JP2008286925A - 露光用マスクの初期位置及び姿勢調整方法 - Google Patents
露光用マスクの初期位置及び姿勢調整方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008286925A JP2008286925A JP2007130438A JP2007130438A JP2008286925A JP 2008286925 A JP2008286925 A JP 2008286925A JP 2007130438 A JP2007130438 A JP 2007130438A JP 2007130438 A JP2007130438 A JP 2007130438A JP 2008286925 A JP2008286925 A JP 2008286925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- mask
- alignment mark
- substrate
- imaging
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 82
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 41
- 230000036544 posture Effects 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】基板Wの第2のアライメントマークを、CCDカメラ6で撮像しその画像がCCDカメラ6の画像の所定の位置に位置するようにCCDカメラ6の位置をセットしその位置における前記第2のアライメントマークのCCDカメラ6の画像上の位置データを記憶させた後マスク4aの第1のアライメントマークをCCDカメラ6で撮像して得られた、第1のアライメントマークのCCDカメラ6の画像上の位置データと上記第2のアライメントマークの位置データとを比較し第1のアライメントマークと第2のアライメントマークとの位置ズレ量が最小になるように露光用マスク4aの初期位置及び姿勢を調整する。
【選択図】図6
Description
この近接露光装置では、露光対象基板を所定の露光位置にステップ移動させながら、露光する方式もの(特許文献1)と、露光対象基板を所定の露光位置に連続的に移動させながら露光する方式もの(特許文献2)があるが、いずれの方式においても、マスクホルダー下方に保持された露光対象基板に、露光用マスクの露光パターンが間欠的または連続的に転写されるため、露光用マスクと露光対象基板との位置合わせを、各ステップごと、または、連続的に行いながら、露光用マスクの露光用パターンを、露光対象基板に転写露光している。
特に、露光用マスクの露光用パターンが、図3に示すようなスリット状のものである場合、このスリットが露光対象基板の搬送方向に平行でないと、前記スリット幅より広い幅で露光対象基板が露光されてしまうため、前記連続近接露光装置の組立て時に、露光用マスクの位置及び姿勢を予め露光対象基板の搬送方向に平行で、適正位置になるようセットする必要がある。
そして、この露光用マスクの位置及び姿勢を予め露光対象基板の搬送方向に平行で、適正位置になるようセットするためには、前記連続近接露光装置の組立て時に、夫々の露光用マスクと露光対象基板との位置関係をチェックしながら、露光用マスクの初期位置をセットする必要があり、前記連続近接露光装置の組立て作業時間の短縮ができないという問題があった。
即ち、請求項1に係る露光用マスク設定方法は、露光用パターンが配設された露光用マスクと、前記露光用マスクを少なくとも1つ以上配列したマスクホルダーと、該露光用マスクの夫々の位置及び姿勢を該マスクホルダー内において制御するマスク駆動制御手段と、前記複数の露光用マスクの配列方向に対して直角方向に露光対象基板を連続搬送させる基板搬送手段を有し、前記露光用マスクの露光用パターンを前記露光対象基板の移動方向に沿って、連続的に露光させる、連続近接露光装置において、前記露光用マスクの遮光部に設けられた複数の第1のアライメントマークと、第1のアライメントマークと対応して、前記露光対象基板の非露光領域に設けられた複数の第2のアライメントマークと、前記露光対象基板より下方の位置に設けられて、前記複数の第1および第2のアライメントマークを撮像する複数の撮像手段と、を用いて、前記連続近接露光装置の露光用マスクの位置及び姿勢または位置の初期調整方法であって、前記露光対象基板の第2のアライメントマークを前記撮像手段の上方に移動させる工程と、前記第2のアライメントマークを前記撮像手段で撮像する工程と、該撮像された第2のアライメントマークの像が前記撮像手段の画像の所定の位置に位置するように、前記撮像手段の位置をセットする工程と、前記記撮像手段がセットされた位置における、前記第2のアライメントマークの前記撮像手段の画像上の位置データを記憶させる工程と、前記露光対象基板の第2のアライメントマークを一旦、前記撮像手段の撮像領域外に移動させる工程と、前記第1のアライメントマークを前記撮像手段で撮像する工程と、該第1のアライメントマークの前記撮像手段の画像上の位置データと、該第1のアライメントマークに対応する、前記記憶された第2のアライメントマークの前記撮像手段の画像上の位置データとを比較し、前記第1のアライメントマークと前記第2のアライメントマークとの位置ずれ量を算出する工程と、該算出された位置ずれ量に基づき、該位置ずれ量が最小になるように、前記露光用マスクを駆動制御する工程とを備えたことを特徴としている。
請求項1に係る発明では、前述の方法とすることによって、前記露光対象基板の第2のアライメントマークを前記撮像手段の上方に移動させてから、前記第2のアライメントマークを前記撮像手段で撮像して、該撮像された第2のアライメントマークの像が前記撮像手段の画像の所定範囲内に位置するように、前記撮像手段の位置をセットするため、第2のアライメントマークの位置と前記撮像手段の概略位置合せが容易に行える。
そして、位置調整された前記撮像手段で前記露光用マスクの第1のアライメントマークを撮像することによって、前記第2のアライメントマークの位置データを基準として、前記第1のアライメントマークの位置データのズレ量が測定され、このズレ量が最小になるように、前記マスク移動手段によって、前記夫々の露光用マスクが駆動制御されるため、前記夫々の露光用マスクの初期位置及び姿勢の設定が容易に行える。
まず、図1は、連続近接露光装置1を示す概念図であり、本連続近接露光装置1に基づき、本発明の一実施の形態に係る露光用マスク設定方法を実施する。
マスクホルダー4には、図3に一例を示すように複数のマスク4a(図2)が、露光用光源3の光軸(光路)Lに直交する同一平面内に、基板Wの搬送方向に直角な方向に直列に、配置されている。
さらに、複数のマスク4aの夫々には、図示しないマスク駆動装置が取付けられており、このマスク駆動装置によって夫々のマスク4aが、マスクホルダー4内において、図2のX、Y軸方向への移動およびマスク4aに垂直な軸(図2の紙面に垂直な方向)で回転させることができるようになっている。
さらに、スリット42の長さαは、例えば、後述の基板WのピクセルWaのX軸方向(基板Wの搬送方向)における長さβと同じに設定され、幅DはピクセルW1のY軸方向における幅dよりやや大きく設定されており、スリット42,42の相互間隔PはピクセルW1の各着色層のX軸方向のピッチ間隔pと同じに設定されている。
なお、前記マスク駆動装置によって、夫々のマスク4aのスリット42,42の中心を結ぶ線が光軸L上に位置させることができる他、後述のごとく、夫々の第1のアイマークを、夫々の第1のアイマークに対応する、後述の基板Wの第2のアイマークと、一致させることができるようになっている。
また、基板搬送手段5の下方には、マスク4aの第1のアイマークまたは基板Wの第2のアイマークを下方から撮像するためのCCDカメラ6が、基板Wの第2のアイマークの個数に等しい個数だけ設けられている。
夫々のCCDカメラ6は、対応するマスク4aの第1のアイマークまたは基板Wの第2のアイマークを含む所定の領域(二次元)を撮像するものであって、基板Wを所定に位置に搬送した際に、基板Wの第2のアイマークが全て、対応するCCDカメラ6の画像内に納まるような初期位置にセットされている。
そして、基板Wの搬送方向手前側(図4の左側)の非露光領域には、複数の第2のアイマークが設けられている。
尚、この第2のアイマークは、マスク4aが基板Wに対し所定の位置及び姿勢(マスク4aのスリット42がピクセルWaに平行となる姿勢)にセットされた場合における、マスク4aの第1のアイマークに対応する基板W上の位置に設けられる。
そして、制御装置7には、基板搬送手段5、露光用光源3、前記マスク駆動装置、マスクホルダー駆動手段のそれぞれのコントローラ(図示せず)が備えられている他、CCDカメラ6で撮像された画像信号をデジタル信号に変換するA/D変換器(図示せず)と、このデジタル変換された画像信号を処理する画像処理部(図示せず)と、この画像処理されたデータを記憶するメモリー部(図示せず)と、このメモリーに記憶されたデータを引き出して、第1のアイマークと第2のアイマークの前記座標を比較演算する演算部(図示せず)と、が備えられている。
さらに、前記外部PCに予め記憶された、露光条件に基づき、前記夫々のコントローラが制御され、基板搬送手段5、露光用光源3、前記マスクホルダー駆動手段の動作が適正に制御されるようになっている。
先ず、ステップ1(S1)では、連続近接露光装置1の基板搬送手段5上に、予め第2のアイマークが設けられた基板Wを所定の位置及び姿勢で載置し、制御装置7を動作状態にして、CCDカメラ6を作動させてから、基板搬送手段5を作動させて、基板Wの第2のアイマークの像がCCDカメラ6の画面のX軸方向の略中央となる位置まで前進させて保持する(図5の破線表示)。
その後、ステップ4(S4)で、夫々のマスク4aの第1のアイマークを、夫々のCCDカメラ6によって撮像し(図6)、夫々の第1のアイマークの中心位置の座標を算出し、その結果を、夫々の第1のアイマークの中心位置データとして前記メモリーに記憶させる。
前記判断で、所定範囲外と判断された場合(図6c)は、前記演算部から前記マスク駆動手段に信号が送られ、マスク駆動手段が制御され、前記位置ズレ量が許容範囲内(図6d)になるように、マスク4aの位置及び姿勢が調整される。
尚、前記ズレ量の許容範囲は、基板Wのピクセル(基準パターン)Waの露光許容幅によって、事前に決定される。
また、前記判断で、前記許容範囲内と判断された場合は、前記演算部から前記マスク駆動手段への信号は送られず、マスク4aの位置及び姿勢調整は行われない。
2 露光ステーション(露光部)
3 露光用光源
4 マスク
5 基板搬送手段
6 撮像手段
7 制御装置
W ワーク
L 光軸(光路)
Claims (1)
- 露光用パターンが配設された露光用マスクと、前記露光用マスクを少なくとも1つ以上配列したマスクホルダーと、前記露光用マスクの夫々の姿勢または位置を前記マスクホルダー内において制御するマスク駆動制御手段と、前記露光用マスクの配列方向に対して直角方向に露光対象基板を連続搬送させる基板搬送手段を有し、前記露光用パターンを前記露光対象基板の移動方向に沿って、連続的に露光させる、連続近接露光装置における、
前記露光用マスクの遮光部に設けられた複数の第1のアライメントマークと、第1のアライメントマークと対応して、前記露光対象基板の非露光領域に設けられた複数の第2のアライメントマークと、連続近接露光装置の、前記露光対象基板より下方の位置に設けられて、前記複数の第1および第2のアライメントマークを撮像する複数の撮像手段と、を用いて行う、前記露光用マスクの初期位置及び姿勢の調整方法であって、
前記露光対象基板の第2のアライメントマークを前記撮像手段の上方に移動させる工程と、前記第2のアライメントマークを前記撮像手段で撮像する工程と、該撮像された第2のアライメントマークの像が前記撮像手段の画像の所定の位置に位置するように、前記撮像手段の位置をセットする工程と、前記記撮像手段がセットされた位置における、前記第2のアライメントマークの前記撮像手段の画像上の位置データを記憶させる工程と、前記露光対象基板の第2のアライメントマークを一旦、前記撮像手段の撮像領域外に移動させる工程と、前記第1のアライメントマークを前記撮像手段で撮像する工程と、該第1のアライメントマークの前記撮像手段の画像上の位置データと、該第1のアライメントマークに対応する、前記記憶された第2のアライメントマークの前記撮像手段の画像上の位置データとを比較し、前記第1のアライメントマークと前記第2のアライメントマークとの位置ずれ量を算出する工程と、該算出された位置ずれ量に基づき、該位置ずれ量が最小になるように、前記露光用マスクを駆動制御する工程とを備えた前記連続近接露光装置における露光用マスク初期位置及び姿勢の調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007130438A JP5076233B2 (ja) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | 露光用マスクの初期位置及び姿勢調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007130438A JP5076233B2 (ja) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | 露光用マスクの初期位置及び姿勢調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008286925A true JP2008286925A (ja) | 2008-11-27 |
JP5076233B2 JP5076233B2 (ja) | 2012-11-21 |
Family
ID=40146724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007130438A Expired - Fee Related JP5076233B2 (ja) | 2007-05-16 | 2007-05-16 | 露光用マスクの初期位置及び姿勢調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5076233B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010054849A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
JP2011170144A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp | フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法 |
JP2012103500A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | V Technology Co Ltd | フィルム露光方法 |
JP5664656B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-02-04 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10187937A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-07-21 | Ushio Inc | 帯状ワークの投影露光装置 |
JP2000099158A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Orc Mfg Co Ltd | ワークとマスクの整合機構および整合方法 |
JP2002333721A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP2007102094A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
-
2007
- 2007-05-16 JP JP2007130438A patent/JP5076233B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10187937A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-07-21 | Ushio Inc | 帯状ワークの投影露光装置 |
JP2000099158A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Orc Mfg Co Ltd | ワークとマスクの整合機構および整合方法 |
JP2002333721A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP2007102094A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010054849A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Nsk Ltd | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 |
JP2011170144A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp | フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法 |
JP5664656B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-02-04 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
EP2624286B1 (en) * | 2010-09-30 | 2020-11-11 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device |
JP2012103500A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | V Technology Co Ltd | フィルム露光方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5076233B2 (ja) | 2012-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4777682B2 (ja) | スキャン露光装置 | |
KR101136444B1 (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
US7847938B2 (en) | Alignment system for optical lithography | |
US7812920B2 (en) | Production method of substrate for liquid crystal display using image-capturing and reference position detection at corner of pixel present in TFT substrate | |
JPH0629170A (ja) | 整合マーク | |
TWI781240B (zh) | 兩面曝光裝置及兩面曝光方法 | |
US20100118290A1 (en) | Exposure device | |
JP2007310209A (ja) | 露光装置 | |
JP7430768B2 (ja) | 両面露光装置 | |
JP5076233B2 (ja) | 露光用マスクの初期位置及び姿勢調整方法 | |
TWI680356B (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
JP4631497B2 (ja) | 近接露光装置 | |
JP3180004B2 (ja) | 露光フィルムの整合方法及び整合装置 | |
JP2000099159A (ja) | ワークとマスクの整合機構および整合方法 | |
JP4738887B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4459683B2 (ja) | マスクレス露光装置 | |
JP2001022098A (ja) | 露光装置におけるアライメント装置、被露光基板、及びアライメントマーク | |
JP5630864B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2012027271A (ja) | 露光装置、露光方法、カラーフィルタの製造方法。 | |
JP7041201B2 (ja) | 露光方法 | |
JPH10329064A (ja) | 産業ロボット装置及び産業ロボットの制御方法 | |
CN116736643A (zh) | 曝光装置以及曝光方法 | |
JP2007316537A (ja) | ステップ式近接露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100423 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120724 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120810 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150907 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5076233 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150907 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |