KR100937153B1 - 현상처리장치 - Google Patents

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KR100937153B1
KR100937153B1 KR1020020032035A KR20020032035A KR100937153B1 KR 100937153 B1 KR100937153 B1 KR 100937153B1 KR 1020020032035 A KR1020020032035 A KR 1020020032035A KR 20020032035 A KR20020032035 A KR 20020032035A KR 100937153 B1 KR100937153 B1 KR 100937153B1
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 현상처리장치에 관한 것으로, 수평방향으로 부설한 반송로상에서 피처리기판을 반송하면서 현상처리를 단시간에 효율적으로 행하는 기술에 관한 것이다.
이 현상유닛(DEV, 94)은 프로세스라인(B)을 따라 수평방향으로 연재하는 반송로(108)를 형성하는 복수의 모듈(M1 ~ M8)을 일렬로 연속배치하고 이루어진다. 모듈(M1 ~ M8) 중, 최상류단부의 모듈(M1)은 기판반입부(110)를 구성하고 그 다음에 연속하는 4개의 모듈(M2, M3, M4, M5)은 현상부(112)를 구성하고 그 다음 모듈(M6)은 린스부(114)를 구성하며 그 다음 모듈(M7)은 건조부(116)를 구성하고 최후미의 모듈(M8)은 기판반출부(118)를 구성한다. 프리웨트부(124), 현상액공급부(126) 및 린스부(114)에는 반송로(108)에 노즐토출구를 향해 반송로(108)을 따라 쌍방향으로 이동가능한 프리웨트액공급노즐(PN), 현상액공급노즐(DN) 및 린스액공급노즐(RN)이 각각 설치되는 구성의 현상처리장치가 제시된다.

Description

현상처리장치{DEVELOPING APPARATUS}
도 1 은 본 발명인 현상처리장치를 적용가능한 도포현상처리시스템의 구성을 도시하는 평면도이다.
도 2 는 실시예인 도포현상처리시스템에 있어서의 열적 처리부의 구성을 도시하는 측면도이다.
도 3 은 실시예인 도포현상처리시스템에 있어서의 처리순서를 도시하는 플로차트이다.
도 4 는 실시예인 현상유닛의 전체구성을 도시하는 정면도이다.
도 5 는 실시예인 현상유닛에 있어서의 기판반입부 및 프리웨트부 주변 구성을 도시하는 평면도이다.
도 6 은 실시예인 현상유닛에 있어서의 기판반입부 및 프리웨트부 주변 구성을 도시하는 일부단면 정면도이다.
도 7 은 실시예에 있어서의 기판반입부 구성 및 작용(기판인수인계)을 도시하는 일부단면 측면도이다.
도 8 은 실시예에 있어서의 기판반입부 구성 및 작용(기판이동재치)을 도시하는 일부단면 측면도이다.
도 9 는 실시예에 있어서 노즐주사기구의 구성을 도시하는 일부단면 측면도 이다.
도 10 은 실시예에 있어서의 노즐주사기구 구성을 도시하는 사시도이다.
도 11 은 실시예에 있어서의 기판경사기구의 구성 및 작용(기판을 들어올림)을 도시하는 일부단면 측면도이다.
도 12 는 실시예에 있어서의 기판경사기구의 구성 및 작용(기판경사)을 도시하는 일부단면 측면도이다.
도 13 은 실시예에 있어서의 노즐주사작용을 도시하는 대략적인 측면도이다.
도 14 는 실시예에 있어서의 에어나이프의 작용을 도시하는 대략적인 측면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 도포현상처리시스템 16(P / S) : 프로세스스테이션
32 : 도포프로세스부 94 : 도포유닛
108 : 반송로 110 : 기판반입부
112 : 현상부 114 : 린스부
116 : 건조부 118 : 기판반출부
124 : 프리웨트부 126 : 현상액공급부
128 : 현상액낙하부 130 : 프리웨트액팬
132 : 현상액팬 134 : 린스액팬
N : 가동노즐 PN : 프리웨트액공급노즐
DNa, DNb : 현상액공급노즐 RN : 린스액공급노즐
SCP, SCN, SCR : 노즐주사기구 156 : 노즐지지체
158 : 가이드레일 160 : 주사구동부
170 : 승강구동부 180 : 기판경사기구
본 발명은 피처리기판을 수평으로 반송하면서, 일련의 현상처리공정을 행하는 현상처리장치에 관한 것이다.
최근, LCD(액정표시디스플레이)제조에 있어서의 레지스트도포현상처리시스템에서는 LCD기판의 대형화에 유리하게 대응할 수 있는 현상방식으로 반송롤러와 반송벨트를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 기판반송로상에서 LCD기판을 반송하면서 반송중에 현상, 린스, 건조 등의 일련의 현상처리공정을 행하도록 한 소위 평류방식이 주목받고 있다. 이러한 평류방식은 기판을 회전운동시키는 스피너방식과 비교해서 기판 취급과 반송계 및 구동계 구성이 간단하고 미스트의 발생 내지 기판에의 재부착이 적은 등의 이점이 있다.
종래의 평류방식에서는 기판반송로 상의 소정위치에서 현상액공급노즐과 린스액공급노즐을 각각 고정배치하고 기판이 각 노즐의 한 쪽(통상은 바로 밑)을 통 과할 때에 각 노즐로부터 처리액(현상액, 린스액)을 토출시켜 기판의 피처리면에 처리액을 공급하도록 하고 있다. 여기에서, 반송방향에 있어서 기판의 길이치수를 L, 반송속도를 V로 하면, 하나의 기판 피처리면 전체에 처리액을 공급하는 데에 필요한 시간(처리액 공급시간, T)은 대략적인 계산으로 다음 식으로 주어진다.
T = L / V ………… (1)
위의 식(1)에 따르면, 기판사이즈(L)가 커지는 데에 비례해서 처리액공급시간(T)이 길어지지만, 이 것은 현상처리공정에서는 까다로운 문제이다. 즉, 평류방식에 있어서, 처리액 공급시간(T)은 기판 반송방향의 안쪽 단부(전단부)와 다른 단부(후단부) 사이의 처리액 공급을 받는 시간차이기도 하고 처리액이 현상액인 경우는 현상개시의 시간차가 된다. 이 시간차(T)가 커질수록 기판상의 현상품질에 편차가 생겨서 면내균일성이 저하되는 문제가 있다.
이 문제에 대해서는 종래보다 반송속도(V)를 높이는 방법이 추진되어 왔지만, 평류방식에서는 반송속도(V)에 한계가 있는데다, 반송속도(V)가 고속이 될 수록 기판이 반송로상에서 손상을 받을 가능성도 높아져, 유효한 해결법이라고는 할 수 없다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점에 비추어보어 이루어진 것으로 수평방향으로 부설된 반송로상에서 피처리기판을 반송하면서 현상처리를 단시간에 효율적으로 행할 수 있도록 한 현상처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 수평방향으로 부설한 반송로상에서 피처리기판을 반송하면서 현상처리를 고품질로 행할 수 있게 한 현상처리장치를 제공하는 데에 있 다.
상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명인 현상처리장치는 피처리기판을 거의 수평으로 얹어서 반송하기위한 반송체를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 기판반송로와, 상기 반송로상에서 상기 기판을 반송하기 위해 상기 반송체를 구동하는 반송구동수단과, 상기 반송로상의 상기 기판의 피처리면에 현상처리용 소정의 처리액을 공급하기위한, 하나 또는 복수의 노즐을 포함하는 처리액공급수단과, 상기 처리액공급수단의 적어도 하나의 노즐을 가동노즐로 하여 상기 반송로를 따라 이동시키기 위한 노즐주사수단을 갖는 구성으로 했다.
상기의 구성에 있어서는 반송로상을 반송되는 피처리기판에 대해, 노즐주사수단에 의해 처리액공급수단의 가동노즐이 처리액을 토출하면서 반송로를 따라 이동 또는 주사하므로써, 기판반송속도와 기판사이즈의 영향을 실질적으로 받지 않으면서 단시간에 기판의 피처리면 전체에 처리액을 빈틈없이 공급할 수 있다.
본 발명인 현상처리장치에 있어서, 바람직하게는 하나의 형태인 노즐주사수단은 가동노즐을 지지하는 노즐지지부와, 반송로의 위쪽에서 노즐지지부를 안내하기위한 안내부와, 이 안내부를 따라 이동하도록 노즐지지부를 구동하는 구동부를 갖는 구성이다. 이러한 구성에 있어서는 노즐지지부와 일체로 가동노즐을 안정적으로 고속이동시킬 수 있다. 또, 노즐을 승강시키는 수단을 노즐지지부에 설치하고 가동노즐의 높이 위치를 조절 또는 변경할 수 있도록 해도 좋다.
또, 가동노즐의 이동가능한 반송로상의 공간을 커버로 덮으므로써, 커버 안쪽에 외부로부터의 이물이 들어가기 어려운 정상적인 처리공간을 형성할 수 있다.
본 발명인 현상처리장치에서는 기본형태로, 반송로를 따라 기판의 피처리면에 현상액을 공급하여 현상하기 위한 현상부와, 이 현상부보다도 하류쪽에서 기판의 피처리면에 순수를 공급하여 현상을 정지시키기 위한 린스부를 설치해도 좋다. 이 경우, 현상부내에서 반송로 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 제 1 집액부와 린스부내에서 반송로 아래로 떨어진 액을 수집하기 위한 제 2 집액부를 설치해도 좋다.
본 발명의 하나의 실시예에 따르면, 처리액공급수단이 현상부내에서 기판의 피처리면에 현상액을 털어내기 위한 제 1 가동노즐을 포함하고 노즐주사수단이 적어도 현상부의 구역내에서 상기 제 1 가동노즐을 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 1 노즐주사부를 포함한다. 이 구성에 있어서는 스프레이식 현상공정을 본 발명의 노즐주사방식에 의해 단시간에 효율적으로 행하고 양호한 현상품질을 얻을 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 처리액공급수단이 현상부내에서 기판의 피처리면에 현상액을 부풀어오르게 하기위한 제 2 가동노즐을 포함하고, 노즐주사수단이 적어도 현상부 구역내에서 제 2 가동노즐을 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 2 노즐주사부를 포함한다. 이 구성에 있어서는 패들식 현상공정을 본 발명의 노즐주사방식에 의해 단시간에 효율적으로 행하고 양호한 현상품질을 얻을 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 처리액 공급수단이 현상부내에서 현상에 앞서 기판 피처리면에 프리웨트용 처리액을 털어내기 위한 제 3 가동노즐을 포함하고, 노즐주사수단이 적어도 현상부의 구역내에서 제 3 가동노즐을 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 3 노즐주사부를 포함한다. 이 구성에 있어서는 정규 현상공정에 앞서 프리웨트공정을 본 발명의 노즐주사방식에 의해 단시간에 효율적으로 행하고 양호한 프리웨트품질을 얻을 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 처리액공급수단이 린스부내에서 기판의 피처리면에 린스액을 털어내기 위한 제 4 가동노즐을 포함하고 노즐주사수단이 적어도 린스부 구역내에서 제 4 가동노즐을 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 4 노즐주사부를 포함한다. 이 구성에 있어서는 현상정지를 위한 린스공정을 단시간에 효율적으로 행하고 양호한 현상품질을 얻을 수 있다.
본 발명인 현상처리장치에 있어서, 바람직하게는 반송로상에서 기판상으로부터 처리액을 중력으로 떨어뜨리기 위해 기판을 경사시키는 기판경사수단을 갖는 구성으로 해도 된다. 이러한 기판경사수단에 의해 기판상에서 액처리후의 액을 단시간에 효율적으로 떨어뜨리면, 동시에 효율적으로 회수할 수 있다.
본 발명에 있어서의 기판경사수단의 한 실시예로서, 기판상에서 현상에 이용한 현상액을 중력으로 떨어뜨리기 위해 기판을 경사시키는 구성과, 기판상에서 프리웨트에 이용한 처리액을 중력으로 떨어뜨리기 위해 기판을 경사시키는 구성이 가능하다. 기판을 경사시키는 방향은 반송로의 전방 또는 후방이 바람직하다.
또, 상기 기판경사수단 대용으로 또는 그와 병용하여 반송로상에서 수평자세의 기판상의 처리액을 상기 기판의 표면을 따라서 상대적으로 수평방향으로 이동시키는 처리액제거수단을 갖는 구성도 바람직하다.
이 처리액제거수단의 한 실시예로서 반송로상을 반송되는 기판상에서 현상에 이용한 현상액을 털어내기 위해 제 1 위치에서 기판 표면에 예리한 기체류를 갖다대는 기체분사수단을 설치하는 구성과, 반송로상을 반송되는 기판상에서 현상정지에 이용한 린스액을 털어내기위해 제 2 위치에서 기판표면에 예리한 기체류를 갖다대는 기체분사수단을 설치하는 구성이 가능하다.
본 발명인 현상처리장치에서는 상기와 같은 기판경사수단과 기체분사수단을 설치하므로써 현상부내에서 현상에 이용한 현상액을 주로 수집하기 위한 현상액용집액부를 설치하는 구성과, 현상부내에서 프리웨트에 이용한 처리액을 주로 수집하기 위한 프리웨트액용 집액부를 설치하는 구성이 바람직하다.
본 발명인 현상처리장치에 있어서 반송로의 바람직한 실시예는 회전가능한 축에 결합되는, 적어도 1조의 롤러를 포함하는 기판반송체를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 코로반송식의 반송로이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 최적의 실시예를 설명한다.
도 1에 본 발명인 현상처리장치를 적용할 수 있는 하나의 구성예로서의 도포현상처리시스템을 도시한다. 이 도포현상처리시스템(10)은 클린룸 내에 설치되고, LCD기판을 피처리기판으로 하며, LCD제조프로세스에 있어서 포토리소그래피공정 중, 세정, 레지스트도포, 프리베이크, 현상 및 포스트베이크 등의 각 처리를 행하는 것이다. 노광처리는 이 시스템에 인접하여 설치되는 외부 노광장치(12)로 이루어진다.
이 도포현상처리시스템(10)은 중심부에 옆으로 긴 프로세스스테이션(P/S, 16)을 배치하고 그 길이방향(X방향) 양 단부에 카세트스테이션(C/S, 14)과 인터페이스스테이션(I/F. 18)을 배치하고 있다.
카세트스테이션(C/S, 14)은 시스템(10)의 카세트반입출포트이고, 기판(G)을 다단으로 적층하도록 하여 복수매 수용가능한 카세트(C)를 수평방향 예를 들면, Y방향으로 4개까지 늘어세워 재치가능한 카세트스테이지(20)과 이 스테이지(20)상의 카세트(C)에 대해 기판(G)의 출입을 행하는 반송기구(22)를 구비하고 있다. 반송기구(22)는 기판(G)을 유지할 수 있는 수단인 반송암(22a)을 갖고, X, Y, Z, θ의 4축에서 동작가능하며 인접하는 프로세스스테이션(P/S, 16)쪽과 기판(G)의 인수인계를 행할 수 있도록 되어 있다.
프로세스스테이션(P/S, 16)은 시스템긴쪽방향(X방향)으로 연재되는 평행 또는 역방향 1조의 라인(A, B)에 각 처리부를 프로세스플로 또는 공정의 순으로 배치하고 있다. 보다 상세하게는 카세트스테이션(C/S, 14)쪽에서 인터페이스스테이션(I/F, 18)쪽을 향하는 상류부의 프로세스라인(A)에는 세정프로세스부(24)와 제 1 열적처리부(26)와 도포프로세스부(28)와, 제 2 열적처리부(30)를 횡으로 일렬로 배치하고 있다. 한 편, 인터페이스스테이션(I/F, 18)쪽에서 카세트스테이션(C/S, 14)쪽을 향하는 하류부의 프로세스라인(B)에는 제 2 열적처리부(30)와 현상프로세스부(32)와 탈색프로세스부(34)와, 제 3 열적처리부(36)를 횡으로 일렬로 배치하고 있다. 이 라인 형태에서는 제 2 열적처리부(30)가 상류쪽 프로세스라인(A)의 최후미에 위치함과 동시에 하류쪽 프로세스라인(B)의 선두에 위치하고 있고 양 라인(A, B)간에 걸쳐져 있다.
양 프로세스라인(A, B)간에는 보조반송공간(38)이 설치되어 있고, 기판(G)을 1장 단위로 수평으로 재치가능한 셔틀(40)이 미도시의 구동기구에 의해 라인방향(X방향)으로 쌍방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다.
상류부의 프로세스라인(A)에 있어서, 세정프로세스부(24)는 스크럽세정유닛(SCR, 42)을 포함하고 있고, 이 스크럽세정유닛(SCR, 42)내의 카세트스테이션(C/S, 14)에 인접하는 장소에 엑시머UV조사유닛(e-UV, 41)을 배치하고 있다. 도시를 생략하지만, 스크럽세정유닛(SCR, 42)내의 세정부는 LCD기판(G)을 코로반송 또는 벨트반송에 의해 수평자세로 라인(A)방향으로 반송하면서 기판(G)의 상면(피처리면)에 브러싱세정과 블로세정을 실시하도록 되어 있다.
세정프로세스부(24)의 하류쪽에 인접하는 제 1 열적처리부(26)는 프로세스라인(A)을 따라 중심부에 종형 반송기구(46)를 설치하고 그 전후에 양쪽에 복수의 유닛을 다단으로 적층배치하고 있다. 예를 들면 도 2에 도시하는 것과 같이 상류쪽 다단유닛부(TB, 44)에는 기판인수인계용 패스유닛(PASS, 50), 탈수베이크용 가열유닛(DHP, 52, 54) 및 부착유닛(AD, 56)이 아래로부터 순차적으로 적층된다. 여기에서 패스유닛(PASS, 50)은 스크럽세정유닛(SCR, 42)쪽과 기판(G)의 인수인계를 행하기 위해 이용된다. 또, 하류쪽 다단유닛부(TB, 48)에는 기판인수인계용 패스유닛(PASS, 60), 냉각유닛(CL, 62, 64) 및 부착유닛(AD, 66)이 아래로부터 순차적으로 적층되어 있다. 여기에서 패스유닛(PASS, 60)은 도포프로세스부(28)쪽과 기판(G)의 인수인계를 행하기 위한 것이다.
도 2에 도시하는 것과 같이 반송기구(46), 연직방향으로 연재하는 가이드레 일(68)을 따라 승강이동가능한 승강반송체(70)와, 이 승강반송체(70)상에 θ방향으로 회전 또는 선회가능한 선회반송체(72)와, 이 회전반송체(72)상에서 기판(G)을 지지하면서 전후방향으로 진퇴 또는 신축가능한 반송암 또는 핀셋(74)을 갖고 있다. 승강반송체(70)를 승강구동하기 위한 구동부(76)가 수직가이드레일(
8)의 기단쪽에 설치되고 선회반송체(72)를 선회구동하기위한 구동부(78)가 수직반송체(70)에 설치되어 있으며 반송암(74)을 진퇴구동하기위한 구동부(80)가 회전반송체(72)에 설치되어 있다. 각 구동부(76, 78, 80)는 전기모터 등으로 구성되어도 좋다.
상기와 같이 구성된 반송기구(46)는 고속으로 승강 내지 선회운동하여 양 옆의 다단유닛부(TB, 44, 48) 중의 임의의 유닛에 액세스가능하고 보조반송공간(38)쪽 셔틀(40)과도 기판(G)을 인수인계할 수 있게 되어 있다.
제 1 열적처리부(26)의 하류쪽에 인접하는 도포프로세스부(28)는 도 1에 도시하는 것과 같이 레지스트도포유닛(CT, 82), 감압건조유닛(VD, 84) 및 엣지리무버유닛(ER, 86)을 프로세스라인(A)을 따라 일렬로 배치하고 있다. 도시를 생략했지만, 도포프로세스부(28)내에는 이들 3개의 유닛(CT, 82), (VD, 84), (ER, 86)에 기판(G)을 공정순으로 1장씩 반입 ·반출하기위한 반송장치가 설치되어 있고, 각 유닛(CT, 82), (VD, 84), (ER, 86)내에서는 기판 1장단위로 각 처리가 이루어지도록 되어 있다.
도포프로세스부(28)의 하류쪽에 인접하는 제 2 열적처리부(30)는 상기 제 1 열적처리부(26)와 동일한 구성을 갖고 있고 양 프로세스라인(A, B)간에 종형 반송 기구(90)를 설치하고 프로세스라인 A쪽(최후미)에 한쪽 다단유닛부(TB, 88)를 설치하고 프로세스라인 B쪽(선두)에 다른 쪽 다단유닛부(TB, 92)를 설치하고 있다.
도시를 생략하지만, 프로세스라인 A쪽 다단유닛부(TB, 88)에는 최하단에 기판인수인계용 패스유닛(PASS)이 놓여지고 그 위에는 프리베이크용 가열유닛(PREBAKE)이 3단적층되어도 괜찮다. 또 프로세스라인 B쪽의 다단 유닛부(TB, 92)에는 최하단에 기판인수인계용 패스유닛(PASS)이 놓여지고 그 위에 냉각유닛(COL)이 1단적층되며 그 위에 프리베이크용 가열유닛(PREBAKE)이 2단적층되어도 좋다.
제 2 열적처리부(30)에 있어서 반송기구(90)는 양 다단유닛부(TB, 88, 92)의 각각의 패스유닛(PASS)을 통해 도포프로세스부(28) 및 현상 프로세스부(32)와 기판(G)을 1장단위로 인수인계할 수 있을 뿐 아니라, 보조반송공간(38)내의 셔틀(40)과 후술하는 인터페이스스테이션(I/F, 18)과도 기판(G)을 1장단위로 인수인계할 수 있도록 되어 있다.
하류부의 프로세스라인(B)에 있어서, 현상프로세스부(32)는 기판(G)을 수평자세로 반송하면서 일련의 현상처리공정을 행하고 소위 평류방식의 현상유닛(DEV, 94)을 포함하고 있다. 이 현상유닛(DEV, 94)의 구성과 작용은 나중에 상세하게 설명한다.
현상프로세스부(32)의 하류쪽에는 탈색프로세스부(34)를 사이에 두고 제 3 열적처리부(36)가 배치된다. 탈색프로세스부(34)는 기판(G)의 피처리면에 i선(파장 365nm)을 조사하여 탈색처리하기위한 i선UV조사유닛(i-UV, 96)을 구비하고 있다.
제 3 열적처리부(36)는 상기 제 1 열적처리부(26)와 제 2 열적처리부(30)와 동일한 구성을 갖고 있고 프로세스라인(B)를 따라 종형 반송기구(100)와 그 전후 양쪽에 1조의 다단유닛부(TB, 98, 102)를 설치하고 있다.
도시를 생략하지만, 상류쪽 다단유닛부(TB, 98)에는 최하단에 패스유닛(PASS)이 놓여지고 그 위에 포스트베이킹용 가열유닛(POBAKE)이 3단적층되어 있어도 좋다. 또, 하류쪽 다단유닛부(TB, 102)에는 최하단에 포스트베이킹유닛(POBAKE)이 놓여져 있고 그 위에 기판인수인계 및 냉각용 패스쿨링유닛(PASS ·COL)이 1단적층되고, 그 위에 포스트베이킹용의 가열유닛(POBAKE)이 2단적층되어 있어도 좋다.
제 3 열적처리부(36)에 있어서 반송기구(100)는 양 다단유닛부(TB, 98, 102)의 패스유닛(PASS) 및 패스 ·쿨링유닛(PASS ·COL)을 통해 각각 i선UV조사유닛(i-UV, 96) 및 카세트스테이션(C/S, 14)과 기판(G)을 1장 단위로 인수인계할 수 있을 뿐 아니라, 보조반송공간(38)내의 셔틀(40)과도 기판(G)을 1장 단위로 인수인계할 수 있도록 되어 있다.
인터페이스스테이션(I/F, 18)은 인접하는 노광장치(12)와 기판(G)을 교환하기 위한 반송장치(104)를 갖고, 그 주위에 버퍼 ·스테이지(BUF, 106), 익스텐션 ·쿨링스테이지(EXT ·COL, 108) 및 주변장치(110)가 배치되어 있다. 버퍼 ·스테이지(BUF, 106)에는 정치형의 버퍼카세트(미도시)가 놓여진다. 익스텐션 ·쿨링스테이지(EXT ·COL, 108)는 냉각기능을 겸해서 구비한 기판 인수인계용 스테이지이고, 프로세스스테이션(P/S, 16)쪽과 기판(G)을 교환할 때에 이용된다. 주변장치(110)는 타이틀러(TITLER)와 주변노광장치(EE)를 상하로 적층한 구성이어도 좋다. 반송장치(104)는 기판(G)을 유지할 수 있는 수단 예를 들면 반송암(104a)을 갖고 인접하는 노광장치(12)와 각 유닛(BUF, 106), (EXT ·COL, 108), (TITLER/EE, 110)과 기판(G)의 인수인계를 행할 수 있도록 되어 있다.
도 3에 이 도포현상처리시스템에 있어서 처리의 순서를 도시한다. 우선, 카세트스테이션(C/S, 14)에 있어서, 반송기구(22)가 스테이지(20)상의 소정의 카세트(C) 중에서 하나의 기판(G)을 꺼내고 프로세스스테이션(P/S, 16)의 세정프로세스부(24)의 엑시머UV조사유닛(e-UV, 41)으로 반입한다.(스텝S1)
엑시머UV조사유닛(e-UV, 41)내에서 기판(G)은 자외선조사에 의한 건식세정을 실시한다.(스텝S2) 이 자외선세정에서는 주로 기판표면의 유기물이 제거된다. 자외선세정의 종료후에 기판(G)은 카세트스테이션(C/S, 14)의 반송기구(22)에 의해 세정프로세스부(24)의 스크럽세정유닛(SCR, 42)으로 옮겨진다.
스크럽세정유닛(SCR, 42)에서는 상기한 바와 같이 기판(G)을 코로반송 또는 벨트반송에 의해 수평자세로 프로세스라인 A방식으로 평평한 흐름으로 반송하면서 기판(G)의 상면(피처리면)에 브러싱세정과 블로세정을 실시하므로써 기판표면에서 입자상의 오염을 제거한다.(스텝S3) 또, 세정후도 기판(G)을 평류로 반송하면서 에어나이프 등에 의해 액을 털어내고 기판(G)을 건조시킨다.
스크럽세정유닛(SCR, 42)내에서 세정처리를 마친 기판(G)은 제 1 열적처리부(26)의 상류쪽 다단유닛부(TB, 44)내 패스유닛(PASS, 50)으로 반입된다.
제 1 열적처리부(26)에 있어서 기판(G)은 반송기구(46)에 의해 소정 시퀀스 에서 소정 유닛을 회수한다. 기판(G)은 처음에 패스유닛(PASS, 50)에서 가열유닛(DHP, 52, 54)중 하나로 옮겨져 거기에서 탈수처리를 받는다.(스텝S4) 다음으로 기판(G)는 냉각유닛(COL, 62, 64)중 하나로 옮겨져서 거기에서 일정한 기판온도까지 냉각된다.(스텝S5) 그 후, 기판(G)은 부착유닛(AD, 56)으로 옮겨져서 거기에서 소수화처리를 받는다.(스텝S6) 이 소수화처리 종료후에 기판(G)는 냉각유닛(COL, 62, 64) 중 하나에서 일정한 기판온도까지 냉각된다.(스텝S7) 마지막으로, 기판(G)은 하류쪽 다단유닛부(TB, 48)에 속하는 패스유닛(PASS, 50)으로 옮겨진다.
이렇게 제 1 열적처리부(26)내에서는 기판(G)이 반송기구(46)을 통해 상류쪽 다단유닛부(TB, 44)와 하류쪽 다단유닛부(TB, 48)간에서 임의로 왕래할 수 있도록 되어 있다. 또한, 제 2 및 제 3 열적처리부(30, 36)에서도 동일한 기판반송동작을 행할 수 있도록 되어 있다.
제 1 열적처리부(26)에서 상기와 같은 일련의 열적 또는 열계의 처리를 받은 기판(G)은 하류쪽 다단유닛부(TB, 48)내의 패스유닛(PASS, 60)에서 하류쪽 인접 도포프로세스부(28)의 레지스트도포유닛(CT, 82)으로 옮겨진다.
기판(G)은 레지스트도포유닛(CT, 82)에서 스핀코트법에 의해 기판상면(피처리면)에 리지스트액을 도포하고 직후에 하류쪽 인접 감압건조유닛(VD, 84)에서 감압에 의한 건조처리를 받고 이어서 하류쪽 인접 엣지리무버유닛(ER, 86)에서 기판주연부의 여분(불필요한)의 레지스트를 제거한다.(스텝S8)
상기와 같은 레지스트도포처리를 받은 기판(G)은 감압건조유닛(VD, 84)에서 인접한 제 2 열적처리부(30)의 상류쪽 다단유닛부(TB, 88)에 속하는 패스유닛(PASS)으로 인수인계된다.
제 2 열적처리부(30)내에서 기판(G)은 반송기구(90)에 의해 소정의 씨퀀스에서 소정의 유닛을 회수한다. 기판(G)은 처음에 상기 패스유닛(PASS)에서 가열유닛(PREBAKE)중 하나로 옮겨지고 거기에서 레지스트도포 후의 베이킹을 받는다.(스텝S9) 다음으로 기판(G)은 냉각유닛(COL)의 하나로 옮겨지고 거기에서 일정한 기판온도까지 냉각된다.(스텝S10) 그 후, 기판(G)은 하류쪽 다단 유닛부(TB, 92)쪽의 패스유닛(PASS)을 경유하여 또는 경유하지 않고 인터페이스스테이션(I/F, 18)쪽 익스텐션 ·쿨링스테이지(EXT ·COL, 108)로 인수인계된다.
인터페이스스테이션(I/F, 18)에 있어서 기판(G)은 익스텐션 ·쿨링스테이지(EXT ·COL, 108)에서 주변장치(110)의 주변노광장치(EE)로 반입되고 거기에서 기판(G)의 주변부에 부착되는 레지스트를 현상시에 제거하기위한 노광을 받은 후에 인접한 노광장치(12)로 보내어진다.(스텝S11)
노광장치(12)에서는 기판(G)상의 레지스트에 소정회로패턴이 노광된다. 그리고 패턴노광을 마친 기판(G)은 노광장치(12)에서 인터페이스스테이션(I/F, 18)으로 돌아오면(스텝S11), 우선 주변장치(110)의 타이틀러(TITLER)로 반입되고 거기에서 기판상의 소정 부위에 소정정보가 기재된다.(스텝S12) 그 후, 기판(G)은 익스텐션 쿨링스테이지(EXT ·COL, 108)로 돌아온다. 인터페이스스테이션(I/F, 18)에 있어서 기판(G)반송 및 노광장치(12)와의 기판(G) 교환은 반송장치(104)에 의해 이루어진다.
프로세스스테이션(P/S, 16)에서는 제 2 열적처리부(30)에 있어서 반송기구(90)가 익스텐션 쿨링스테이지(EXT ·COL, 108)보다 노광을 끝낸 기판(G)을 수취하고 프로세스라인 B쪽 다단유닛부(TB, 92)내의 패스유닛(PASS)을 통해 현상프로세스부(32)로 인수인계한다.
현상프로세스부(32)에서는 상기 다단유닛부(TB, 92)내의 패스유닛(PASS)에서 수취한 기판(G)을 현상유닛(DEV, 94)으로 반입한다. 현상유닛(DEV, 94)에 있어서 기판(G)은 프로세스라인(B)의 하류를 향해 평류방식으로 수평자세로 반송되고 그 반송중에 현상, 린스, 건조의 일련의 현상처리공정이 이루어진다.(스텝S13)
현상프로세스부(32)에서 현상처리를 받은 기판(G)은 하류쪽 인접한 탈색프로세스부(34)로 반입되고 거기에서 i선 조사에 의한 탈색처리를 받는다.(스텝S14) 탈색처리를 마친 기판(G)은 제 3 열적처리부(36)의 상류쪽 다단유닛부(TB, 98)내의 패스유닛(PASS)으로 인수인계된다.
제 3 열적처리부(TB, 98)에 있어서, 기판(G)은 처음에 상기 패스유닛(PASS)에서 가열유닛(POBAKE)중 하나로 옮겨지고 거기에서 포스트베이킹을 받는다.(스텝S15) 다음으로 기판(G)은 하류쪽 다단유닛부(TB, 102)내의 패스쿨링 ·유닛(PASS ·COL)으로 옮겨지고 거기에서 소정의 기판온도로 냉각된다.(스텝S16) 제 3 열적처리부(36)에 있어서의 기판(G) 반송은 반송기구(100)에 의해 이루어진다.
카세트스테이션(C/S, 14)쪽에서는 반송기구(22)가 제 3 열적처리부(36)의 패스쿨링 ·유닛(PASS ·COL)에서 도포현상처리의 전공정을 마친 기판(G)을 수취하고 수취한 기판(G)을 어느 하나의 카세트(C)에 수용한다.(스텝S1)
이 도포현상처리시스템(10)에 있어서는 현상프로세스부(32)의 현상유닛(DEV, 94)에 본 발명을 적용할 수 있다. 이하, 도 4 ~ 도 14를 참조하여 본 발명을 현상유닛(DEV, 94)에 적용한 하나의 실시예를 설명한다.
도 4에 본 발명의 하나의 실시예에 의한 현상유닛(DEV, 94)내의 전체구성을 모식적으로 도시한다. 이 현상유닛(DEV, 94)은 프로세스라인(B)을 따라 수평방향(X방향)으로 연재하는 연속적인 반송로(108)를 형성하는 복수, 예를 들면 8개의 모듈(M1 ~ M8)을 일렬로 연속배치하여 이루어진다.
이들 모듈(M1 ~ M8) 중, 최상류단부에 위치하는 모듈(M1)에서 기판반입부(110)를 구성하고 그 후에 계속해서 4개의 모듈(M2, M3, M4, M5)에서 현상부(112)를 구성하고 그 다음 모듈(M6)에서 린스부(114)를 구성하고 그 다음 모듈(M7)에서 건조부(116)를 구성하고 최후미의 모듈(M8)에서 기판반출부(118)를 구성하고 있다.
기판반입부(110)에는 인접 기판반송기구(미도시)에서 인수된 기판(G)을 수평자세로 수취하여 반송로(108)상으로 이동,재치하기위한 승강가능한 복수개의 리프트핀(120)이 설치되어 있다. 기판반출부(118)에도 기판(G)을 수평자세로 들어올려서 인접 기판반송기구(미도시)로 인도하기위한 승강가능한 복수개의 리프트핀(122)이 설치되어 있다.
현상부(112)는 보다 상세하게는 모듈(M2)에 프리웨트부(124)를 설치하고 모듈(M3, M4)에 현상액공급부(126)를 설치하고 모듈(M5)에 현상액낙하부(128)를 설치 하고 있다. 프리웨트부(124)에는 반송로(108)에 노즐토출구를 향해 반송로(108)를 따라 쌍방향으로 이동가능하고 기판에 프리웨트액 예를 들면 순수를 공급하기위한 프리웨트액공급노즐(PN)이 1개 또는 복수개 설치되어 있다. 현상액공급부(126)에는 반송로(108)에 노즐토출구를 향해 반송로(108)를 따라 쌍방향으로 이동가능한 현상액공급노즐(DN)이 1개 또는 복수개 설치되어 있다. 이 구성예에서는 모듈(M3, M4)마다 독립적으로 이동가능한 현상액공급노즐(DNa, DNb)이 설치되어 있다. 현상액낙하부(128) 및 프리웨트부(124)에는 기판(G)을 경사시키기 위한 후술의 기판경사기구(180)(도 11, 도12)가 설치되어 있다.
린스부(114)에는 반송로(108)에 노즐토출구를 향해 반송로(108)를 따라 쌍방향으로 이동가능하고 기판린스액인 순수를 공급하기위한 린스액공급노즐(RN)이 1개 또는 복수개 설치되어 있다. 건조부(116)에는 반송로(108)를 따라 기판(G)에 부착되어 있는 액(주로 린스액)을 털어내기위한 에어나이프(EN)가 반송로(108)를 사이에 두고 1조 또는 복수조 설치되어 있다.
현상부(112) 및 린스부(114)에 있어서는 반송로(108) 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 팬(130, 132, 134)이 각각 설치되어 있다. 현상부(112)에 있어서, 보다 상세하게는 프리웨트부(124)와 현상액공급부(126) 및 현상액낙하부(128)에 각각 전용팬(130, 132)이 채워져있다. 각 팬(130, 132, 134)의 저부에는 배액구가 설치되고 거기에 배액관(131, 133, 135)이 접속되어 있다.
도 5 ~ 도 8에 기판반입구(110) 및 프리웨트부(124)에 있어서의 반송로(108)주변의 구성을 도시한다.
반송로(108)는 회전가능한 샤프트(1236)에 소정의 간격을 두고 고착된 1조의 반송롤러(138A, 138B)를 프로세스라인(B)을 따라 수평으로 부설하여 이루어지는 코로반송형 반송로로 구성되어 있다.
보다 상세하게는 각 모듈(M) 좌우양쪽벽 상부 또는 축각부재(140)에 축수(142A, 142B)가 프로세스라인(B)방향으로 일정간격으로 설치되고, 반송롤러(138A, 138B)를 좌우양측벽의 안쪽으로 위치시키도록 하여 각 1조의 축수(142A, 142B)에 샤프트(136)가 회전가능하게 걸려있다. 그리고 각 샤프트(136)의 한 쪽 축수(142A)보다도 바깥쪽으로 연장하는 한쪽 단부에 나사톱니바퀴(144)가 고착되고 각 샤프트(136)쪽 각 나사톱니바퀴(144)에 프로세스라인(B)방향으로 연재하는 회전구동샤프트(146)쪽의 각 나사톱니바퀴(148)가 직각방향으로 치합한다. 회전구동샤프트(146)는 전기모터(150)의 회전축에 결합되어 있다. 전기모터(150)가 회전구동샤프트(146)를 소정방향으로 회전구동하면 그 회전구동력이 회전샤프트(146)쪽의 각 나사톱니바퀴(148)에서 반송용샤프트(136)쪽의 나사톱니바퀴(144)로 전동되고 각 샤프트(136)의 반송롤러(138A, 138B)가 소정방향(기판(G)을 반송로(108) 전방으로 보내는 방향)으로 회전하도록 되어 있다.
기판반입부(110)에 있어서, 기판인수인계용 리프트핀(120)은 반송로(108) 아래에 수평으로 배치된 승강판(152)에 소정간격으로 이산되어 입설 또는 식설되어 있다. 이 승강판(152) 아래에는 에어실린더(미도시)를 포함하는 승강구동부(154)가 설치되어 있다.
도 7에 도시하는 것과 같이 승강구동부(154)가 승강판(152)을 소정의 높이로 들어올리면 리프트핀(120)이 샤프트(136)간의 간격을 통해 반송로(108) 위에 돌출하고 그 높이 위치에서 인접 기판반송기구(미도시)에서 기판(G)을 수평자세로 수취할 수 있다.
리프트핀(120)위에 기판(G)이 인도되면 도 8에 도시하는 것과 같이 승강구동부(154)가 승강판(152)을 원위치로 끌어내리므로써 그 하강 도중에 기판(G)의 양 단부(반송로(108)의 폭방향의 양 단부)가 반송롤러(138A, 138B)에 실리게 하고 기판(G)은 반송로(108)상에 수평자세로 이동된다. 또, 각 반송롤러(138A, 138B)의 외경은 안쪽(샤프트중심쪽)에서 일단 가늘어지고 이 소경부(139)에 기판(G)의 한 단부가 실리게 되어 있다.
도 4에 있어서, 프리웨트액 공급노즐(PN), 현상액공급노즐(DNa, DNb) 및 린스액공급노즐(RN)은 각각 노즐주사기구(SCP, SCN) 및 SCR에 의해 반송로(108) 위쪽을 반송로(108)와 평행하게 이동하도록 되어있다.
도 9 및 도 10에 하나의 실시예에 의한 노즐주사기구(SC(SCP, SCN, SCR))의 구성을 도시한다. 이 노즐주사기구(SC)는 가동노즐(N(PN, DNa, DNb, RN))을 지지하기위한 단면이 ┏┓형상의 노즐지지체(156)와, 반송로(108) 위쪽에서 반송로(108)와 평행하게 노즐지지체(156)를 안내하기위한 가이드레일(158)(도 9)과, 가이드레일(158)을 따라 이동하도록 노즐지지체(156)를 구동하는 주사구동부(160)를 갖는다.
도 10에 도시한 것과 같이 주사구동부(160)는 노즐반송체(156)에 1개 또는 복수개의 수직지지부재(161)를 통해 결합된 1개 또는 복수개의 무단부벨트(162)를 가이드레일(158)(도 9)과 평행하게 (즉 반송로(108)와 평행하게) 구동풀리(164)와 유동풀리(166)간에 걸려있고 구동풀리(164)를 전기모터(168)의 회전축으로 작동결합하여 이루어진다. 전기모터(168)의 회전구동력이 풀리(164, 166) 및 벨트(162)를 통해 벨트길이방향(X방향)에 있어서 노이즈반송체(156)의 직진운동으로 변환된다. 전기모터(168)의 회전속도를 제어하므로써 노즐반송체(156)의 직진운동속도를 원하는 수치로 조절하고 전기모터(168)의 회전방향을 전환하므로써 노즐반송체(156)의 직진이동방향을 전환할 수 있다. 또한, 도 10에서는 도해의 간략화를 위해 가이드레일(158)은 도시하지 않는다.
노즐반송체(156)에 있어서는 좌우양쪽면의 내벽에 에어실린더 등의 액츄에이터로 이루어지는 승강구동부(170)가 각각 설치되어 있고, 그 좌우 1조의 승강구동부(170) 사이에 중공관으로 이루어지는 수평지지노(172)가 수평으로 걸려 있다. 그리고 이 수평지지노(172)의 중심부에서 수직아래로 연재되는 중공관으로 이루어지는 수직지지노(174)의 하단부에 통형상의 가동노즐(N)이 토출구(n)를 아래를 향해 수평으로 설치되어 있다. 노즐(N)의 토출구(n)는 반송로(108)의 폭방향으로 기판(G)의 한 단부에서 다른 단부까지 거의 균일하게 처리액을 공급할 수 있는 범위에서 노즐의 긴쪽 방향으로 일정간격으로 다수형성되어 있어도 좋다.
노즐반송체(156)내에서 가동노즐(N)은 승강구동부(170)의 승강구동에 의해 수평지지노(172) 및 수직지지노(174)를 통해 승강가능하게 되어 있고 통상적으로는 반송로(108)위의 기판(G)을 향해 처리액을 토출하기 위한 높이위치(Ha)와 처리액을 토출하지 않는 동안에 반송로(108)에서 회피시키기 위한 높이위치(Hb)사이에서 상하이동하도록 되어 있다. 수평지지노(172)의 한 단부에는 반송로(108)의 바깥에 설치되어 있는 처리액공급원(미도시)으로부터 휘어지기쉬운 처리액공급관(176)이 설치되어 있다. 이 처리액공급관(176)은 수평지지노(172) 및 수직지지노(174) 속을 통해 노즐(N)의 처리액도입구에 접속되어 있다.
도 9에 도시하는 것과 같이 바람직하게는 반송로(108)상의 가동노즐(N)의 가동구역(X방향 및 Z방향)을 외부에서 차단하기위한 단면┏┓형상의 커버(178)를 반송로(108)를 따라 설치해도 좋다. 도시한 구성예에서는 커버(178)의 좌우양쪽면을 해당 모듈(M)의 좌우양측벽의 상단부 또는 축각부재(140)까지 늘어져 있고 간격을 가급적 적게한다. 커버(178) 상면 또는 천정에는 수평지지노(172)를 통하기 위해 슬릿(개구)(178a)을 형성해도 좋다. 이렇게 커버(178)에 의해 가동노즐(N)을 주사구동계에서 차폐 또는 격리하므로써 커버(178) 안쪽의 이물이 적은 처리공간(PS)에서 반송로(108)위의 기판(G)에 가동노즐(N)보다 처리액을 공급할 수 있도록 되어 있다.
도 5 및 도 6에 있어서, 프리웨트부(124)에는 하나의 실시예에 의한 기판경사기구(180)가 설치되어 있다. 이 기판경사기구(180)는 반송로(108) 아래에 승강가능하고 전후방향으로 경사가능하게 배치된 베이스판(182)과, 이 베이스판(182)의 상면에 소정간격을 두고 떨어져서 입설 또는 식설된 복수개의 리프트핀(184)과, 베이스판(182)을 승강축(186)을 통해 아래로부터 지지하여 승강구동 및 경사구동을 하기위한 구동부(188)를 갖는다. 승강축(186)은 상기 모듈(M2) 및 현상액팬(130)의 저판에 형성된 개구(190)를 관통하고 있다. 현상액팬(130)의 안쪽 저부에는 개구(190)의 주변에 액이 새는 것을 방지하기 위한 통형상의 벽부(130a)가 형성되어 있다.
최후미열의 리프트핀(184)의 바로 후방에는 경사시에 기판(G)의 후단부를 정지시켜 낙하를 방지하기위한 낙하방지수단으로 리프트핀(184)에서 후방으로 분기하여 직립하는 분기핀(192)에 고무제 통형상스토퍼부재(194)가 회전가능하게 설치되어 있다.
여기에서 도 11 및 도 12에 있어서 기판경사기구(180)의 작용을 설명한다. 반송로(108)위에서 기판(G)이 기판경사기구(180)의 바로 위에 걸리면, 소정 위치센서(미도시)가 기판(G)을 검출하고 상기 센서로부터 출력되는 신호에 응답하여 반송구동계의 제어부가 적어도 상기 모듈내의 전 반송롤러(138A, 138B)의 회전을 멈추고 기판(G)을 정지시킨다.
직후에 기판경사기구(180)의 콘트롤러(미도시)가 작동하고 구동부(188)를 작동시켜 승강축(186)을 상승시킨다. 그렇게 하면 도 11에 도시하는 것과 같이 베이스판(182) 및 리프트핀(184)도 상승하고 리프트핀(184)이 아래로부터 튀어오르듯이 하여 기판(G)을 반송로(108) 위쪽으로 들어올인다.
다음으로 상기 콘트롤러가 구동부(188)를 제어하고 베이스판(182)을 반송로(108)의 폭방향으로 연재하는 축(196)을 중심으로 전후방향으로, 바람직하게는 도시와 같이 뒤쪽 방향으로 소정각도(예를 들면 10° ~ 20°)만큼 회동시킨다. 그렇게 하면 도 12에 도시한 것과 같이 베이스판(182)보다 위의 부분 즉 리프트핀(192), 스토퍼부재(194), 기판(G)도 반송로(108)위에서 뒤쪽방향으로 동각도만큼 기운다. 그 때, 기판(G)은 리프트핀(184)위에서 뒤쪽으로 조금 미끌어지는 것 만으로 스토퍼부재(194)에 멈추어서게 된다. 그러나, 기판(G)상에 떨어져 있는 또는 부착되어 있는 액(Q)은 중력으로 기판경사면을 후방으로 미끌어지게 하여 기판바깥으로 낙하한다. 기판(G)에서 떨어진 액(Q)은 상기 모듈에 설치되어 있는 팬(프리웨트부(124)에서는 프리웨트액팬(130))에 수집된다.
상기와 같은 경사자세를 일정시간 유지한 후, 상기 콘트롤러의 제어하에서 구동부(188)는 베이스판(182)을 상기와 역방향으로 상기와 동등한 각도만큼 회동시켜서 수평자세(도 11의 상태)로 되돌리고 이어서 승강축(186)을 원위치(도 6의 위치)까지 내린다.
또한, 프리웨트부(124)에서 기판(G)을 반송방향으로 또한 다음 공정을 행하는 현상액공급부(126)쪽이 위쪽이 되도록 기울이므로 프리웨트부(124)에서 기판(G)을 기울여서 액을 털어낼 때에 프리웨트액팬(130)에 떨어뜨려서 튀어돌아온 액이 다음 공정을 행하는 현상액공급부(126)쪽 기판(G)에 부착할 가능성을 저감할 수 있다.
다음으로 이 현상유닛(DEV, 94)에 있어서 작용을 설명한다. 기판반입부(110)는 도 7 및 도 8에 관해 상술한 바와 같이 인접한 기판반송기구(미도시)에서 기판(G)을 1장단위로 수취하여 반송로(108)로 이동하여 재치한다. 반송로(108)를 구성하는 반송용샤프트(136)의 반송롤러(138A, 138B)는 상기한 바와 같이 회전구동샤프트(146), 나사톱니바퀴(148, 144) 등의 전동기구를 통해 전기모터(150)의 회전 구동력으로 회전하고 있으므로 반송로(108)에 실은 기판(G)은 즉시 인접한 현상부(112)를 향해 반송된다.
현상부(112)에 있어서 기판(G)은 우선, 프리웨트부(124)에 반입되고 코로반송중에 프리웨트액공급노즐(PN)로부터 프리웨트액으로 순수 또는 저농도의 현상액을 뿌린다. 이 실시예에서는 도 9 및 도 10에 있어 상술한 바와 같은 노즐주사기구(SCP)의 주사구동에 의해 노즐(PN)이 반송로(108)를 따라 수평으로 이동하면서 반송중인 기판(G)상면(피처리면)을 향해 프리웨트액을 뿌린다. 기판(G)에 닿아서 기판 바깥으로 날아간 프리웨트액 또는 기판(G)에 닿지않은 프리웨트액은 반송로(108) 아래에 설치되어 있는 프리웨트액팬(130)에 수집된다.
도 13의 (A)에 도시하는 것과 같이, 반송로(108)상의 기판(G)을 향해 프리웨트액을 토출하면서 노즐(PN)을 주사시키는 방향을 기판반송방향과 역방향으로 설정한 경우는 노즐주사속도(VN)와 기판반송속도(VG)를 보탠 상대속도(VN + VG)로 노즐(N(PN))이 기판(G)의 전단부에서 후단부까지 주사하므로써, 기판(G)의 사이즈가 커져도 극히 단시간에 기판(G)의 피처리면(레지스트표면)전체를 프리웨트액으로 젖게할 수 있다.
프리웨트부(124)내에서 기판(G)이 하류쪽의 소정위치에 닿으면 도 11 및 도 12에 관해 상술한 바와 같이 기판경사기구(180)가 작동하여 기판(G)을 반송로(108)보다 위로 들어올려 뒤를 향해 경사시킨다. 이 기판(G)의 경사자세에 의해 기판(G)상에 잔류 또는 부착되어 있는 프리웨트액의 대부분이 기판후방으로 흘러내려 프리 웨트액팬(130)으로 회수된다.
프리웨트부(124)에서 상기와 같은 프리웨트처리를 받은 기판(G)은 반송로(108)에 타서 현상액공급부(126)로 반입된다. 현상액공급부(126)에서는 최초의 모듈(M3)을 통과할 동안에 현상액공급노즐(DNa)로부터 현상액을 뿌려서 다음 모듈(M4)을 통과하는 동안에도 현상액공급노즐(DNb)로부터 현상액을 뿌린다. 각 현상액공급노즐(DNa, DNb)은 도 9 및 도 10에 관해 상술한 바와 같은 노즐주사기구(SCN)의 주사구동에 의해 반송로(108)의 위쪽에서 반송로(108)를 따라 수평으로 이동하면서 코로반송중의 기판(G) 상면(피처리면)을 향해 현상액을 뿌린다. 이 현상액을 뿌려서 기판(G) 바깥으로 떨어진 액은 반송로(108) 아래로 설치되어 있는 현상액팬(132)으로 수집된다.
상기한 프리웨트부(124)와 동일하게 현상액공급부(126)에 있어서도 도 13의 (A)에 도시하는 것과 같이 반송로(108)위의 기판(G)을 향해 현상액을 토출하면서 노즐(DN)을 주사시키는 방향을 기판반송방향과 역방향으로 설정해도 좋다. 이것에 의해 노즐(DN)이 노즐주사속도(VN)와 기판반송속도(VG)를 더한 상대속도(VN + VG)로 기판(G)의 전단부에서 후단부까지 주사하므로써 기판(G)의 사이즈가 커져도 극히 단시간동안에 기판(G)의 피처리면(레지스트표면) 전체에 현상액을 공급할 수 있다.
이 실시예에서는 모듈(M3, M4)마다 개별 현상액공급노즐(DNa, DNb)과 노즐주사기구(SCN)를 설치하고 있으므로 반송로(108)위의 기판(G)에 대해 시간적 또는 공간적인 인터벌을 두고 현상액을 복수회 공급가능하며 1회째와 2회째에서 현상액의 특성(농도 등)을 바꿀 수 있다.
현상액공급부(126)에서 상기와 같이 하여 피처리면전체에 현상액을 공급한 기판(G)은 그대로 반송로(108)를 타고 현상액낙하부(128)로 반입된다. 그리고 현상액낙하부(128)내에서 하류쪽 소정위치에 도착하면 거기에 설치되어 있는 기판경사기구(180)가 작동하여 기판(G)을 반송로(108)에서 위로 들어올려 기판(G)을 반송방향으로 게다가 앞을 향하여 즉 전공정을 행하는 현상액공급부(126)쪽이 위쪽이 되도록 기판(G)을 경사시킨다. 이 경사자세에 의해 기판(G)상에 떨어져 있던 현상액의 대부분이 기판 전방으로 흘러내려 현상액팬(132)으로 회수된다. 이렇게 전공정을 행하는 현상액공급부(126)쪽이 위쪽이 되도록 기판(G)을 경사시키므로 현상액낙하부(128)에서 기판(G)을 기울여서 액을 털어낼 때에 현상액팬(132)에서 튀어돌아온 액이 현상액공급부(126)쪽 기판(G)에 부착할 가능성을 저감할 수 있다.
현상액(112)에서 상기와 같은 현상액의 공급과 회수를 마친 기판(G)은 반송로(108)를 타고 린스부(114)로 반입된다. 린스부(114)에서는 도 9 및 도 10에 관해 상술한 바와 같은 노즐주사기구(SCR)의 주사구동에 의해 린스액공급노즐(RN)이 반송로(108)을 따라 수평으로 이동하면서 반송중의 기판(G)의 상면(피처리면)을 향해 린스액인 순수를 뿌린다. 기판(G)의 바깥으로 떨어진 린스액은 반송로(108) 아래에 설치되어 있는 린스액팬(134)에 수집된다.
린스부(114)에 있어서도 도 13의(A)에 도시하는 것과 같이 반송로(108)위의 기판(G)를 향해 현상액을 토출하면서 노즐(RN)을 주사시키는 방향을 기판반송방향 과 역방향으로 설정해도 좋다. 이에 의해 노즐(RN)이 노즐주사속도(VN)와 기판반송속도(VG)를 더한 상대속도(VN + VG)로 기판(G)으 전단부에서 후단부까지 주사하므로써 기판(G)의 사이즈가 커져도 극히 단시간에 기판(G)의 피처리면(레지스트표면) 전체에 린스액을 공급하고 빨리 린스액으로의 치환(현상정지)을 할 수 있다. 또한, 기판(G) 이면을 세정하기위한 린스액공급노즐(미도시)을 반송로(108) 아래에 설치해도 좋다.
린스부(114)에서 상기와 같은 린스공정을 마친 기판(G)은 반송로(108)를 타고 건조부(116)로 반입된다. 건조부(116)에서는 도 4에 도시하는 것과 같이 반송로(108) 위를 반송하는 기판(G)에 대해 소정위치에 설치한 상하 에어나이프(EN)로부터 기판상면(피처리면) 및 이면에 나이프상의 예리한 기체류의 에어를 갖다대므로써 기판(G)에 부착되어 있는 액(주로 린스액)을 기판후방으로 털어낸다.(액을 제거한다.)
건조부(116)에서 액을 털어낸 기판(G)은 그대로 반송로(108)를 타고 기판반출부(118)로 보내어진다. 기판반출부(118)는 기판반입부(110)와 동일한 구성을 갖고 있고 기판반송방향이 반입과 반출로 반대가 되면 기판반입부(110)와 동일하게 동작한다. 즉, 기판인수인계용 리프트핀(122)을 반송로(108)보다도 낮은 위치에 대기시켜서 기판(G)이 상류쪽(건조부 116)에서 흘러오는 것을 기다리고 기판(G)이 리프트핀(122) 바로 위의 소정위치에 도착하면 리프트핀(122)을 위쪽으로 올려서 기판(G)을 수평자세로 들어올리고 인접한 기판반송기구(미도시)로 건네준다.
이 현상유닛(DEV, 94)에서는 반송로(108) 위를 다수의 기판(G)을 소정간격을 두고 일렬로 반송하면서 프리웨트부(124), 현상액공급부(126), 현상액낙하부(128), 린스부(114) 및 건조부(116)에서 각 처리를 순차 실시하도록 하고 소위 파이프라인 방식에 의한 고효율 또는 높은 스루풋의 현상처리공정을 실현할 수 있다.
특히, 프리웨트부(124), 현상액공급부(126) 및 린스부(114)에서는 반송로(108)위의 기판(G)에 대해 처리액(프리웨트액, 현상액, 린스액)을 공급하는 노즐(PN, DNa, DNb, RN)을 반송로(108) 위쪽으로 반송로(108)를 따라 주사하므로써 기판(G) 사이즈가 커져도 반송로(108)의 반송속도가 높아지지 않아도 기판피처리면의 전체에 빈틈없이 처리액을 단시간에 신속하게 공급할 수 있다. 특히 현상액 공급공정에서는 기판(G) 반송방향의 한 단부(선단부)와 다른 단부(후단부)간의 처리액공급 시간차 즉 현상개시시간차를 가급적 짧게 할 수 있으므로 기판상의 현상품질의 면내 균일성을 향상시킬 수 있다.
또, 프리웨트부(124), 현상액공급부(126), 린스부(114)에 각각 별개의 팬(130, 132, 134)을 설치하므로써 각 처리액(프리웨트액, 현상액, 린스액)의 분별회수율을 높이고 있다. 더우기 프리웨트부(124) 및 현상액낙하부(128)에서는 기판경사기구(180)에 의해 기판(G)상에서 각각의 처리액((프리웨트액, 현상액)을 액처리후에 효율적으로 회수하도록 했으므로, 분별회수율을 한층 향상시킬 수 있다.
린스부(114)에 기판경사기구(180)를 설치하는 구성도 가능하다. 린스부(114)에서 기판(G)을 경사시킬 때에는 기판(G)을 반송방향으로, 현상액공급부(126)쪽이 위쪽이 되도록 기판(G)을 경사시켜도 좋다. 현상액공급부(126)쪽이 위쪽이 되도록 기판(G)을 기울이므로 린스액공급노즐(RN)에서 토출된 린스액이 기운 기판(G) 위에서 튀어나오고, 그 튀어나온 린스액이 현상액공급부(126)쪽 기판(G)에 부착될 가능성을 저감할 수 있다.
또한, 이 실시예의 노즐주사기구(SC)에서는 노즐(N)을 반송로(108)를 따라 쌍방향으로 주사할 수 있는 구성이므로, 도 13의 (B)에 도시하는 것과 같이 노즐(N)을 기판반송방향과 같은 방향으로 주사하면서 기판(G)의 피처리면 전체에 처리액(Q)을 공급하는 것도 가능하다. 이 경우는 노즐주사속도(VN')를 기판반송속도(VG)보다도 큰 속도로 설정할 필요가 있다.
또, 이 실시예는 프리웨트부(124) 및 현상액공급부(126)에서 스프레이방식의 현상을 행하도록 구성했다. 그러나, 패들방식으로 변형하는 것은 간단하고 현상액공급부(126)에 있어서 현상액공급노즐(DNa, DNb)을 스프레이형에서 판에 떨어진 물방울형의 토출구조로 교환해도 괜찮다. 또, 패들방식에서는 프리웨트부(124)는 필요없게 된다.
현상액공급부(126)에 있어서 현상액공급노즐(DNa, DNb) 중 어느 한 쪽(통상은 하류쪽의 DNb)을 빼는 구성도 가능하다. 또, 반송로(108)위에 있어서의 각 가동노즐(N)의 주사가능구역을 1모듈(M)을 넘는 범위로 설정해도 좋고 인접하는 가동노즐이 공통의 가이드레일에 상호 들어가는 구성으로 하는 것도 가능하다.
이 실시예에서는 상기한 바와 같이 현상부(122)의 하류부에 배치한 기판경사기구(180)에 의해 린스부(114)에 반입하기 직전에 기판(G)위에서 현상액을 효율적 으로 회수하도록 하고 있다. 이렇게 린스공정 직전에 기판(G)위에서 현상액을 떨어뜨리는 것은 린스공정에 있어서 린스액으로의 치환 또는 현상정지를 빠르게 하는 이점도 있다.
이러한 경사방식 대신에 또는 그것과 병용하여 현상부(122)와 린스부(114)의 경계부근에 도 14에 도시하는 것과 같은 에어나이프기구를 설치하는 구성도 효과적이다. 도 14에 있어서 에어나이프(FN)는 반송로(108)의 폭방향으로 기판(W)의 단부에서 단부까지 연재하는 무수한 에어토출구 또는 슬릿상의 에어토출구를 갖고 있고, 소정의 위치에서 옆(바로아래)을 통과하는 기판(G)에 대해 나이프상의 예리한 기체류(통상은 공기류 또는 질소가스류)를 적용한다. 이에 의해 기판(G)이 에어나이프(FN)를 통과할 동안에 기판상의 현상액(Q)이 기판후단부쪽으로 긁어모으도록 하여 기판 바깥으로 털어낸다.
상기한 실시예에 있어서 각 부의 구성은 일례로서 여러가지 변형이 가능하다. 예를 들면 노즐주사기구(SC)에 있어서의 노즐지지체(156)과 주사구동부(160)의 구성을 임의로 변형하는 것이 가능하다. 또, 상기한 실시예에 있어서의 기판경사기구(180)는 기판(G)을 수평자세로 반송로(108)보다 위로 들어올리고나서 경사시키는 구성이었다. 그러나 다른 방식으로 처음부터 상단면의 경사져 있는 부재를 기판(G)아래에서 올리는 듯한 기판경사기구도 가능하다.
상기한 실시예에서는 회전가능한 샤프트(136)에 소정간격을 두고 고착된 1조의 반송롤러(138A, 138B)를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 코로반송형 반송로(108)를 구성했다. 이러한 코로반송형 반송로에서는 양 반송롤러(138A, 138B)의 중간위치에도 기판반송용 롤러를 설치해도 좋다. 또 반송로(108)의 구동계를 반송방향에 있어서 복수로 분할하고 각 분할반송로상의 반송동작(속도, 정지 등)을 독립제어하는 것도 가능하다. 또, 일정간격을 두고 1조의 벨트를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 벨트반송형 반송로도 가능하다.
또, 프리웨트부(124)와 현상액낙하부(128)와 린스부(114)에 있어서 기판을 기울이는 방향을 전술한 방향과 다른 방향으로 설정하거나 또는 기판을 수평상태와 경사상태로 처리해도 괜찮다.
또, 도시하지 않지만, 가동노즐을 반송로를 따라 이동시키기 위한 노즐주사수단이 가동노즐의 이동속도를 변경하는 수단을 포함하는 것이어도 좋다. 노즐에서 분출되는 처리액은 일반적으로 기판의 전단부 가장자리 및 후단부 가장자리를 향해 흐르기 쉬우므로 기판의 전후단부 가장자리에 쌓이기 쉽다. 그래서 기판에 대한 노즐의 상대속도를 기판의 전단부 가장자리 근방의 영역 및 후단부 가장자리 근방의 영역에서는 커지게 되고 처리액이 쌓이는 것을 줄일 수 있다. 한 편, 기판의 중간영역에 있어서는 처리액은 별로 달아나지 않으므로 어느 정도의 액면높이가 되도록 노즐의 상대속도를 작게한다. 예시적으로 구체적인 수치를 들면, 기판 사이즈가 680㎜(폭) ×880㎜(길이)로 한 경우, 기판의 전단부 가장자리에서 60㎜의 영역 및 기판의 후단부 가장자리에서 100㎜의 영역에서는 노즐의 상대속도를 예를들면 300㎜ / sec.로 하고 기판의 중간영역에서는 200㎜ / sec.로 한다. 이렇게 노즐의 상대속도를 바꾸므로써 액막을 균일하게 할 수 있다. 상기의 기판 전후의 단부 가장자리로부터의 영역의 길이에 관해서는 기판사이즈, 처리액의 종류에 따라 설정할 수 있다.
다른 실시예로서 처리액공급수단이 노즐에서 분출하는 처리액의 유량을 변경하는 수단을 포함하도록 해도 좋다. 이 경우, 액막을 균일하게 하기 위해 기판의 전단부 가장자리에서 일정한 영역 및 기판의 후단부 가장자리에서 일정한 영역에서는 노즐로부터 분출되는 처리액의 유량을 작게하고 기판의 중간 영역에서는 노즐로부터 분출되는 처리액의 유량을 크게 한다.
본 발명에 있어서의 피처리기판은 LCD기판에 한정되는 것은 아니고 현상처리의 적용가능한 임의의 피처리기판이 포함된다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명인 현상처리장치에 따르면 수평방향으로 부설된 반송로상에서 피처리기판을 반송하면서 현상처리를 단시간에 효율적으로 행할 수 있고, 양호한 현상품질을 얻을 수 있다.

Claims (30)

  1. 피처리기판을 수평으로 얹어서 반송하기 위한 반송체를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 반송로와,
    상기 반송로상에서 상기 기판을 소정의 반송 반향으로 반송하기 위해 상기 반송체를 구동하는 반송구동수단과,
    상기 반송로상의 상기 기판의 피처리면에 현상액을 공급하기 위한 가동현상액공급노즐과,
    상기 현상액공급노즐을 상기 반송로를 따라 이동시키기 위한 노즐주사수단을 가지고,
    상기 반송구동수단에 의해 상기 반송체를 구동하여 상기 기판을 상기 반송로상에서 상기 반송방향으로 제 1 속도로 반송시킴과 동시에, 상기 현상액 공급노즐에 상기 현상액을 토출시키면서 상기 노즐 주사수단에 의해 상기 현상액 공급노즐을 상기 반송방향과 반대의 방향으로 제 2 속도로 이동시키고, 상기 기판의 피처리면에 대한 현상액의 공급에 있어서 상기 현상액 공급노즐이 상기 제 1 속도와 상기 제 2 속도를 더한 상대속도로 상기 기판의 전단으로부터 후단까지 주사하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 현상액 공급노즐이 상기 반송로의 상기 반송방향과 직교하는 폭방향에서 상기 기판상에 그 일단으로부터 타단까지 균일하게 현상액을 공급할 수 있는 토출구를 갖는 현상처리장치.
  3. 삭제
  4. 피처리기판을 수평으로 얹어서 반송하기 위한 반송체를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 반송로와,
    상기 반송로상에서 상기 기판을 반송하기 위해 상기 반송체를 구동하는 반송구동수단과,
    상기 반송로상의 상기 기판의 피처리면에 현상처리용의 소정의 처리액을 공급하기 위한 하나 또는 복수의 가동노즐과, 상기 가동노즐로부터 분출하는 처리액의 유량을 바꾸는 수단을 포함하는 처리액공급수단과,
    상기 가동노즐을 상기 반송로를 따라서 이동시키기 위한 노즐주사수단을 갖고,
    상기 기판의 피처리면을 반송방향에 있어서 기판전단주변으로부터 제 1 거리 이내의 기판 전단 영역과 기판 후단주변으로부터 제 2 거리 이내의 기판 후단 영역과 상기 기판 전단 영역 및 상기 기판 후단 영역에 끼워진 기판 중간영역으로 3분할하고, 상기 3개의 영역에 대해 상기 노즐에서 상기 처리액을 공급할 때 처리액 분출량을 개별로 설정하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 기판 전단 영역 및 상기 기판 후단 영역에 대한 처리액 분출량을 같게 하고, 또한 상기 기판 전단 영역 및 상기 기판 후단 영역에 대한 처리액 분출량을 상기 기판 중간영역에 대해 처리액 분출량보다 작게 하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  6. 피처리기판을 수평으로 얹어서 반송하기 위한 반송체를 수평방향으로 부설하여 이루어지는 반송로와,
    상기 반송로상에서 상기 기판을 반송하기 위해 상기 반송체를 구동하는 반송구동수단과,
    상기 반송로상의 상기 기판의 피처리면에 현상처리용의 소정의 처리액을 공급하기 위한 하나 또는 복수의 가동노즐을 포함하는 처리액공급수단과,
    상기 가동노즐을 상기 반송로를 따라서 가변의 이동속도로 이동시키기 위한 노즐주사수단을 갖고,
    상기 기판의 피처리면을 반송방향에 있어서 기판전단주변으로부터 제 1 거리이내의 기판 전단 영역과 기판 후단주변으로부터 제 2 거리 이내의 기판 후단 영역과 상기 기판 전단 영역 및 상기 기판 후단 영역에 끼워진 기판 중간영역으로 3분할하고, 상기 3개의 영역에 대해 상기 노즐에서 상기 처리액을 공급할 때 노즐이동속도를 개별로 설정하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 기판 전단 영역 및 상기 기판 후단 영역에 대한 노즐이동속도를 같게 하고, 또한 상기 기판 전단 영역 및 상기 기판 후단 영역에 대한 노즐이동속도를 상기 기판 중간영역에 대한 노즐이동속도보다 크게 하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  8. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 노즐주사수단이 상기 가동노즐을 지지하는 노즐지지부와,
    상기 반송로의 위쪽에서 상기 노즐지지부를 안내하기 위한 안내부와,
    상기 안내부를 따라 이동하도록 상기 노즐지지부를 구동하는 구동부를 가지는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  9. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가동노즐의 높이위치를 조절 또는 변경하기 위해 상기 가동노즐을 승강시키는 노즐승강수단을 가지는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  10. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가동노즐이 이동가능한 상기 반송로상의 공간을 덮는 커버를 가지는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  11. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송로를 따라 상기 기판의 피처리면에 현상액을 공급하여 현상하기 위한 현상부와,
    상기 현상부보다도 하류쪽에서 상기 기판의 피처리면에 순수를 공급하여 현상을 정지시키기 위한 린스부를 설치하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 현상부내에서 상기 반송로 아래에 떨어진 액을 모으기 위한 제 1 집액부와,
    상기 린스부내에서 상기 반송로 아래에 떨어진 액을 모으기 위한 제 2 집액부를 갖는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 처리액공급수단이 상기 현상부내에서 상기 기판의 피처리면에 현상액을 뿌리기 위한 제 1 가동노즐을 포함하고,
    상기 노즐주사수단이 상기 현상부의 영역을 포함하는 영역에서 상기 제 1 가동노즐을 상기 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 1 노즐주사부를 포함하는 것을 특징으로하는 현상처리장치.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 처리액 공급수단이 상기 현상부내에서 상기 기판의 피처리면에 현상액을 액을 볼록하게 하기 위한 제 2 가동노즐을 포함하고,
    상기 노즐주사수단이 상기 현상부의 영역을 포함하는 영역에서 상기 제 2 가동노즐을 상기 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 2 노즐주사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  15. 청구항 11에 있어서,
    상기 처리액공급수단이 상기 현상부내에서 현상에 앞서 상기 기판의 피처리면에 프리웨트용 처리액을 뿌리기 위한 제 3 가동노즐을 포함하고,
    상기 노즐주사수단이 상기 현상부의 영역을 포함하는 영역에서 상기 제 3 가동노즐을 상기 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 3 노즐주사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  16. 청구항 11에 있어서,
    상기 처리액공급수단이 상기 린스부내에서 상기 기판의 피처리면에 린스액을 뿌리기 위한 제 4 가동노즐을 포함하고,
    상기 노즐주사수단이 상기 린스부의 영역을 포함하는 영역에서 상기 제 4 가동노즐을 상기 반송로를 따라 이동시키기 위한 제 4 노즐주사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치
  17. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송로상에서 상기 기판상에서 처리액을 중력으로 떨어뜨리기 위해 상기 기판을 경사시키는 기판경사수단을 가지는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 기판경사수단이 상기 반송로의 전방 또는 후방을 향해 상기 기판을 경사시키는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  19. 청구항 17에 있어서,
    상기 기판경사수단이 상기 기판상에서 현상에 이용한 현상액을 중력으로 떨어뜨리기 위해 상기 기판을 경사시키는 제 1 기판경사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  20. 청구항 17에 있어서,
    상기 기판경사수단이 상기 기판상에서 프리웨트에 이용한 처리액을 중력으로 떨어뜨리기 위해 상기 기판을 경사시키는 제 2 기판경사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  21. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송로상에서 수평자세의 상기 기판상의 처리액을 상기 기판의 표면을 따라 상대적으로 수평방향으로 이동시키는 처리액제거수단을 가지는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  22. 청구항 21에 있어서,
    상기 처리액제거수단이 상기 반송로상을 반송시키는 상기 기판상에서 현상에 이용한 현상액을 털어내기 위해 제 1 위치에서 상기 기판 표면에 기체류를 갖다대는 기체분사수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  23. 청구항 22에 있어서,
    상기 처리액제거수단이 상기 반송로상을 반송되는 상기 기판상에서 현상정지에 이용한 린스액을 털어내기 위해 제 2 위치에서 상기 기판 표면에 기체류를 갖다대는 기체분사수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  24. 청구항 12에 있어서,
    상기 제 1 집액부가 상기 현상부내에서 현상에 이용한 현상액을 수집하기 위한 현상액용 집액부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  25. 청구항 12에 있어서,
    상기 제 1 집액부가 상기 현상부내에서 프리웨트에 이용한 처리액을 수집하기 위한 프리웨트액용 집액부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  26. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판반송체가 회전가능한 축에 결합되는 1쌍의 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  27. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 노즐주사수단은 상기 가동노즐의 이동속도를 변경하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  28. 청구항 4 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액공급수단은 상기 노즐에서 분출하는 처리액의 유량을 변경하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
  29. 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,
    상기 가동노즐이 상기 반송로의 상기 반송방향과 직교하는 폭방향으로 상기 기판상에 그 일단으로부터 타단까지 균일하게 현상액을 공급할 수 있는 토출구를 가지는 것을 특징으로 하는 현상처리장치.
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