JPH0915612A - 液晶パネルの製造方法および製造用プレス装置 - Google Patents
液晶パネルの製造方法および製造用プレス装置Info
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- JPH0915612A JPH0915612A JP7162700A JP16270095A JPH0915612A JP H0915612 A JPH0915612 A JP H0915612A JP 7162700 A JP7162700 A JP 7162700A JP 16270095 A JP16270095 A JP 16270095A JP H0915612 A JPH0915612 A JP H0915612A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ２枚の基板の相互の位置を合わせ、基板に塗
布した紫外線硬化型樹脂のシール剤を加圧し、該シール
剤の予め定める仮止め領域を紫外線照射して硬化させた
仮止め基板１３をステージ１５に載置し、仮止め基板１
３の上に、表面に微細な凹凸形状を均一に有するエンボ
スシート１６を降下させて重ねる。さらに、ステージ枠
１８を密閉枠２０に圧着させ、ステージ１５とエンボス
シート１６との間隙を密閉した後、その間隙を真空吸引
して、仮止め基板１３全体を大気圧で均一に加圧し、所
望のセルギャップを均一に形成した後、紫外線ランプ２
３によって紫外線照射を行い、シール剤を本硬化させ
る。 【効果】 位置精度およびセルギャップ精度が優れ、歩
留りの良好な液晶パネルを製造することができる。
布した紫外線硬化型樹脂のシール剤を加圧し、該シール
剤の予め定める仮止め領域を紫外線照射して硬化させた
仮止め基板１３をステージ１５に載置し、仮止め基板１
３の上に、表面に微細な凹凸形状を均一に有するエンボ
スシート１６を降下させて重ねる。さらに、ステージ枠
１８を密閉枠２０に圧着させ、ステージ１５とエンボス
シート１６との間隙を密閉した後、その間隙を真空吸引
して、仮止め基板１３全体を大気圧で均一に加圧し、所
望のセルギャップを均一に形成した後、紫外線ランプ２
３によって紫外線照射を行い、シール剤を本硬化させ
る。 【効果】 位置精度およびセルギャップ精度が優れ、歩
留りの良好な液晶パネルを製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に用いら
れる液晶パネルの製造方法および製造用プレス装置に関
して、特に、大型基板を用いた液晶パネルの製造方法お
よび製造用プレス装置に関する。
れる液晶パネルの製造方法および製造用プレス装置に関
して、特に、大型基板を用いた液晶パネルの製造方法お
よび製造用プレス装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置のうち、たとえばＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）カラー液晶表示装置の製造工程
は、基板にＴＦＴなどを構成するＴＦＴアレイ工程と、
パネル工程と、パネルに周辺回路などを実装するモジュ
ール工程との３つに大別される。このうち、パネル工程
は、一対の基板に配向膜処理を行った後、両基板間に一
定の間隔（セルギャップ）を設けるように、基板に塗布
されたシール剤を硬化させて両基板を貼合わせ、その
後、切断分割、液晶注入、偏光板取付などを経て液晶パ
ネルを製造する工程である。このパネル工程のうち、２
枚の基板を貼合わせる工程では、２枚の基板相互の位置
合わせを精密に行い、かつ、両基板間のセルギャップが
基板全体に均一になるように高精度に貼合わせなければ
ならず、この精度向上が、今後、液晶表示装置の一層の
大画面化、高精細化を実現する上で重要となる。
（薄膜トランジスタ）カラー液晶表示装置の製造工程
は、基板にＴＦＴなどを構成するＴＦＴアレイ工程と、
パネル工程と、パネルに周辺回路などを実装するモジュ
ール工程との３つに大別される。このうち、パネル工程
は、一対の基板に配向膜処理を行った後、両基板間に一
定の間隔（セルギャップ）を設けるように、基板に塗布
されたシール剤を硬化させて両基板を貼合わせ、その
後、切断分割、液晶注入、偏光板取付などを経て液晶パ
ネルを製造する工程である。このパネル工程のうち、２
枚の基板を貼合わせる工程では、２枚の基板相互の位置
合わせを精密に行い、かつ、両基板間のセルギャップが
基板全体に均一になるように高精度に貼合わせなければ
ならず、この精度向上が、今後、液晶表示装置の一層の
大画面化、高精細化を実現する上で重要となる。
【０００３】前記貼合わせ工程は、一般に、仮硬化プレ
ス工程と本硬化プレス工程との２つに大別される。仮硬
化プレス工程では、まず、一方の基板にシール剤を塗布
し、他方の基板に均一なセルギャップを保つためのスペ
ーサを散布する。次に、これら一対の基板を対向させた
後、アライメントマークと呼ばれる位置合わせ指標を用
いて両基板相互の精密な位置合わせを行う。その後、両
基板を重ね合わせ、塗布された前記シール剤を加圧し
て、両基板を仮止めする。このとき、次工程での位置ず
れを防止するため、一般に、シール剤の一部を紫外線照
射などによって硬化させて、より一層堅実な仮止めを行
う。
ス工程と本硬化プレス工程との２つに大別される。仮硬
化プレス工程では、まず、一方の基板にシール剤を塗布
し、他方の基板に均一なセルギャップを保つためのスペ
ーサを散布する。次に、これら一対の基板を対向させた
後、アライメントマークと呼ばれる位置合わせ指標を用
いて両基板相互の精密な位置合わせを行う。その後、両
基板を重ね合わせ、塗布された前記シール剤を加圧し
て、両基板を仮止めする。このとき、次工程での位置ず
れを防止するため、一般に、シール剤の一部を紫外線照
射などによって硬化させて、より一層堅実な仮止めを行
う。
【０００４】一方、本硬化プレス工程では、プレス装置
を用いて、仮硬化プレス工程によって仮止めされた両基
板のセルギャップ形成を行い、両基板間のセルギャップ
が基板全体に均一に定まった時点で、シール剤を硬化さ
せる。
を用いて、仮硬化プレス工程によって仮止めされた両基
板のセルギャップ形成を行い、両基板間のセルギャップ
が基板全体に均一に定まった時点で、シール剤を硬化さ
せる。
【０００５】前記本硬化プレス工程において現在主流に
なっているプレス方法は、熱盤によるプレス方法であ
る。この熱盤プレス法は、シール剤に熱硬化樹脂を使用
し、プレスする定盤の温度が１３０〜１７０℃間の設定
値付近で均一になるように高精度に制御しながら、圧力
１ｋｇ／ｃｍ2 前後で基板全体に均一に加圧していく方
法であり、接着力の信頼性は高い。しかし、この方法の
場合、高温処理によって基板が膨張し、この基板の膨張
に伴って位置ずれやセルギャップ不均一化が生じやす
い。さらに、この方法は、シール剤を硬化させる処理時
間が比較的長くかかること、基板が大型になるとプレス
時の平行性、均一性の調整が困難になること、および加
圧力１ｋｇ／ｃｍ2 前後でプレスする必要があるため
に、基板が大型になると数ｔｏｎクラスの荷重が必要と
なり装置が大がかりになること、などの問題点を有して
いる。
なっているプレス方法は、熱盤によるプレス方法であ
る。この熱盤プレス法は、シール剤に熱硬化樹脂を使用
し、プレスする定盤の温度が１３０〜１７０℃間の設定
値付近で均一になるように高精度に制御しながら、圧力
１ｋｇ／ｃｍ2 前後で基板全体に均一に加圧していく方
法であり、接着力の信頼性は高い。しかし、この方法の
場合、高温処理によって基板が膨張し、この基板の膨張
に伴って位置ずれやセルギャップ不均一化が生じやす
い。さらに、この方法は、シール剤を硬化させる処理時
間が比較的長くかかること、基板が大型になるとプレス
時の平行性、均一性の調整が困難になること、および加
圧力１ｋｇ／ｃｍ2 前後でプレスする必要があるため
に、基板が大型になると数ｔｏｎクラスの荷重が必要と
なり装置が大がかりになること、などの問題点を有して
いる。
【０００６】そこで、前記熱盤プレス法に代わる手段と
して、紫外線硬化樹脂をシール剤に用いたＵＶプレス法
が注目されている。このＵＶプレス法では、温度制御が
不要であり、熱膨張に伴う基板の位置ずれやセルギャッ
プ不均一化が生じず、処理時間も比較的短い。現在、こ
のＵＶプレス法には、ＵＶ定盤プレス法とＵＶ真空プレ
ス法とが提案されている。
して、紫外線硬化樹脂をシール剤に用いたＵＶプレス法
が注目されている。このＵＶプレス法では、温度制御が
不要であり、熱膨張に伴う基板の位置ずれやセルギャッ
プ不均一化が生じず、処理時間も比較的短い。現在、こ
のＵＶプレス法には、ＵＶ定盤プレス法とＵＶ真空プレ
ス法とが提案されている。
【０００７】ＵＶ定盤プレス法は、プレスする定盤は熱
盤ほど面精度が必要なく、紫外線照度向上のため、定盤
に石英ガラスなどを使用し、圧力１ｋｇ／ｃｍ2 前後で
基板全体に均一に加圧していき、加圧したまま紫外線照
射を行い、紫外線硬化樹脂を硬化させる方法である。し
かし、この方法においても、熱盤プレス法と同様に、基
板が大型になると、プレス時の平行性、均一性の調整が
困難になり装置も大がかりになる、などの問題点を有し
ている。
盤ほど面精度が必要なく、紫外線照度向上のため、定盤
に石英ガラスなどを使用し、圧力１ｋｇ／ｃｍ2 前後で
基板全体に均一に加圧していき、加圧したまま紫外線照
射を行い、紫外線硬化樹脂を硬化させる方法である。し
かし、この方法においても、熱盤プレス法と同様に、基
板が大型になると、プレス時の平行性、均一性の調整が
困難になり装置も大がかりになる、などの問題点を有し
ている。
【０００８】一方、ＵＶ真空プレス法は、プレス必要圧
力値１ｋｇ／ｃｍ2 を大気圧を利用することによって容
易に引き出すことができるため、装置をより小型化する
ことができる。この方法の一例として、たとえば特開昭
６３−３１１２２７号公報に示されるＵＶ真空プレス法
を用いた液晶パネルの製造方法を、図９および図１０に
基づいて説明する。
力値１ｋｇ／ｃｍ2 を大気圧を利用することによって容
易に引き出すことができるため、装置をより小型化する
ことができる。この方法の一例として、たとえば特開昭
６３−３１１２２７号公報に示されるＵＶ真空プレス法
を用いた液晶パネルの製造方法を、図９および図１０に
基づいて説明する。
【０００９】図９は、仮硬化プレス工程で使用される仮
硬化プレス装置５１の斜視図である。図１０は、本硬化
プレス工程で使用される本硬化プレス装置５２の斜視図
である。
硬化プレス装置５１の斜視図である。図１０は、本硬化
プレス工程で使用される本硬化プレス装置５２の斜視図
である。
【００１０】前記仮硬化プレス装置５１において、吸着
治具５３に吸着された基板５４および吸着治具５５に吸
着された基板５６の両基板の位置を、対物レンズ５７な
どを用いて相互に合わせた後、基板５４を降下して基板
５６と重ね合わせる。次に、基板５４の吸着を解除し
て、エアー加圧用スリット５８からエアーを吹き出して
加圧を行う。その後、このように加圧されて仮止めされ
た仮止め基板５９を本硬化プレス装置５２の筐体６０内
の吸着固定台６１に移載し、上方から加圧用プラスチッ
クシート６２をかぶせ、シート固定枠６３を用いてプラ
スチックシート６２を筐体６０に気密に固定した後、吸
着固定台６１とプラスチックシート６２との間を真空吸
引することによって、プラスチックシート６２上の大気
圧を利用して、仮止め基板５９全体を均一な力で加圧す
る。このように仮止め基板５９を真空プレスして所望の
セルギャップを形成した状態で、ＵＶ照射ランプ６４に
よって紫外線照射を行いシール剤を硬化させて、本止め
基板を完成する。
治具５３に吸着された基板５４および吸着治具５５に吸
着された基板５６の両基板の位置を、対物レンズ５７な
どを用いて相互に合わせた後、基板５４を降下して基板
５６と重ね合わせる。次に、基板５４の吸着を解除し
て、エアー加圧用スリット５８からエアーを吹き出して
加圧を行う。その後、このように加圧されて仮止めされ
た仮止め基板５９を本硬化プレス装置５２の筐体６０内
の吸着固定台６１に移載し、上方から加圧用プラスチッ
クシート６２をかぶせ、シート固定枠６３を用いてプラ
スチックシート６２を筐体６０に気密に固定した後、吸
着固定台６１とプラスチックシート６２との間を真空吸
引することによって、プラスチックシート６２上の大気
圧を利用して、仮止め基板５９全体を均一な力で加圧す
る。このように仮止め基板５９を真空プレスして所望の
セルギャップを形成した状態で、ＵＶ照射ランプ６４に
よって紫外線照射を行いシール剤を硬化させて、本止め
基板を完成する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上述したＵＶ真空プレ
ス法による液晶パネルの製造方法は、以下の問題点を有
している。
ス法による液晶パネルの製造方法は、以下の問題点を有
している。
【００１２】１、基板が大型になると、図１１（ａ）、
（ｂ）および図１２に示すように、真空吸引のときにプ
ラスチックシート６２と仮止め基板５９との隙間に空気
６５が残留しやすく、その結果、仮止め基板５９全体に
均一な加圧ができなくなり、セルギャップの不均一化を
招く。 ２、真空吸引のときに、急激な真空プレスは仮止め基板
５９に大きなストレスをかけるため、段階を分けて真空
吸引する必要があり、したがって、工程が煩雑となって
加工時間も長くなる。 ３、図１３（ａ）から図１３（ｂ）に示すように、真空
吸引の解除に伴って生じる本止め基板６６に対する引張
力６８が、基板が大型になるほど大きくなり、その結
果、シール剤６７の剥がれや本止め基板６６の破損など
が起こり、良品率が低下する。
（ｂ）および図１２に示すように、真空吸引のときにプ
ラスチックシート６２と仮止め基板５９との隙間に空気
６５が残留しやすく、その結果、仮止め基板５９全体に
均一な加圧ができなくなり、セルギャップの不均一化を
招く。 ２、真空吸引のときに、急激な真空プレスは仮止め基板
５９に大きなストレスをかけるため、段階を分けて真空
吸引する必要があり、したがって、工程が煩雑となって
加工時間も長くなる。 ３、図１３（ａ）から図１３（ｂ）に示すように、真空
吸引の解除に伴って生じる本止め基板６６に対する引張
力６８が、基板が大型になるほど大きくなり、その結
果、シール剤６７の剥がれや本止め基板６６の破損など
が起こり、良品率が低下する。
【００１３】以上のように、従来の真空プレス法での製
造方法では、大型基板になるほど両基板の貼合わせ精度
が低下し、良品率が低下する。
造方法では、大型基板になるほど両基板の貼合わせ精度
が低下し、良品率が低下する。
【００１４】本発明の目的は、大型基板においても、貼
合わせ精度が優れ、歩留りの良好な液晶パネルの製造方
法および製造用プレス装置を提供することである。
合わせ精度が優れ、歩留りの良好な液晶パネルの製造方
法および製造用プレス装置を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る液
晶パネルの製造方法は、光硬化型シール剤を用いて一対
の基板を貼合わせる工程を含む液晶パネルの製造方法に
おいて、少くともいずれか一方の基板に光硬化型シール
剤を塗布して、一対の基板を重ね合わせ、前記一対の基
板を載置台に載置し、表面に微細な凹凸形状を均一に有
する可撓性シート体を上から重ね、前記載置台と前記可
撓性シート体との間隙を密閉した後に真空吸引して、基
板全体を大気圧によって均一に加圧し、前記光硬化型シ
ール剤を光照射によって硬化させることを特徴とする。
晶パネルの製造方法は、光硬化型シール剤を用いて一対
の基板を貼合わせる工程を含む液晶パネルの製造方法に
おいて、少くともいずれか一方の基板に光硬化型シール
剤を塗布して、一対の基板を重ね合わせ、前記一対の基
板を載置台に載置し、表面に微細な凹凸形状を均一に有
する可撓性シート体を上から重ね、前記載置台と前記可
撓性シート体との間隙を密閉した後に真空吸引して、基
板全体を大気圧によって均一に加圧し、前記光硬化型シ
ール剤を光照射によって硬化させることを特徴とする。
【００１６】また請求項２の発明に係る液晶パネルの製
造方法は、前記可撓性シート体は、光透過性を有するこ
とを特徴とする。
造方法は、前記可撓性シート体は、光透過性を有するこ
とを特徴とする。
【００１７】さらにまた請求項３の発明に係る液晶パネ
ルの製造方法は、前記一対の基板の相互の位置を合わ
せ、前記一対の基板を相互に近接させることによって前
記光硬化型シール剤を加圧し、前記光硬化型シール剤の
予め定める仮止め領域を光照射によって硬化させる工程
を含むことを特徴とする。
ルの製造方法は、前記一対の基板の相互の位置を合わ
せ、前記一対の基板を相互に近接させることによって前
記光硬化型シール剤を加圧し、前記光硬化型シール剤の
予め定める仮止め領域を光照射によって硬化させる工程
を含むことを特徴とする。
【００１８】さらにまた請求項４の発明に係る液晶パネ
ル製造用プレス装置は、液晶パネルの製造に使用される
プレス装置において、一対の基板を載置するための載置
台と、前記載置台の上方に設けられ、表面に微細な凹凸
形状を均一に有する第１の可撓性シート体と、前記第１
の可撓性シート体が昇降するための昇降手段と、前記第
１の可撓性シート体が降下したときに、該第１の可撓性
シート体と前記載置台との間隙を密閉する密閉手段と、
前記間隙を真空吸引するための排気手段と、前記一対の
基板に光照射を行うための光照射手段とを備えることを
特徴とする。
ル製造用プレス装置は、液晶パネルの製造に使用される
プレス装置において、一対の基板を載置するための載置
台と、前記載置台の上方に設けられ、表面に微細な凹凸
形状を均一に有する第１の可撓性シート体と、前記第１
の可撓性シート体が昇降するための昇降手段と、前記第
１の可撓性シート体が降下したときに、該第１の可撓性
シート体と前記載置台との間隙を密閉する密閉手段と、
前記間隙を真空吸引するための排気手段と、前記一対の
基板に光照射を行うための光照射手段とを備えることを
特徴とする。
【００１９】さらにまた請求項５の発明に係る液晶パネ
ル製造用プレス装置は、前記載置台は、少くとも前記一
対の基板を載置する領域に、微細な凹凸形状を均一に有
することを特徴とする。
ル製造用プレス装置は、前記載置台は、少くとも前記一
対の基板を載置する領域に、微細な凹凸形状を均一に有
することを特徴とする。
【００２０】さらにまた請求項６の発明に係る液晶パネ
ル製造用プレス装置は、前記載置台の、前記一対の基板
を載置する面の上に、微細な凹凸形状を均一に有する第
２の可撓性シート体を備えることを特徴とする。
ル製造用プレス装置は、前記載置台の、前記一対の基板
を載置する面の上に、微細な凹凸形状を均一に有する第
２の可撓性シート体を備えることを特徴とする。
【００２１】さらにまた請求項７の発明に係る液晶パネ
ル製造用プレス装置は、前記第２の可撓性シート体は、
光透過性を有することを特徴とする。
ル製造用プレス装置は、前記第２の可撓性シート体は、
光透過性を有することを特徴とする。
【００２２】さらにまた請求項８の発明に係る液晶パネ
ル製造用プレス装置は、前記第１の可撓性シート体は光
透過性を有し、前記光照射手段は前記第１の可撓性シー
ト体の上方に設けられることを特徴とする。
ル製造用プレス装置は、前記第１の可撓性シート体は光
透過性を有し、前記光照射手段は前記第１の可撓性シー
ト体の上方に設けられることを特徴とする。
【００２３】さらにまた請求項９の発明に係る液晶パネ
ル製造用プレス装置は、前記載置台は光透過性に形成さ
れ、前記光照射手段は前記載置台の下方に設けられるこ
とを特徴とする。
ル製造用プレス装置は、前記載置台は光透過性に形成さ
れ、前記光照射手段は前記載置台の下方に設けられるこ
とを特徴とする。
【００２４】
【作用】請求項１の発明に従えば、液晶パネルの製造に
あたって、光硬化型シール剤を用いて一対の基板を貼合
わせる工程において、少くともいずれか一方の基板に光
硬化型シール剤を塗布し、重ね合わせた一対の基板を載
置台に載置し、表面に微細な凹凸形状を均一に有する可
撓性シート体を上から重ね、前記載置台と前記可撓性シ
ート体との間隙を密閉した後に真空吸引する。このと
き、可撓性シート体に均一に形成された表面の凹凸形状
が、可撓性シート体と上面側の基板との隙間にある空気
の抜けを良くし、該隙間に空気が残留しない。
あたって、光硬化型シール剤を用いて一対の基板を貼合
わせる工程において、少くともいずれか一方の基板に光
硬化型シール剤を塗布し、重ね合わせた一対の基板を載
置台に載置し、表面に微細な凹凸形状を均一に有する可
撓性シート体を上から重ね、前記載置台と前記可撓性シ
ート体との間隙を密閉した後に真空吸引する。このと
き、可撓性シート体に均一に形成された表面の凹凸形状
が、可撓性シート体と上面側の基板との隙間にある空気
の抜けを良くし、該隙間に空気が残留しない。
【００２５】したがって、可撓性シート体と上面側の基
板との隙間は均一に減圧され、その結果、前記間隙内の
一対の基板は、可撓性シート体上の大気圧によって均一
に加圧される。こうして、前記一対の基板に均一なセル
ギャップを形成した後、前記光硬化型シール剤を光照射
によって本硬化させ、一対の基板を貼合わせる。以上の
方法によって、大型基板においても、セルギャップ精度
の優れた液晶パネルを製造することができる。
板との隙間は均一に減圧され、その結果、前記間隙内の
一対の基板は、可撓性シート体上の大気圧によって均一
に加圧される。こうして、前記一対の基板に均一なセル
ギャップを形成した後、前記光硬化型シール剤を光照射
によって本硬化させ、一対の基板を貼合わせる。以上の
方法によって、大型基板においても、セルギャップ精度
の優れた液晶パネルを製造することができる。
【００２６】また、真空吸引のときに、可撓性シート体
と上面側の基板との隙間にある空気は、むらなく、速や
かに排気される。したがって、従来のように、減圧速度
を２段階以上、または減圧装置を２種以上に分けて真空
吸引する必要がなくなり、一定の減圧速度で、前記一対
の基板にストレスをかけずに、速やかに真空吸引するこ
とができる。したがって、工程を簡素化し、加工時間を
短縮することができる。
と上面側の基板との隙間にある空気は、むらなく、速や
かに排気される。したがって、従来のように、減圧速度
を２段階以上、または減圧装置を２種以上に分けて真空
吸引する必要がなくなり、一定の減圧速度で、前記一対
の基板にストレスをかけずに、速やかに真空吸引するこ
とができる。したがって、工程を簡素化し、加工時間を
短縮することができる。
【００２７】また、真空吸引を解除したときには、前記
可撓性シート体と上面側の基板との間に空気が速やかに
入りこみ、可撓性シート体と上面側の基板との離れが良
くなる。したがって、真空吸引の解除に伴って発生する
引張力が減少し、貼合わせ作業の完了した基板の破損や
シール剤の剥がれを防止することができる。したがっ
て、大型基板においても、液晶パネルを歩留り良く製造
することができる。
可撓性シート体と上面側の基板との間に空気が速やかに
入りこみ、可撓性シート体と上面側の基板との離れが良
くなる。したがって、真空吸引の解除に伴って発生する
引張力が減少し、貼合わせ作業の完了した基板の破損や
シール剤の剥がれを防止することができる。したがっ
て、大型基板においても、液晶パネルを歩留り良く製造
することができる。
【００２８】また請求項２の発明に従えば、前記可撓性
シート体は光透過性に形成される。したがって、前記光
硬化型シール剤を光照射によって硬化させるときに、光
照射を可撓性シート体側から行うことができる。
シート体は光透過性に形成される。したがって、前記光
硬化型シール剤を光照射によって硬化させるときに、光
照射を可撓性シート体側から行うことができる。
【００２９】また請求項３の発明に従えば、上述の液晶
パネルの製造工程において、前記一対の基板の相互の位
置を合わせ、該一対の基板を相互に近接させることによ
って前記光硬化型シール剤を加圧し、該光硬化型シール
剤の予め定める仮止め領域を光照射によって硬化させる
工程を含む。この工程によって、前記一対の基板は相互
の位置を合わせた状態で仮止めされる。その後、上述の
工程によって、前記光硬化型シール剤を本硬化させ、均
一なセルギャップを形成して、前記一対の基板の貼合わ
せを完了する。
パネルの製造工程において、前記一対の基板の相互の位
置を合わせ、該一対の基板を相互に近接させることによ
って前記光硬化型シール剤を加圧し、該光硬化型シール
剤の予め定める仮止め領域を光照射によって硬化させる
工程を含む。この工程によって、前記一対の基板は相互
の位置を合わせた状態で仮止めされる。その後、上述の
工程によって、前記光硬化型シール剤を本硬化させ、均
一なセルギャップを形成して、前記一対の基板の貼合わ
せを完了する。
【００３０】したがって、大型基板においても、位置精
度およびセルギャップ精度の優れた液晶パネルを製造す
ることができる。
度およびセルギャップ精度の優れた液晶パネルを製造す
ることができる。
【００３１】また請求項４の発明に従えば、液晶パネル
の製造に使用されるプレス装置において、一対の基板を
載置するための載置台と、該載置台の上方に設けられ、
表面に微細な凹凸形状を均一に有する第１の可撓性シー
ト体と、該第１の可撓性シート体が昇降するための昇降
手段と、前記第１の可撓性シート体が降下したときに、
該第１の可撓性シート体と前記載置台との間隙を密閉す
る密閉手段と、前記間隙を真空吸引するための排気手段
と、前記一対の基板に光照射を行うための光照射手段と
を備えている。
の製造に使用されるプレス装置において、一対の基板を
載置するための載置台と、該載置台の上方に設けられ、
表面に微細な凹凸形状を均一に有する第１の可撓性シー
ト体と、該第１の可撓性シート体が昇降するための昇降
手段と、前記第１の可撓性シート体が降下したときに、
該第１の可撓性シート体と前記載置台との間隙を密閉す
る密閉手段と、前記間隙を真空吸引するための排気手段
と、前記一対の基板に光照射を行うための光照射手段と
を備えている。
【００３２】上記構成によって、請求項１記載の液晶パ
ネルの製造方法を容易に実施可能なプレス装置を提供す
ることができる。また、大気圧を利用することによっ
て、前記一対の基板の加圧を行う構成になっているの
で、プレス装置に大きな剛性が必要なくなり、したがっ
て、小型化したプレス装置を提供することができる。
ネルの製造方法を容易に実施可能なプレス装置を提供す
ることができる。また、大気圧を利用することによっ
て、前記一対の基板の加圧を行う構成になっているの
で、プレス装置に大きな剛性が必要なくなり、したがっ
て、小型化したプレス装置を提供することができる。
【００３３】また請求項５の発明に従えば、前記載置台
は、少くとも前記一対の基板を載置する領域に、微細な
凹凸形状を均一に有している。したがって、前記載置台
と下面側の基板との密着を防止することができ、貼合わ
せ作業の完了した一対の基板を取外すときなどに生じる
該基板の破損やシール剤の剥がれを防止することができ
る。したがって、液晶パネルを歩留り良く製造すること
ができる。
は、少くとも前記一対の基板を載置する領域に、微細な
凹凸形状を均一に有している。したがって、前記載置台
と下面側の基板との密着を防止することができ、貼合わ
せ作業の完了した一対の基板を取外すときなどに生じる
該基板の破損やシール剤の剥がれを防止することができ
る。したがって、液晶パネルを歩留り良く製造すること
ができる。
【００３４】また請求項６の発明に従えば、前記載置台
の、前記一対の基板を載置する面の上に、微細な凹凸形
状を均一に有する第２の可撓性シート体を備えている。
したがって、前記載置台の表面が平滑であっても、前記
第２の可撓性シート体によって、下面側の基板の載置台
への密着を防止することができ、貼合わせ作業の完了し
た基板を取外すときなどに生じる該基板の破損やシール
剤の剥がれを防止することができる。したがって、液晶
パネルを歩留り良く製造することができる。
の、前記一対の基板を載置する面の上に、微細な凹凸形
状を均一に有する第２の可撓性シート体を備えている。
したがって、前記載置台の表面が平滑であっても、前記
第２の可撓性シート体によって、下面側の基板の載置台
への密着を防止することができ、貼合わせ作業の完了し
た基板を取外すときなどに生じる該基板の破損やシール
剤の剥がれを防止することができる。したがって、液晶
パネルを歩留り良く製造することができる。
【００３５】また請求項７の発明に従えば、前記第２の
可撓性シート体は光透過性に形成される。したがって、
前記光硬化型シール剤を光照射によって硬化させるとき
に、光照射を載置台側から行うことができる。
可撓性シート体は光透過性に形成される。したがって、
前記光硬化型シール剤を光照射によって硬化させるとき
に、光照射を載置台側から行うことができる。
【００３６】また請求項８の発明に従えば、前記第１の
可撓性シート体は光透過性に形成され、これに対応し
て、前記光照射手段は前記第１の可撓性シート体の上方
に設けられる。したがって、前記光硬化型シール剤を光
照射によって硬化させるときに、光照射を第１の可撓性
シート体側から行うことができる。
可撓性シート体は光透過性に形成され、これに対応し
て、前記光照射手段は前記第１の可撓性シート体の上方
に設けられる。したがって、前記光硬化型シール剤を光
照射によって硬化させるときに、光照射を第１の可撓性
シート体側から行うことができる。
【００３７】また請求項９の発明に従えば、前記載置台
は光透過性に形成され、これに対応して、前記光照射手
段は前記載置台の下方に設けられる。したがって、前記
光硬化型シール剤を光照射によって硬化させるときに、
光照射を載置台側から行うことができる。
は光透過性に形成され、これに対応して、前記光照射手
段は前記載置台の下方に設けられる。したがって、前記
光硬化型シール剤を光照射によって硬化させるときに、
光照射を載置台側から行うことができる。
【００３８】また、光照射手段が載置台の下方に設けら
れているので、光照射手段が加圧用シート体の上方に設
けられているプレス装置に比べて、装置の上方における
占有空間がより小さくなり、したがって、より一層小型
化したプレス装置を提供することができる。
れているので、光照射手段が加圧用シート体の上方に設
けられているプレス装置に比べて、装置の上方における
占有空間がより小さくなり、したがって、より一層小型
化したプレス装置を提供することができる。
【００３９】
【実施例】本発明の第１の実施例について、図１ないし
図６に基づいて説明すれば、以下の通りである。図１
は、本発明の第１の実施例の本硬化プレス装置１４の縦
断面図であり、図２は、本発明の実施例の仮硬化プレス
装置４の縦断面図である。
図６に基づいて説明すれば、以下の通りである。図１
は、本発明の第１の実施例の本硬化プレス装置１４の縦
断面図であり、図２は、本発明の実施例の仮硬化プレス
装置４の縦断面図である。
【００４０】図１に示すように、本発明の第１の実施例
の本硬化プレス装置１４は、仮止め基板１３を載置する
ためのステージ１５と、ステージ１５の上方に設けら
れ、降下したときにステージ１５に載置された前記仮止
め基板１３を覆うエンボスシート１６と、ステージ１５
を囲んで昇降自在に設けられるステージ枠１８と、エン
ボスシート１６の周縁をステージ枠１８に固定するため
の固定部材１７と、昇降自在に設けられ、ステージ枠１
８を端部に固定する昇降ガイド１９と、昇降ガイド１９
が滑らかに昇降するためのガイド筒３６と、ステージ枠
１８が降下したときに、該ステージ枠１８とともに、エ
ンボスシート１６とステージ１５との間隙を密閉するた
めの密閉枠２０と、密閉されたエンボスシート１６とス
テージ１５との間隙を真空吸引するための排気穴２１お
よび排気口２２とを備え、さらに、エンボスシート１６
の上方には、前記仮止め基板１３に紫外線照射を行うた
めの紫外線ランプ２３を備えている。
の本硬化プレス装置１４は、仮止め基板１３を載置する
ためのステージ１５と、ステージ１５の上方に設けら
れ、降下したときにステージ１５に載置された前記仮止
め基板１３を覆うエンボスシート１６と、ステージ１５
を囲んで昇降自在に設けられるステージ枠１８と、エン
ボスシート１６の周縁をステージ枠１８に固定するため
の固定部材１７と、昇降自在に設けられ、ステージ枠１
８を端部に固定する昇降ガイド１９と、昇降ガイド１９
が滑らかに昇降するためのガイド筒３６と、ステージ枠
１８が降下したときに、該ステージ枠１８とともに、エ
ンボスシート１６とステージ１５との間隙を密閉するた
めの密閉枠２０と、密閉されたエンボスシート１６とス
テージ１５との間隙を真空吸引するための排気穴２１お
よび排気口２２とを備え、さらに、エンボスシート１６
の上方には、前記仮止め基板１３に紫外線照射を行うた
めの紫外線ランプ２３を備えている。
【００４１】前記エンボスシート１６は、可撓性および
光透過性を有する、たとえば厚さ約７５μｍのポリエス
テルで実現されるプラスチックフィルムである。また、
エンボスシート１６は、図３（ａ）に示すように、表面
に微細な凹凸形状を均一に有しており、その凹凸幅Ｂ
は、図３（ｂ）に示すように、約１０〜２００μｍであ
り、後述する真空吸引のときに、エンボスシート１６と
仮止め基板１３の上面側の基板との隙間に存在する空気
が残留することなく速やかに排気される形状となってい
る。
光透過性を有する、たとえば厚さ約７５μｍのポリエス
テルで実現されるプラスチックフィルムである。また、
エンボスシート１６は、図３（ａ）に示すように、表面
に微細な凹凸形状を均一に有しており、その凹凸幅Ｂ
は、図３（ｂ）に示すように、約１０〜２００μｍであ
り、後述する真空吸引のときに、エンボスシート１６と
仮止め基板１３の上面側の基板との隙間に存在する空気
が残留することなく速やかに排気される形状となってい
る。
【００４２】また図２に示すように、本発明の実施例の
仮硬化プレス装置４は、基板１を吸着するための上ステ
ージ５と、基板２を吸着するための下ステージ６と、各
々の基板１、２上に印されたアライメントマークを認識
し、基板１、２の位置情報を得るための図示しない画像
処理システムと、得られた位置情報に従って基板１、２
の位置調整（アライメント）を行うためのＸ軸ガイド
７、Ｙ軸ガイド８、Ｚ軸ガイド９およびθ軸ガイド１０
と、上ステージ５が昇降するための昇降用ボールネジ１
１と、スポット照射用紫外線ランプ１２とを備えてい
る。また、前記上ステージ５は、昇降自在で、かつ基板
１の吸着面が平坦に設けられ、前記下ステージ６は、基
板２の吸着面が平坦に設けられている。
仮硬化プレス装置４は、基板１を吸着するための上ステ
ージ５と、基板２を吸着するための下ステージ６と、各
々の基板１、２上に印されたアライメントマークを認識
し、基板１、２の位置情報を得るための図示しない画像
処理システムと、得られた位置情報に従って基板１、２
の位置調整（アライメント）を行うためのＸ軸ガイド
７、Ｙ軸ガイド８、Ｚ軸ガイド９およびθ軸ガイド１０
と、上ステージ５が昇降するための昇降用ボールネジ１
１と、スポット照射用紫外線ランプ１２とを備えてい
る。また、前記上ステージ５は、昇降自在で、かつ基板
１の吸着面が平坦に設けられ、前記下ステージ６は、基
板２の吸着面が平坦に設けられている。
【００４３】本実施例の液晶パネルの製造方法は、ま
ず、両基板１、２に配向膜処理を行った後、基板１に、
たとえば図４のようなパターンで、紫外線硬化型樹脂の
シール剤３ａ、３ｂを塗布する。シール剤３ａは、仮硬
化プレス工程で前記両基板１、２を仮止めするためのも
のであり、シール剤３ｂは、本硬化プレス工程で所望の
セルギャップを形成した後に硬化させるものである。ま
た、基板２には、均一なセルギャップを保つためのスペ
ーサを散布する。
ず、両基板１、２に配向膜処理を行った後、基板１に、
たとえば図４のようなパターンで、紫外線硬化型樹脂の
シール剤３ａ、３ｂを塗布する。シール剤３ａは、仮硬
化プレス工程で前記両基板１、２を仮止めするためのも
のであり、シール剤３ｂは、本硬化プレス工程で所望の
セルギャップを形成した後に硬化させるものである。ま
た、基板２には、均一なセルギャップを保つためのスペ
ーサを散布する。
【００４４】仮硬化プレス工程では、まず、前記仮硬化
プレス装置４の上ステージ５に基板１を吸着し、下ステ
ージ６に基板２を吸着する。次に、画像処理システムを
用いて、各々の基板１、２上に印されたアライメントマ
ークから両基板１、２の位置情報を得て、得られた位置
情報に従って両基板１、２の位置を、Ｘ軸ガイド７、Ｙ
軸ガイド８、Ｚ軸ガイド９およびθ軸ガイド１０で調整
し、両基板１、２の相互の位置を合わせる。その後、昇
降用ボールネジ１１を回転駆動して上ステージ５を降ろ
していき、基板１を基板２に近接させていくことによっ
て、両基板１、２間にほぼ所望のセルギャップが形成さ
れるまで、所定圧（０．０３〜０．０４ｋｇ／ｃｍ2 ）
で前記シール剤３ａ、３ｂを加圧する。加圧されたシー
ル剤３ａ、３ｂのうち、仮止めを行うためのシール剤３
ａのみを、スポット照射用紫外線ランプ１２によって紫
外線照射し、該シール剤３ａを硬化させ、仮止め基板１
３を得る。
プレス装置４の上ステージ５に基板１を吸着し、下ステ
ージ６に基板２を吸着する。次に、画像処理システムを
用いて、各々の基板１、２上に印されたアライメントマ
ークから両基板１、２の位置情報を得て、得られた位置
情報に従って両基板１、２の位置を、Ｘ軸ガイド７、Ｙ
軸ガイド８、Ｚ軸ガイド９およびθ軸ガイド１０で調整
し、両基板１、２の相互の位置を合わせる。その後、昇
降用ボールネジ１１を回転駆動して上ステージ５を降ろ
していき、基板１を基板２に近接させていくことによっ
て、両基板１、２間にほぼ所望のセルギャップが形成さ
れるまで、所定圧（０．０３〜０．０４ｋｇ／ｃｍ2 ）
で前記シール剤３ａ、３ｂを加圧する。加圧されたシー
ル剤３ａ、３ｂのうち、仮止めを行うためのシール剤３
ａのみを、スポット照射用紫外線ランプ１２によって紫
外線照射し、該シール剤３ａを硬化させ、仮止め基板１
３を得る。
【００４５】本硬化プレス工程では、まず、前記本硬化
プレス装置１４のステージ１５に、前記仮止め基板１３
を、ステージ１５上に設けられたピン２７によって位置
決めして移載する。次に、昇降ガイド１９によってステ
ージ枠１８を降ろしていき、該ステージ枠１８の下面を
密閉枠２０に圧着させて、エンボスシート１６とステー
ジ１５との間隙を密閉した後、密閉された間隙を真空吸
引する。この真空吸引によって、前記間隙内の仮止め基
板１３は、エンボスシート１６上の大気圧で加圧され
る。
プレス装置１４のステージ１５に、前記仮止め基板１３
を、ステージ１５上に設けられたピン２７によって位置
決めして移載する。次に、昇降ガイド１９によってステ
ージ枠１８を降ろしていき、該ステージ枠１８の下面を
密閉枠２０に圧着させて、エンボスシート１６とステー
ジ１５との間隙を密閉した後、密閉された間隙を真空吸
引する。この真空吸引によって、前記間隙内の仮止め基
板１３は、エンボスシート１６上の大気圧で加圧され
る。
【００４６】この真空吸引のときに、エンボスシート１
６に均一に形成された表面の凹凸形状が、図５の矢符Ｃ
に示すように、エンボスシート１６と仮止め基板１３と
の隙間にある空気の抜けを良くし、前記図１１（ａ）、
（ｂ）および図１２に示すような前記隙間に空気が残留
することはない。したがって、図６（ａ）から図６
（ｂ）に示す真空吸引のときに、大気圧が仮止め基板１
３の全面に亘って均一に加わることになる。したがっ
て、仮止め基板１３に均一なセルギャップを形成するこ
とができる。
６に均一に形成された表面の凹凸形状が、図５の矢符Ｃ
に示すように、エンボスシート１６と仮止め基板１３と
の隙間にある空気の抜けを良くし、前記図１１（ａ）、
（ｂ）および図１２に示すような前記隙間に空気が残留
することはない。したがって、図６（ａ）から図６
（ｂ）に示す真空吸引のときに、大気圧が仮止め基板１
３の全面に亘って均一に加わることになる。したがっ
て、仮止め基板１３に均一なセルギャップを形成するこ
とができる。
【００４７】また、真空吸引のときに、急激な真空吸引
は基板への急激な加圧を伴い、該基板に大きなストレス
をかけるため、従来は、ゆるやかに２００Ｔｏｒｒ程度
まで減圧し、その後、４００Ｔｏｒｒ以下に減圧すると
いった２段階以上の減圧速度、または２種以上の減圧装
置で減圧していたが、本実施例の本硬化プレス装置１４
では、エンボスシート１６に形成された表面の凹凸形状
によって、エンボスシート１６と仮止め基板１３との隙
間にある空気が、むらなく、速やかに排気されるので、
減圧速度を２段階以上、または減圧装置を２種以上に分
ける必要がなくなり、一定の減圧速度で４００Ｔｏｒｒ
程度に減圧することによって、仮止め基板１３にストレ
スをかけずに速やかに真空吸引することができる。
は基板への急激な加圧を伴い、該基板に大きなストレス
をかけるため、従来は、ゆるやかに２００Ｔｏｒｒ程度
まで減圧し、その後、４００Ｔｏｒｒ以下に減圧すると
いった２段階以上の減圧速度、または２種以上の減圧装
置で減圧していたが、本実施例の本硬化プレス装置１４
では、エンボスシート１６に形成された表面の凹凸形状
によって、エンボスシート１６と仮止め基板１３との隙
間にある空気が、むらなく、速やかに排気されるので、
減圧速度を２段階以上、または減圧装置を２種以上に分
ける必要がなくなり、一定の減圧速度で４００Ｔｏｒｒ
程度に減圧することによって、仮止め基板１３にストレ
スをかけずに速やかに真空吸引することができる。
【００４８】なお、従来の定盤を用いたプレス装置で
は、均一なセルギャップ形成を行うために１ｋｇ／ｃｍ
2 程度の加圧が必要であったが、減圧プレス装置では加
圧が極めて均一にできるため、４００Ｔｏｒｒ程度の減
圧で十分に均一なセルギャップ形成が可能となる。
は、均一なセルギャップ形成を行うために１ｋｇ／ｃｍ
2 程度の加圧が必要であったが、減圧プレス装置では加
圧が極めて均一にできるため、４００Ｔｏｒｒ程度の減
圧で十分に均一なセルギャップ形成が可能となる。
【００４９】上述のように、仮止め基板１３に均一なセ
ルギャップを形成した後、エンボスシート１６側から前
記紫外線ランプ２３によって仮止め基板１３全体に紫外
線照射を行い、前記シール剤３ｂを硬化させて、基板１
と基板２とを貼合わせた本止め基板を得る。このとき、
液晶パネルの表示エリアに紫外線が照射されることによ
り配向膜の不良、ＴＦＴ特性の劣化などが生じ、表示品
位の低下を招く場合は、マスク基板を用いて部分的に紫
外線照射を行う。
ルギャップを形成した後、エンボスシート１６側から前
記紫外線ランプ２３によって仮止め基板１３全体に紫外
線照射を行い、前記シール剤３ｂを硬化させて、基板１
と基板２とを貼合わせた本止め基板を得る。このとき、
液晶パネルの表示エリアに紫外線が照射されることによ
り配向膜の不良、ＴＦＴ特性の劣化などが生じ、表示品
位の低下を招く場合は、マスク基板を用いて部分的に紫
外線照射を行う。
【００５０】基板１、２を貼合わせた後、エンボスシー
ト１６とステージ１５との間隙の真空吸引を解除する。
このとき、エンボスシート１６に形成された表面の凹凸
形状によって、エンボスシート１６と前記本止め基板と
の間に空気が速やかに入りこみ、エンボスシート１６と
本止め基板との離れが良くなる。したがって、真空吸引
の解除に伴って発生する基板に対する引張力が減少し、
シール剤３ｂの剥がれや本止め基板の破損が生じること
はほとんどない。
ト１６とステージ１５との間隙の真空吸引を解除する。
このとき、エンボスシート１６に形成された表面の凹凸
形状によって、エンボスシート１６と前記本止め基板と
の間に空気が速やかに入りこみ、エンボスシート１６と
本止め基板との離れが良くなる。したがって、真空吸引
の解除に伴って発生する基板に対する引張力が減少し、
シール剤３ｂの剥がれや本止め基板の破損が生じること
はほとんどない。
【００５１】上述のように製造された本止め基板が、さ
らに、切断分割、液晶注入、偏光板取付などの工程を経
ることによって、液晶パネルが完成する。こうして製造
された液晶パネルは、以上のように、本硬化プレス装置
１４によって均一なセルギャップが形成され、さらに、
本硬化にあたって、仮硬化プレス装置４によって基板
１、２の相互の位置を合わせて仮止めされているので、
位置精度およびセルギャップ精度が優れている。
らに、切断分割、液晶注入、偏光板取付などの工程を経
ることによって、液晶パネルが完成する。こうして製造
された液晶パネルは、以上のように、本硬化プレス装置
１４によって均一なセルギャップが形成され、さらに、
本硬化にあたって、仮硬化プレス装置４によって基板
１、２の相互の位置を合わせて仮止めされているので、
位置精度およびセルギャップ精度が優れている。
【００５２】さらに、仮硬化プレス装置４は前述のよう
に大きな加圧力を必要とせず、本硬化プレス装置１４も
加圧力に大気圧を利用しているので、両装置４、１４と
も大きな剛性が必要とならず、小型化した装置を実現す
ることができる。
に大きな加圧力を必要とせず、本硬化プレス装置１４も
加圧力に大気圧を利用しているので、両装置４、１４と
も大きな剛性が必要とならず、小型化した装置を実現す
ることができる。
【００５３】上述の方法によって製造された液晶パネル
の歩留りを、従来の平坦なプラスチックシートを用いた
真空プレス法によって製造された液晶パネルの歩留りと
比較した結果を表１に示す。なお、ここでは、セルギャ
ップの誤差が、パネル全面において±０．３μｍ以内の
条件を満たす液晶パネルを良品と判定した。表１に示す
ように、従来の平坦なプラスチックシートを用いて製造
された液晶パネルの歩留りは、パネルサイズが大きくな
るにしたがって悪化し、特に、パネルサイズが３２０ｍ
ｍ×４００ｍｍ以上大きくなると、良品数が著しく減少
する。一方、本実施例のエンボスシート１６を用いて製
造された液晶パネルの歩留りは、パネルサイズが大きく
なってもほとんど変わることなく良好である。
の歩留りを、従来の平坦なプラスチックシートを用いた
真空プレス法によって製造された液晶パネルの歩留りと
比較した結果を表１に示す。なお、ここでは、セルギャ
ップの誤差が、パネル全面において±０．３μｍ以内の
条件を満たす液晶パネルを良品と判定した。表１に示す
ように、従来の平坦なプラスチックシートを用いて製造
された液晶パネルの歩留りは、パネルサイズが大きくな
るにしたがって悪化し、特に、パネルサイズが３２０ｍ
ｍ×４００ｍｍ以上大きくなると、良品数が著しく減少
する。一方、本実施例のエンボスシート１６を用いて製
造された液晶パネルの歩留りは、パネルサイズが大きく
なってもほとんど変わることなく良好である。
【００５４】
【表１】
【００５５】なお、本実施例では、前記エンボスシート
１６の材質として、耐薬品性、恒久性、透光性、および
耐熱性（融点２５５〜２６０℃）に優れているポリエス
テルを用いたが、これに限らず、たとえば、ポリエチレ
ン、塩化ビニル、またはポリプロピレンなどを用いても
よい。また、エンボスシート１６の厚さは約７５μｍと
したが、これに限らず、たとえば約９μｍ〜約１ｍｍの
うちのいずれかの厚さでもよい。さらに、表面の凹凸形
状は、真空吸引のときに、エンボスシート１６と仮止め
基板１３との隙間にある空気の抜けが良くなるような形
状で形成されていればよいので、図３（ａ）のような形
状のかわりに、たとえば、格子状、波目状、木目状、ま
たは唐松模様状などでもよい。
１６の材質として、耐薬品性、恒久性、透光性、および
耐熱性（融点２５５〜２６０℃）に優れているポリエス
テルを用いたが、これに限らず、たとえば、ポリエチレ
ン、塩化ビニル、またはポリプロピレンなどを用いても
よい。また、エンボスシート１６の厚さは約７５μｍと
したが、これに限らず、たとえば約９μｍ〜約１ｍｍの
うちのいずれかの厚さでもよい。さらに、表面の凹凸形
状は、真空吸引のときに、エンボスシート１６と仮止め
基板１３との隙間にある空気の抜けが良くなるような形
状で形成されていればよいので、図３（ａ）のような形
状のかわりに、たとえば、格子状、波目状、木目状、ま
たは唐松模様状などでもよい。
【００５６】本発明の第２の実施例について、図７に基
づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便
宜上、前述の実施例に同一または類似し対応する部分に
は同一の参照符号を付して、その説明を省略する。
づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便
宜上、前述の実施例に同一または類似し対応する部分に
は同一の参照符号を付して、その説明を省略する。
【００５７】図７は、本発明の第２の実施例の本硬化プ
レス装置２８の縦断面図である。この本硬化プレス装置
２８では、仮止め基板１３を載置するためのステージ２
９は、第１の実施例の本硬化プレス装置１４と異なり、
仮止め基板１３を載置する領域に微細な凹凸加工が施さ
れており、より具体的には、ステージ２９の長手方向に
深さ１００μｍ程度の溝を筋状に設けている。また、ス
テージ２９の材質には、光透過性が良く、剛性があり、
平行精度が出る石英ガラスを使用している。
レス装置２８の縦断面図である。この本硬化プレス装置
２８では、仮止め基板１３を載置するためのステージ２
９は、第１の実施例の本硬化プレス装置１４と異なり、
仮止め基板１３を載置する領域に微細な凹凸加工が施さ
れており、より具体的には、ステージ２９の長手方向に
深さ１００μｍ程度の溝を筋状に設けている。また、ス
テージ２９の材質には、光透過性が良く、剛性があり、
平行精度が出る石英ガラスを使用している。
【００５８】さらに、前記本硬化プレス装置２８は、エ
ンボスシート１６の上方に紫外線ランプ２３を設けてい
る第１の実施例の本硬化プレス装置１４と異なり、紫外
線ランプ３０が前記ステージ２９の下方に設けられてい
る。
ンボスシート１６の上方に紫外線ランプ２３を設けてい
る第１の実施例の本硬化プレス装置１４と異なり、紫外
線ランプ３０が前記ステージ２９の下方に設けられてい
る。
【００５９】上記構成によって本硬化プレス装置２８
は、ステージ２９側から仮止め基板１３に紫外線照射を
行うことが可能となり、たとえば仮止め基板１３の上面
側の基板に遮光パターンやメタル配線が多く存在するな
どの理由で、紫外線照射を行う面が制限される場合には
有効な構成となっている。
は、ステージ２９側から仮止め基板１３に紫外線照射を
行うことが可能となり、たとえば仮止め基板１３の上面
側の基板に遮光パターンやメタル配線が多く存在するな
どの理由で、紫外線照射を行う面が制限される場合には
有効な構成となっている。
【００６０】前記本硬化プレス装置２８による本硬化プ
レス工程では、まず、第１の実施例と同様に仮硬化プレ
ス工程を行い、得られた仮止め基板１３をステージ２９
に、該ステージ２９上に設けられたピン２７によって位
置決めして移載する。次に、昇降ガイド１９によってス
テージ枠１８を降ろしていき、該ステージ枠１８の下面
を密閉枠２０に圧着させて、エンボスシート１６とステ
ージ２９との間隙を密閉した後、該間隙から真空吸引を
行う。この真空吸引によって、該間隙内の仮止め基板１
３は、エンボスシート１６上の大気圧で加圧される。
レス工程では、まず、第１の実施例と同様に仮硬化プレ
ス工程を行い、得られた仮止め基板１３をステージ２９
に、該ステージ２９上に設けられたピン２７によって位
置決めして移載する。次に、昇降ガイド１９によってス
テージ枠１８を降ろしていき、該ステージ枠１８の下面
を密閉枠２０に圧着させて、エンボスシート１６とステ
ージ２９との間隙を密閉した後、該間隙から真空吸引を
行う。この真空吸引によって、該間隙内の仮止め基板１
３は、エンボスシート１６上の大気圧で加圧される。
【００６１】上述のように、仮止め基板１３が真空プレ
スされ、所望のセルギャップを全面に亘って均一に形成
した後、ステージ２９側から前記紫外線ランプ３０によ
って仮止め基板１３全体に紫外線照射を行う。ステージ
２９は光透過性に形成されているので、紫外線はステー
ジ２９を透過して、シール剤３ｂを硬化させることがで
きる。こうして所望のセルギャップを形成し、基板１、
２を貼合わせて得られた本止め基板が、さらに、切断分
割、液晶注入、偏光板取付などの工程を経ることによっ
て、液晶パネルが完成する。
スされ、所望のセルギャップを全面に亘って均一に形成
した後、ステージ２９側から前記紫外線ランプ３０によ
って仮止め基板１３全体に紫外線照射を行う。ステージ
２９は光透過性に形成されているので、紫外線はステー
ジ２９を透過して、シール剤３ｂを硬化させることがで
きる。こうして所望のセルギャップを形成し、基板１、
２を貼合わせて得られた本止め基板が、さらに、切断分
割、液晶注入、偏光板取付などの工程を経ることによっ
て、液晶パネルが完成する。
【００６２】基板１、２を貼合わせた後、エンボスシー
ト１６とステージ２９との間隙の真空吸引を解除する。
このとき、第１の実施例と同様に、エンボスシート１６
に形成された表面の凹凸形状によって、エンボスシート
１６と本止め基板との間に空気が速やかに入りこむた
め、真空吸引の解除に伴って発生する引張力が減少し、
シール剤３ｂの剥がれや本止め基板の破損が生じること
はほとんどない。
ト１６とステージ２９との間隙の真空吸引を解除する。
このとき、第１の実施例と同様に、エンボスシート１６
に形成された表面の凹凸形状によって、エンボスシート
１６と本止め基板との間に空気が速やかに入りこむた
め、真空吸引の解除に伴って発生する引張力が減少し、
シール剤３ｂの剥がれや本止め基板の破損が生じること
はほとんどない。
【００６３】さらに、ステージ２９の、本止め基板を載
置する領域に微細な凹凸加工が施されているので、本止
め基板のステージ２９への密着を防止することができ、
したがって、真空吸引を解除した後に本止め基板を取外
すときなどに生じる該本止め基板の破損やシール剤３ｂ
の剥がれを防止することができる。したがって、液晶パ
ネルを歩留り良く製造することができる。
置する領域に微細な凹凸加工が施されているので、本止
め基板のステージ２９への密着を防止することができ、
したがって、真空吸引を解除した後に本止め基板を取外
すときなどに生じる該本止め基板の破損やシール剤３ｂ
の剥がれを防止することができる。したがって、液晶パ
ネルを歩留り良く製造することができる。
【００６４】また、前記紫外線ランプ３０がステージ２
９の下方に設けられているので、紫外線ランプ２３がエ
ンボスシート１６の上方に設けられている第１の実施例
の本硬化プレス装置１４に比べて、装置の上方における
占有空間がより小さくなり、したがって、より一層小型
化した本硬化プレス装置２８を提供することができる。
９の下方に設けられているので、紫外線ランプ２３がエ
ンボスシート１６の上方に設けられている第１の実施例
の本硬化プレス装置１４に比べて、装置の上方における
占有空間がより小さくなり、したがって、より一層小型
化した本硬化プレス装置２８を提供することができる。
【００６５】なお、本実施例では、ステージ２９の材質
に石英ガラスを用いたが、これに限らず、たとえば、ソ
ーダ石灰ガラス、ほうけい酸ガラス、アルミノけい酸ガ
ラス、または鉛ガラスなど光透過性が良く、剛性があ
り、平行精度が出るものならよい。
に石英ガラスを用いたが、これに限らず、たとえば、ソ
ーダ石灰ガラス、ほうけい酸ガラス、アルミノけい酸ガ
ラス、または鉛ガラスなど光透過性が良く、剛性があ
り、平行精度が出るものならよい。
【００６６】また、本実施例では、ステージ２９の長手
方向に深さ１００μｍ程度の溝を筋状に設けることによ
って、ステージ２９に微細な凹凸形状を設けたが、これ
に限らず、たとえば、格子状、波目状、木目状、または
唐松模様状など、該ステージ２９の光透過性、剛性、お
よび平行精度を損なわない形状であればよい。
方向に深さ１００μｍ程度の溝を筋状に設けることによ
って、ステージ２９に微細な凹凸形状を設けたが、これ
に限らず、たとえば、格子状、波目状、木目状、または
唐松模様状など、該ステージ２９の光透過性、剛性、お
よび平行精度を損なわない形状であればよい。
【００６７】また、本実施例の本硬化プレス装置２８に
おいて、ステージ２９の仮止め基板１３を載置する領域
に微細な凹凸加工が施されている構成を、たとえば第１
の実施例の本硬化プレス装置１４のように、エンボスシ
ート１６の上方に紫外線ランプ２３を備えた構成と組み
合わせて用いてもよい。
おいて、ステージ２９の仮止め基板１３を載置する領域
に微細な凹凸加工が施されている構成を、たとえば第１
の実施例の本硬化プレス装置１４のように、エンボスシ
ート１６の上方に紫外線ランプ２３を備えた構成と組み
合わせて用いてもよい。
【００６８】本発明の第３の実施例について、図８に基
づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便
宜上、前述の実施例に同一または類似し対応する部分に
は同一の参照符号を付して、その説明を省略する。
づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便
宜上、前述の実施例に同一または類似し対応する部分に
は同一の参照符号を付して、その説明を省略する。
【００６９】図８は、本発明の第３の実施例の本硬化プ
レス装置３２の縦断面図である。この本硬化プレス装置
３２では、第２の実施例の本硬化プレス装置２８と異な
り、ステージ３５の仮止め基板１３を載置する領域に微
細な凹凸加工が施されておらず、代わりに、ステージ３
５の上に第２のエンボスシート３３がピン３４、３７に
よって固定されている。この第２のエンボスシート３３
は、光透過性を有し、また表面に微細な凹凸形状を均一
に有しており、その材質、厚さ、凹凸形状、凹凸幅、お
よび性質などは、前述したエンボスシート１６と同様で
ある。
レス装置３２の縦断面図である。この本硬化プレス装置
３２では、第２の実施例の本硬化プレス装置２８と異な
り、ステージ３５の仮止め基板１３を載置する領域に微
細な凹凸加工が施されておらず、代わりに、ステージ３
５の上に第２のエンボスシート３３がピン３４、３７に
よって固定されている。この第２のエンボスシート３３
は、光透過性を有し、また表面に微細な凹凸形状を均一
に有しており、その材質、厚さ、凹凸形状、凹凸幅、お
よび性質などは、前述したエンボスシート１６と同様で
ある。
【００７０】また、ステージ３５の材質には、光透過性
が良く、剛性があり、平行精度が出る石英ガラスを使用
している。
が良く、剛性があり、平行精度が出る石英ガラスを使用
している。
【００７１】上記構成によって本硬化プレス装置３２
は、ステージ３５側から仮止め基板１３に紫外線照射を
行うことが可能となり、たとえば仮止め基板１３の上面
側の基板に遮光パターンやメタル配線が多く存在するな
どの理由で、紫外線照射を行う面が制限される場合には
有効な構成となっている。
は、ステージ３５側から仮止め基板１３に紫外線照射を
行うことが可能となり、たとえば仮止め基板１３の上面
側の基板に遮光パターンやメタル配線が多く存在するな
どの理由で、紫外線照射を行う面が制限される場合には
有効な構成となっている。
【００７２】前記本硬化プレス装置３２による本硬化プ
レス工程では、まず、第１および第２の実施例と同様に
仮硬化プレス工程を行い、得られた仮止め基板１３をス
テージ３５に固定されている第２のエンボスシート３３
の上に、ステージ３５上に設けられたピン３７によって
位置決めして移載する。次に、昇降ガイド１９によって
ステージ枠１８を降ろしていき、該ステージ枠１８の下
面を密閉枠２０に圧着させて、エンボスシート１６とス
テージ３５との間隙を密閉した後、該間隙から真空吸引
を行う。この真空吸引によって、該間隙内の仮止め基板
１３は、エンボスシート１６上の大気圧で加圧される。
レス工程では、まず、第１および第２の実施例と同様に
仮硬化プレス工程を行い、得られた仮止め基板１３をス
テージ３５に固定されている第２のエンボスシート３３
の上に、ステージ３５上に設けられたピン３７によって
位置決めして移載する。次に、昇降ガイド１９によって
ステージ枠１８を降ろしていき、該ステージ枠１８の下
面を密閉枠２０に圧着させて、エンボスシート１６とス
テージ３５との間隙を密閉した後、該間隙から真空吸引
を行う。この真空吸引によって、該間隙内の仮止め基板
１３は、エンボスシート１６上の大気圧で加圧される。
【００７３】上述のように、仮止め基板１３が真空プレ
スされ、所望のセルギャップを全面に亘って均一に形成
した後、ステージ３５側から前記紫外線ランプ３０によ
って仮止め基板１３全体に紫外線照射を行う。ステージ
３５は光透過性に形成され、第２のエンボスシート３３
は光透過性を有しているので、紫外線はステージ３５お
よび第２のエンボスシート３３を透過して、シール剤３
ｂを硬化させることができる。こうして所望のセルギャ
ップを形成し、基板１、２を貼合わせて得られた本止め
基板が、さらに、切断分割、液晶注入、偏光板取付など
の工程を経ることによって、液晶パネルが完成する。
スされ、所望のセルギャップを全面に亘って均一に形成
した後、ステージ３５側から前記紫外線ランプ３０によ
って仮止め基板１３全体に紫外線照射を行う。ステージ
３５は光透過性に形成され、第２のエンボスシート３３
は光透過性を有しているので、紫外線はステージ３５お
よび第２のエンボスシート３３を透過して、シール剤３
ｂを硬化させることができる。こうして所望のセルギャ
ップを形成し、基板１、２を貼合わせて得られた本止め
基板が、さらに、切断分割、液晶注入、偏光板取付など
の工程を経ることによって、液晶パネルが完成する。
【００７４】基板１、２を貼合わせた後、エンボスシー
ト１６とステージ３５との間隙の真空吸引を解除する。
このとき、第１および第２の実施例と同様に、エンボス
シート１６に形成された表面の凹凸形状によって、エン
ボスシート１６と本止め基板との間に空気が速やかにま
わりこむため、真空吸引の解除に伴って発生する引張力
が減少し、シール剤３ｂの剥がれや本止め基板の破損が
生じることはほとんどない。
ト１６とステージ３５との間隙の真空吸引を解除する。
このとき、第１および第２の実施例と同様に、エンボス
シート１６に形成された表面の凹凸形状によって、エン
ボスシート１６と本止め基板との間に空気が速やかにま
わりこむため、真空吸引の解除に伴って発生する引張力
が減少し、シール剤３ｂの剥がれや本止め基板の破損が
生じることはほとんどない。
【００７５】さらに、第２のエンボスシート３３によっ
て、本止め基板のステージ３５への密着を防止すること
ができ、したがって、真空吸引を解除した後に本止め基
板を取外すときなどに生じる該本止め基板の破損やシー
ル剤３ｂの剥がれを防止することができる。したがっ
て、液晶パネルを歩留り良く製造することができる。
て、本止め基板のステージ３５への密着を防止すること
ができ、したがって、真空吸引を解除した後に本止め基
板を取外すときなどに生じる該本止め基板の破損やシー
ル剤３ｂの剥がれを防止することができる。したがっ
て、液晶パネルを歩留り良く製造することができる。
【００７６】また、前記紫外線ランプ３０がステージ３
５の下方に設けられているので、紫外線ランプ２３がエ
ンボスシート１６の上方に設けられている第１の実施例
の本硬化プレス装置１４に比べて、装置の上方における
占有空間がより小さくなり、したがって、より一層小型
化した本硬化プレス装置３２を提供することができる。
５の下方に設けられているので、紫外線ランプ２３がエ
ンボスシート１６の上方に設けられている第１の実施例
の本硬化プレス装置１４に比べて、装置の上方における
占有空間がより小さくなり、したがって、より一層小型
化した本硬化プレス装置３２を提供することができる。
【００７７】なお、本実施例では、ステージ３５の材質
に石英ガラスを用いたが、これに限らず、たとえば、ソ
ーダ石灰ガラス、ほうけい酸ガラス、アルミノけい酸ガ
ラス、または鉛ガラスなど光透過性が良く、剛性があ
り、平行精度が出るものならよい。
に石英ガラスを用いたが、これに限らず、たとえば、ソ
ーダ石灰ガラス、ほうけい酸ガラス、アルミノけい酸ガ
ラス、または鉛ガラスなど光透過性が良く、剛性があ
り、平行精度が出るものならよい。
【００７８】また、本実施例では、前記第２のエンボス
シート３３の材質として、ポリエステルを用いたが、こ
れに限らず、たとえば、ポリエチレン、塩化ビニル、ま
たはポリプロピレンなどを用いてもよい。また、第２の
エンボスシート３３の厚さは約７５μｍとしたが、これ
に限らず、たとえば約９μｍ〜約１ｍｍのうちのいずれ
かの厚さでもよい。さらに、表面の凹凸形状は、第２の
エンボスシート３３と本止め基板との密着を防止するこ
とができる形状で形成されていればよいので、図３
（ａ）のような形状のかわりに、たとえば、格子状、波
目状、木目状、または唐松模様状などでもよい。
シート３３の材質として、ポリエステルを用いたが、こ
れに限らず、たとえば、ポリエチレン、塩化ビニル、ま
たはポリプロピレンなどを用いてもよい。また、第２の
エンボスシート３３の厚さは約７５μｍとしたが、これ
に限らず、たとえば約９μｍ〜約１ｍｍのうちのいずれ
かの厚さでもよい。さらに、表面の凹凸形状は、第２の
エンボスシート３３と本止め基板との密着を防止するこ
とができる形状で形成されていればよいので、図３
（ａ）のような形状のかわりに、たとえば、格子状、波
目状、木目状、または唐松模様状などでもよい。
【００７９】また、本実施例の本硬化プレス装置３２に
おいて、ステージ３５の上に第２のエンボスシート３３
がピン３４、３７によって固定されている構成を、たと
えば第１の実施例の本硬化プレス装置１４のように、エ
ンボスシート１６の上方に紫外線ランプ２３を備えた構
成と組み合わせて用いてもよい。
おいて、ステージ３５の上に第２のエンボスシート３３
がピン３４、３７によって固定されている構成を、たと
えば第１の実施例の本硬化プレス装置１４のように、エ
ンボスシート１６の上方に紫外線ランプ２３を備えた構
成と組み合わせて用いてもよい。
【００８０】
【発明の効果】請求項１の発明に係る液晶パネルの製造
方法では、以上のように、液晶パネルの製造において、
光硬化型シール剤を用いて一対の基板を貼合わせる工程
にあたって、少くともいずれか一方の基板に光硬化型シ
ール剤を塗布し、重ね合わせた一対の基板を載置台に載
置し、表面に微細な凹凸形状を均一に有する可撓性シー
ト体を上から重ね、前記載置台と前記可撓性シート体と
の間隙を密閉した後に真空吸引する。このとき、可撓性
シート体に均一に形成された表面の凹凸形状が、可撓性
シート体と上面側の基板との隙間にある空気の抜けを良
くし、該隙間に空気が残留しない。
方法では、以上のように、液晶パネルの製造において、
光硬化型シール剤を用いて一対の基板を貼合わせる工程
にあたって、少くともいずれか一方の基板に光硬化型シ
ール剤を塗布し、重ね合わせた一対の基板を載置台に載
置し、表面に微細な凹凸形状を均一に有する可撓性シー
ト体を上から重ね、前記載置台と前記可撓性シート体と
の間隙を密閉した後に真空吸引する。このとき、可撓性
シート体に均一に形成された表面の凹凸形状が、可撓性
シート体と上面側の基板との隙間にある空気の抜けを良
くし、該隙間に空気が残留しない。
【００８１】したがって、可撓性シート体と上面側の基
板との隙間は均一に減圧され、その結果、前記間隙内の
一対の基板は、可撓性シート体上の大気圧によって均一
に加圧される。したがって、前記一対の基板に均一なセ
ルギャップを形成することができる。均一なセルギャッ
プの形成後、前記光硬化型シール剤を光照射によって本
硬化させ、一対の基板を貼合わせる。
板との隙間は均一に減圧され、その結果、前記間隙内の
一対の基板は、可撓性シート体上の大気圧によって均一
に加圧される。したがって、前記一対の基板に均一なセ
ルギャップを形成することができる。均一なセルギャッ
プの形成後、前記光硬化型シール剤を光照射によって本
硬化させ、一対の基板を貼合わせる。
【００８２】それゆえ、大型基板においても、セルギャ
ップ精度の優れた液晶パネルを製造することができる。
ップ精度の優れた液晶パネルを製造することができる。
【００８３】また、真空吸引のときに、可撓性シート体
と上面側の基板との隙間にある空気は、むらなく、速や
かに排気される。したがって、従来のように、減圧速度
を２段階以上、または減圧装置を２種以上に分けて真空
吸引する必要がなくなり、一定の減圧速度で、前記一対
の基板にストレスをかけずに、速やかに真空吸引するこ
とができる。
と上面側の基板との隙間にある空気は、むらなく、速や
かに排気される。したがって、従来のように、減圧速度
を２段階以上、または減圧装置を２種以上に分けて真空
吸引する必要がなくなり、一定の減圧速度で、前記一対
の基板にストレスをかけずに、速やかに真空吸引するこ
とができる。
【００８４】それゆえ、工程を簡素化し、加工時間を短
縮することができる。
縮することができる。
【００８５】また、真空吸引を解除したときには、前記
可撓性シート体と上面側の基板との間に空気が速やかに
入りこみ、可撓性シート体と上面側の基板との離れが良
くなる。したがって、真空吸引の解除に伴って発生する
引張力が減少し、貼合わせ作業の完了した基板の破損や
シール剤の剥がれを防止することができる。
可撓性シート体と上面側の基板との間に空気が速やかに
入りこみ、可撓性シート体と上面側の基板との離れが良
くなる。したがって、真空吸引の解除に伴って発生する
引張力が減少し、貼合わせ作業の完了した基板の破損や
シール剤の剥がれを防止することができる。
【００８６】それゆえ、大型基板においても、液晶パネ
ルを歩留り良く製造することができる。
ルを歩留り良く製造することができる。
【００８７】また請求項２の発明に係る液晶パネルの製
造方法では、以上のように、前記可撓性シート体は光透
過性に形成される。
造方法では、以上のように、前記可撓性シート体は光透
過性に形成される。
【００８８】それゆえ、前記光硬化型シール剤を光照射
によって硬化させるときに、光照射を可撓性シート体側
から行うことができる。
によって硬化させるときに、光照射を可撓性シート体側
から行うことができる。
【００８９】また請求項３の発明に係る液晶パネルの製
造方法では、以上のように、上述の液晶パネルの製造工
程において、前記一対の基板の相互の位置を合わせ、該
一対の基板を相互に近接させることによって前記光硬化
型シール剤を加圧し、該光硬化型シール剤の予め定める
仮止め領域を光照射によって硬化させる工程を含む。こ
の工程によって、前記一対の基板は相互の位置を合わせ
た状態で仮止めされる。その後、上述の工程によって、
前記光硬化型シール剤を本硬化させ、均一なセルギャッ
プを形成して、前記一対の基板の貼合わせを完了する。
造方法では、以上のように、上述の液晶パネルの製造工
程において、前記一対の基板の相互の位置を合わせ、該
一対の基板を相互に近接させることによって前記光硬化
型シール剤を加圧し、該光硬化型シール剤の予め定める
仮止め領域を光照射によって硬化させる工程を含む。こ
の工程によって、前記一対の基板は相互の位置を合わせ
た状態で仮止めされる。その後、上述の工程によって、
前記光硬化型シール剤を本硬化させ、均一なセルギャッ
プを形成して、前記一対の基板の貼合わせを完了する。
【００９０】それゆえ、大型基板においても、位置精度
およびセルギャップ精度の優れた液晶パネルを製造する
ことができる。
およびセルギャップ精度の優れた液晶パネルを製造する
ことができる。
【００９１】また請求項４の発明に係る液晶パネルの製
造用プレス装置では、以上のように、液晶パネルの製造
に使用されるプレス装置において、一対の基板を載置す
るための載置台と、該載置台の上方に設けられ、表面に
微細な凹凸形状を均一に有する第１の可撓性シート体
と、該第１の可撓性シート体が昇降するための昇降手段
と、前記第１の可撓性シート体が降下したときに、該第
１の可撓性シート体と前記載置台との間隙を密閉する密
閉手段と、前記間隙を真空吸引するための排気手段と、
前記一対の基板に光照射を行うための光照射手段とを備
えている。
造用プレス装置では、以上のように、液晶パネルの製造
に使用されるプレス装置において、一対の基板を載置す
るための載置台と、該載置台の上方に設けられ、表面に
微細な凹凸形状を均一に有する第１の可撓性シート体
と、該第１の可撓性シート体が昇降するための昇降手段
と、前記第１の可撓性シート体が降下したときに、該第
１の可撓性シート体と前記載置台との間隙を密閉する密
閉手段と、前記間隙を真空吸引するための排気手段と、
前記一対の基板に光照射を行うための光照射手段とを備
えている。
【００９２】上記構成によって、請求項１記載の液晶パ
ネルの製造方法を容易に実施可能なプレス装置を提供す
ることができる。また、大気圧を利用することによっ
て、前記一対の基板の加圧を行う構成になっているの
で、プレス装置に大きな剛性が必要なくなり、それゆ
え、小型化したプレス装置を提供することができる。
ネルの製造方法を容易に実施可能なプレス装置を提供す
ることができる。また、大気圧を利用することによっ
て、前記一対の基板の加圧を行う構成になっているの
で、プレス装置に大きな剛性が必要なくなり、それゆ
え、小型化したプレス装置を提供することができる。
【００９３】また請求項５の発明に係る液晶パネルの製
造用プレス装置では、以上のように、前記載置台は、少
くとも前記一対の基板を載置する領域に、微細な凹凸形
状を均一に有している。したがって、前記載置台と下面
側の基板との密着を防止することができ、貼合わせ作業
の完了した一対の基板を取外すときなどに生じる該基板
の破損やシール剤の剥がれを防止することができる。
造用プレス装置では、以上のように、前記載置台は、少
くとも前記一対の基板を載置する領域に、微細な凹凸形
状を均一に有している。したがって、前記載置台と下面
側の基板との密着を防止することができ、貼合わせ作業
の完了した一対の基板を取外すときなどに生じる該基板
の破損やシール剤の剥がれを防止することができる。
【００９４】それゆえ、液晶パネルを歩留り良く製造す
ることができる。
ることができる。
【００９５】また請求項６の発明に係る液晶パネルの製
造用プレス装置では、以上のように、前記載置台の、前
記一対の基板を載置する面の上に、微細な凹凸形状を均
一に有する第２の可撓性シート体を備えている。したが
って、前記載置台の表面が平滑であっても、前記第２の
可撓性シート体によって、下面側の基板の載置台への密
着を防止することができ、貼合わせ作業の完了した基板
を取外すときなどに生じる該基板の破損やシール剤の剥
がれを防止することができる。
造用プレス装置では、以上のように、前記載置台の、前
記一対の基板を載置する面の上に、微細な凹凸形状を均
一に有する第２の可撓性シート体を備えている。したが
って、前記載置台の表面が平滑であっても、前記第２の
可撓性シート体によって、下面側の基板の載置台への密
着を防止することができ、貼合わせ作業の完了した基板
を取外すときなどに生じる該基板の破損やシール剤の剥
がれを防止することができる。
【００９６】それゆえ、液晶パネルを歩留り良く製造す
ることができる。
ることができる。
【００９７】また請求項７の発明に係る液晶パネルの製
造用プレス装置では、以上のように、前記第２の可撓性
シート体は光透過性に形成される。
造用プレス装置では、以上のように、前記第２の可撓性
シート体は光透過性に形成される。
【００９８】それゆえ、前記光硬化型シール剤を光照射
によって硬化させるときに、光照射を載置台側から行う
ことができる。
によって硬化させるときに、光照射を載置台側から行う
ことができる。
【００９９】また請求項８の発明に係る液晶パネルの製
造用プレス装置では、以上のように、前記第１の可撓性
シート体は光透過性に形成され、これに対応して、前記
光照射手段は前記第１の可撓性シート体の上方に設けら
れる。
造用プレス装置では、以上のように、前記第１の可撓性
シート体は光透過性に形成され、これに対応して、前記
光照射手段は前記第１の可撓性シート体の上方に設けら
れる。
【０１００】それゆえ、前記光硬化型シール剤を光照射
によって硬化させるときに、光照射を第１の可撓性シー
ト体側から行うことができる。
によって硬化させるときに、光照射を第１の可撓性シー
ト体側から行うことができる。
【０１０１】また請求項９の発明に係る液晶パネルの製
造用プレス装置では、以上のように、前記載置台は光透
過性に形成され、これに対応して、前記光照射手段は前
記載置台の下方に設けられる。
造用プレス装置では、以上のように、前記載置台は光透
過性に形成され、これに対応して、前記光照射手段は前
記載置台の下方に設けられる。
【０１０２】それゆえ、前記光硬化型シール剤を光照射
によって硬化させるときに、光照射を載置台側から行う
ことができる。また、光照射手段が載置台の下方に設け
られているので、光照射手段が加圧用シート体の上方に
設けられているプレス装置に比べて、装置の上方におけ
る占有空間がより小さくなり、それゆえ、より一層小型
化したプレス装置を提供することができる。
によって硬化させるときに、光照射を載置台側から行う
ことができる。また、光照射手段が載置台の下方に設け
られているので、光照射手段が加圧用シート体の上方に
設けられているプレス装置に比べて、装置の上方におけ
る占有空間がより小さくなり、それゆえ、より一層小型
化したプレス装置を提供することができる。
【図１】本発明の第１の実施例の本硬化プレス装置の縦
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明の実施例の仮硬化プレス装置の縦断面図
である。
である。
【図３】エンボスシートの概略図、およびその一部分の
領域の拡大図である。
領域の拡大図である。
【図４】紫外線硬化型樹脂のシール剤の塗布パターン例
を示すための基板の概略図である。
を示すための基板の概略図である。
【図５】エンボスシートの凹凸が空気の抜けを良くして
いることを説明するための斜視図である。
いることを説明するための斜視図である。
【図６】本実施例の本硬化プレス装置によるプレス動作
を説明するための縦断面図である。
を説明するための縦断面図である。
【図７】本発明の第２の実施例の本硬化プレス装置の縦
断面図である。
断面図である。
【図８】本発明の第３の実施例の本硬化プレス装置の縦
断面図である。
断面図である。
【図９】従来の仮硬化プレス装置の斜視図である。
【図１０】従来の本硬化プレス装置の斜視図である。
【図１１】従来の本硬化プレス装置によるプレス動作を
説明するための縦断面図である。
説明するための縦断面図である。
【図１２】従来の本硬化プレス装置によるプレス時に、
空気が残留することを示す図である。
空気が残留することを示す図である。
【図１３】プレス動作終了後に生じる基板に対する引張
力を説明するための縦断面図である。
力を説明するための縦断面図である。
１ 基板 ２ 基板 ３ａ シール剤 ３ｂ シール剤 ４ 仮硬化プレス装置 ５ 上ステージ ６ 下ステージ ７ Ｘ軸ガイド ８ Ｙ軸ガイド ９ Ｚ軸ガイド １０ θ軸ガイド １１ 昇降用ボールネジ １２ スポット照射用紫外線ランプ １３ 仮止め基板 １４ 本硬化プレス装置 １５ ステージ（載置台） １６ エンボスシート（第１の可撓性シート体） １７ 固定部材 １８ ステージ枠（密閉手段） １９ 昇降ガイド（昇降手段） ２０ 密閉枠（密閉手段） ２１ 排気穴（排気手段） ２２ 排気口（排気手段） ２３ 紫外線ランプ（光照射手段） ２７ ピン ２８ 本硬化プレス装置 ２９ ステージ（載置台） ３０ 紫外線ランプ（光照射手段） ３２ 本硬化プレス装置 ３３ 第２のエンボスシート（第２の可撓性シート
体） ３４ ピン ３５ ステージ（載置台） ３６ ガイド筒 ３７ ピン
体） ３４ ピン ３５ ステージ（載置台） ３６ ガイド筒 ３７ ピン
Claims (9)
- 【請求項１】光硬化型シール剤を用いて一対の基板を貼
合わせる工程を含む液晶パネルの製造方法において、 少くともいずれか一方の基板に光硬化型シール剤を塗布
して、一対の基板を重ね合わせ、 前記一対の基板を載置台に載置し、 表面に微細な凹凸形状を均一に有する可撓性シート体を
上から重ね、 前記載置台と前記可撓性シート体との間隙を密閉した後
に真空吸引して、基板全体を大気圧によって均一に加圧
し、 前記光硬化型シール剤を光照射によって硬化させること
を特徴とする液晶パネルの製造方法。 - 【請求項２】前記可撓性シート体は、光透過性を有する
ことを特徴とする請求項１記載の液晶パネルの製造方
法。 - 【請求項３】前記一対の基板の相互の位置を合わせ、 前記一対の基板を相互に近接させることによって前記光
硬化型シール剤を加圧し、 前記光硬化型シール剤の予め定める仮止め領域を光照射
によって硬化させる工程を含むことを特徴とする請求項
１または２記載の液晶パネルの製造方法。 - 【請求項４】液晶パネルの製造に使用されるプレス装置
において、 一対の基板を載置するための載置台と、 前記載置台の上方に設けられ、表面に微細な凹凸形状を
均一に有する第１の可撓性シート体と、 前記第１の可撓性シート体が昇降するための昇降手段
と、 前記第１の可撓性シート体が降下したときに、該第１の
可撓性シート体と前記載置台との間隙を密閉する密閉手
段と、 前記間隙を真空吸引するための排気手段と、 前記一対の基板に光照射を行うための光照射手段とを備
えることを特徴とする液晶パネル製造用プレス装置。 - 【請求項５】前記載置台は、少くとも前記一対の基板を
載置する領域に、微細な凹凸形状を均一に有することを
特徴とする請求項４記載の液晶パネル製造用プレス装
置。 - 【請求項６】前記載置台の、前記一対の基板を載置する
面の上に、微細な凹凸形状を均一に有する第２の可撓性
シート体を備えることを特徴とする請求項４記載の液晶
パネル製造用プレス装置。 - 【請求項７】前記第２の可撓性シート体は、光透過性を
有することを特徴とする請求項６記載の液晶パネル製造
用プレス装置。 - 【請求項８】前記第１の可撓性シート体は光透過性を有
し、前記光照射手段は前記第１の可撓性シート体の上方
に設けられることを特徴とする請求項４、５または６記
載の液晶パネル製造用プレス装置。 - 【請求項９】前記載置台は光透過性に形成され、前記光
照射手段は前記載置台の下方に設けられることを特徴と
する請求項４、５または７記載の液晶パネル製造用プレ
ス装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7162700A JP3059360B2 (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | 液晶パネルの製造方法および製造用プレス装置 |
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| US08/651,767 US5731860A (en) | 1995-06-28 | 1996-05-22 | Method of manufacturing liquid crystal panel and press device to be adopted in the method |
| KR1019960017984A KR100228968B1 (ko) | 1995-06-28 | 1996-05-27 | 액정 패널의 제조 방법 및 제조용 프레스 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7162700A JP3059360B2 (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | 液晶パネルの製造方法および製造用プレス装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0915612A true JPH0915612A (ja) | 1997-01-17 |
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Family
ID=15759646
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| US7096911B2 (en) | 2000-11-30 | 2006-08-29 | Fujitsu Limited | Apparatus for manufacturing bonded substrate |
| KR100622201B1 (ko) * | 1999-12-22 | 2006-09-07 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 액정 표시 장치용 기판을 위한 플라즈마 처리 장치 |
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| WO2009072170A1 (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-11 | Fujitsu Limited | 積層体の製造方法 |
| JP2010250008A (ja) * | 2009-04-14 | 2010-11-04 | Joyo Kogaku Kk | 封止装置 |
| JP2013544747A (ja) * | 2010-11-23 | 2013-12-19 | ルオヤン ランドグラス テクノロジー カンパニー リミテッド | 真空ガラス封着装置 |
| JP2015194582A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 岩崎電気株式会社 | 照射装置 |
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