CN101498902A - 基板输送装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种基板输送装置，其设计为提供提高在基板输送期间工作液(显影液)的液体回收效率的倾斜输送功能。所述基板输送装置包括用于输送基板的第一输送单元、与所述第一输送单元的一端间隔的第二输送单元、设置在所述第一输送单元及所述第二输送单元之间并且提供能够在基板输送期间回收附着在基板上的显影液的倾斜输送的第三输送单元，及用于控制所述第三输送单元的倾斜输送角度及连接状态的输送控制器。

Description

基板输送装置
相关申请的交叉引用
[0001]本申请要求于2008年1月28日提交到韩国知识产权局的申请号为10-2008-0008523的韩国专利申请的优先权及利益，其全部内容通过引用合并于此。
技术领域
[0002]本发明涉及一种在制造平板显示设备的基板的湿法显影工艺中使用的基板输送装置。本发明尤其涉及一种设计为提供提高基片输送期间工作液(显影液)的液体回收效率的倾斜输送功能的基板输送装置。
背景技术
[0003]光刻工艺通常用作在平板显示装置的基板上形成电路图案。光刻工艺包括利用显影液使基板上已曝光的光刻胶层显影的湿法显影工艺。
[0004]湿法显影工艺包括将显影液涂覆在已曝光基板的光刻胶层上的工艺、清洁基板的工艺及干燥基板的工艺。在用输送设备在箱体中将基板箱体从第一侧输送到第二侧的期间，顺序执行上述工艺。
[0005]输送设备一般设置为辊式传送机类型的形式，其通过输送辊的旋转来输送基板，并且具有用于液体回收的倾斜输送区域以在基板输送期间提高显影液的回收及再循环效率。
[0006]公开的韩国专利10-2007-0093343(于2007年提交)公开了具有用于回收液体的倾斜输送区域的基板加工设备。
[0007]该公开的专利中的基板加工设备在整个基板输送区域的显影及清洁区域之间具有倾斜输送区域。所述倾斜输送区域设计为，当基板从显影区域传出时，所述基板沿着向上倾斜的输送区域被输送，并且，当基板传入清洁区域时，所述基板沿着向下倾斜的输送区域被输送。
[0008]当用于回收液体的倾斜输送区域被限定在整个输送区域中时，随着基板沿着向上倾斜的输送区域被输送，基板上剩余的显影液会流下来，从而被回收至显影箱体。
[0009]因此，倾斜输送区域增加了显影工艺期间显影液的回收率，并且防止了过多的显影液流入清洁箱体而污染清洁液。
[0010]然而，由于公开的专利10-2007-0093343公开的基板加工设备构造为位于倾斜输送区域的输送辊与箱体一体地结合，在显影工艺中可能会出现下述问题。
[0011]例如，由于不能响应基板的尺寸及工作环境(显影速度)来适当地调整倾斜输送区域的倾斜角度和连接状态，工作兼容性下降。
[0012]尤其是，当倾斜输送区域的输送倾斜角度没有响应基板的尺寸及工作环境(显影速度)而被适当地调整时，在基板倾斜输送期间很难预期充分的液体回收效果。
[0013]因此，显影液的回收率会变差，因此显影液的消耗会增加。另外，由于过量的显影液混入清洁液，清洁液的再循环率明显下降。
[0014]当基板传入或传出倾斜输送区域时，基板的前端易被置于辊轮之间或与辊轮接触，因此可能损坏基板或改变基板的位置。这会导致基板以基板位置被改变或基板被损坏的非正常状态被输送。
[0015]如上所述当基板被非正常地输送时，在清洁工艺或干燥工艺期间清洁液或干燥空气非均匀地供给至基板的加工表面，因此清洁及干燥质量可能变差。
[0016]背景技术部分所公开的上述信息仅用于增加对本发明背景的理解，因此可能包括不构成在国内本领域普通技术人员公知的现有技术的信息。
发明内容
[0017]本发明的目的在于提供一种基板输送装置，其被设计为在显影工艺中稳定地输送基板，并且具有能够提高在基板输送期间工作液(显影液)的液体回收效率的倾斜输送功能。
[0018]本发明的示范实施例提供了一种基板输送装置，其包括：用于输送基板的第一输送单元；与第一输送单元的一端间隔的第二输送单元；第三输送单元，其设置在第一输送单元及第二输送单元之间，并且提供能够在基板输送期间回收附着在基板上的显影液的倾斜输送区域；及用于控制第三输送单元的倾斜输送角度及连接状态的输送控制器。
[0019]根据本发明的示范实施例，由于提供用于液体回收的倾斜输送区域的第三输送单元设置在第一及第二输送单元之间，因此基板能够在显影液被回收至第一箱体单元中的状态下被输送至第二箱体单元。
[0020]尤其是，由于第三输送单元形成为能够由输送控制器适当地控制其倾斜角度及连接状态的非固定、可调类型，所以在显影工艺中能够响应基板的尺寸及工作环境(显影速度)来提供最佳的倾斜输送区域。
附图说明
[0021]图1为根据本发明的示范实施例的基板输送装置的示意图；
[0022]图2为图1描述的第三输送单元的示意图；
[0023]图3和图4为表示图1中描述的输送控制器的结构及操作的示意图；
[0024]图5为图3和图4的输送控制器的一个改进实施例的示意图；
[0025]图6为图3和图4的输送控制器的一个改进实施例的示意图；
[0026]图7至图9为图1中描述的第三输送单元的改进实施例的示意图；
[0027]图10至图11为表示根据本发明实施例的基板输送装置的引导带的结构及操作的示意图。
附图中主要元件的附图标记的说明
2：第一箱体单元            4：第二箱体单元
6：第一输送单元            8：第二输送单元
10：第三输送单元           10A：第一可调输送单元
10B：第二可调输送单元      12：输送控制器
14：输送引导构件           G：基板
W1：显影液                 W2：清洁液
L1、L2：水平输送区域        L3、L4：可调输送区域
具体实施方式
[0028]下面结合附图更加全面的描述本发明，附图示出了本发明的示范实施例。
[0029]正如本领域的技术人员认识到的，所描述的实施例可以以均不脱离本发明的精神或范围的各种不同方式改进。
[0030]图1为根据本发明的示范实施例的基板输送装置的示意图。附图标记2和4分别表示第一箱体单元和第二箱体单元。
[0031]第一箱体单元2设置为箱体限定具有预定体积的第一箱体C1的盒状箱体的形式。
[0032]第二箱体单元4设置为箱体限定具有预定体积的第二箱体C2的盒状箱体的形式。
[0033]参照图1，第一箱体单元2及第二箱体单元4布置在左右两侧，以使各自的第一表面相互毗邻并且设置有基板G从左侧输送至右侧穿过的开口D1、D2及D3。
[0034]第一、第二及第三液体供应单元N1、N2及N3位于第一箱体单元2及第二箱体单元4中。
[0035]第一液体供应单元N1用于供应显影液W1，第二液体供应单元用于供应清洁液W2。第三液体供应单元N3用于供应干燥空气W3。
[0036]即，第一、第二及第三液体供应单元N1、N2及N3形成为典型结构(狭缝式喷管、气刀)，所述典型结构通过分别接收来自各液体槽(未示出)的显影液W1、清洁液W2及干燥空气W3而湿法显影基板G的光刻胶层G1。
[0037]第一箱体单元C1及第二箱体单元C2的底部分别连接至排出管Q1和排出管Q2，供应至基板G的显影液W1和清洁液W2通过排出管Q1和排出管Q2被排出。
[0038]如图1所示，第一箱体单元2及第二箱体单元4可以由两个独立的箱体形成。可选地，第一箱体单元2和第二箱体单元4可以通过将一个箱体的内部空间分隔成每个都具有预定体积的两个空间而形成。
[0039]根据本发明的示范实施例的基板输送装置进一步包括分别安装为对应第一箱体单元2与第二箱体单元4的第一输送单元6和第二输送单元8。
[0040]如图1所示，第一输送单元6及第二输送单元8设置为具有支架P1及P2并且具有多个彼此间隔且安装在支架P1及P2上的输送辊R1及R2的典型辊式传送机类型的形式。
[0041]当电动机(未示出)被驱动时，输送辊R1及R2接收来自典型链条/链轮(未示出)或皮带/皮带轮(未示出)的动力以绕轴旋转。
[0042]根据上述的结构，提供了通过第一箱体C1及第二箱体C2中的第一输送单元6及第二输送单元8将基板G从图1的左侧输送至右侧的水平输送区域L1及L2。
[0043]因此，在基板G在第一箱体单元2及第二箱体单元4中输送期间，显影液W1、清洁液W2及干燥空气W3顺序供应至基板G的加工表面。
[0044]同时，本发明的示范实施例的基板输送装置进一步包括第三输送单元10。
[0045]第三输送单元10用于在第一输送单元6及第二输送单元8之间提供用于液体回收的可调倾斜输送区域。第三输送单元10包括第一和第二可调输送单元10A和10B。
[0046]如图1所示，第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B设置为具有支架P3及P4且具有多个彼此间隔并被支撑在支架P3及P4上的多个输送辊R3及R4的典型辊式传送机类型的形式。
[0047]第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B设置为与第一输送单元6及第二输送单元8同步。可选地，第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B可以由诸如电动机、链条/链轮和皮带/皮带轮的单独的驱动单元来驱动。本领域技术人员可以轻易实现上述驱动方法，因此省略对其的详细描述。
[0048]参考图2，第一可调输送单元10A定位为对应第一输送单元6的第一端，第二可调输送单元10B定位在对应第二输送单元8的第一端。
[0049]因此，基板G可以在分别位于箱体开口D2的左侧和右侧的第一输送单元6与第二输送单元8之间输送，其中开口D2形成在第一箱体单元2和第二箱体单元4的分界部分处。
[0050]第一和第二可调输送单元10A和10B的支架P3及P4的第一端通过铰接轴H1及H2铰合(hinge-coupled)至第一箱体单元2及第二箱体单元4。
[0051]根据上述结构，如图2所示，通过绕铰合点枢转支架P3及P4，可以将第一可调输送单元10A调节为向上倾斜而第二可调输送单元10B调节为向下倾斜。
[0052]因此，当基板G从第一箱体单元2和第二箱体单元4的分界部分输送至第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B时，能够提供回收显影液W1的两个可调输送区域L3及L4。
[0053]根据本发明的示范实施例的基板输送装置进一步包括输送控制器12。
[0054]输送控制器12用于适当地控制第三输送单元10的第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B的倾斜角度及连接状态。如图3所示，输送控制器12包括驱动源M1及通过驱动源M1而上下运动的推臂A。
[0055]典型气缸可用作驱动源M1。驱动源M1可以安装在第二箱体单元4中限定的次箱体C3内。
[0056]次箱体C3可以与第一箱体C1及第二箱体C2隔离以使显影液W1或清洁液W2不会导入其中。
[0057]如图3所示，推臂A在上部设置有两个支撑端A1及A2以及在下部设置有连接端A3。推臂A被支撑为，其通过次箱体C3的表面(顶表面)安装以便可以上下运动。
[0058]当驱动源M1的气缸被驱动时，推臂A配置为通过典型凸轮U1运动而接收动力并且上下运动。
[0059]也就是说，推臂A的支撑端A1及A2定位为支撑第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B的支架P3及P4的底部的一侧。如图3所示，连接端A3设置为与凸轮U1的凸轮表面U1a接触。
[0060]凸轮U1安装在驱动源M1的气缸的活塞杆端。凸轮表面U1a可以从图3的左侧至右侧向上倾斜。
[0061]支撑端A1及A2及连接端A3可以设置有各个面接触辊轮A4。在安装有面接触辊轮的情况下，当两个支撑端A1及A2接触及支撑第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B的支架P3及P4时或当连接端A3接触凸轮表面U1a时，可以减少摩擦。
[0062]也就是说，当驱动源M1被驱动时，推臂A通过典型凸轮运动接收动力而上下运动以允许两个支撑端A1及A2推动第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B。
[0063]因此，如图4所示，输送控制器12通过推臂A的推动操作使第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B绕其铰合点枢转，从而提供向上或向下倾斜的可调输送区域L3及L4，因此使得能够在基板G输送期间回收显影液W1。
[0064]尤其是，由于输送控制器12可以利用凸轮U1在调节推臂A的上/下输送位置的同时控制第一输送单元10A及第二输送单元10B的倾斜角度及连接状态，因此与倾斜输送区域的倾斜角度为固定的情形相比，进一步提高了工作兼容性。
[0065]虽然图中未示出，但是输送控制器12可以安装在第一箱体单元2及第二箱体单元4的外侧以实现上述操作。输送控制器12可设置为上下运动，但是不使用凸轮而是使用气缸的活塞杆直接推或拉推臂A。
[0066]图5是图3和图4中的输送控制器的改进实施例的示意图。在该改进实施例中，连杆U2用于输送动力。
[0067]典型步进电动机可用作驱动源M2，并且步进电动机M2的轴固定在连杆U2的第一端。连杆U2的第二端通过凸起/凹槽接合连接至推臂A的连接端A3。
[0068]根据上述结构，当驱动源M2的步进电动机在两个方向上以预定角度旋转连杆U2时，推臂A通过典型双连杆运动能够上下运动。
[0069]因此，推臂A通过双连杆运动而上下运动，并且通过支撑端A1及A2能够适当地控制第三输送单元10的倾斜角度和连接状态。
[0070]输送控制器12并不限于利用凸轮运动或连杆运动的动力输送方法。
[0071]例如，虽然图中未示出，但是推臂A可以配置为通过连接至电动机轴的螺杆的正向/反向旋转而上下运动。另外，能够适当控制第三输送单元10的倾斜角度及连接状态的多种其他动力输送及产生结构也在本发明的范围内。
[0072]在上述的描述中，由一个输送控制器12同时控制第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B的倾斜角度及连接状态。然而，本发明并不限于这种结构。
[0073]例如，如图6所示，两个输送控制器12A及12B可以分别安装为对应第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B。
[0074]根据此结构，在第一箱体单元2及第二箱体单元4中能够单独控制第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B的倾斜角度及连接状态。
[0075]图7为第三输送单元10的一个改进实施例的示意图。在此改进实施例中，水平输送区域L1及L2可以设置在具有不同高度的第一输送单元6及第二输送单元8之间。
[0076]即，第一可调输送单元10A的第一端相应地铰合至第一输送单元6的第一端，第二可调输送单元10B的第一端相应地铰合至第二输送单元8的第一端。
[0077]如图7所示，推臂A的支撑端A1及A2设置为其高度彼此稍微不同并且它们可以单独地或共同地上下运动。
[0078]根据此结构，通过适当地上下运动推臂A，可调输送区域L3及L4可以形成为通过第一可调输送单元10A及第二可调输送单元10B使其向上倾斜。
[0079]在此状态下，如图8所示，当推臂A进一步稍微上移时，第一可调输送单元10A形成向上倾斜的可调输送区域L3，第二可调输送单元10B形成向下倾斜的可调输送区域L4。
[0080]另外，通过适当地上下运动推臂A，如图9所示，第一可调输送单元10A可以形成基本水平的可调输送区域L3，第二可调输送单元10B可以形成向上倾斜的可调输送区域L4。
[0081]因此，由于在显影工艺期间输送控制器12控制第三输送单元10的倾斜角度及连接状态，因而根据本发明示范实施例的基板输送装置能够执行用于回收显影液W1的多种倾斜输送工作。
[0082]根据本发明的示范实施例的基板输送装置可以进一步包括输送引导构件14。
[0083]具有预定宽度的橡胶带或橡胶环可用作输送引导构件14，输送引导构件14设置在基板G的输送区域中以使能够有效地输送基板G。
[0084]例如，输送引导构件14可以设置在第三输送单元10中与第一输送单元6对应的第一可调输送单元10A的附近。
[0085]即，如图10所示，输送引导构件14安装为使第一可调输送单元10A的输送辊R3中邻近第一输送单元6的一端的多个输送辊R3相互连接。
[0086]可选地，输送引导构件14可以安装在与第三输送单元10的第二可调输送单元10B对应的第二输送单元8的附近。
[0087]即，如图11所示，在第二输送单元8的输送辊R2中，输送引导构件14安装为使第二输送单元8的输送辊R2中邻近第二可调输送单元10B的一端的多个输送辊R2相互连接。
[0088]根据上述结构，当基板G传入或传出第三输送单元10时，基板G不会置于输送辊R3及R2之间或者接触输送辊R3及R2，而是由输送引导构件14引导而平稳地被输送。
[0089]因此，能够防止以下现象，损坏(变形)基板G及改变其正常位置因而基板G以非正常状态被输送。
[0090]尽管已经结合在目前看来是最实用的示范实施例描述了本发明，但应理解的是本发明并不限于所公开的实施例，相反，本发明意图覆盖包含于所附的权利要求的的精神和范围内的不同的改进和等同的布局。

Claims (15)

1、一种基板输送装置，包括：
用于输送基板的第一输送单元；
与所述第一输送单元的一端间隔开的第二输送单元；
第三输送单元，其设置在所述第一输送单元及所述第二输送单元之间，并且提供能够在基板输送期间回收附着在基板上的显影液的倾斜输送；及
用于控制所述第三输送单元的倾斜输送角度及连接状态的输送控制器。
2、如权利要求1所述的基板输送装置，其中所述第一输送单元设置为具有多个输送辊的辊式传送机类型的形式，且配置为将所述基板从在其内显影液被供给至所述基板的箱体单元的第一内侧输送至所述箱体的第二内侧。
3、如权利要求1所述的基板输送装置，其中所述第二输送单元设置为具有多个输送辊的辊式传送机类型的形式，且配置为将所述基板从在其内清洁液被供给至所述基板的箱体单元的第一内侧输送至所述箱体的第二内侧。
4、如权利要求1至3中任一项所述的基板输送装置，其中所述第一及第二输送单元具有各自的输送区域，各自的输送区域具有相同水平高度或不同水平高度。
5、如权利要求1至3中任一项所述的基板输送装置，其中所述第二输送单元具有比所述第一输送单元的输送区域高的输送区域。
6、如权利要求1所述的基板输送装置，其中所述第三输送单元包括第一及第二可调输送单元，所述第一及第二可调输送单元的每一个都设置为具有多个输送辊的辊式传送机类型的形式并且具有在所述第一及第二输送单元之间铰合的一端。
7、如权利要求6所述的基板输送装置，其中所述第一及第二可调输送单元配置为，在绕各自的铰合点枢转时分别提供向上倾斜或向上和向下倾斜的可调输送区域。
8、如权利要求1所述的基板输送装置，其中所述输送控制器包括：
产生动力的驱动源；及
推臂，其支撑所述第三输送单元的下部以便在受到驱动源的作用而上下运动时能够推动所述第三输送单元的下部。
9、如权利要求8所述的基板输送装置，其中所述驱动源选自由电动机、气缸及步进电动机组成的集合。
10、如权利要求8所述的基板输送装置，其中所述推臂配置为，当驱动源被驱动时通过经由凸轮运动、连杆运动或螺杆联结而接收的动力而上下运动。
11、如权利要求8至10中任一项所述的基板输送装置，其中所述推臂包括与所述第三输送单元对应的两个支撑端和与驱动源对应的连接端，并且
推臂的配置使得当驱动源被驱动时，通过在向前及向后运动的凸轮的倾斜凸轮表面上的连接端的凸轮运动，所述的两个支撑端单独地或共同地上下运动。
12、如权利要求8至10中任一项所述的基板输送装置，其中所述推臂包括与所述第三输送单元对应的两个支撑端和与驱动源对应的连接端；并且
推臂配置为，当驱动源被驱动时，通过以预设角度枢转的链条经由连接端的连杆运动而能够单独地或共同地上下运动。
13、如权利要求8至10中任一项所述的基板输送装置，其中所述推臂包括与所述第三输送单元对应的两个支撑端和与驱动源对应的连接端，以及
螺杆的一端被连接以能够绕驱动源的轴旋转且穿过一侧，并且所述两个支撑端配置为能够通过螺杆联结及螺杆的正向/反向旋转而单独地和共同地上下运动。
14、如权利要求1至8中任一项所述的基板输送装置，其中所述输送控制器设计为，在通过推动操作而枢转第三输送单元时控制所述第三输送单元的倾斜角度及连接状态。
15、如权利要求1所述的基板输送装置，进一步包括用于引导基板的输送的输送引导构件，其中所述输送引导构件为橡胶带或橡胶环这两者中的一个，并且安装为使由所述第一、第二及第三输送单元所限定的整个输送区域中的一些区域相互连接。
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