CN106206387A - 用于传送基板的装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于传送基板的装置，并且更具体地涉及这样一种用于传送基板的装置，其中基板在被传送以经历清洁工艺或蚀刻工艺时是倾斜的，从而导致工艺液体在一个方向上流动并由此提高清洁工艺或蚀刻工艺的效率。

Description

用于传送基板的装置

技术领域

本发明涉及一种用于传送基板的装置，并且更具体地涉及这样一种用于传送基板的装置，其中所述基板在被传送以用于进行清洁工艺或蚀刻工艺时是倾斜的，从而导致工艺液体在一个方向上流动并由此提高清洁工艺或蚀刻工艺的效率。

背景技术

为了对基板进行各种工艺，例如，清洁工艺或蚀刻工艺，需要用于传送基板的装置。

这样的用于传送基板的装置大多采用传送水平设置的基板的方法。然而，如果要借助于从玻璃上方喷射的液体来进行清洁工艺或蚀刻工艺的玻璃被水平设置的话，则工艺液体可能会保留在玻璃上，使得清洁工艺或蚀刻工艺无法被均匀地执行，并且某些部分可能会被过度清洁或蚀刻，从而降低工艺效率。

由于这些问题，最近已经采用了这样的用于对大型基板进行清洁工艺或蚀刻工艺的方法，其中以水平设置的方式进行传送的大型基板停在某一位置并以预定的角度倾斜，并且工艺液体从基板的上方喷射到倾斜的基板。

当蚀刻工艺或清洁工艺完成时，基板被再次水平地铺放并被传送，从而完成清洁工艺或蚀刻工艺。然而，如果针对大型基板额外地执行这样的倾斜过程，则整个工艺的生产节拍时间会增加，从而降低了生产效率。此外，大型基板在倾斜的时候可能会被损坏。

发明内容

因此，本发明被设想来解决上述问题，并且本发明的一个方面是提供一种用于传送基板的装置，其中基板在被传送以用于进行清洁工艺或蚀刻工艺时是倾斜的，从而导致工艺液体在一个方向上流动并由此提高清洁工艺或蚀刻工艺的效率。

依据本发明的实施方式，提供了一种用于传送基板的装置，所述装置包括：一对框架，这一对框架包括布置成彼此面对的第一框架和第二框架；以及多个旋转棒，所述多个旋转棒均包括以可旋转的方式安装到所述第一框架上的一个端部和以可旋转的方式安装到所述第二框架上的另一端部，并且所述多个旋转棒以彼此间隔开的方式接连布置，其中所述旋转棒的安装到所述第一框架的所述一个端部被维持为具有相同的高度，并且所述旋转棒的接连地安装到所述第二框架的所述另一端部被安装为具有下述区段，在该区段中，朝向传送所述基板的方向，高度连续地增加并再次连续地减少。

所述第一框架和所述第二框架中的每个上可相继地形成有彼此间隔开并向上突出的分隔壁；可由相邻的所述分隔壁形成支架安装部；并且与所述旋转棒的端部相联接的轴承组件被安装到一支架，所述支架可被插入并联接到每个支架安装部中。

形成在所述第一框架上的所述支架安装部的底部可被维持为具有相同的高度；相继形成在所述第二框架上的所述支架安装部的底部可被形成为具有下述区段，在该区段中，朝向传送所述基板的方向，高度连续地增加并再次连续地减少；并且所述支架可被形成为具有相同的尺寸。

插入并联接到形成于下述区段中的所述支架安装部的每个支架可包括供稳定地安置所述轴承组件的倾斜的底部接触表面，在所述区段中，在朝向传送所述基板的方向，高度连续地增加并再次连续地减少。

附图说明

根据与附图一起呈现的例证性实施方式的以下说明，本发明的以上和/或其它方面将变得清楚并更容易理解，在图中：

图1是根据本发明的实施方式的用于传送基板的装置的平面图；

图2是装置的一个侧视图；

图3是装置的另一侧视图；

图4是装置的局部分解立体图；

图5是应用到根据本发明的实施方式的用于传送基板的装置的支架的截面图。

具体实施方式

下文中，将参考附图描述根据本发明的用于传送基板的装置的例证性实施方式。

为了清晰和便于描述起见，附图中示出的元件的尺寸、形状等等可放大。另外，考虑到本发明的配置和操作而特别限定的术语可根据用户和操作者的意向或实践而变化。关于这样的术语的定义必须基于在以下说明书的全文中给出的内容。

图1是根据本发明的实施方式的用于传送基板的装置100的平面图；图2是装置100的一个侧视图；图3是装置100的另一侧视图；以及图4是装置100的局部分解立体图。如图1至图4所示，用于传送基板的装置100包括：布置成彼此面对的一对框架10a和10b；以及多个旋转棒30，这多个旋转棒30的每个端部以可旋转的方式联接到这一对框架10a和10b。

这一对框架10a和10b包括：对应于一个框架的第一框架10a；以及对应于另一框架的第二框架10b。每个旋转棒30均具有：以可旋转的方式安装到第一框架10a的一个端部；以及以可旋转的方式安装到第二框架10b的另一端部。

多个旋转棒30安装到第一框架10a和第二框架10b，并且被布置成间隔开预定的距离，使得基板1可以以稳定地安置在多个旋转棒30上的方式被传送。

也就是说，多个旋转棒30具有以可旋转的方式安装到第一框架10a的一个端部30a以及以可旋转的方式安装到第二框架10b的另一端部30b，并且多个旋转棒30被接连地布置成彼此间隔开。因此，如果在把基板稳定地安置在多个旋转棒30上的状态下使旋转棒30旋转，则基板将在水平方向上进行传送。

每个旋转棒30均包括多个支撑环31，多个支撑环31被布置成彼此间隔开预定的距离。支撑环31用来接触并支撑基板1。也就是说，基板1被稳定地安置在联接到并设置于旋转棒30上的多个支撑环31之上。

支撑环31如同非常薄的盘一样成形，并且随着旋转棒30的旋转而旋转。因此，稳定地安置在支撑环31上的基板10在水平方向上进行传送。

旋转棒30的旋转可由各种方法实现。例如，可经由齿轮啮合或磁性输送器结构来同时旋转多个旋转棒。在该实施方式中，可采取现有方法中的任意一种，只要这种方法可以使旋转棒30同时旋转即可。

根据本发明的实施方式，用于传送基板的装置100在传送大型基板的同时进行清洁工艺或蚀刻工艺。由此，装置100可以在使基板1倾斜而不停止的情况下进行清洁工艺或蚀刻工艺。

也就是说，根据本发明的实施方式的用于传送基板的装置100在传送基板时并不使用任何单独的倾斜装置，并且在基板被传送以进行清洁工艺或蚀刻工艺时并不停止的情况下对基板进行清洁工艺或蚀刻工艺。

为此，根据本发明的用于传送基板的装置100被配置成使得旋转棒30可以倾斜。换句话说，旋转棒30之中的一些旋转棒30可从第一框架10a上升或下降至第二框架10b。

具体而言，如图2所示，旋转棒30的安装到第一框架10a的一个端部30a被布置为具有相同的高度；并且如图3所示，旋转棒30的接连地安装到第二框架10b的另一端部30b被布置为具有下述区段，在该区段中，基板1沿着传送方向接连地上升和下降。

由此，旋转棒30具有：基板1保持水平的水平区段；基板1倾斜的倾斜区段；再次是水平区段。因此，基板1在经过倾斜区段的同时经历清洁工艺或蚀刻工艺，并因此使从基板1上方喷射的工艺液体从基板1的一侧流向另一侧(因为基板1保持倾斜)，从而在没有工艺液体残留的情况下对到基板1进行清洁工艺或蚀刻工艺。

此外，因为并未采取单独的倾斜装置来使基板倾斜而是使基板自然倾斜，所以本发明简化了装置的整个结构并降低了装置的成本。另外，有利的是减少了整个工艺的生产节拍时间并提高了生产效率，这是因为没有必要停止传送基板的操作来执行清洁工艺等。

如上所述，旋转棒30的每个端部以可旋转的方式联接到一对框架，即，第一框架10a和第二框架10b。为此，根据本发明的实施方式，第一框架10a和第二框架10b上接连地形成有彼此间隔开并向上突出的分隔壁11a和11b，使得相邻的分隔壁可以形成支架安装部13a、13b，并且每个支架安装部均接收并联接支架70a、70b，联接到旋转棒30的端部的轴承组件50a、50b被安装到支架70a、70b。

分隔壁11a和11b包括：分隔壁11a，该分隔壁11a间隔开预定的距离并且突出于第一框架10a；以及分隔壁11b，该分隔壁11b间隔开预定的距离并且突出于第二框架10b。

形成在第一框架10a上的分隔壁11a以及形成在第二框架10b上的分隔壁11b可突出为具有相同的长度。此外，形成在第一框架10a上的分隔壁11a可突出为具有相同的长度，并且形成在第一框架10b上的分隔壁11b也可突出为具有相同的长度。

然而，形成在第一框架10a上的分隔壁11a具有相同的高度，并且形成在第二框架10b上的分隔壁11b具有相同的长度但具有不同的高度。

也就是说，如图3所示，形成在第二框架10b上的分隔壁11b分为：第一水平区段a，其中在传送基板的方向上，高度是恒定的；上升区段b，其中高度从第一水平区段a的终点起连续地增加；第二水平区段c，其中高度从上升区段b的终点起是恒定的；下降区段d，其中高度从第二水平区段c的终点起连续地减少；以及第三水平区段e，其中高度从下降区段d的终点起是恒定的。

形成在(形成在第一框架10a上的)分隔壁11a之间的空间，即，支架安装部13a，与形成在(形成在第二框架10b上的)分隔壁11b之间的空间，即，支架安装部13b，可具有相同的尺寸和形状。此外，如图2所示，形成在(形成在第一框架10a上的)分隔壁11a之间的空间，即，支架安装部13a可具有相同的深度。换句话说，形成在第一框架10a上的支架安装部13a的底部13a'都彼此维持在同一水平上。

然而，如图3所示，形成在(形成在第二框架10b上的)分隔壁11b之间的空间，即，支架安装部13b，可具有彼此不同的深度。换句话说，接连地形成在第二框架10b上的支架安装部13b的底部13b'形成为具有朝向传送基板1的方向接连地上升的区段以及再次接连地下降的区段。

具体而言，接连地形成在第二框架10b上的支架安装部13b的底部13b'形成为具有：第一水平区段a，其中在传送基板的方向上，高度是恒定的；上升区段b，其中高度从水平区段a的终点起连续地增加；第二水平区段c，其中高度从上升区段b的终点起是恒定的；下降区段d，其中高度从第二水平区段c的终点起连续地减少；以及第三水平区段e，其中高度从下降区段d的终点起是恒定的。

与旋转棒30的端部联接的轴承组件50a和50b被安装到支架70a和70b，支架70a和70b被分别插入并联接到支架安装部13a和13b。具体而言，与旋转棒30的端部30a联接的轴承组件50a被安装到支架70a，支架70a被插入并联接到形成在第一框架10a上的支架安装部13a；并且与旋转棒30的端部30b联接的轴承组件50b被安装到支架70b，支架70b被插入并联接到形成在第二框架10b上的支架安装部13b。

联接到旋转棒30的一个端部30a的轴承组件50a可具有与联接到旋转棒30的另一端部30b的轴承组件50b相同的形状和尺寸。

此外，与旋转棒30的一个端部30a联接的轴承组件50a被安装到支架70a，与旋转棒30的另一端部30b联接的轴承组件50b被安装到支架70b，支架70a可形成为具有与支架70b相同的尺寸。

然而，下述支架70a和70b被分别形成为具有供稳定地安置轴承组件50a和50b的倾斜的底部接触表面70a'和70b'，所述支架70a和70b被插入并联接到形成于下述区段中的支架安装部13a和13b，在所述区段中，在朝向传送基板1的方向上，高度连续地增加并再次减少。

具体而言，如图5所示，插入并安装到下述支架安装部13a和13b的支架70a和70b的底部接触表面70a'和70b'在旋转棒30的长度方向上并非水平的而是倾斜的，所述支架安装部13a和13b被包括在第一水平区段、上升区段、第二水平区段、下降区段以及第三水平区段中的上升区段、第二水平区段和下降区段中。

由此，插入并安装到包括在上升区段、第二水平区段和下降区段中的支架安装部13a和13b的支架70a和70b的底部接触表面70a'和70b'之所以是倾斜的原因在于，随着旋转棒30被倾斜，分别联接到旋转棒30的端部30a和30b的轴承组件50a和50b可以倾斜地接触支架70a和70b的底部接触表面70a'和70b'。

也就是说，联接到在上升区段、第二水平区段和下降区段中倾斜的旋转棒30的两个端部的轴承组件也以与旋转棒相同的角度倾斜，并且支架70a和70b的在结构上接触倾斜的轴承组件的底部的底部接触表面70a'和70b'也以与轴承组件相同的角度倾斜。由此，支架和轴承组件可以在结构上稳定而牢固地相联接。

利用该配置，如果基板1由用于传送基板1的装置100进行传送，则如图3所示，基板1在被传送时自然地倾斜。由此，当布置在基板1上方的喷射模块(未示出)喷射工艺液体时，工艺液体从基板的一侧流向另一侧，并因此对基板有效地执行清洁工艺或蚀刻工艺。也就是说，可以解决由于工艺液体残留所导致的问题。

此外，因为并未使用单独的倾斜装置，所以可以简化装置100的结构并降低成本。另外，可以防止在经由单独的倾斜装置使大型基板倾斜时可能发生的大型基板的损坏。因为没有必要停止传送基板的操作以便经由倾斜装置使基板倾斜，所以生产节拍时间减少，从而提高了生产效率。

在根据本发明的实施方式的用于传送基板的装置中，在被传送以经历清洁工艺或蚀刻工艺的同时使基板倾斜，从而导致工艺液体在一个方向上流动，并由此提高了清洁工艺或蚀刻工艺的效率。

此外，无需使用停止基板的传送、以预定的角度使基板倾斜并进而执行清洁工艺或蚀刻工艺的现有方法，根据本发明的实施方式的用于传送基板的装置在连续传送以经历所述工艺时使基板倾斜，从而减少了工艺的生产节拍时间并提高了工艺的效率。

虽然已经示出并描述了本发明的若干例证性实施方式，但本领域技术人员将理解的是，这些实施方式可做出改变而不脱离本发明的原理和精神，本发明的范围被限定在随附权利要求书及其等同物中。

Claims (4)

1.一种用于传送基板的装置，所述装置包括：

一对框架，这一对框架包括布置成彼此面对的第一框架和第二框架；以及

多个旋转棒，所述多个旋转棒均包括以可旋转的方式安装到所述第一框架上的一个端部和以可旋转的方式安装到所述第二框架上的另一端部，并且所述多个旋转棒以彼此间隔开的方式接连布置，

其中，所述旋转棒的安装到所述第一框架的所述一个端部被维持为具有相同的高度，并且所述旋转棒的接连地安装到所述第二框架的所述另一端部被安装为具有下述区段，在该区段中，朝向传送所述基板的方向，高度连续地增加并再次连续地减少。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，

所述第一框架和所述第二框架中的每个上相继地形成有彼此间隔开并向上突出的分隔壁；

由相邻的所述分隔壁形成支架安装部；并且

与所述旋转棒的端部相联接的轴承组件被安装到一支架，所述支架被插入并联接到每个支架安装部中。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，

形成在所述第一框架上的所述支架安装部的底部被维持为具有相同的高度；

相继形成在所述第二框架上的所述支架安装部的底部被形成为具有下述区段，在该区段中，朝向传送所述基板的方向，高度连续地增加并再次连续地减少；并且

所述支架被形成为具有相同的尺寸。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，插入并联接到形成于在朝向传送所述基板的方向，高度连续地增加并再次连续地减少的所述区段中的所述支架安装部的每个支架包括供稳定地安置所述轴承组件的倾斜的底部接触表面。