JP4849914B2 - 基板処理装置、基板処理方法、コンピュータ読取可能な記憶媒体 - Google Patents
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Description
図2は現像ユニット(DEV)30の側面図である。
60…現像液供給機構(処理液供給機構:第1の処理液供給機構)
62…現像ノズル
65…現像液吸引機構(処理液吸引機構)
67…第1のリンス液供給機構(第2の処理液供給機構)
70…吸引ノズル
71…第1リンスノズル
82…押さえ付けローラ(押さえ付け部)
83…羽根車
86…液面高さ検出部
87…フロート部
88…位置センサ
104…ユニットコントローラ(制御部)
G…基板
M0…中継区間
M1…第1の搬送区間
M2…第2の搬送区間
M3…第3の搬送区間
M4…第4の搬送区間
P0…境界部(谷折り部)
P1…傾斜角変更箇所(谷折り部)
P2…傾斜角変更箇所(山折り部)
Claims (17)
- 基板に処理液による液処理を施す基板処理装置であって、
基板を、その被処理面が上方を向いた状態で搬送する搬送路と、
前記搬送路を搬送される基板上に処理液を供給する処理液供給機構と、
前記搬送路を搬送される基板上の処理液を吸引する処理液吸引機構と
を具備し、
前記搬送路は、搬送方向上流側から下流側に向かって順に、第1の搬送区間と、基板を上り傾斜させて搬送する第2の搬送区間とを有し、前記第1の搬送区間と前記第2の搬送区間との境界部に、通過時の基板が谷側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させ、前記基板の搬送方向と直交する方向で前記基板の全幅にわたって処理液を溜める谷折り部を有しており、
前記処理液供給機構は、前記谷折り部よりも搬送方向上流側で処理液を供給し、
前記処理液吸引機構は、前記谷折り部位置または谷折り部近傍位置で処理液を吸引することを特徴とする基板処理装置。 - 前記搬送路の第1の搬送区間は、前記基板を水平に搬送することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記処理液吸引機構は、前記第1の搬送区間側の前記谷折り部近傍位置で処理液を吸引することを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
- 基板に処理液による液処理を施す基板処理装置であって、
基板を、その被処理面が上方を向いた状態で搬送する搬送路と、
前記搬送路を搬送される基板上に処理液を供給する処理液供給機構と、
前記搬送路を搬送される基板上の処理液を吸引する処理液吸引機構と
を具備し、
前記搬送路は、搬送方向上流側から下流側に向かって順に、基板を水平に搬送する第1の搬送区間と、基板を上り傾斜させて搬送する第2の搬送区間とを有し、前記第1の搬送区間と前記第2の搬送区間との間に、基板の長さおよび前記第2の搬送区間の長さよりも短い長さに設定された、基板を下り傾斜させて搬送する中継区間を設け、前記中継区間と前記第2の搬送区間との境界部に、通過時の基板が谷側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させ、前記基板の搬送方向と直交する方向で前記基板の全幅にわたって処理液を溜める谷折り部を有しており、
前記処理液供給機構は、前記谷折り部よりも搬送方向上流側で処理液を供給し、
前記処理液吸引機構は、前記谷折り部位置または谷折り部近傍位置で処理液を吸引することを特徴とする基板処理装置。 - 基板に処理液による液処理を施す基板処理装置であって、
基板を、その被処理面が上方を向いた状態で搬送する搬送路と、
前記搬送路を搬送される基板上に現像液を供給する現像液供給機構と、
前記搬送路を搬送される基板上の現像液を吸引する現像液吸引機構と、
前記搬送路を搬送される基板上にリンス液を供給するリンス液供給機構と
を具備し、
前記搬送路は、搬送方向上流側から下流側に向かって順に、第1の搬送区間と、基板を上り傾斜させて搬送する第2の搬送区間と、基板を下り傾斜させて搬送する第3の搬送区間とを有し、前記第1の搬送区間と第2の搬送区間との境界部に、通過時の基板が谷側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させ、前記基板の搬送方向と直交する方向で前記基板の全幅にわたって処理液を溜める谷折り部と、前記第2の搬送区間と第3の搬送区間との境界部に、通過時の基板が山側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させる山折り部とを有しており、
前記現像液供給機構は、前記谷折り部よりも搬送方向上流側で現像液を供給し、
前記現像液吸引機構は、前記谷折り部位置または谷折り部近傍位置で現像液を吸引し、
前記リンス液供給機構は、前記山折り部よりも搬送方向下流側でリンス液を供給することを特徴とする基板処理装置。 - 前記搬送路の第1の搬送区間は、前記基板を水平に搬送することを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記第2の搬送区間の長さは、基板の長さよりも短いことを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記搬送路は、前記第3の搬送区間の搬送方向下流側に、基板を水平に搬送する第4の搬送区間をさらに有し、
前記第2の搬送区間と前記第3の搬送区間との合計長さは、基板の長さよりも短いことを特徴とする請求項6または請求項7に記載の基板処理装置。 - 前記第2の搬送区間と前記第3の搬送区間との境界部には、実質的に水平な搬送ラインが形成されていることを特徴とする請求項6から請求項8のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記搬送路は、基板が前記山折り部を通過する際に、基板を上方から押さえ付け可能な押さえ付け部を有することを特徴とする請求項5から請求項9のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記押さえ付け部は、基板の幅方向両縁部に当接する回転可能な一対のローラであることを特徴とする請求項10に記載の基板処理装置。
- 前記処理液吸引機構は、内部に回転可能な揚液用の羽根車が設けられた吸引ノズルを有し、
前記吸引ノズルは、前記羽根車が回転して基板上の処理液を吸引することを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記吸引ノズル近傍の処理液の液面高さを検出する液面高さ検出部と、前記液面高さ検出部によって検出される液面高さに応じて前記羽根車の回転速度を制御する制御部とをさらに具備することを特徴とする請求項12に記載の基板処理装置。
- 前記液面高さ検出部は、処理液上に浮くフロート部と、前記フロート部の高さ位置を検出する位置センサとを有することを特徴とする請求項13に記載の基板処理装置。
- 基板に処理液による液処理を施す基板処理方法であって、
基板を、その被処理面が上方を向いた状態で搬送し、搬送方向上流側から下流側に向かって順に、第1の搬送区間と、基板を上り傾斜させて搬送する第2の搬送区間とを有する搬送路に、前記第1の搬送区間と前記第2の搬送区間との境界部に、通過時の基板が谷側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させ、前記基板の搬送方向と直交する方向で前記基板の全幅にわたって処理液を溜める谷折り部を設けておき、
前記搬送路を搬送される基板上に前記谷折り部よりも搬送方向上流側で処理液を供給し、
前記搬送路を搬送される基板上の処理液を前記谷折り部位置または谷折り部近傍位置で吸引することを特徴とする基板処理方法。 - 基板に処理液による液処理を施す基板処理方法であって、
基板を、その被処理面が上方を向いた状態で搬送し、搬送方向上流側から下流側に向かって順に、第1の搬送区間と、基板を上り傾斜させて搬送する第2の搬送区間と、基板を下り傾斜させて搬送する第3の搬送区間とを有する搬送路に、前記第1の搬送区間と前記第2の搬送区間との境界部に通過時の基板が谷側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させ、前記基板の搬送方向と直交する方向で前記基板の全幅にわたって処理液を溜める谷折り部と、前記第2の搬送区間と第3の搬送区間との境界部に、通過時の基板が山側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させる山折り部とを設けておき、
前記搬送路を搬送される基板上に前記谷折り部よりも搬送方向上流側で現像液を供給し、
前記搬送路を搬送される基板上の現像液を前記谷折り部位置または谷折り部近傍位置で吸引し、
前記搬送路を搬送される基板上に前記山折り部よりも搬送方向下流側でリンス液を供給することを特徴とする基板処理方法。 - コンピュータ上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記制御プログラムは、実行時に請求項15または請求項16に記載の基板処理方法が行われるように、コンピュータに処理装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
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