すように、垂直移動フィルム10Vの表裏にエアカーテンを形成するもので、上部のエア供給部61と下部のエア吸収部62を備えている。エア供給部61とエア吸収部62は、X方向に長いエア吹出口61aとエア吸収口62aを有している。エア供給部61は、圧縮ポンプ(送風機)63からエアの供給を受け、エア吸収部62は吸引ポンプ64によってエアの吸引を受ける。圧縮ポンプ63と吸引ポンプ64は、エアカーテン制御装置65によって制御される。
エア供給部61は、エア吹出口61aからエアを垂直移動フィルム10Vの表面に向けて吹き出して垂直移動フィルム10Vとフォトマスク30との間にエアカーテンを形成する。エア吸収部62はエア吸収口62aから、エア吹出口61aから吹き出されてエアカーテンを形成したエアを吸引する。循環式のエアカーテン装置60の場合、エア吸収口62aから吸引されたエアがフィルタを通され、再びエア吹出口61aから吹き出されて、エアカーテンを形成する。エアカーテン装置60が使用するエア(気体)は、環境によっては不活性ガスであってもよい。
フィルム搬送制御装置24、マスク位置制御装置42、照明制御装置56及びエアカーテン制御装置65は、フィルム露光制御装置70により統括的に制御される。これらの制御装置24、42、56、65、70は、個別の専用制御装置により、あるいは複数のまたは単一のコンピュータにより構成できる。
上記構成の本露光装置は、フィルム露光制御装置70による統括的な制御下で、次のように作動する。供給側ロール11と巻取側ロール12の間にセットされた感光性フィルム10は、フィルム搬送機構20により移動し、入口側ローラ21と出口側ローラ22の間の垂直移動区域20Vを移動する。フィルム搬送制御装置24は、未露光の感光性フィルム10(垂直移動フィルム10V)が垂直移動区域20Vの所定位置に達すると、感光性フィルム10を停止させる。このとき、テンション制御機構23は、垂直移動区域20Vの垂直移動フィルム10Vが平面を維持するように、感光性フィルム10に与えるテンションを制御する。
垂直移動フィルム10Vの表裏に位置するフォトマスク30は、マスク位置調整機構40により垂直移動フィルム10Vとの相対位置及び向きが予め調整される。この際、Z方向移動により、密着露光とプロキシミティ露光との別、及びプロキシミティ露光の場合の垂直移動フィルム10Vとフォトマスク30のギャップが調整される。
エアカーテン装置(エアカーテン手段、気流形成手段)60は、エア供給部61から垂直移動フィルム10Vの表裏に沿って供給したエアをエア吸収部62で吸引し、この過程で垂直移動フィルム10Vまたはフォトマスク30の表面に付着していた(付着しようとする)塵埃を除去する。
フィルム搬送機構20のフィルム搬送制御装置24は、未露光の感光性フィルム10が垂直移動区域20Vに到達したとき、感光性フィルム10を停止させ、プロキシミティ露光の場合はその状態で、照明制御装置56により照明装置50が点灯され、フォトマスク30のパターンが垂直移動フィルム10Vに照射(露光)される。その結果、感光性フィルム10の表裏には、フォトマスク30のパターン像が潜像として形成される。エアカーテン装置60は、垂直移動フィルム10Vの平面性に悪影響を及ぼすおそれがある場合、露光の間停止させてもよい。
密着露光の場合は、未露光の感光性フィルム10が垂直移動区域20Vに到達したとき、感光性フィルム10を停止させ、エアカーテン装置60を停止させて、マスク位置調整機構40(40A)によりフォトマスク30を垂直移動フィルム10Vの表裏面に密着させて、密着状態でフォトマスク30のパターンを照明装置50の照明制御装置56により垂直移動フィルム10Vに照射する。その後、マスク位置調整機構40(40A)によりフォトマスク30を垂直移動フィルム10Vの表裏面から離反させ、エアカーテン装置60を作動させる。
以上のように、フィルム搬送機構20による感光性フィルム10の搬送、搬送停止、マスク位置調整機構40(40A)によるフォトマスク30の接離移動、照明装置50による潜像の形成が繰り返し実行される。そして、必要なコマ数の露光が終了すると、露光済みの感光性フィルム10をフィルム搬送機構20により巻取側ロール12に巻き取り、感光性フィルム10を適宜切断して、現像、定着、乾燥などの次工程に搬送する。なお、現像、定着、乾燥工程は、テンション制御機構23と巻取側ロール12の間に現像、定着、乾燥装置を配置して感光性フィルム10を巻取側ロール12に巻き取る前に実行してもよい。
以上の通り、本発明の実施形態は、垂直移動区域20Vを移動する垂直移動フィルム10Vに露光するので、プロキシミティ露光であっても、垂直移動フィルム10Vの平面性を簡単に高精度に得ることができる。垂直移動フィルム10Vの表裏面とフォトマスク30の表面にエアカーテン装置60によりエアを吹き付けるので、垂直移動フィルム10Vまたはフォトマスク30の表面に付着していた(付着しようとする)塵埃が除去され、プロキシミティ露光、密着露光にかかわらず、欠損のないパターン露光が可能になる。以上の本発明の実施形態によれば、線幅7μm以下の微細な回路パターンの露光が可能である。
以上の本発明の実施形態では、垂直移動フィルム10Vの表裏の両側から同時に露光したが、交互に、または一方側からのみから露光してもよい。また、マスク位置調整機構40A、40Bは、複数を縦方向(Y方向)に並べて、複数のフォトマスク30により垂直移動フィルム10Vの異なる領域に同時に露光し、または多重露光する構成としてもよい。
図5及び図6は、マスク位置調整機構40A、40Bのより具体的な実施形態を示している。一方のマスク位置調整機構40Aは、フォトマスク30Aを、X、Y、Z軸方向並びにX軸と平行な軸回り、Y軸と平行な軸回り及びZ軸と平行な軸回り(θ)調整可能な6軸調整機構であり、他方のマスク位置調整機構40Bは、フォトマスク30Bを外部調整機構により基準位置に位置決めする構成である。つまり、基準位置に位置決めしたフォトマスク30Bを基準にしてフォトマスク30Aを位置調整する。フォトマスク30A、30Bは夫々、マスクホルダ32A、32Bに固定されている。各フォトマスク30A、30Bの4箇所(4個の角部の近傍、四隅)には、アライメント調整用のアライメントマーク31A、31Bが設けられている。
マスク位置調整機構40Aは、マスクホルダ32Aに固定されたフォトマスク30Aを支持するチルトステージ43Aと、チルトステージ43Aを支持するXYθステージ44Aと、XYθステージ44Aを支持するベースフレーム45Aを有する。チルトステージ43Aは、4箇所(4個の角部近傍、四隅)に配置されたアオリ軸(Z軸)調整機構46Aを介してXYθステージ44Aに支持されている。XYθステージ44Aは、4箇所に配置されたXYθ調整機構47Aを介してベースフレーム45Aに支持されている。各アオリ軸調整機構46Aは、XYθステージ44Aに対してチルトステージ43Aの四隅をZ軸方向に接離移動させて、垂直移動フィルム10Vとフォトマスク30Bに対するフォトマスク30Aの平行度及び間隔の調整をする。各XYθ調整機構47Aは、ベースフレーム45Aに対してXYθステージ44Aの四隅を独立してX軸方向及びY軸方向に移動させて、ベースフレーム45Aに対するXYθステージ44Aの調整(つまりフォトマスク30B(垂直移動フィルム10V)に対するフォトマスク30AのX方向位置、Y方向位置及びθ角(Z軸回りの回転角の調整)ができる。なお、アオリ軸調整機構46A及びXYθ調整機構47Aは公知の機構により構成可能であり、電磁アクチュエータ、油圧アクチュエータなどの駆動源、または手動駆動機構を備える。
なお、ベースフレーム45Aに対するXYθ調整機構47A及びXYθステージ44Aとアオリ軸調整機構46A及びチルトステージ43AのZ軸方向の位置関係は、逆にしてもよい。つまり、ベースフレーム45A上にアオリ軸調整機構46Aを介してチルトステージ43Aを装着し、チルトステージ43A上にXYθ調整機構47Aを介してXYθステージ44Aを装着して、XYθステージ44Aに、フォトマスク30Aを有するマスクホルダ32Aを装着してもよい。
マスク位置調整機構40Bは、フォトマスク30Bが固定されたマスクホルダ32B、フォトマスク30Aと30Bのアライメント調整用のアライメントカメラ35、フォトマスク30Aと30Bのギャップ測定用のギャップセンサ34、及びこれらマスクホルダ32B、ギャップセンサ34及びアライメントカメラ35が装着されたベースフレーム45Bを備えている。
なお、マスク位置調整機構40Aと40Bのマスクホルダ32Aと32B、チルトステージ43A、XYθステージ44A及びベースフレーム45Aと45Bは、照明装置(紫外線照明手段)50からの露光用光束が通り、フォトマスク30(30A、30B)を透過して垂直移動フィルム10Vを露光する開口部を有している。
各ギャップセンサ34は、詳細は図示しないが、検出光投光部と、検出光投光部から投光され、対象物で反射した検出光を受光するリニアセンサ部とを備えた、三角測量法による光学アクティブセンサである。各リニアセンサ部の出力は、図示ない検出回路に入力される。検出回路は、検出光の入力位置を検出して、対象物までの距離を演算する。この実施形態のギャップセンサ34は、フォトマスク30A、30Bのセンサとは反対側の面(マスクホルダ32A、32Bの表面)で反射した検出光をリニアセンサ部で受光し、ギャップ検出回路は、フォトマスク30A、30Bの4箇所の間隔を測定する。マスク位置制御装置42は、各ギャップセンサ34を介して測定した間隔に基づいて、各間隔が所定値となるように、対応するアオリ軸調整機構46Aを駆動制御する。なお、ギャップセンサ34はフォトマスク30Bと垂直移動フィルム10Vの間隔も測定できる。またギャップセンサ34は、フォトマスク30Aと30Bの間隔、またはフォトマスク30A、30Bと垂直移動フィルム10Vの間隔と平行度を測定できるセンサであればよい。
各アライメントカメラ35は、フォトマスク30Aと30Bのアライメントマーク31Aと31Bを撮影する。各アライメントカメラ35が撮影したアライメントマーク31Aと31Bの画像は、図示しない画像処理回路に入力される。画像処理回路は、アライメントマーク31Bの画像位置を基準としてアライメントマーク31Aの画像位置のずれ方向、ずれ量から、フォトマスク30Aのずれ方向及びずれ量を検出する。マスク位置制御装置42は、フォトマスク30Aのずれ方向及びずれ量に基づいて、対応するXYθ調整機構47Aを検出したずれ方向及びずれ量に対応する方向及び駆動量駆動して、フォトマスク30Aの位置、方向(アライメント)を調整する。なお、各アライメントマーク31Bと31A及びアライメントカメラ35は、アライメントマーク31Bと31Aを同時に撮影できる構成であることが好ましいが、アライメントマーク31Bと31Aの形状、態様、アライメントカメラ35の構成、配置などは図示実施形態に限定されない。
この実施形態においてマスク位置調整機構40A、40Bによりフォトマスク30A、30Bの位置調整(アライメント調整)をする工程は、以下の通りである。
なお、マスク位置調整機構40Aと40Bのベースフレーム45A、45Bは、垂直移動フィルム10V(XY平面)に対して正確に平行となるように設置され、さらにマスク位置調整機構40AのXYθステージ44Aは、垂直移動フィルム10V(XY平面)に対して正確に平行となるように設置されているものとする。
マスク位置調整機構40Bのベースフレーム45Bに対して、マスクホルダ32Bに固定されたフォトマスク30Bを、垂直移動フィルム10V(XY平面)と平行に、所定位置、所定の向きに装着する。この装着は、図示しない外部調整器具と、アライメントカメラ35を使用して行う。その際、フォトマスク30Bと垂直移動フィルム10Vの間隔調整も行う。
続いて、マスク位置調整機構40Aによって、フォトマスク30Aの位置調整(アライメント調整)を行い、フォトマスク30Aの位置と向きを正確に定める。マスク位置調整機構40Aによる調整工程は、以下の通りである。
1)4個のギャップセンサ34により、フォトマスク30Aと30Bの4箇所の間隔を測定する。
2)フォトマスク30Aと30Bの4箇所の間隔が基準値(同一の値)となるように、各アオリ軸調整機構46Aを駆動制御してチルトステージ43Aの4箇所のZ軸方向位置を調整する。この調整により、フォトマスク30Aのフォトマスク30Bに対する間隔と平行度が調整される。
3)フォトマスク30Aと30Bの4箇所の間隔が基準値(許容範囲内の値)になるまで、各ギャップセンサ34による測定及び各アオリ軸調整機構46Aによる調整を繰り返す。
4)フォトマスク30Aと30Bの4箇所の間隔が基準値になったら、各アライメントカメラ35によってフォトマスク30Aと30Bの4箇所のアライメントマーク31Aと31Bを撮影して、フォトマスク30Bに対するフォトマスク30Aのずれ量を測定する。
5)4箇所のアライメントマーク31Aのずれ量がそれぞれ所定値(許容範囲内の値)となるように、XYθ調整機構47Aを駆動制御して、XYθステージ44AをX方向、Y方向、θ方向に移動調整する。
6)4箇所のアライメントマーク31Aのずれ量が所定値となるまで、上記4)と5)の工程を繰り返す。
以上の1)乃至6)の工程により、フォトマスク30Aとフォトマスク30Bとの正確な間隔、XY平面に対する平行度(傾き)、XY平面内における位置、向きの調整が短時間でできる。各アオリ軸調整機構46A及びXYθ調整機構47Aは、マスク位置制御装置42によって駆動する構成が実際的であるが、作業者が手動で操作してもよい。
図示実施形態では、一方のマスク位置調整機構40Bを外部調整装置によりマスク位置を調整する構成としたが、一方のマスク位置調整機構40Bも他方のマスク位置調整機構40Aと同様の機構を備えてもよい。この場合、各ギャップセンサ34と各アライメントカメラ35は、マスク位置調整機構40Aのベースフレーム45Aまたは固定部材に装着する。
10 感光性フィルム
10V 垂直移動フィルム
11 供給側ロール
12 巻取側ロール
20V 垂直(鉛直)移動区域
20 フィルム搬送機構
21 入口側ローラ
22 出口側ローラ
23 テンション制御機構
24 フィルム搬送制御装置
30 30A 30B フォトマスク
31A 31B アライメントマーク
32 32A 32B マスクホルダ
34 ギャップセンサ
35 アライメントカメラ
40 40A 40B マスク位置調整機構
41 スライドガイド
42 マスク位置制御装置
43A チルトステージ
44A XYθステージ
45A 45B ベースフレーム
46A アオリ軸(Z軸)調整機構
47A XYθ調整機構
50 照明装置(照明手段)
51 光源
52 第1ミラー(平面鏡)
53 第2ミラー(凹面鏡)
54 第3ミラー(平面鏡)
56 照明制御装置
60 エアカーテン装置(エアカーテン手段、気流形成手段)
61 エア供給部
61a エア吹出口
62 エア吸収部
62a エア吸収口
63 圧縮ポンプ(エア供給源)
64 吸引ポンプ(エア吸引源)
65 エアカーテン制御装置
70 フィルム露光制御装置

Claims (5)

  1. 供給側ロールに巻き取られている感光性フィルムを繰り出して巻取側ロールに巻き取るフィルム搬送機構と、
    このフィルム搬送機構中に設定された上記感光性フィルムを垂直に移動させる垂直移動区域と、
    この垂直移動区域における上記感光性フィルムのテンションを制御するテンション制御機構と、
    上記垂直移動区域の上記感光性フィルムの表裏の少なくとも一方に対向するフォトマスクと、
    該フォトマスクの上記垂直移動区域における上記感光性フィルムとの間隔を調整するマスク位置調機構と、
    上記フォトマスクを介して上記感光性フィルムに露光する照明手段と、
    を有することを特徴とする縦型フィルム露光装置。
  2. 請求項1記載の縦型フィルム露光装置において、さらに、上記垂直移動区域のフィルム表裏の少なくとも一方に対してエアカーテンを形成するエアカーテン手段を有する縦型フィルム露光装置。
  3. 請求項2記載の縦型フィルム露光装置において、上記エアカーテン手段は、上記垂直移動区域の上記感光性フィルムの上方から該フィルム表裏の少なくとも一方に向けてエアを吐出するエア供給源と、該感光性フィルムの下方において該エア供給源からのエアを吸引するエア吸引源とを有する縦型フィルム露光装置。
  4. 請求項1ないし3のいずれか1項記載の縦型フィルム露光装置において、上記マスク位置調機構は、上記垂直移動区域の上記感光性フィルムの移動平面をXY平面とし、XY平面と直交する方向をZ方向、XY平面で回転する方向をθ方向としたとき、XYZの直交3方向及びXY平面で回転するθ方向に位置調節可能である縦型フィルム露光装置。
  5. 請求項4記載の縦型フィルム露光装置において、上記マスク位置調機構は、互いに直交するXYZ軸方向及びX軸、Y軸、Z軸と平行な軸回りの回転方向の6軸調整可能な機構である縦型フィルム露光装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107024836A (zh) * 2016-02-02 2017-08-08 优志旺电机株式会社 辊到辊两面曝光装置
CN109742182A (zh) * 2018-11-28 2019-05-10 苏州迈为科技股份有限公司 一种电池片划片及印刷前的视觉定位方法
JP2020034949A (ja) * 2019-11-25 2020-03-05 株式会社アドテックエンジニアリング ロールツーロール両面露光装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003122019A (ja) * 2001-10-17 2003-04-25 Sony Corp 近接露光方法および近接露光装置
JP2005092027A (ja) * 2003-09-19 2005-04-07 Nsk Ltd 露光装置
JP2006227207A (ja) * 2005-02-16 2006-08-31 Toray Eng Co Ltd 両面露光装置
JP2007163904A (ja) * 2005-12-14 2007-06-28 Orc Mfg Co Ltd 露光装置
JP2009187038A (ja) * 2004-03-23 2009-08-20 Asml Holding Nv システムおよび方法
JP2011107572A (ja) * 2009-11-20 2011-06-02 Hitachi High-Technologies Corp プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の光学部品保護方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP2011119594A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Nsk Ltd 近接露光装置及び近接露光方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003122019A (ja) * 2001-10-17 2003-04-25 Sony Corp 近接露光方法および近接露光装置
JP2005092027A (ja) * 2003-09-19 2005-04-07 Nsk Ltd 露光装置
JP2009187038A (ja) * 2004-03-23 2009-08-20 Asml Holding Nv システムおよび方法
JP2006227207A (ja) * 2005-02-16 2006-08-31 Toray Eng Co Ltd 両面露光装置
JP2007163904A (ja) * 2005-12-14 2007-06-28 Orc Mfg Co Ltd 露光装置
JP2011107572A (ja) * 2009-11-20 2011-06-02 Hitachi High-Technologies Corp プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の光学部品保護方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP2011119594A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Nsk Ltd 近接露光装置及び近接露光方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107024836A (zh) * 2016-02-02 2017-08-08 优志旺电机株式会社 辊到辊两面曝光装置
JP2017138415A (ja) * 2016-02-02 2017-08-10 ウシオ電機株式会社 ロールツーロール両面露光装置
TWI672564B (zh) * 2016-02-02 2019-09-21 日商牛尾電機股份有限公司 輥對輥雙面曝光裝置
CN109742182A (zh) * 2018-11-28 2019-05-10 苏州迈为科技股份有限公司 一种电池片划片及印刷前的视觉定位方法
CN109742182B (zh) * 2018-11-28 2020-08-11 苏州迈为科技股份有限公司 一种电池片划片及印刷前的视觉定位方法
JP2020034949A (ja) * 2019-11-25 2020-03-05 株式会社アドテックエンジニアリング ロールツーロール両面露光装置

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