TWI781240B - 兩面曝光裝置及兩面曝光方法 - Google Patents

Abstract

本發明的課題，係有效地解決被要求一對遮罩的校準與對於基板的校準的兩面曝光裝置中，在基板標記偏離相機的視野的狀態下基板會停止的問題。 解決手段是透過配置於挾持藉由搬送系(1)從滾筒拉出並間歇地進送的基板(W)之位置的一對第一第二遮罩(3，4)，利用曝光單元(2)將光線照射至基板(W)來曝光。在曝光之前，相機(8)對第一遮罩(3)的校準標記(31)、第二遮罩(4)的校準標記(41)及基板(W)的校準用開口(Wm)進行攝影，並根據其攝影資料，校準手段進行校準。在搬送系(1)停止基板(W)之際，相機(8)未對校準用開口(Wm)進行攝影時，進行基板(W)的回送或進送，以成立相機(8)已對校準用開口(Wm)進行攝影之狀態。

Description

兩面曝光裝置及兩面曝光方法

本案發明係關於使用於可撓性印刷基板等的製造用之捲對捲方式的兩面曝光裝置者。

將所定圖案的光線照射至對象物以進行曝光的曝光裝置，係作為光微影的核心要素技術，使用於各種用途。於曝光裝置有各種類型者，其一公知有對帶狀之長條基板的兩面進行曝光的兩面曝光裝置。

例如，在對如可撓性印刷基板之柔軟的基板進行曝光的裝置的狀況中，採用一邊以捲對捲方式搬送基板一邊進行曝光的構造。於基板的搬送線的兩側(通常是上下)，配置有一對曝光單元。裝置係包含遮罩，曝光單元係從兩側透過各遮罩照射所定圖案之光線，以進行曝光。 從滾筒拉出之基板的搬送為間歇性，對於搬送後停止的基板中，位於一對曝光單元之間的部位的兩面，照射所定圖案的光線，兩面同時被曝光。

由於此種兩面曝光裝置也是曝光裝置的一種，校準(對位)精度會成為問題。對於如捲對捲方式的裝置之帶狀的長條基板進行曝光的裝置的狀況中，光微影結束後在長度方向的適當位置進行切斷，獲得最終的產品。因為可適當選定切斷位置，曝光裝置之長度方向的校準，在先前並未有大問題。另一方面，一對遮罩係需要以高精度保持相互的位置關係。亦即，因為一對遮罩的位置關係的精度差的話，於最終產品中基板之一方側的圖案與另一方側的圖案會偏離，容易導致產品缺陷。因此，如專利文獻1及專利文獻2，針對一對遮罩相互進行校準，讓所形成的圖案部偏離。

雖然先前的狀況是如上所述者，但最近僅將一對遮罩相互校準並不充分，對於基板的對位也逐漸被要求以充分高的精度進行。此一背景，可舉出伴隨產品的高功能化，具有如多層配線之複雜構造的狀況變多。

揭示一例的話，於可撓性印刷基板中精準製造出如多層配線之複雜構造時，大多是帶狀的基板上已經形成有圖案，於其上更加塗布光阻劑來進行曝光的狀況。既存的圖案係沿著帶狀之基板的長度方向隔開間隔形成多數個，形成各個圖案的部分最後成為各個產品。此時，於進一步的曝光中，需要對於已形成的圖案以必要的位置精度進行曝光，需要進行對於基板的校準。

又，根據產品，有於已形成有圖案的部分之上層合其他可撓性之方形的基板，對於該其他基板(以下，稱為上層基板)進行應形成圖案的曝光的狀況。此時，上層基板係由於沿著帶狀之基板的長度方向隔開間隔層合多數個，所以，需要對於各個上層基板在已被校準的狀態下進行曝光。

如此也被要求對於基板的校準時，需要在將一對遮罩相互進行校準之後，一邊保持該狀態一邊將該一對遮罩對於基板進行校準。因此，在專利文獻2中，採用透過設置於基板的校準標記，以相機對兩側之遮罩的校準標記進行攝影的構造。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本特開2000-155430號公報 [專利文獻2] 日本特開2006-278648號公報

[發明所欲解決之課題]

如上所述，於專利文獻2，提案有除了一對遮罩的對位之外，也被要求對於基板的校準時，達成其要求的構造。 然而，依據發明者的研究，僅專利文獻2所揭示的構造，以必要精度進行個校準實際上難以實現。該理由之一係相機的視野問題。

對於為了以高精度進行校準來說，對各校準標記進行攝影的相機也需要某程度的高解析度者。關於高解析度的相機，現狀來說無法期待太大的視野。 此時，依據發明者的研究，即使為了重疊對合基板的校準標記(以下，稱為基板標記)與一對遮罩的校準標記來進行攝影，對於一對遮罩欲將基板在所定位置停止，也會因為基板標記之形成位置的精度及基板之進送機構的關係導致基板偏離停止，基板標記從相機的視野偏離的狀況。尤其，捲對捲方式的曝光裝置的情況中，相較於曝光中需要的校準精度，滾筒進送的機構之停止位置的精度低，容易在基板標記偏離相機的視野之狀態下停止。

引用文獻1及引用文獻2係完全未考慮基板標記偏離相機的視野之處，該等文獻對於為了解決此問題來說無法參考。 本案發明係考慮前述問題點所發明者，目的為有效地解決被要求一對遮罩的校準與對於基板的校準的兩面曝光裝置中，在基板標記偏離相機的視野的狀態下基板會停止的問題。 [用以解決課題之手段]

為了解決前述課題，本案請求項1所記載的發明，具有以下構造： 具備： 搬送系，係拉出捲繞於滾筒的可撓性基板並間歇地進送； 一對第一第二遮罩，係配置於挾持被進送之基板的位置；及 曝光單元，係在搬送系停止基板並進行校準之後，隔著各遮罩將光線照射至基板，對基板的兩面進行曝光； 基板係具有對於應曝光的區域，以所定位置關係設置的校準用開口； 第一遮罩，係具有校準用的遮罩即第一遮罩標記； 第二遮罩，係具有校準用的遮罩即第二遮罩標記； 設置有可對第一遮罩標記、第二遮罩標記及基板的校準用開口進行攝影的相機； 設置有根據來自對第一遮罩標記、第二遮罩標記及校準用開口進行攝影的相機的攝影資料，將第一第二遮罩對於基板的應曝光區域進行對位的校準手段； 具備在搬送系停止基板之際，相機未對基板的校準用開口進行攝影時，控制搬送系進行基板的回送或進送，以成立相機已對基板的校準用開口進行攝影之狀態的控制單元。 又，為了解決前述課題，請求項2所記載的發明，係具有於前述請求項1的構造中，前述校準手段，係包含使前述第一第二遮罩往與基板平行之方向移動的遮罩移動機構的構造。 又，為了解決前述課題，請求項3所記載的發明，係具有於前述請求項2的構造中，前述遮罩移動機構，係可往與基板的表面平行的方向，且與前述搬送系所致之進送的方向垂直的方向，使前述第一第二遮罩移動的機構的構造。 又，為了解決前述課題，請求項4所記載的發明，係具有於前述請求項1至3任一項的構造中，前述控制單元，係以在前述搬送系停止基板之際，前述相機未對基板的校準用開口進行攝影時，初始進行基板的回送以變更基板的位置，即使在該位置中前述相機也未對基板的校準用開口進行攝影時則進行基板的回送之方式控制前述搬送系者的構造。 又，為了解決前述課題，請求項5所記載的發明，係具有於前述請求項1至3任一項的構造中，前述搬送系停止基板之際，相機未對基板的校準用開口進行攝影時的前述回送或進送的行程，比前述相機的視野之該行程的方向的長度還短的構造。 又，為了解決前述課題，請求項6所記載的發明是一種兩面曝光方法，係藉由搬送系拉出捲繞於滾筒的可撓性基板並間歇地進送，對於被進送後停止的基板，隔著挾持該基板配置之一對第一第二遮罩，藉由曝光單元照射光線，對該基板的兩面進行曝光的兩面曝光方法，具有以下構造： 基板係具有對於應曝光的區域，以所定位置關係設置的校準用開口； 第一遮罩，係具有校準用的遮罩即第一遮罩標記； 第二遮罩，係具有校準用的遮罩即第二遮罩標記； 在曝光之前，一邊利用相機對第一遮罩標記、第二遮罩標記及校準用開口進行攝影，一邊根據所得的攝影資料，將第一第二遮罩對於基板的應曝光區域進行對位校準的方法； 在進行校準時，在搬送系停止基板之際，相機未對基板的校準用開口進行攝影時，控制搬送系進行基板的回送或進送，以成立相機已對基板的校準用開口進行攝影之狀態。 [發明的效果]

如以下所說明般，依據本案的請求項1或6所記載的發明，在校準之際，相機未對基板的校準用開口進行攝影時進行基板的回送或進送，以成立相機已對校準用開口進行攝影的狀態，所以，即使在校準用開口之形成位置的精度低，或基板的間歇進送的精度低的狀況中，也不會變成無法校準，可防止裝置的異常停止所致之生產性降低的問題。又，因為移動基板，讓校準用開口進入相機的視野，所以，不需要大規模且昂貴的遮罩移動機構，在此觀點上極為實用。 又，依據請求項2所記載的發明，除了前述效果之外，因為不需要藉由搬送系進行校準，可避免搬送系的構造複雜化。 又，依據請求項3的發明，除了前述效果之外，也可簡便地對應基板蛇行或校準用開口偏離基板的寬度方向形成的狀況，故理想合適。 又，依據請求項4所記載的發明，除了前述效果之外，因為初始進行基板的回送以變更基板的位置，所以，可減少用以搜尋校準用開口之基板的回送量，即使回送量較大的狀況中也不需要抑制蛇行之複雜且昂貴的機構。 又，依據請求項5所記載的發明，除了前述效果之外，因為回送或進送的行程比相機的視野之該行程的方向的長度還短，所以，即使校準用開口的中心位於相機的視野之邊際線的狀況中，回送或進送之後，校準用開口也能以大於一半的量被相機攝影。因此，校準用開口是否被攝影之判斷錯誤的可能性降低。

接著，針對用以實施本案發明的形態(以下，實施形態)進行說明。 圖1係實施形態之兩面曝光裝置的前視剖面概略圖。實施形態的裝置係對如聚醯亞胺之柔軟者且帶狀的基板W進行曝光的裝置。如圖1所示，兩面曝光裝置係具備搬送系1與曝光單元2。 搬送系1係拉出捲繞於滾筒的可撓性基板W並間歇地送出的機構。「可撓性」係代表具有可捲繞於滾筒程度之柔軟性，作為一例，可舉出可撓性印刷基板用的基板。

在此實施形態中，搬送系1係將基板W水平地拉出，以水平姿勢搬送的機構。具體來說，搬送系1係具備捲繞未曝光之基板W的送出側芯輥11、從送出側芯輥11拉出基板W的送出側壓輪12、捲繞曝光後之基板W的捲取側芯輥13、拉出曝光後之基板W，並使捲取側芯輥13捲取的捲取側壓輪14。再者，將搬送系1所致之基板W的進送方向設為X方向，與其垂直的水平方向設為Y方向。Y方向係基板W的寬度方向。將與XY平面垂直的方向設為Z方向。

在送出側壓輪12與捲取側壓輪14之間，設定曝光作業位置。曝光作業位置係藉由曝光單元2對基板W的兩面同時進行曝光的位置。 如圖1所示，於曝光作業位置中挾持基板W配置有一對遮罩3、4。以下，將上側的遮罩3稱為第一遮罩，將下側的遮罩4稱為第二遮罩。各遮罩3、4為水平姿勢。

曝光單元2也對應遮罩1、2設置兩個。透過第一遮罩3曝光的曝光單元2係設置於第一遮罩3的上側，對下方照射光線進行曝光。透過第二遮罩4曝光的曝光單元2係設置於第二遮罩4的下側，對上方照射光線進行曝光。 兩個曝光單元2為上下對稱的配置，構造上相同。亦即，各曝光單元2係具備光源21，與將來自光源21的光線照射至遮罩3、4的光學系22等。如後述般，此實施形態的裝置係進行接觸式曝光的裝置，各曝光單元2係對各遮罩3、4照射平行光的單元。所以，光學系22包含準直器透鏡。

搬送系1係於曝光作業位置的上游側與下游側中包含緩衝區域101、102。搬送系1係包含配置於曝光作業位置的上游側的第一驅動輥15，與配置於曝光作業位置的下游側的第二驅動輥16。各驅動輥15、16為壓輪。 如圖1所示，送出側壓輪12與第一驅動輥15之間成為送出側緩衝區域101。又，第二驅動輥16與捲取側壓輪14之間成為捲取側緩衝區域102。

第一驅動輥15與第二驅動輥16係進行通過曝光作業位置之基板W的間歇進送的要素。亦即，第一驅動輥15與第二驅動輥16係同步動作的輥，以利用設定之所定行程送出基板W之方式構成。該行程係一次間歇進送之際基板W被進送的距離，以下稱為進送行程。

另一方面，送出側芯輥11與送出側壓輪12係因應送出側緩衝區域101之基板W的鬆弛量，同步驅動。於送出側緩衝區域101，配置有未圖示的感測器，鬆弛量變少時，送出側芯輥11與送出側壓輪12同步動作，到成為所設定之最大值的鬆弛量為止，送出基板W。 捲取側緩衝區域102也相同，配置有未圖示的感測器。遵從來自感測器的訊號，鬆弛量變大到限度為止時，捲取側壓輪14與捲取側芯輥13同步動作，以鬆弛量減少至所設定之最小值為止之方式捲取基板W。

於上述之搬送系1的間歇進送中，在進送行程的進送之後，於基板W的停止中藉由各曝光單元2對基板W的兩面曝光，但是，設置有在此之前，進行校準的校準手段。校準手段及用於校準之各部的構造包含實施形態之兩面曝光裝置的主要特徵點。以下，針對用於校準的構造進行說明。

於此實施形態中，校準係最後利用對於基板W上的應曝光的區域將一對遮罩3、4對位來進行。所以，如圖1所示，一對遮罩3、4係具備遮罩移動機構5，遮罩移動機構5包含於校準手段。遮罩移動機構5係使各遮罩3、4往XY方向移動，以變更位置的機構。遮罩移動機構5係可使第一遮罩3、第二遮罩4分別獨立移動，並且可使兩個遮罩3、4一體移動的機構。此種機構可容易製作，例如藉由將使第一遮罩3往XY方向移動的機構固定於第一基座板，將使第二遮罩4往XY方向移動的機構固定於第二基座板，進而設置使第一第二基座板往XY方向移動的機構來實現。 再者，於各遮罩3、4，設置有未圖示的Z方向移動機構。Z方向移動機構係為了進行接觸式曝光，使各遮罩3、4朝向基板W移動，用以密接於基板W的機構。

如圖1所示，裝置係具備控制包含搬送系1及前述遮罩移動機構5等之各部的主控制器6。於主控制器6，安裝有以裝置的各部以所定步驟動作之方式進行控制的主序列程式7。亦即，於主控制器6的記憶部60，記憶有主序列程式7，可藉由主控制器6的處理器(未圖示)執行。此外，主控制器6係具備錯誤顯示等的顯示器61。

對於為了校準來說，需要作為記號的標記。圖2係針對校準中所需之校準標記進行揭示的立體概略圖。如圖2所示，於各遮罩3、4形成有校準標記31、41。以下，將設置於第一遮罩3的校準標記31稱為第一遮罩標記，將設置於第二遮罩4的校準標記41稱為第二遮罩標記。如圖2所示，在此實施形態中，第一遮罩標記31為圓周狀，第二遮罩標記41為小於第一遮罩標記31之圓形的點。

如圖2所示，為了進行校準，於基板W也形成有校準標記Wm。基板W的校準標記Wm為開口。以下，稱為校準用開口。在此實施形態中，校準用開口Wm為圓形。 如上所述，校準係將一對遮罩相互對位，並且將一對遮罩對於基板對位的動作。因此，將一對遮罩標記與基板的校準標記重疊的狀態設為基準，該狀態當成理想的狀態(精度的基準)來進行校準較為簡便。所謂「重疊的狀態」係如圖2所示，典型上是各標記31、41、Wm的中心位於一直線上(與基板W垂直的一個直線上)的狀況，也有以其他狀態作為基準的狀況。

在此實施形態中，為了可高精度且容易進行校準，校準用開口Wm係大於第一遮罩標記31且大於第二遮罩標記41。亦即，在已進行校準的狀態中，從與基板W垂直的方向觀察時，成為於校準用開口Wm內可視認到兩個遮罩標記31、41的構造。 如圖1所示，裝置具備對各校準標記31、41、Wm進行攝影的相機8。相機8係連接於主控制器6，相機8的攝影資料被送至主控制器6。

如圖2所示，在此實施形態中，分別設置4個第一遮罩標記31、第二遮罩標記41。配合該等，也設置4個相機8。第一遮罩標記31、第二遮罩標記41係設置於相當於方形的角的位置，相機8也同樣地設置於相當於方形的角的位置。 各相機8係以光軸(內藏之透鏡的光軸)A成為垂直之方式配置，以對下方進行攝影的姿勢安裝。於設置各相機8的台座，設置有用以變更相機8之XY方向的位置的相機移動機構81。

第一遮罩標記31、第二遮罩標記41係設置於相當於相同尺寸形狀之方形的角的位置。該位置係已知是設計資訊，4個相機8係以於水平方向中成為同樣的位置關係之方式調整的狀態下設置。但是，4個相機8的光軸A並不需要與各遮罩標記31、41的中心成為同軸上，只要各遮罩標記31、41進入各相機8的視野範圍即可。

基板W的校準用開口Wm係指示應曝光的區域(以下，稱為目標曝光區域)的位置之記號，對於目標曝光區域以所定位置關係設置。目標曝光區域係應轉印各遮罩3、4之圖案的區域，於圖2以虛線表示。校準用開口Wm係形成於目標曝光區域R的外側，形成於相當於與第一第二遮罩標記41相同的尺寸形狀之方形的角的位置。

再者，目標曝光區域R係相當於生產1個產品時所利用之基板W的部位。所以，如圖2所示，目標曝光區域R係沿著帶狀之基板W的長度方向隔開間隔設定多數個。校準用開口Wm也對於各目標曝光區域R在設計上以相同位置關係設置。再者，各目標曝光區域R的間距係相當於前述的搬送系1所致之進送行程(於圖2以Lf表示)。

校準手段係藉由設置於如前述的裝置之各硬體，與包含安裝於主控制器6之主序列程式7的軟體所構成。以下，也包含軟體的構造，針對校準手段詳細說明。首先，概略說明校準整體。圖3係摘錄主序列程式7中關聯於校準的部分並概略揭示的流程圖。

校準係搬送系1所致之基板W的間歇進送完成之後進行的動作。主序列程式7係為了校準，大致上來說如圖3所示，具有判定所有校準用開口Wm是否被攝影的開口有無判定步驟S1、判定所有校準用開口Wm是否在沒有缺漏的狀態下被視認的開口缺漏判定步驟S2、所有校準用開口Wm在沒有缺漏的狀態下被視認時判定各遮罩標記31、41是否被基板W遮蔽的標記遮蔽判定步驟S3、在判定為各遮罩標記31、41沒被遮蔽時判定遮罩標記31、41是否缺漏地被攝影的標記缺漏判定步驟S4、在判定為所有遮罩標記31、41沒有缺漏時進行正式校準的正式校準步驟S5。

然後，於主控制器6，作為從主序列程式7叫出並執行的子程式，安裝有開口有無判定程式71、開口檢索程式72、開口缺漏判定程式73、開口缺漏消解程式74、標記遮蔽判定程式75、暫時校準程式76、標記缺漏判定程式77、標記缺漏消解程式78、正式校準程式79。

開口有無判定步驟S1係執行開口有無判定程式71，並取得其回傳值的步驟。開口檢索程式72係在判定為至少1個校準用開口Wm不在相機8的視野時所執行的程式。 開口缺漏判定步驟S2係執行開口缺漏判定程式73，並取得其回傳值的步驟。開口缺漏消解程式74係在針對至少1個校準用開口Wm判定為有缺漏時所執行的程式。

標記遮蔽判定步驟S3係執行標記遮蔽判定程式75，並取得其回傳值的步驟。暫時校準程式76係在判定為至少1個來自相機8的畫像資料中遮罩標記被基板W遮蔽時所執行的程式。 標記判定步驟S4係執行標記缺漏判定程式77，並取得其回傳值的步驟。 正式校準程式79係在所有遮罩標記31、41都未被基板W遮蔽，判定為可進行校準時所執行的程式。

接者，針對各步驟、各子程式的構造依序進行說明。首先，針對開口有無判定步驟S1、開口有無判定程式71進行說明。 如圖3所示，主序列程式7係在間歇進送完成後，執行開口有無判定程式71。開口有無判定程式71的回傳值，係在所有校準用開口Wm被攝影時回傳正常值，不是該狀況時則回傳異常值。

圖4係針對開口有無判定程式71所致之校準開口有無的判定進行揭示的俯視概略圖。於圖4中，以V1～V4揭示4個相機8的視野。圖4(A)係揭示所有校準用開口Wm進入相機8的視野V1～V4，回傳正常值的狀況。圖4(B)係揭示例如3個校準用開口Wm偏離相機8的視野V3、V4，回傳異常值的狀況。 開口有無判定程式71係以處理來自各相機8的畫像資料，藉由圖案匹配來判斷是否包含校準用開口Wm的像之方式編程。在此實施形態中，校準用開口Wm為圓形，其直徑是已知的設計資訊。所以，開口有無判定程式71係搜尋以明亮的邊際線可當作圓形者中可判斷為校準用開口Wm者。針對至少1個畫像資料，如果沒有可當作校準用開口Wm者的話則回傳異常值，不是該狀況的話則回傳正常值。

如圖3所示，主序列程式7係以在開口有無判定程式71的回傳值是異常值時，執行開口檢索程式72之方式編程。圖5係揭示開口檢索程式72之概略的流程圖。又，圖6係針對開口檢索程式72所致之基板W的進送及回送進行揭示的俯視概略圖，圖7係例示藉由開口檢索程式72找出基板W的校準用開口Wm之樣子的立體概略圖。

該裝置的主要特徵點，係在校準用開口Wm未被攝影時，不移動相機8而移動基板W，讓校準用開口Wm進入相機8的視野之處。亦即，開口檢索程式72係以將用於開口檢索的控制訊號輸出至搬送系1之方式編程。此時，開口檢索程式72係考慮搬送系1的特性，以初始輸出回傳訊號(以下，開口檢索用回送訊號)，即使如此在校準用開口Wm全部無法攝影時輸出進送訊號(以下，開口檢索用進送訊號)之方式編程。

更具體來說，於圖6中，揭示1個相機8的視野V，與應找出之1個校準用開口Wm。校準用開口Wm係對於目標曝光區域R以所定位置關係設置。 於圖6，描繪根據開口檢索用進送訊號及開口檢索用回送訊號，對於基板W相對地視野V變位的樣子。實際上雖然基板W移動，視野V不移動，但為了方便理解，描繪出視野V的相對性變位。

以虛線包圍之視野V中的數字，係揭示相對性之視野V的變位的順序。相對性之視野V的變位，係開口檢索用進送訊號或開口檢索用回送訊號所致者，但是，變位的行程相同。以下，將該行程稱為檢索行程，圖6中以Ls表示。 如圖6所示，檢索行程Ls係稍微比相機8之視野V的長度(X方向的長度)Lc短。所以，基板W移動了檢索行程Ls的長度時，移動後的視野V係與原來的視野V一部分重疊(相機8視認相同區域)。

開口檢索程式72係到找到校準用開口Wm為止，以於圖6中數字所示的優先順位，進行基板W的移動(視野V的相對性變位)。亦即，如圖6所示，開口檢索程式72係初始輸出將基板W回送檢索行程Ls之長度的檢索用回送訊號。結果，如圖6中以附○數字1的箭頭所示般視野V進行變位。基板W的移動完成為止之時滯之後，叫出並執行開口有無判定程式71，判斷校準用開口Wm是否進入視野V。進入視野V的話，在其時間點中程式結束，但是，沒進入的話，則再次輸出將基板W回送檢索行程Ls之長度的檢索用回送訊號。結果，如圖6中以附○數字2的箭頭所示般視野V進行變位。同樣地在時滯之後執行開口有無判定程式71，對校準用開口Wm進行攝影的話則結束，未進行攝影的話，則以將基板W進送檢索行程Ls之3倍的長度之方式輸出檢索用進送訊號。

藉此，如圖6中以附○數字3的箭頭所示般視野V進行變位。開口檢索程式72係時滯之後執行開口有無判定程式71，如果校準用開口Wm被攝影的話，則在此結束。未被攝影的話，以進而將基板W送出檢索行程Ls的長度之方式輸出檢索用進送訊號。藉此，如圖6中以附○數字4的箭頭所示般視野V進行變位。開口檢索程式72係時滯之後執行開口有無判定程式71，如果校準用開口Wm被攝影的話，則結束，在此也未被攝影的話，則將異常值設為回傳值再結束。亦即，校準用開口Wm被攝影時的回傳值係正常值，到最後為止未被攝影時的回傳值係異常值。再者，於圖7作為一例，揭示利用對搬送系1發送控制訊號，如(1)→(2)→(3)→(4)→(5)所示般，視野V相對性變位，並藉由最後之檢索用回送訊號的輸出，校準用開口Wm被相機8攝影的樣子。

如圖3所示，主序列程式7係取得來自開口檢索程式72的回傳值，回傳值為異常值時，則成為未找到校準用開口Wm，所以，以進行錯誤處理，中止程式之方式編程。錯誤處理係包含將校準用開口Wm無法攝影之要旨，顯示於主控制器6的顯示器61的動作。

如圖3所示，在開口檢索程式72的回傳值為正常值時或者初始之開口有無判定程式71的執行中回傳正常值時，主序列程式7則執行開口缺漏判定程式73。圖8係針對開口缺漏判定程式73所致之校準用開口Wm的缺漏判定及開口缺漏消解程式所致之缺漏的消解進行揭示的俯視概略圖。

搬送系1所致之基板W的間歇進送完成之際或開口檢索程式72正常結束之際，校準用開口Wm係有完全進入相機8的視野的狀況，但也有一部分未進入視野，有缺漏的狀況。於圖8(1)揭示缺漏的狀態之一例。開口缺漏判定程式73係處理來自各相機8的畫像資料，判斷於所有畫像資料中校準用開口Wm是否在沒有缺漏的狀態下被攝影。以在沒有缺漏的狀態下被攝影的話，則將正常值回傳至主序列程式7，關於1個以上之來自相機8的畫像資料，判斷為有缺漏的話則回傳異常值之方式，將開口缺漏判定程式73編程。

如圖3所示，主序列程式7係在從開口缺漏判定程式73回傳異常值時(判定為有缺漏時)，叫出並執行開口缺漏消解程式74。開口缺漏消解程式74係處理來自各相機8的畫像資料，計算出消解缺漏所需之基板W或相機8的移動量(朝向與距離)。然後，將計算出的移動量送至搬送系1及或相機移動機構81，以移動基板W及或相機8之方式將開口缺漏消解程式74編程。此時，關於X方向的移動，移動基板W亦可，移動相機8亦可，但在此實施形態中為移動基板W。又，關於Y方向，移動相機8。亦即，開口缺漏消解程式74係以將用於消解缺漏之X方向的移動量(朝向與距離)送至搬送系1，將Y方向的移動距離送至相機移動機構81之方式編程。

不管如何，執行開口缺漏消解程式74時，如圖8(2)所示，成為4個校準用開口Wm在消解缺漏的狀態下被攝影。再者，通常，缺漏的量係於各畫像資料中相異，所以，針對來自4個相機8的畫像資料，特定校準用開口Wm的確漏最大的畫像資料，將於其畫像資料中用以消解缺漏的移動量，送至搬送系1及或相機移動機構81。

如圖3所示，主序列程式7係以在執行開口缺漏消解程式74之後，執行標記遮蔽判定程式75之方式編程。圖9係針對標記遮蔽判定程式75所致之標記遮蔽判定及暫時校準程式76進行揭示的俯視概略圖。 在開口缺漏判定程式73回傳正常值時或開口缺漏消解程式74結束的狀態下，雖然於各相機8中校準用開口Wm在沒有缺漏的狀態下被攝影，但是，有一對遮罩標記31、41並未位於各校準用開口Wm內，被基板W遮蔽的狀況。於圖9(1)，揭示發生此種一對遮罩標記31、41的遮蔽之狀態的一例。

標記遮蔽判定程式75係處理來自各相機8的畫像資料，判定一對遮罩標記31、41的像是否存在於校準用開口Wm內的程式。在此實施形態中，第一遮罩標記31係小於校準用開口Wm的圓周，第二遮罩標記41係小於第二遮罩標記41的圓形的點，藉由圖案匹配來判定該等是否存在於各校準用開口Wm內。以存在的話，將正常值回傳至主序列程式7，不存在的話，回傳異常值之方式，將標記遮蔽判定程式75編程。

如圖3所示，主序列程式7係在從標記遮蔽判定程式75回傳異常值時，執行暫時校準程式76。暫時校準程式76係遵從在上次的曝光(一個前的目標曝光區域R的曝光)時的遮罩標記31、41的位置，進行暫時之校準的程式。

如後述般，主序列程式7係具有在正式校準完成時，將一對遮罩標記31、41的中心位置(XY座標的位置)記憶於記憶部60的步驟。暫時校準程式76係從記憶部60讀取出該資訊並加以利用的程式。具體來說，暫時校準程式76係從記憶部60讀取出該中心位置，計算出與校準用開口Wm的中心的偏離。然後，修正該偏離計算出用以使一對遮罩標記31、41的中心與校準用開口Wm的中心一致之一對遮罩3、4的移動量(一體移動的量)。在此，移動量也為移動的方向與距離。然後，暫時校準程式76係將計算出的移動量送至遮罩移動機構5，一體地移動一對遮罩3、4。亦即，暫時校準程式76係推定一對遮罩3、4持續位於上次的曝光時的校準最後位於的位置，以該位置為基準，使一對遮罩3、4進行用以消解標記遮蔽的移動者。如此，如圖9(2)所示，成為消解標記遮蔽的狀態。再者，如後述般，一對遮罩3、4係藉由未圖示的Z方向移動機構往Z方向移動而密接於基板W，曝光結束後往Z方向反方向移動而離開基板W。在該Z方向移動時，各遮罩3、4會稍微往XY方向變位，但作為在XY方向幾乎保持相同位置即可。

如圖3所示，主序列程式7係在執行暫時校準程式76時，再次執行標記遮蔽判定程式75，判定標記是否被遮蔽。然後，確認了正常值回傳時，主序列程式7係進行標記缺漏判定程式77步驟。圖10係針對標記缺漏判定程式77及標記缺漏消解程式78進行揭示的俯視概略圖。

標記缺漏判定程式77係判定各遮罩標記31、41是否完全進入校準用開口Wm的步驟。同樣地，藉由圖案匹配，以各遮罩標記31、41的像是否取得於校準用開口Wm內進行判定的步驟。如圖10(1)所示，於至少1個來自相機8的畫像資料中判定為有一對遮罩標記31、41的缺漏時，標記缺漏判定程式77係回傳異常值，不是如此的話則回傳正常值。

標記缺漏消解程式78係針對於標記缺漏判定程式77中被當成有標記缺漏的攝影資料，計算出消解遮罩標記的缺漏所需之移動量(朝向與距離)。在此實施形態中，因為第一遮罩標記31較大，標記缺漏消解程式78係特定判斷是第一遮罩標記31的一部分的圓弧，求出該圓弧的中心。然後，求出所求出的中心從校準用開口Wm的輪廓離開半徑(第一遮罩標記31的圓弧的半徑)以上的距離所需之最短的移動量(距離與方向)。然後，以將利用該移動量移動一對遮罩3、4的控制訊號送至遮罩移動機構5之方式，將標記缺漏消解程式78編程。關於兩個以上來自相機8的畫像資料有標記缺漏時，標記缺漏消解程式78係針對各畫像資料分別計算出用以消解缺漏的移動量，並求出該等的平均。移動量係距離與朝向，所以，求出平均的距離與平均的朝向。然後，將所計算出之平均的移動量送至遮罩移動機構5。

主序列程式7係在執行標記缺漏消解程式78時，再次執行標記缺漏判定程式77，判定是否沒有遮罩標記的缺漏，確認了正常值已回傳時，則執行正式校準程式79。圖11係針對正式校準程式79所致之正式校準進行揭示的俯視概略圖。

正式校準程式79係於可進行正式校準的狀態中處理來自各相機8的攝影資料。正式校準程式79係首先於將光軸A上的點設為原點的座標系中，求出第一遮罩標記31的中心與第二遮罩標記41的中心。然後，判斷第一遮罩標記31的中心與第二遮罩標記41的中心是否以必要的精度一致，如果不一致，則以移動任一方或雙方的遮罩並使其一致之方式對遮罩移動機構5發送訊號。通常在上次的曝光時使兩者一致，所以會一致。 確認第一遮罩標記31的中心與第二遮罩標記41的中心在必要之精度的範圍中一致之後，正式校準程式79係求出該整中心的中間點。然後，正式校準程式79係求出基板W的校準用開口Wm的中心，並求出與一對遮罩標記31、41之中心的中間點的偏離，再計算出用以消解其偏離之各遮罩3、4的移動的朝向與距離。

正式校準程式79係對於來自各相機8的攝影資料進行如上所述的資料處理，計算出用以消解偏離之各遮罩3、4的移動的朝向與距離。此外，針對從各攝影資料所得之移動的朝向與距離求出平均，設為最後正式校準用之各遮罩3、4的移動指令，並將其回傳至主序列程式7。移動的朝向與距離係掌握為個別的向量(圖11中以箭頭表示)，所以，關於各向量的朝向係進行合成，長度係取得平均。 主序列程式7係將回傳值即移動指令送至遮罩移動機構5，一體地移動一對遮罩3、4，各中心以必要的精度並排於一直線上。在此，結束正式校準。再者，雖圖3中未圖示，但是，主序列程式7係為了下次之目標曝光區域R的曝光時的校準，將正式校準完成時間點之各遮罩標記31、41的中心的座標記憶於記憶部60。

利用如此最後執行正式校準程式79，一對遮罩3、4相互被校準，並且一對遮罩3、4被校準於基板W。主序列程式7係如上所述般進行各判定步驟，以因應需要一邊執行各子程式一邊進行校準之方式編程。

接著，針對前述構造之實施形態的兩面曝光裝置的整體動作，概略進行說明。以下的說明係兩面曝光方法的發明之實施形態的說明。再者，兩面曝光方法的發明可作為兩面被曝光之基板的物的製造方法的發明。 一對遮罩3、4係於Z方向中，位於離開基板W的待機位置。該位置係進行各遮罩3、4的校準之XY平面存在的位置。 從執行主序列程式7的主控制器6，以將基板W進送進送行程Lf的分量之方式對搬送系1發送控制訊號。藉此，第一驅動輥15及第二驅動輥16同步動作，基板W往X方向前側(捲取側)進送進送行程Lf。

進送完成的訊號從搬送系1回傳至主控制器6時，主序列程式7係進行上述之一連串的校準動作。亦即，判定各相機8的視野內之校準用開口Wm的有無，沒有的話則執行開口檢索程式72，在該狀態下判定開口缺漏。然後，任一校準用開口Wm有缺漏的話則執行開口缺漏消解程式74，在該狀態下判定標記遮蔽的有無。然後，任一攝影資料中有標記遮蔽時，則執行暫時校準程式76。進而，遮罩標記31、41有缺漏地被攝影時，則執行標記缺漏消解程式78。在該狀態下，主序列程式7執行正式校準程式79。藉此，完成校準。

之後，主序列程式7係將控制訊號送至未圖示的Z方向移動機構，將一對遮罩3、4往Z方向移動，使各遮罩3、4密接於基板W。在此狀態下，主序列程式7係取得來自各相機8的攝影資料，判斷校準的狀態是否被維持(各標記31、41、Wm的中心是否以必要的精度一致)。有維持的話，主序列程式7係將控制訊號送至各曝光單元2，進行曝光。

為了所需的曝光量之所定時間的曝光後，各曝光單元2停止光照射。之後，主序列程式7係將控制訊號送至未圖示的Z方向移動機構，使基板W離開一對遮罩3、4，回到當初的待機位置。 確認各遮罩3、4回到待機位置的話，主序列程式7係將控制訊號送至搬送系1，將基板W往X方向前側進送進送行程Lf之分量。之後，重複與前述相同動作，在進送行程Lf之基板W的間歇進送的間隙進行校準之後進行曝光的動作。

重複動作之際，送出側緩衝區域101之基板W的鬆弛量變少的話，送出側芯輥11及送出側壓輪12同步動作，將基板W送出至送出側緩衝區域101。又，捲取側緩衝區域102之基板W的鬆弛量變多的話，捲取側芯輥13及捲取側壓輪14同步動作，將基板W捲取於捲取側芯輥13。

依據此種構造及動作之實施形態的兩面曝光裝置，在間歇進送完成後的校準之際，判定基板W的校準用開口Wm是否進入相機8的視野內，如果未進入的話，則移動基板W，讓校準用開口Wm進入相機8的視野，所以，可防止校準用開口Wm無法攝影所致之校準的錯誤(無法校準)。因此，即使校準用開口Wm之形成位置的精度低，或基板W之間歇進送的精度低的狀況中，校準也不會無法進行，防止裝置的異常停止所致之生產性降低的問題。

作為校準用開口Wm未進入相機8的視野的對應，考量不移動基板W而移動相機8，讓校準用開口Wm進入視野的對應。然而，該構造的實用性不高。因為，校準係最後使一對遮罩標記31、41與基板W的校準用開口Wm以必要的精度一致的動作，需要利用相機8確認其狀態。所以，在移動相機8以變更視野的位置的狀況中，也需要移動一對遮罩3、4。此時，基板W的校準用開口Wm偏離相機8的視野的問題，係起因於校準開口之形成位置的偏離及基板W之間歇進送的精度，故用以使校準用開口Wm進入視野的移動距離比較長。另一方面，移動一對遮罩3、4的遮罩移動機構5係用以以必要的精度進行校準的機構，採用誤差小之高精度的細微移動機構。此種機構係最長的移動距離短，所以，使用遮罩移動機構5來使校準用開口Wm進入視野非常困難。即使可進行，也需要可進行長距離移動的細微移動機構，需要非常大規模且昂貴的機構。依據實施形態的構造，因為移動基板W，讓校準用開口Wm進入相機8的視野，所以，不需要大規模且昂貴的遮罩移動機構5，在此觀點上極為實用。

在找到基板W的校準用開口Wm時初始進行基板W的回送(與間歇進送相反方向的移動)，如此也沒找到的話則進行進送(與間歇進送相同方向的移動)之處，因為與進行間歇進送的搬送系1之特性的關係為理想的構造。 在使用拉出捲繞於滾筒的基板W進行間歇進送之搬送系1的兩面曝光裝置中，重點是進行極力減少基板W的的蛇行的進送。因為發生蛇行的話，會發生基板W之寬度方向(Y方向)的位置偏離，其變大的話則容易變成無法校準。 此時，搬送系1雖然具備往前側進送時不讓蛇行發生之高精度的進送機構及感測器，但是，關於往後側進送(回送)，不讓蛇行發生的機構大多被簡略化。此因為回送基板W的狀況較少。亦即，因為構成往後側進送時也可同程度地防止蛇行的機構的話，機構會變成不必要的大規模且昂貴者。

於前述之開口檢索的構造中，由於基板W的移動是用以讓校準用開口Wm進入相機8的視野者，至少需要往前後移動相機8之視野的長度(進送方向的長度)以上。例如，設為以相機8的視野1個分的長度往前後移動。此時，初始進行往前側之視野1個分的長度的移動(進送)的話，在此找不到校準用開口Wm時，則需要往後側進行視野兩個分的長度的移動(回送)。相對於此，初始進行往後側的移動(回送)的話，在此找不到校準用開口Wm時，則變成往前側進行視野兩個分之長度的移動(進送)。 亦即，開口檢索時初始進行基板W的回送的構造，係有極力減少基板W之回送的距離的意義，且開口檢索時極力抑制基板W之蛇行的發生的意義。換句話說，初始進行基板W的回送的構造，係有長距離進行回送時也可抑制蛇行，不需要複雜且昂貴的機構的意義。

又，如上所述，於開口檢索的構造中，檢索行程係稍微比相機8的視野的長度還短，設為檢索行程的進送的前後重疊視野的狀態。該構造有助於提升判定為找到校準用開口Wm時的精度。針對此點，參照圖12來說明。圖12係揭示檢索行程Ls與校準用開口Wm之長度的關係的概略圖。

假設，間歇進送完成之際，如圖12(A)所示般，設為校準用開口Wm的中心位於相機8的視野的邊際線上。此時，檢索行程Ls與相機8的視野的長度Lc相同的狀況中，進行檢索行程Ls的移動，如圖12(A)以虛線所示般，視野相對性地變位。此時，由圖12(A)可知，檢索行程Ls的移動後，被相機8捕捉之校準用開口Wm的量(面積)也不會改變。亦即，變成根據校準用開口Wm的一半的像來判斷校準用開口Wm之視野V內的有無，容易發生將不是校準用開口Wm者，判定為校準用開口Wm的失誤。

另一方面，如實施形態般，將檢索行程Ls設為比視野的長度Lc還短的話，假設即使校準用開口Wm的中心位於視野V的邊際線的狀況中，在檢索行程Ls的進送後，也如圖12(B)以虛線所示般，根據大於一半的量，藉由相機8視認校準用開口Wm。因此，失誤的可能性會降低。檢索行程Ls與視野V的長度Lc的差(圖12(B)以d表示)係校準用開口Wm之移動方向的長度(在此例中為直徑)的5～20%程度即可。

再者，將檢索行程Ls與校準用開口Wm之長度Lc的差d設為校準用開口Wm之長度Lc的1/2以上時，即使在校準用開口Wm的中心位於視野V的邊際線上的狀況中，檢索行程Ls的移動後校準用開口Wm也全部會進入視野V。該構造的狀況中，也可不需要前述之開口缺漏的判定及缺漏消解程式。但是，在基板W的寬度方向中校準用開口Wm缺漏的狀況中，需要相機8的移動所致之缺漏的消解。

又，於前述實施形態的構造中，有基板W的校準用開口Wm的缺漏時消解缺漏後進行校準之處，係在將完全的校準用開口Wm擷取至畫像資料的狀態下進行校準，所以，有進一步提升校準精度的效果。 在相反側的遮罩標記被基板W遮蔽時首先進行暫時校準的構造，係省去搜尋遮罩標記的勞力，有縮短校準所需之整體的時間的效果。 進而，進行標記缺漏判定，以成立缺漏時消解缺漏的狀態來進行正式校準的構造，係擷取一對遮罩標記31、41的完全像之後進行校準，所以，在該觀點中有更提升校準精度的效果。

於上述的實施形態中，搬送系1係以捲對捲方式來搬送基板W者，但是，也可採用僅送出側是滾筒方式的構造。亦即，在所定位置切斷曝光後的基板W進行之後的處理的製程中也可採用本案發明的兩面曝光裝置。 再者，作為搬送系1，有基板W的進送方向為上下方向的狀況。此時，對垂直姿勢的基板W的兩面透過遮罩進行曝光，於左右配置曝光單元2。

又，於前述實施形態中，校準用開口Wm為圓形，但其僅為一例，作為方形或三角形等其他形狀亦可。又，如基板W的側緣缺角的形狀般，不是成為完全周狀之緣部者亦可。 進而「開口」係通過光線的意義上稱為開口。此係想定基板W為遮光性，塗布光阻劑的狀況為其典型例。由於是通過光線的意義作為開口，不是貫通孔，以透光性的構件封塞的狀況亦可。亦即，代表遮斷光線之層在此開放程度的意義。 關於第一遮罩標記31、第二遮罩標記41，有採用圓周狀及圓形以外的形狀的狀況。例如，一方是圓形，另一方是十字狀亦可。再者，也有在第一遮罩標記31進入第二遮罩標記41的內側的狀態下進行校準的狀況。

進而，對於相機8比基板W更接近之側的遮罩標記，不會被基板W遮蔽，所以，大於校準用開口Wm亦可。但是，基板W與遮罩的對比較小時，有難以進行畫像資料的處理的問題。在一對遮罩標記位於校準用開口內的狀態下進行校準的構造中，基板W與遮罩標記的對比不會成為問題，在此觀點上很理想。

再者，於前述實施型態中，遮罩移動機構5不一定必要。只要是基板W可不蛇行地送出，也沒校準用開口Wm的Y方向之位置的偏離的話，校準時不需要往Y方向移動，僅利用X方向的移動即可。此時，也可使基板W往X方向移動來進行校準，此時不需要遮罩移動機構5，校準手段在機構上僅藉由搬送系1構成。

但是，有遮罩移動機構的話，也可對應基板W的蛇行及校準用開口Wm往Y方向偏離形成的狀況，在此觀點上很理想。又，遮罩移動機構只要是可往X方向移動一對遮罩3、4者，X方向的校準時可不用搬送系，使用遮罩移動機構即可。搬送系1係用於基板W的間歇進送的機構，也想進行X方向的校準的話在構造上易變得複雜。利用遮罩移動機構進行X方向的校準的話，可避免搬送系1的構造複雜化。

前述實施形態的裝置係以接觸方式進行曝光者，但是，前述校準的構造即使是接近式方式或投影方式的曝光，也可發揮相同效果，所以，也可採用該等方式。 再者，接近方式及投影曝光方式的狀況中，不需要使一對遮罩密接於基板，所以，也有不設置使遮罩往Z方向移動的機構的狀況。 又，主控制器6係控制單元的一例，也可作為其他構造。例如，也有除了主控制器6之外，設置控制單元，或主控制器6內的一部分相當於控制單元的狀況。

1‧‧‧搬送系 2‧‧‧曝光單元 3‧‧‧第一遮罩 4‧‧‧第二遮罩 5‧‧‧遮罩移動機構 6‧‧‧主控制器 7‧‧‧主序列程式 8‧‧‧相機 11‧‧‧送出側芯輥 12‧‧‧送出側壓輪 13‧‧‧捲取側芯輥 14‧‧‧捲取側壓輪 15‧‧‧第一驅動輥 16‧‧‧第二驅動輥 21‧‧‧光源 22‧‧‧光學系 31‧‧‧第一遮罩標記 41‧‧‧第二遮罩標記 60‧‧‧記憶部 61‧‧‧顯示器 71‧‧‧開口有無判定程式 72‧‧‧開口檢索程式 73‧‧‧開口缺漏判定程式 74‧‧‧開口缺漏消解程式 75‧‧‧標記遮蔽判定程式 76‧‧‧暫時校準程式 77‧‧‧標記缺漏判定程式 78‧‧‧標記缺漏消解程式 79‧‧‧正式校準程式 81‧‧‧相機移動機構 101‧‧‧送出側緩衝區域 102‧‧‧捲取側緩衝區域 Lc‧‧‧視野的長度 Lf‧‧‧進送行程 Ls‧‧‧檢索行程 R‧‧‧目標曝光區域 W‧‧‧基板 Wm‧‧‧校準用開口 V‧‧‧視野 V1‧‧‧視野 V2‧‧‧視野 V3‧‧‧視野 V4‧‧‧視野

[圖1] 實施形態之兩面曝光裝置的前視剖面概略圖。 [圖2] 針對校準中所需之校準標記進行揭示的立體概略圖。 [圖3] 摘錄主序列程式中關聯於校準的部分並概略揭示的流程圖。 [圖4] 針對開口有無判定程式所致之校準開口有無的判定進行揭示的俯視概略圖。 [圖5] 揭示開口檢索程式之概略的流程圖。 [圖6] 針對開口檢索程式所致之基板的進送及回送進行揭示的俯視概略圖。 [圖7] 例示性揭示藉由開口檢索程式找出基板的校準用開口之樣子的立體概略圖。 [圖8] 針對開口缺漏判定程式所致之校準用開口的缺漏判定及開口缺漏消解程式所致之缺漏的消解進行揭示的俯視概略圖。 [圖9] 針對標記遮蔽判定程式所致之標記遮蔽判定及暫時校準程式進行揭示的俯視概略圖。 [圖10] 針對標記缺漏判定程式及標記缺漏消解程式進行揭示的俯視概略圖。 [圖11] 針對正式校準程式所致之正式校準進行揭示的俯視概略圖。 [圖12] 揭示檢索行程與校準用開口之長度的關係的概略圖。

8‧‧‧相機

A‧‧‧光軸

R‧‧‧目標曝光區域

W‧‧‧基板

Wm‧‧‧校準用開口

V‧‧‧視野

Claims (9)

1. 一種兩面曝光裝置，其特徵為具備：搬送系統，係拉出捲繞於滾筒的可撓性基板並以所定進送行程間歇地進送；一對第一遮罩及第二遮罩，係配置於挾持被間歇地進送之前述基板的位置；及曝光單元，係在前述搬送系統停止前述基板並進行校準之後，透過前述各遮罩將光線照射至前述基板，對前述基板的兩面進行曝光；前述基板係具有對於應曝光的區域，以所定位置關係設置的校準用開口；前述第一遮罩，係具有校準用的遮罩即第一遮罩標記；前述第二遮罩，係具有校準用的遮罩即第二遮罩標記；設置有可對前述第一遮罩標記、前述第二遮罩標記及前述基板的前述校準用開口進行攝影的相機；設置有根據來自對前述第一遮罩標記、前述第二遮罩標記及前述校準用開口進行攝影的前述相機的攝影資料，將前述第一遮罩及第二遮罩對於前述基板的應曝光區域進行對位的校準手段；具備在以所定進送行程，前述搬送系統進送前述基板後停止前述基板之際，動作狀態的前述相機未對前述基板 的前述校準用開口進行攝影時，控制前述搬送系統，進行1次或將所定次數設為限度而進行複數次前述基板的回送或進送，以成立相機已對前述基板的前述校準用開口進行攝影之狀態為止的控制單元；所定檢索行程，係預先設定之前述基板的回送或進送的距離，且並不是根據來自前述搬送系統停止前述基板之際對前述基板進行攝影之前述相機的攝影資料所計算者；用以成為前述相機對前述基板的校準用開口進行攝影的狀態之前述基板的進送的朝向，係與在將前述基板配置於被前述第一遮罩及第二遮罩挾持的位置之際的間歇進送相同的朝向；用以成為前述相機對前述基板的前述校準用開口進行攝影的狀態之前述基板的回送的朝向，係與在將前述基板配置於被前述第一遮罩及第二遮罩挾持的位置之際的間歇進送相反的朝向；前述控制單元，係不用使前述基板往與前述搬送系統所致之間歇進送的方向垂直的方向移動，即可成為相機對前述基板的校準用開口進行攝影之狀態的單元。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之兩面曝光裝置，其中，前述校準手段，係包含使前述第一遮罩及第二遮罩往與前述基板平行之方向移動的遮罩移動機構。
3. 如申請專利範圍第2項所記載之兩面曝光裝置，其中，前述遮罩移動機構，係可往與前述基板的表面平行的方向，且與前述搬送系統所致之進送的方向垂直的方向，使前述第一遮罩及第二遮罩移動的機構。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所記載之兩面曝光裝置，其中，前述控制單元，係在以所定進送行程，前述搬送系統進送前述基板後停止前述基板之際，動作狀態的前述相機未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時，以初始進行前述基板的回送以變更前述基板的位置，即使在該位置中動作狀態的前述相機也未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時則進行前述基板的進送之方式控制前述搬送系統者，或以初始進行前述基板的進送以變更前述基板的位置，即使在該位置中動作狀態的前述相機也未對前述基板的校準用開口進行攝影時則進行前述基板的回送之方式控制前述搬送系統者。
5. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所記載之兩面曝光裝置，其中，前述控制單元，係在以所定進送行程，前述搬送系統進送前述基板後停止前述基板之際，動作狀態的前述相機未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時，初始進行前 述基板的回送以變更前述基板的位置，即使在該位置中動作狀態的前述相機也未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時則進行前述基板的回送之方式控制前述搬送系統者。
6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所記載之兩面曝光裝置，其中，前述檢索行程，係搬送系統比前述相機的視野之該檢索行程的方向的長度還短。
7. 一種兩面曝光方法，係藉由搬送系統拉出捲繞於滾筒的可撓性基板並以所定進送行程間歇地進送，對於被進送後停止的前述基板，透過挾持該前述基板配置之一對第一遮罩及第二遮罩，藉由曝光單元照射光線，對該基板的兩面進行曝光的兩面曝光方法，其特徵為：前述基板係具有對於應曝光的區域，以所定位置關係設置的校準用開口；前述第一遮罩，係具有校準用的遮罩即第一遮罩標記；前述第二遮罩，係具有校準用的遮罩即第二遮罩標記；在曝光之前，一邊利用相機對前述第一遮罩標記、前述第二遮罩標記及前述校準用開口進行攝影，一邊根據所得的攝影資料，將前述第一遮罩及第二遮罩對於前述基板 的應曝光區域進行對位校準的方法；且作為於校準中，在以所定進送行程，前述搬送系統進送前述基板後停止前述基板之際，動作狀態的前述相機未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時，控制前述搬送系統，進行1次或將所定次數設為限度而進行複數次前述基板的回送或進送，以成立相機已對前述基板的前述校準用開口進行攝影之狀態為止的方法；所定檢索行程，係預先設定之前述基板的回送或進送的距離，且並不是根據來自前述搬送系統停止前述基板之際對前述基板進行攝影之前述相機的攝影資料所計算者；並且作為用以成為前述相機對前述基板的前述校準用開口進行攝影的狀態之前述基板的進送的朝向，係與在將前述基板配置於被前述第一遮罩及第二遮罩挾持的位置之際的間歇進送相同的朝向，用以成為前述相機對前述基板的前述校準用開口進行攝影的狀態之前述基板的回送的朝向，係與在將前述基板配置於被前述第一遮罩及第二遮罩挾持的位置之際的間歇進送相反的朝向，不用使前述基板往與前述搬送系統所致之間歇進送的方向垂直的方向移動，即可成為前述相機對前述基板的前述校準用開口進行攝影之狀態的方法。
8. 如申請專利範圍第7項所記載之兩面曝光方法，其中，於前述校準中，在以所定進送行程，前述搬送系統進 送前述基板後停止前述基板之際，動作狀態的前述相機未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時，以初始進行前述基板的回送以變更前述基板的位置，即使在該位置中動作狀態的前述相機也未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時則進行前述基板的進送之方式控制前述搬送系統者，或者以初始進行前述基板的進送以變更前述基板的位置，即使在該位置中動作狀態的前述相機也未對前述基板的校準用開口進行攝影時則進行前述基板的回送之方式控制前述搬送系統者。
9. 如申請專利範圍第7項所記載之兩面曝光方法，其中，於前述校準中，在以所定進送行程，前述搬送系統進送前述基板後停止前述基板之際，動作狀態的前述相機未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時，初始進行前述基板的回送以變更前述基板的位置，即使在該位置中前述相機也未對前述基板的前述校準用開口進行攝影時則進行前述基板的進送而成為前述相機對前述基板的前述校準用開口進行攝影之狀態。

Images