541620 A7 B7 五、發明説明（八 (發明所屬的技術領域） 本發明是關於一種一面將被處理基板朝水平搬運一面 進行一連串的顯像處理過程的顯像處理裝置。 (習知之技術） 最近在L C D (液體晶體顯示）製造的光阻塗布顯像 處理系統，作爲有利地可對應於L C D基板的大型化的顯 像方式，有所謂平流方式受注目，該方式是在將搬運輥或 搬運帶朝水平方向舖設所成的基板搬運路上一面搬運 L C D基板一面在搬運中進行顯像，沖洗，乾燥等一連串 的顯像處理過程。此種平流方式是與將基板施以旋轉運動 的自旋方式相比較，具有基板之處理或搬運系統或驅動系 統的構成較簡單，噴霧發生或對於基板的再附著較少等的 優點。 (發明欲解決之課題） 在習知的平流方式中，在基板搬運路上的所定位置分 別固定配設顯像液供給噴嘴或沖洗液供給噴嘴，當基板通 過各噴嘴附近（通常爲正下方）之際，則由各噴嘴吐出處 理液（顯像液，沖洗液），俾將處理液供給於基板的被處 理面。在此，將搬運方向的基板長度尺寸作爲L，搬運速 度作爲V，則欲將處理液供給於一基板的整體被處理面所 需時間（處理液供給時間）T，是以下式槪略地賦與。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4- 541620 A7 B7 五、發明説明（2) T = L / V ...... ( 1 ) 依照上式（1 )，與基板尺寸（L )變大成正比例地 處理液供給時間T會變久，此乃成爲在顯像處理過程上煩 雜的問題。亦即，在平流方式中，處理液供給時間T也是 接受基板的搬運方向的一端部（前端部）與另一端部（後 端部）之間的處理液的供給的時間差，而處理液爲顯像液 時是成爲開始顯像的時間差。該時間差（T )愈大，則在 基板上的顯像品質上參差不齊而有降低面內均勻性的缺點 問題。 對於該缺點問題，習知就有提高搬運速度V的方法， 惟在平流方式上，搬運速度V有界限，若搬運速度V愈高 速，則基板在搬運路上所受損傷的可能性也變高，而不能 說是有效的解決方法。 本發明是鑑於如上述的習知技術的缺點問題而創作者 ，其目的是在於提供一種舖設在水平方向的搬運路上一面 搬運被處理基板一面在短時間內有效率地進行顯像處理。 (解決課題所用之手段） 爲了達成上述目的，本發明的顯像處理裝置，其特徵 爲具備： 將被處理基板大約水平地載置並予以搬運所用的搬運 體朝水平方向舖設所成的搬運路，及 在上述搬運路上爲了搬運上述基板而驅動上述搬運體 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 、訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 541620 A7 B7 五、發明説明（3) 的搬運驅動手段，及 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 將顯像處理用所定處理液供給於上述搬運路上的上述 基板的被處理面所用的包含1或複數噴嘴的處理液供給手 段，及 將上述處理液供給手段的至少一具噴嘴作成可動噴嘴 而沿著上述搬運路進行移動所用的噴嘴掃描手段。 在上述構成中，對於搬運在搬運路上的被處理基板， 藉由噴嘴掃描手段，使得處理液供給手段的可動噴嘴一面 吐出一面沿著搬運路移動或掃描，實質上不會受到基板搬 運速度或基板尺寸的影響，可將處理液在短時間內普遍地 供給於基板的整體被處理面。 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 在本發明的顯像處理裝置中，較佳一形態的噴嘴掃描 手段是具備：支持可動噴嘴的噴嘴支持部，及在搬運路上 方用以引導噴嘴支持部的引導部，及沿著該引導部能移動 而驅動噴嘴支持部的構成。在該構成中，可安定地高速移 動與噴嘴支持部一體的可動噴嘴。又，將昇降噴嘴的手段 設在例如噴嘴支持部，並可調節或變更可動噴嘴的高度位 置也可以。 又，藉由以蓋體覆蓋可動噴嘴的可移動的搬運路上的 空間’可形成來自外部的異物不容易進入蓋體內側的正常 處理空間。 在本發明的顯像處理裝置中，作爲基本形態可設置沿 著搬運路’將顯像液供給於基板的被處理面並予以顯像的 顯像部，及位於比該顯像部更下游側，將純水供給於基板 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 -6 - 541620 A7 B7 五、發明説明（4) 的被處理面並予以停止顯像所用的沖洗部。這時候可設置 收集在顯像部內掉至搬運路下面的液所用的第一集液部’ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 及收集在沖洗部內掉至搬運路下面的液所用的第二集液部 〇 依照本發明的一態樣，處理液供給手段包含在顯像部 內將顯像液噴上基板的被處理面所用的第一可動噴嘴；噴 嘴掃描手段包含至少在顯像部的區域內將第一可動噴嘴沿 著搬運路進行移動所用的第一噴嘴掃描部。在該構成’藉 由本發明的噴嘴掃描方式在短時間內有效率地進行噴射式 顯像過程，而可得到良好的顯像品質。 依照本發明的另一態樣，處理液供給手段包含在顯像 部內將顯像液盛滿流於基板的被處理面所用的第二可動噴 嘴；噴嘴掃描手段包含至少在顯像部的區域內將第二可動 噴嘴沿著搬運路進行移動所用的第二噴嘴掃描部。在該構 成，藉由本發明的噴嘴掃描方式在短時間內有效率地進行 閘門式顯像過程，而可得到良好的顯像品質。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 依照本發明的另一態樣，處理液供給手段包含在顯像 部內將預濕用處理液在顯像之前噴上基板的被處理面所用 的第三可動噴嘴；噴嘴掃描手段至少在顯像部的區域內將 第三可動噴嘴沿著搬運路進行移動所用的第三噴嘴掃描部 。在該構成，藉由本發明的噴嘴掃描方式在短時間內有效 率地進行在正規顯像過程之前的預濕過程，而可得到良好 的顯像品質。 依照本發明的另一態樣，處理液供給手段包含在沖洗 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 541620 A7 B7 五、發明説明（5) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 部內將沖洗液噴上基板的被處理面所用的第四可動噴嘴； 噴嘴掃描手段包含至少在沖洗部的區域內將第四可動噴嘴 沿著搬運路進行移動所用的第四噴嘴掃描部。在該構成， 藉由本發明的噴嘴掃描方式在短時間內有效率地進行用以 停止顯像所用沖洗過程，而可得到良好的顯像品質。 在本發明的顯像處理裝置中，較理想爲，具有在搬運 路上，爲了以重力從基板上掉下處理液而傾斜基板的基板 傾斜手段的構成。藉由該基板傾斜手段，可從基板上在短 時間內有效率地掉落液處理後的液，同時有效率地回收。 作爲本發明基板傾斜手段的一態樣，可作成具有爲了 以重力從基板上掉落使用於顯像的顯像液而傾斜基板的構 成，或具有爲了以重力從基板上掉落使用於預濕的處理液 而傾斜基板的構成。傾斜基板的方向，是搬運路的前方或 後方。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又，作爲上述基板傾斜手段的代用，或與其倂用，具 有在搬運路上爲了從水平姿勢的基板上除去處理液而將所 定物理力沿著基板表面朝水平方向相對地移動的處理液除 去手段的構成較理想。 作爲該處理液除去手段的一態樣，設置爲了從被搬運 在搬運路上的基板上除去使用於顯像的顯像液而在第一位 置將銳利的氣體流接觸在基板表面的氣體噴射手段的構成 ，或是設置爲了從被搬運路上的基板上除去使用於停止顯 像的沖洗液而在第二位置將銳利的氣體流接觸在基板表面 的氣體噴射手段的構成。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8- 541620 A7 B7 五、發明説明（6) 在本發明的顯像處理裝置，藉由設置如上述的基板傾、 斜手段或氣體噴射手段，例如設置在顯像部內主要爲了收 集使用於顯像的顯像液的顯像液用集液部的構成，或是設 置在顯像部內主要爲了收集使用於預濕的處理液的預濕液 用集液部的構成。 本發明的顯像處理裝置的搬運路的較佳態樣，爲將包 含結合於可旋轉之軸的至少一對滾子的基板搬運體朝水平 方向舖設所成的滾子搬運式的搬運路。 (發明之實施形態） 以下，參照所附圖式說明本發明的較佳實施形態。 在第1圖表示作爲可適用本發明的顯像處理裝置的一 構成例的塗布顯像處理系統。該塗布顯像處理系統1 0是 設在潔淨室內，例如將L C D基板作爲被處理基板，在 L C D製程中進行微影成像過程中的洗淨。光阻劑塗布， 預烘焙，顯像及主烘焙等的各處理者。曝光處理是鄰設於 該系統的外部曝光裝置1 2所進行。 該塗布顯像處理系統1 0是在中心部配置橫長的處理 站（P/S) 16,而在其長度方向（X方向）兩端部配 置卡式晶舟站（C/S) 14及介面站（I/F) 18。 卡式晶舟站（C / S ) 1 4是系統1 0的卡式晶舟搬 入出通路，具備：將基板G多段地重疊而可收容複數枚卡 式晶舟C朝例如Y方向的水平方向排列4個並可載置的卡 式晶舟台2 0 ，及對於該台2 0上的卡式晶舟C進行基板 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •^^衣· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -9 - 541620 A7 B7 五、發明説明（7) G的進出的搬運機構2 2。搬運機構2 2是具有可保持基 板G的手段，例如搬運臂2 2 a，在X，Y，Z，Q的四 軸可進行動作，成爲進行鄰接的處理站（P / S ) 1 6側 與基板G的交接。 處理站（P / S ) 1 6是將各處理部依處理流程或過 程的順序地配置在朝系統長度方向（X方向）延伸的平行 且相反方向的一對處理線A，B。更具體而言，在從卡式 晶舟站（C / S ) 1 4側朝介面站（I / F ) 1 8側的上 游部的處理線A，橫一列地配置洗淨處理部2 4，及第二 熱性的處理部2 6，及塗布處理部2 8，及第二熱性處理 部3 0。另一方面，在從介面站（I / F ) 1 8側朝卡式 晶舟（C / S ) 1 4側的下游部的處理線B，橫一列地配 置第二熱性處理部3 0，及顯像處理部3 2，及脫色處理 部3 4，及第三熱性處理部3 6。在該處理形態中，該處 理線形態，第二熱性處理部3 0位於上游側的處理線A的 最後，同時位於下游側的處理線B的前頭，而橫跨於兩處 理線A，B間。 在兩處理線A，B之間設置補助搬運空間3 8，而以 一枚單位水平地可載置基板G的梭4 0藉由未圖予的驅動 機構成爲在處理線方向（X方向）可朝雙方向移動。 在上游部的處理線A中，洗淨處理部2 4是包含洗滌 洗淨單元（S C R ) 4 2 ;在與該洗滌洗淨單元（S C R )4 2內的卡式晶舟站（C / S ) 1 4相鄰接的場所配置 激元U V照射單元（e — U V ) 4 1。雖未圖示，洗滌洗 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -10- 541620 A7 B7 五、發明説明（8) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 淨單元（S C R ) 4 2內的洗淨部’是將L C D基板G藉 由滾子搬運或皮帶搬運一面以水平姿勢朝處理線A方向搬 運一面在基板G之上面（被處理面）施以刷子洗淨或吹風 洗淨。 鄰接於洗淨處理部2 4的下游側的第一熱性處理部 2 6，是沿著處理線A在中心部設置縱型搬運機構4 6 ; 在其前後兩側多段地積層配置複數單元。例如第2圖所示 ，在上游側的多段單元部（T B ) 4 4，由下依順序地重 疊有基板交接用通路單元（PASS) 50，脫水烘焙用 加熱單元（DHP) 52，54及黏接單元（AD) 56 。在此，通路單元（PASS) 50是使用於用以進行洗 滌洗淨單元（S C R ) 4 2側與基板G的交接。又，在下 游側的多段單元部（T B ) 4 8，由下依順序地重疊有基 板交接用通路單元（PASS) 60，冷卻單元（CL) 62，64，及黏接單元（AD) 60。在此，通路單元 (P A S S ) 6 0是進行塗布處理部2 8側與基板G的交 接者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如第2圖所示地，搬運機構4 6是具有：沿著朝垂直 方向延伸的導軌6 8而可昇降移動的昇降搬運體7 0，及 在該昇降搬運體7 0上朝Θ方向旋轉或可迴旋的迴旋搬運 體7 2，及一面在該迴旋搬運體7 2上支持基板G —面可 朝前進方向進退或伸縮的搬運臂或小鉗子7 4。用以昇降 驅動昇降搬運體7 0的驅動部7 6設於垂直導軌6 8的基 端側，而用以迴旋驅動迴旋搬運體7 2的驅動部7 8安裝 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -11 - 541620 A7 B7 五、發明説明（9) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於垂直搬運體7 0 ;用以進退驅動搬運臂7 4的驅動部 80安裝於迴旋搬運體72。各驅動部76，78 ’ 80 是例如可由電動馬達等所構成。 如上所構成的搬運機構4 6，是高速地昇降或迴旋運 動而可存取兩鄰接的多段單元部（TB) ，44 ’48中 的任意單元，成爲補助搬運空間3 8側的梭4 0也可交接 基板G。 如第1圖所示地，鄰接於第一熱性處理部2 6下游側 的塗布處理部2 8，是沿著處理線A —列配置光阻塗布單 元（CT) 82，減壓乾燥單元（VD) 84及邊緣除去 單元（ER) 84。雖省略圖示，在塗布處理部28內， 於此些三個單元（CT) 82，（VD) 84，（ER) 8 6設置用以依過程順序一枚一枚搬入，搬出基板G的搬 運裝置。在各單元（CT) 82，（VD)84，（ER )8 6內成爲以基板一枚單位進行各處理。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 鄰接於塗布處理部2 8的下游側的第二熱性處理部 3 〇，是具有與上述第一熱性處理部2 6同樣的構成，在 兩處理線A，B之間設置縱型搬運機構9 0，在處理線A 側（最後端）設置其中一方的多段單元部（T B ) 8 8， 而在處理線B側（前頭）設置另一方的多段單元部（T B )9 2 °
雖未圖示，例如在處理線A側的多段單元部（τ B ) 88，基板交接用通路單元（PASS)設在最下段，而 在其上面例如可重疊三段預烘焙用的加熱單元（P R E 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 541620 A7 B7 五、發明説明（ BAKE)。又，在處理線B側的多段單元部（T B ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 9 2，基板交換用通路單元（PAS S)設在最下段，而 在其上面例如可重疊一段冷卻單元（C〇L)，而在其上 面例如可重疊兩段預烘焙用的加熱單元（PREBADE )。 第二熱性處理部3 0的搬運機構9 0是不僅經由兩多 段單元部（TB) 88，92的各該通路單元（PASS )以 一枚單位可交換基板G在塗布處理部2 8及顯像處理裝置 3 2，而且成爲以一枚單位也可交接基板G在補助搬運空 ~間38內的梭40或下述的介面站（I/F) 18。 在下游部的處理線B中，顯像處理部3 2是包含一面 以水平姿勢搬運基板G —面進行一連串的顯像處理過程的 所謂平流方式的顯像單元（D E V ) 9 4。該顯像單元 9 4的構成與作用如下所詳述。 在顯像處理部3 2下游側隔著脫色處理部3 4配設有 第三熱性處理部3 6。脫色處理部3 4是具備將i線（波 長3 6 5 nm)照射在基板G的被處理面而用以進行脫色 處理的i線U V照射單元（i 一 U V ) 9 6。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第三熱性處理部3 6是具有與上述第一熱性處理部 2 6或第二熱性處理部3 0同樣的構成，沿著處理線B設 置搬運機構1 0 0及於其前後兩側設置一對多段單元部（ T B ) 9 8，1 0 2。 雖省略圖示，例如在上游側多段單元（T B ) 9 8， 通路單元（P A S S )設在最下段，而在其上面例如可重 疊三段主烘焙用的加熱單元（P〇BAKE)。又，在下 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -13 - 541620 A7 B7 五、發明説明（y 游側的多段單元部（τ B ) 1 〇 2 ’主烘焙單元（ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) P〇BAKE)設在最下段，而在其上面可重疊一段基板 交接及冷卻用的通路，冷卻單元（PASS COL)’ 而在其上面可重疊兩段主烘焙用的加熱單元（ P 〇 B A K E )。 第三熱性處理部3 6的搬運機構1 0 0是不僅經由兩 多段單元部（TB) 98，102的各該通路單元（ PASS)及通路，冷卻單元（PASS C〇L)以一 枚單位可交接基板G在i線U V照射單元（i 一 U V ) 9 6及卡式晶舟站（C/S) 14，而且成爲以一枚單位 也可交接基板G在補助搬運空間3 8內的梭4 0。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 介面站（I /F ) 1 8是具有進行鄰接的曝光裝置 1 2與基板G的互相交往所用的搬運裝置1 〇 4，而在其 周圍配置緩衝台（BUF) 106，擴展，冷卻台（ EXT.C0L) 108及周邊裝置11〇。在緩衝台（ B U F ) 1 〇 6設在定置型緩衝卡式晶舟（未圖示）。擴 展，冷卻台（E X T . C〇L ) 1 〇 8，是兼備冷卻功能 的基板交接用台，使用於互相交往處理站（P / S ) 1 6 側與基板G時。周邊裝置1 1 〇是例如可作成上下地重疊 字幕記錄裝置（Τ I TLER)與周邊曝光裝置（ee) 。搬運裝置1 0 4是具有可保持基板G的手段的例如搬運 臂1 0 4 a，成爲可進行鄰接的曝光裝置1 2或各單元（ BUF)106，（EXT，C〇L)108，（ TITLER/EE)11〇與基板G的交接。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ' 一 -14 - 541620 A7 B7 五、發明説明（〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在第3圖表示該塗布顯像處理系統的處理程序。首先 ，在卡式晶舟站（C/S) 14中，搬運機構22從台 2 0上的所定卡式晶舟C中取出一基板G，並搬進處理站 (P / S ) 1 6的洗淨處理部2 4的激元U V照射單元（ e— UV) 41 (步驟 S1)。 在激元U V照射單元（e - U V ) 4 1內，基板G是 施以依紫外線照射的乾式洗淨（步驟S 2 )。在該紫外線 洗淨主要除去基板表面的有機物。終了紫外線洗淨後，基 板G是藉由卡式晶舟站（C/S) 14的搬運機構22移 行洗淨處理部2 4的洗滌洗淨單元（S C R ) 4 2。 在洗滌洗淨單元（S C R ) 4 2，如上述地藉由將基 板G利用滾子搬運或皮帶搬運而以水平姿勢朝處理線A方 向平流而一面搬運一面在基板G上面（被處理面）施以刷 子洗淨或吹風洗淨，俾從基板表面除去粒子狀的污垢（步 驟S 3 )。又，洗淨後也平流基板G而一面搬運一面藉由 氣體切割等除去液體，俾乾燥基板G。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在洗滌洗淨單元（S C R ) 4 2內經洗淨處理後的基 板G，是被搬進第一熱性處理部2 6的上游側多段單元部 (TB) 44內的通路單元（PASS) 50。 在第一熱性處理部2 6中，基板G是利用搬運機構 4 6以所定順序移行所定單元。例如，基板G是最初從通 路單元（PASS) 50移行至加熱單元（DHP) 52 ’5 4的一單元，而在該單元受脫水處理（步驟S 4)。 之後，基板G是被移至冷卻單元（COL) 62，64的 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -15- 541620 A7 B7 五、發明説明（1会 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一單元，在該單元被冷卻至一定基板溫度（步驟s 5)。 然後，基板G是被移至黏接單元（AD) 5 6，在該單元 接收疏水化處理（步驟S 6 )。在終了該疏水化處理之後 ，基板G是在冷卻單元（COL) 62，64的一單元而 被冷卻至一定的基板溫度（步驟S 7 )。最後，基板G是 被移至屬於下游側多段單元部（T B ) 4 8的通路單元（ P A S S ) 5 0。 如此地，在第一熱性處理部2 6內，基板G經由搬運 機構4 6成爲可任意地往來於上游側多段單元部（T B ) 4 4與下游側多段單元部（T B ) 4 8之間。又，在第二 及第三熱性處理部3 0，3 6也成爲可進行同樣的基板搬 運動作。 在第一熱性處理部2 6接受如上述的一連串的熱性或 熱系處理的基板G，是從下游側多段單元部（T B ) 4 8 內的通路單元（P A S S ) 6 0被移至下游側旁邊的塗布 處理部2 8的光阻塗布單元（CT) 82。 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 基板G是在光阻塗布單元（c T )利用例如旋轉塗膜 法將光阻液塗布在基板上面（被處理面），之後立即在下 游側旁邊的減壓乾燥單元（X D ) 8 4接受依減壓的乾燥 處理’然後在下游側旁邊的邊緣除去單元（F R ) 8 6被 除去基板周緣部的多餘的劣阻劑（步驟S 8 )。
接受如上述的光阻塗布處理的基板G，是從減壓乾燥 單元（V D ) 8 4交接給屬於旁邊的第二熱性處理部3 0 的上游側多段單元部（T B ) 8 8的通路單元（P S A A 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公慶)~一 -16- 541620 A7 B7 五、發明説明（ )° 在弟一*熱性處理部3 0內，基板G是利用搬運機構 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 9 0以所定順序被移至所定單元。例如基板G是最初從該 通路單元（PASS)被移至加熱單元（PREBAKE )的一單元，而在該單元接受光阻塗布後的烘焙（步驟 S9)。然後，基板G是被移至冷卻單元（C〇L)的一 單元，而在該單元被冷卻至一定的基板溫度步驟S 1 〇 ) 。然後，基板G是經由下游側多段單元部（T B ) 9 2側 的通路單元（PASS)，或是未經由而被交接至介面站 (I / F ) 1 8側的擴展，冷卻台（E X T，C〇L ) 10 8° 在介面站（I/F) 18中，基板G是從擴展，冷卻 或（EXT，COL) 108搬進周邊裝置110的周邊 曝光裝置（E E )，在該裝置接受在顯像時用以除去附著 在基板G的周邊的光阻的曝光之後，被送至旁邊的曝光裝 置1 2 (步驟S 1 1 )。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在曝光裝置1 2，所定電路圖案被曝光在基板G上的 光阻。之後，完成圖案曝光的基板G，是從曝光裝置1 2 回到介面站（I / F ) 1 8 (步驟S 1 1 )時，則先被搬 進周邊裝置110的字幕記錄裝置（TITLER)，而 在該裝置有所定資訊被記錄在所定部位（步驟S 1 2 )。 然後，基板G是回到擴展，冷卻台（EXT，COL) 108。藉由搬運裝置104進行介面站（I/F) 18 的基板G的搬運及曝光裝置1 2的基板G的互相交往。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -17- 541620 A7 B7 五、發明説明（1会 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在處理站（P / S ) 1 6中，在第二熱性處理部3 0 ，搬運機構90由擴展冷卻台（EXT，COL) 108 接受經曝光的基板G，經由處理線B側的多段單元部（ TB) 9 2內的通路單元（PASS)交接至顯像處理部 3 2° 在顯像處理部3 2，將從該多段單元部（T B ) 9 2 內的通路單元（P A S S )接受的基板G搬進顯像單元（ DEV) 94。在顯像單元（DEV) 94，基板G是以 平流方式朝處理線B下游使用姿勢被搬運，而在該搬運中 進行顯像，沖先，乾燥的一連串顯像處理過程（步驟 S 1 3 )。 在顯像處理部3 2受到顯像處理的基板G是被搬進下 游側旁邊的脫色處理3 4，在該處理部接受i線照射的脫 色處理（步驟S 1 4 )。經脫色處理的基板G，是被交接 於第三熱性處理部3 6的上游側多段單元部（T B ) 9 8 內的通路單元（PASS)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在第三熱性處理部（T B ) 9 8，基板G是最初從該 通路單元（PAS S)被移至加熱單位（POBAKE) 的一單元，在該單元接受主烘焙（步驟s 1 5 )。之後’ 基板G是被移至下游側多段段單兀部（T B ) 1 〇 2內的 通路冷卻單位（PASS，COL)，在該單元被冷卻至 所定的基板溫度（步驟S 1 6 )。第三熱性處理部3 6的 基板G的搬運是藉由搬運機構1 0 〇所進行。 在卡匣晶舟站（C / S ) 1 4側，搬運機構2 2從第 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇><297公釐） -18- 541620 Α7 Β7 五、發明説明（d (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 三熱性處理部36的通路冷卻單元（PASS，COL) 接受完成塗布顯像處理的全過程的基板G，並將所接受的 基板G收容在任一卡式晶舟站C (步驟S 1 )。 在該塗布顯像處理系統1 0中，可將本發明適用於顯 像處理部3 2的顯像單元（D E V ) 9 4。以下，參照第 4圖至第1 4圖說明將本發明適用於顯像單元（d E V ) 9 4的一實施形態。 在第4圖模式地表示依本發明的一實施形態的顯像單 元（D E V ) 9 4內的整體構成。該顯像單元（e D V ) 9 4是一列地連續配置形成沿著處理線B朝水平方向（X 方向）延伸的連續性搬運路1 0 8的複數例如8個模組 Μ 1至Μ 8所形成。 這些模組Μ 1至Μ 8中，以位於最上游端的模組Μ 1 構成基板搬入部1 1 0 ;以連續於其後的4個模組Μ 2， Μ 3，Μ 4，Μ 5構成顯像部1 1 2 ;以以後的模組Μ 6 構成沖洗部1 1 4，以以後的模組Μ 7構成乾燥部1 1 6 ，以最後端的模組Μ 8構成基板搬出部1 1 8。 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 在基板搬入部1 1 0，設有將從旁邊的基板搬運機構 (未圖示）交給的基板G以水平姿勢接受而移載於搬運路 1 0 8上所用的可昇降的複數支昇降梢2 0。在基板搬出 部1 1 8，也設有將基板G以水平姿勢抬高並交給旁邊的 基板搬運機構（未圖示）所用的可昇降的複數支昇降梢 12 2° 更具體而言，顯像部1 1 2是在模組Μ 2設置預濕部 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -19- 541620 A7 B7 五、發明説明（ 1 2 4 ;在模組Μ 3，Μ 4設置顯像液供給部1 2 6 ;在 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 模組Μ 5設置顯像液除去部1 2 8。在預濕部1 2 4，設 在搬運路1 0 8朝向噴嘴吐出口，沿著搬運路1 〇 8可移 向雙方向，用以將例如純水的預濕液供給於基板的一個或 複數個預濕液供給噴嘴Ρ Ν。在顯像液供給部1 2 6，設 置在搬運路1 0 8朝向噴嘴吐出口，沿著搬運路1 〇 8可 移向雙方向的一個或複數個預濕供給噴嘴D Ν，在該構成 例中，在模組Μ 3，Μ 4每一個設有可獨立地移動的顯像 液供給噴嘴D N a ’ D N b。在顯像液除去部1 2 8及預 濕部1 2 4，設有用以將基板G予以傾斜的下述的基板傾 斜機構1 8〇（第1 1圖，第1 2圖）。 在沖洗部1 1 4，設置在搬運路1 〇 8朝向噴嘴吐出 口，沿著搬運路1 0 8可移向雙方向，用以將例如純水的 基板沖洗液供給於基板的一個或複數個沖洗液供給噴嘴 R N。在乾燥部1 1 6，設置用以液體除去沿著搬運路 1 0 8附著於基板G的液（主要爲沖洗液）的一對或複數 氣體切割部E N成爲隔著搬運路1 〇 8之狀態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在顯像部1 1 2及沖洗部1 1 4中，分別設有用以收 集掉落在搬運路108下面的液的盤130，132， 1 3 4。在顯像部1 1 2中，更具體而言，在預濕部 1 2 4與顯像液供給部1 2 6及顯像液除去部1 2 8分別 設有專用盤130，132，134。在各盤130， 1 3 2的底設有排液□，而在該處連接有排液管1 3 1， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20- 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 541620 A7 B7 五、發明説明（ 在第5圖至第8圖表示基板搬入部1 1 〇及預濕部 124的搬運路108周圍的構成。 搬運路1 0 8是作爲將隔著所定間隔固定於可旋轉的 軸1 3 6的一對搬運輥1 3 8 A，1 3 8 B沿著處理線B 水平地舖設所形成的滾子搬運型搬運路的構成。 更具體而言，在各模組Μ的左右兩側壁的上部或軸腳 構件1 4 0，於處理線Β之方向以一定間隔安裝有軸承 1 4 2 A，1 4 2 Β，而軸1 3 6可旋轉地橫跨於各一對 軸承142A，142B成爲將搬運輥138A， 1 3 8 B位於左右兩側壁的內側。在各軸1 3 6的一邊軸 承1 4 2 A更朝外側延長的一端部固裝有螺輪1 4 4，而 在各軸1 3 6側的各螺輪1 4 4從直角方向嚙合有朝處理 線B方向延伸的旋轉驅動軸1 4 6側的各螺輪1 4 8。旋 轉驅動軸1 4 6是結合在電動馬達1 5 0的旋轉軸。當電 動馬達1 5 0將旋轉驅動軸1 4 6朝所定方向旋轉驅動時 ，該旋轉驅動力從旋轉軸1 4 6側的各螺輪1 4 8被傳動 至搬運用軸1 3 6側的螺輪1 4 4，成爲各軸1 3 6的搬 運輥1 3 8A，1 3 8B朝所定方向（將基板G移送至搬 運路1 0 8的前方的方向）旋轉之狀態。 在基板搬運部1 1 0中，基板交接用昇降梢1 2 0係 以所定間隔離散地豎設或植設在水平地配設在搬運路 1 0 8下面的昇降板1 5 2。在該昇降板1 5 2下面，設 有例如包含氣缸（未圖示）的昇降驅動部1 5 4。 如第7圖所示，當昇降驅動部1 5 4朝所定高度抬高 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-21 - 541620 A7 B7 五、發明説明（d (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 昇降板1 5 2時，昇降梢1 2 0通過軸1 3 6間的間隙而 突出於搬送路1 0 8上，而在該高度位置從旁邊的基板搬 運機構（未圖示）以水平姿勢可接受基板G。 如第8圖所示，在昇降梢1 2 0上交接有基板G時， 則利用昇降驅動部1 5 4將昇降板1 5 2下降至原來位置 ，在其下降途中能使基板G的兩端部（搬運路1 〇 8的寬 度方向的兩端部）能載置於搬運輥1 3 8A，1 3 8B， 而基板G是以水平姿勢被移載至搬運路1 〇 8上。又’各 搬運輥1 3 8 A，1 3 8 B的外徑是在內側（軸中心側） 成爲更細，成爲基板G之一端部載置於該小徑部1 3 9。 在第4圖中，預濕液供給噴嘴P N，顯像液供給噴嘴 D N a，D N b及沖洗液供給噴嘴R N，係成爲分別藉由 噴嘴掃描機構S Cp，S CN&S (：!^與搬運路1 〇 8平行 地移動搬運路108上方。 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 在第9圖及第1 0，表示依一實施例的噴嘴掃描機構 S C ( S C p，S C n，S C R )的構成。該噴嘴掃描機構 SC是具有：用以支持可動噴嘴N(PN，DNa， DNb，RN)的斷面呈例〕狀的噴嘴支持體1 56，及 在搬運路1 0 8上方與搬運路1 0 8平行地用以引導噴嘴 支持體156的導軌158 (第9圖），及能沿著導軌 1 5 8移動地驅動噴嘴支持體1 5 6的掃描驅動部1 6 0 〇 如第1 0圖所示，掃描驅動部1 6 0是例如將經由一 支或複數支垂直支持構件1 6 1被結合於噴嘴搬運體 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -22- 541620 A7 B7 五、發明説明（ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 5 6的一條或複數條無端帶1 6 2與導軌1 5 8 (第9 圖）平行地（亦即與搬運路1 0 8平行地）跨設在驅動帶 輪1 6 4與從動帶輪1 6 6之間，並將驅動帶輪1 6 4作 動結合於電動馬達1 6 8的驅動軸。電動馬達1 6 8的旋 轉驅動力經由帶輪1 6 4，1 6 6及皮帶1 6 2變換成皮 帶長度方向（X方向）的噴嘴搬運體1 5 6的直進運動。 藉由控制電路馬達1 6 8的旋轉速度而將噴嘴搬運體 1 5 6的直進移動速度調節成所期望値，藉由切換電動馬 達1 6 8的旋轉方向而可切換噴嘴搬運體1 5 6的直進移 動方向。又，在第10圖，爲了簡化圖解，導軌158是 未予圖示。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在噴嘴搬運體1 5 6中，例如氣缸等致動器所構成的 昇降驅動部1 7 0分別安裝於左右兩側面的內壁，而例如 中空管所構成的水平支持棒1 7 2水平地跨設在此些左右 一對昇降驅動部1 7 0之間。在從該水平支持棒1 7 2的 中心部朝垂直下方延伸的例如中空管所構成的垂直支持棒 1 7 4的下端部有筒狀可動噴嘴Ν朝下方水平地安裝吐出 口 η。噴嘴Ν的吐出口 η是在搬運路1 〇 8的寬度方向從 基板G的一端至另一端可大約均勻地供給處理液的範圍而 以一定間隔形成多數於噴嘴長度方向。 在噴嘴搬運體1 5 6內，可動噴嘴Ν是藉由昇降驅動 部1 7 0的昇降驅動而經由水平支持棒1 7 2及垂直支持 棒1 7 4成爲可昇降之狀態，通常是成爲能上下在朝搬運 路1 0 8上的基板G用以吐出處理液的高度位置η a及在 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -23- 541620 Α7 Β7 五、發明説明（2) 未吐出處理液的期間用以從搬運路1 0 8迴避的高度位置 H b之間。在水平支持棒1 7 2之一端部收容有來自設於 搬運路1 0 8外的處理液供給源（未圖示）的可撓性處理 液供給管1 7 6。該處理液供給管1 7 6是經水平支持棒 1 7 2及垂直支持棒1 7 4中而被連接於噴嘴N的處理液 導入口。 如第9圖所示，較理想爲沿著搬運路1 0 8可設置用 以從外部遮蔽搬運路1 0 8上的可動噴嘴N的可動區域（ X方向及Z方向的斷面反j狀的蓋體1 7 8。在圖示的構 成例中，將蓋體1 7 8的左右兩側面垂下至該模組Μ的左 右兩側壁的上端部或軸腳構件1 4 0，俾儘量減少間隙。 在蓋體1 7 8的上面或頂面也可形成用以通過水平支持棒 1 7 2的開縫（開口）1 7 8 a。如此地，藉由蓋體 1 7 8從掃描驅動系統遮蔽或隔離可動噴嘴N，成爲在蓋 體1 7 8內側的異物較少的處理空間P S可將處理液由可 動噴嘴N可供給於搬運路1 0 8上的基板G。 在第5圖及第6圖中，在預濕部1 2 4設有依一實施 例的基板傾斜機構1 8 0。該基板傾斜機構1 8 0是具有 :可昇降且可朝前後方向傾斜地配置於搬運路1 0 8下方 的底板1 8 2，及隔著所定間隔離散地豎設或植設於該底 板1 8 2上面的複數支的昇降梢1 8 4。及經昇降軸 1 8 6從下方支持底板1 8 2而能進行昇降驅動及傾斜驅 動所用的驅動部1 8 8。昇降軸1 8 6是貫通形成於該模 組Μ 2及顯像液盤1 3 0的底板的開口 1 9 0，在顯像液 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 -24- 541620 A7 B7 五、發明説明（2$ 盤1 3 0的內底形成有用以防止漏液的筒狀壁部1 3 0 a 於開口 1 9 0的周圍。 在最後端列的昇降梢1 8 4的正後方，作爲在傾斜時 擋住基板G後端俾用以防止掉落的掉落防止手段，例如橡 膠製筒狀止動構件1 9 4可旋地安裝於從昇降梢1 8 4朝 後方分岐並直立的分岐梢1 9 2。 以下，參照第1 1圖及第1 2圖說明基板傾斜機構 1 8 0的作用。當基板G在搬運路1 0 8上到達基板傾斜 機構1 8 0的正上方，則所定位置感測器（未圖示）檢測 基板G，隨著由該感測器輸出的信號使得搬運驅動系統的 控制部至少停止該模組內的所有搬運輥1 3 8 A， 1 3 8 B的旋轉，俾靜止基板G。 之後立即作動基板傾斜機構1 8 0的控制器（未圖示 )，俾作動驅動部1 8 8，並上昇昇降軸1 8 6。如此， 如第1 1圖所示，也上昇底板1 82及昇降梢1 84。使 得昇降梢1 8 4從下方突出而朝搬運路1 0 8之上方抬高 基板G。 之後，該控制器控制驅動部1 8 8，將底板1 8 2以 朝搬運路1 0 8的寬度方向延伸的軸1 9 6作爲中心僅朝 前後方向轉動，較理想是如同示地僅朝後方轉動所定角度 (例如1 0 °至2 0 ° )。構成如此，則如第1 2圖所示 比底板1 8 2更上方部分，亦即昇降梢1 9 2，止動構件 1 9 4，基板G也在搬運路1 〇 8上僅朝後轉動相同角度 。這時候，基板G是在昇降梢1 8 4上僅朝後方梢滑落而 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 -25- 541620 A7 B7 五、發明説明（ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 被擋住在止動構件1 9 4。但是，盛滿或附著於基板G上 的液Q是以重力朝後方滑落基板傾斜面，而掉落至基板外 。從基板G掉落的液Q，是被收集在設置於該模組的盤（ 在預濕部1 2 4爲預濕液盤1 3 0 )。 保持如上述的傾斜姿勢一定時間之後，在該控制器之 控制下，驅動部1 8 8是將底板1 8 2朝與上述相反方向 而僅轉動與上述相等的角度恢復成水平姿勢（第1 1圖的 狀態），之後將昇降軸1 8 6下降至原來位置（第6圖的 位置）。 又，在預濕部1 2 4，將基板G朝搬運方向而且使得 進行下一過程的顯像液供給部1 2 6側成爲上側地傾斜之 故，因而在預濕部1 2 4傾斜基板G而進行除去液時，可 減少掉落於預濕液盤1 3 0而反彈的液附著於進行下一過 程的顯像液供給部1 2 6側的基板G的可能性。 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 以下，說明該顯像單元（D E V ) 9 4的作用。基板 搬入部1 1 0是如上述在第7圖及第8圖，以一枚單位從 旁邊的基板搬運機構（未圖示）接受基板G而移載至搬運 路1 0 8。構成搬運路1 0 8的搬運用軸1 3 6的搬運輥 1 3 8 A，1 3 8 B是如上述地經由旋轉驅動軸1 4 6， 螺輪1 48，1 44等傳動機構而以電動馬達1 5 0的旋 轉驅動力進行旋轉之故，因而載置於搬運路1 0 8的基板 G立即朝旁邊的顯像部1 1 2搬運。 在顯像部1 1 2中，基板G是首先被搬入預濕部 1 2 4，在滾子搬運中由預濕液供給噴嘴P N噴上作爲預 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -26- 541620 A7 B7 五、發明説明（24 濕液的例如純水或低濃度的顯像液。在該實施形態下，在 第9圖及第1 0圖，藉由如上述的噴嘴掃描機構S CP的掃 描驅動，一面使噴嘴P N沿著搬運路1 〇 8水平地移動， 一面朝搬運中的基板G上面（被處理面）噴上預濕液。碰 到基板G而朝基板外飛散的預濕液或未碰到基板G的預濕 液，是被收集在設在搬運路1 0 8下方的預濕液盤1 3 0 〇 如第1 3 (A)圖所示，設定成一面朝搬運路1 〇 8 上的基板G吐出預濕液一面將掃描噴嘴P N的方向與基板 搬運方向成爲相反方向時，以相加噴嘴掃描速度與基板 搬運速度V ◦的相對速度（V N + V。）使得噴嘴成爲從基 板G之前端掃描至後端，即使基板G的尺寸較大，也在短 時間內可用預濕液濕潤整體基板G的被處理面（光阻表面 )整體。 在預濕部1 2 4內，當基板G到達下流側所定位置時 ，如在第1 1圖及第1 2圖，如上述地使基板傾斜機構 1 8 0作動而抬高基板G在比搬送路1 0 8較高處並朝後 方傾斜。利用該基板G的傾斜姿勢，使得殘留或附著於基 板G上的預濕液的大部分朝基板後方流下而被回收在預濕 液盤1 3 0。 在預濕部1 2 4受到如上述的預濕處理的基板G，是 搭在搬運路1 0 8被搬進顯像液供給部1 2 6。在顯像液 供給部1 2 6，通過最初模組Μ 3之期間，由顯像液供給 噴嘴D N a噴上顯像液，而在通過下一模組Μ 4之期間， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 一 -27- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 541620 A7 _______ B7 _ 五、發明説明（2会 也由顯像液供給噴嘴D N b噴上顯像液。各顯像液供給噴 嘴DN a，DNb是對在第9圖及第1〇圖利用噴嘴掃描 機構S C N的掃描驅動，一面在搬運路1 0 8上方沿著搬 運路1 0 8水平地移動一面朝滾子搬運中的基板G上面（ 被處理面）噴上顯像液。以噴上該顯像液而掉在基板G外 的液，是被收集在設於搬運路1 0 8下方的顯像液盤 13 2° 與上述預濕部1 2 4同樣地，在顯像液供給部1 2 6 ，也如第1 3 (A)圖所示地，一面朝搬運路1 〇 8上的 基板G吐出顯像液一面將掃描噴嘴D N的方向設定成與基 板搬運方向相反的方向也可以。由此，噴嘴D N成爲以相 加噴嘴掃描速度V N與基板搬運速度V。的相對速度（V n + V。）而從基板G的前端掃描至後端，即使基板G的尺寸 較大，也在極短時間內可將顯像液供給於基板G的被處面 (光阻表面）整體。 在該實施形態中，在每一模組Μ 3，Μ 4分別設置顯 像液供給噴嘴D N a，D N b與噴嘴掃描機構S C Η之故 ，因而對於搬運路1 0 8上的基板G隔著時間上且室間上 間隔可供給複數次顯像液，而在第一次與第二次也可變更 顯像液的特性（濃度等）。 在顯像液供給部1 2 6如上述地將顯像液供給於被處 理面整體的基板G是仍搭在搬運路1 0 8上而被搬進顯像 液除去部1 2 8。如此，在顯像液除去部1 2 8內到達下 游側的所定位置時，則設在該處的基板傾斜機構1 8 0進 本紙張尺度適财關家標準（CNS) Α4規格（210 x297公) — -28 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 541620 A7 B7 五、發明説明（2会 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 行作動而將基板G抬高比搬運路1 〇 8較高並將基板G朝 搬運方向，而且例如朝前方傾斜，亦即，傾斜基板G使得 進行上一過程的顯像液供給部1 2 6側成爲上側之狀態。 利用該傾斜姿勢，使得盛滿於基板G上的顯像液的大部分 朝基板流下而被回收在顯像液盤1 3 2。如此地傾斜基板 G使得進行上一過程的顯像液供給部1 2 6側成爲上側之 故，因而在顯像液除去部1 2 8傾斜基板G進行除去液之 際，可減低在顯像液盤1 3 2彈回的液附著於顯像液供給 部1 2 6側的基板G的可能性。 在顯像部1 1 2終了如上述的顯像液之供給與回收的 基板G，是搭在搬運路1 〇 8被搬進沖洗部1 1 4。在沖 洗部1 1 4，對在第9圖及第1 0圖利用如上述的噴嘴掃 描機構S C R的掃描驅動，沖洗液供給噴嘴R Ν沿著搬運路 1 0 8水平地移動，面朝搬運中的基板G上面（被處理面 )噴上例如純水的沖洗液。掉在基板G外的沖洗液，是被 收集在設於搬運路1 〇 8下爲的沖洗液盤1 3 4。 經濟部智慧財產局員工涓費合作社印製 在沖洗部1 1 4，也如第1 3 ( A )圖所示地，一面 朝搬運路1 0 8上的基板G吐出顯像液一面將掃描噴嘴 RN的方向設定成與基板搬運方向相反的方向也可以。由 此，噴嘴R N成爲以相加噴嘴掃描速度V N與基板搬運速度 V c的相對速度（V n + V c )而從基板G的前端掃描至後 端，即使基板G的尺寸較大，也在極短時間內可將沖洗液 供給於基板G的被處理面（光阻表面）整體。又，將洗淨 基板G的背面所用的沖洗液供給噴嘴（未圖示）設在搬運 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X；297公釐） -29 - 541620 A7 B7 五、發明説明（2) 路108下面也可以。 在沖洗部1 1 4終了如上述的沖洗過程的基板G，是 搭在搬運路1 0 8而被搬進乾燥部1 1 6。在乾燥部 1 1 6中，如第4圖所示地，對於被搬運在搬運路1 0 8 上的基板G，利用設在所定位置的上下氣體切割部E N， 將例如空氣的刀狀銳利的氣體流抵在基板上面（被處理面 )及背面，即可將附著於基板G的液（主要爲沖洗液）朝 基板後方擦掉（進行除液）。 在乾燥部1 1 6被除液的基板G是仍搭在搬運路 1 ◦ 8而被運至基板搬出部1 1 8。基板搬出部1 1 8是 具有與基板搬入部1 1 0同樣的構成，只是基板搬運方向 在搬入與搬出成爲相反而與基板搬入部110同樣地動作 。亦即，將基板交接用昇降梢1 2 2待機在比搬運路 1 0 8更低位置，等待從上游側（乾燥部1 1 6 )流來的 基板G，當基板G到達昇降梢1 2 2的正上方的所定位置 ，則朝上方提高昇降梢1 2 2而以水平姿勢抬高基板G， 之後交給旁邊的基板搬運機構（未圖示）° 在該顯像單元（D E V ) 9 4中，將多數基板G隔著 所定間隔在搬運路1 0 8上，一面一列地搬運一面在預濕 部1 2 4，顯像液供給部1 2 6，顯像液除去部1 2 8， 沖洗部1 1 4及乾燥部1 1 6依次進行各處理’即可實現 依所謂管線方式的高效率或高生產量的顯像處理過程。 特別是在預濕部1 2 4，顯像液供給部1 2 6及沖洗 部1 1 4，對於搬運路1 0 8上的基板G ’藉由在搬運路 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -30 541620 Α7 Β7 五、發明説明（ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 0 8上方沿著搬運路1 0 8掃描供給處理液（預濕液， 顯像液，沖洗液）的噴嘴P N，D N a，D N b，R N， 即使基板G的尺寸較大，而搬運路1 〇 8的搬運速度並不 高，也可將處理液在短時間內迅速地普遍地供給於整體基 板被處理面。亦即，在顯像液供給過程中，可儘量地縮短 基板G的搬運方向的一端部（前端部）與另一端部（後端 部）之間的處理液供給的時間差，亦即可儘量地縮短開始 顯像的時間呈之故，因而可提高基板上的顯像品質的面內 均勻性。 又因在預濕部1 2 4，顯像液供給部1 2 6，沖洗部 1 1 4分別設置不同的盤1 3 Ο，1 3 2，1 3 4，因此 可提高各處理液（預濕液，顯像液，沖洗液）的各該回收 率。又在預濕部1 2 4及顯像液除去部1 2 8，利用基板 傾斜機構1 8 0將各該處理液（預濕液，顯像液）在液處 理後從基板G上有效率地回收之故，因而可更提高回收率 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 也可在沖洗部1 1 4設置基板傾斜機構1 8 0之構成 。在沖洗部1 1 4傾斜基板G之際，若將基板G在搬運方 向例如傾斜基板G成爲例如顯像液供給部1 2 6側在上方 較理想。顯像液供給部1 2 6成爲上側地傾斜基板G之故 ，因而使得從沖洗液供給噴嘴R Ν所吐出的沖洗液彈回在 傾斜之基板G上，而可減低彈回的沖洗液附著於顯像液供 給部1 3 6側的基板G的可能性。 又，在該實施形態的噴嘴掃描機構S C，爲作成可將 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -31 - 541620 Α7 Β7 五、發明説明（24 噴嘴N沿著顯像液1 〇 8朝雙方向作掃描的構成，因此如 第13 (B)圖所示地，也可將噴嘴N—面朝與基板搬運 方向相同之方向進行掃描一面將處理液Q供給於基板G的 整體被處理面。這時候，必須將噴嘴掃描速度V N —設定成 比基板搬運速度V G更大的速度。 又，該實施形態是構成在預濕部1 2 4及顯像液供給 部1 2 6進行噴射方式的顯像，但是變形成閘門方式很簡 單，在顯像液供給部1 2 6中，將顯像液供給噴嘴D N a ，D N b從噴射型更換成盛滿液型的吐出構造就可以。又 在閘間方式中，不需要預濕部1 2 4。 在顯像液供給部1 2 6中，也可構成省略顯像液供給 噴嘴D N a，D N b之任一方者（通常爲下游側的D N b )。又，也可將搬運路108上的各可動噴嘴N的可掃描 區域設定在超越1模組Μ的範圍，使得相鄰接的可動噴嘴 可互相跨越在共通導軌的構成。 在該實施形態中，如上所述地，利用配置在顯像部 1 2 2下游部的基板傾斜機構1 8 0，在剛搬進沖洗部 1 1 4之前，能從基板G有效率地回收顯像液。如此地在 剛要做沖洗過程之前，從基板G上有效率地除去顯像液， 乃在沖洗過程中，也有加速對於沖洗液的置換或停止顯像 的優點。 代替此種傾斜方式，或是與該方式倂用，在顯像部 1 2 2與沖洗部1 1 4的境界附近設置如第1 4圖所示的 氣體切割機構的構成也具效果。在第1 4圖中，氣體切割 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -32- 541620 Α7 Β7 五、發明説明（30 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 機構F Ν是具有在搬運路1 〇 8的寬度方向從基板W的端 一直延伸至端的無數空氣吐出口或開縫狀空氣吐出口，在 所定位置對於通過旁邊（正下方）的基板G抵接刀狀的銳 利氣體流（一般爲空氣流或氮氣流）。由此，基板G通過 氣體切割機構F Ν之期間，使得基板上的顯像液Q朝基板 後端側收集而朝基板外面除去。 上述的實施形態的各部的構成是一例，可做各種變形 。例如，可任意地變形噴嘴掃描機構S C的噴嘴支持體 1 5 6或掃描驅動部1 6 0的構成。又，上述的實施形態 的基板傾斜機構1 8 0是將基板G以水平姿勢抬高比搬運 路1 0 8更上方之後才施以傾斜的構成。但是，作爲其他 的方式，也可能爲一開始就將上端面呈傾斜的構件從基板 G下方突出的基板傾斜機構。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在上述的實施形態中，將隔著所定間隔固裝於可旋轉 之軸1 3 6的一對搬運輥1 3 8Α，1 3 8 Β構成朝水平 方向舖設所形成的滾子搬運型搬運路1 〇 8。在此種滾子 搬運型搬運路中，也可以在兩搬運輥138Α，138Β 的中間位置安裝基板搬運用輥。又，在搬運方向分割成複 數搬運路1 0 8的驅動系統，並可獨立控制各分割搬運路 上的搬運動作（速度，停止等）。又，也可爲將隔著一定 間隔朝水平方向舖設一對皮帶所形成的皮帶搬運型搬運路 〇 又，雖未圖示，沿著搬運路移動可動噴嘴所用的噴嘴 掃描手段，也可包含變更可動噴嘴的移動速度的變動手段 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -33- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 541620 A7 B7 五、發明説明（3) 者。從噴嘴所噴出的處理液，是一般容易流向基板的前端 緣及後端緣之故，因而容易滯留在基板的前後端緣。如此 ，藉將噴嘴對於基板的相對速度在基板的前端緣近旁領域 及後端緣近旁領域作成較大，可減少處理液的滯留。一方 面，在基板的中間領域中，處理液是較不會逃逸之故’因 而成爲某一程度的液面高度地減小噴嘴的相對速度。例舉 例示地具體性數値；基板尺寸作爲6 8 0 m m (寬度）X 8 8 0 m m (長度）時，則在距基板的前端緣6 0 m m的 領域及距基板的後端緣1 0 0 m m的領域’將噴嘴的相對 速度例如作爲3 0 0 m m/ s e c ’而在基板的中間領域 例如作爲2 0 0 m m/ s e c。如此地’藉由變更噴嘴的 相對速度，可將液膜成均勻。有關於來自上述的基板的前 後端緣的領域長度，是配合基板尺寸，處理液的種類可力口 以設定。 作爲其他實施形態，處理液供給手段也可包含變更從 噴嘴噴嘴出的處理液的流量的變更手段。這時候，爲了將 液膜成爲均勻，在距基板的前端緣一定領域及距基板的後 端緣一定領域，減小從噴嘴所噴出的處理液流量，而在基 板的中間領域增加從噴嘴所噴出的處理液流量。 本發明的被處理基板是並不被限定在L C D基板者， 包含可適用顯像處理的任意被處理基板。 (發明之效果） 如上所述地，依照本發明的顯像處理裝置，在朝水平 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· -34- 541620 A7 B7 五、發明説明（ 方向舖設的搬運路上一面搬運被處理基板，一面在短時間 內有效率可進行顯像處理，也可得到良好顯像品質。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (圖式之簡單說明） 第1圖是表示可適用本發明的顯像處理裝置的塗布顯 像處理系統的構成的俯視圖。 第2圖是表示實施形態的塗布顯像處理系統的熱性處 理部的構成的側視圖。 第3圖是表示實施形態的塗布顯像處理系統的處理順 序的流程圖。 第4圖是表示實施形態的顯像單元的整體構成的前視 圖。 第5圖是表示實施形態的顯像單元的基板搬入部及預 濕部周圍的構成的俯視圖。 第6圖是表示實施形態的顯像單元的基板搬入部及預 濕部周圍的構成的局部斷面前視圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第7圖是表示實施形態的基板搬入部的構成及作用（ 基板交接）的局部斷面側視圖。 第8圖是表示實施形態的基板搬入部的構成及作用（ 基板移載）的局部斷面側視圖。 第9圖是表示實施形態的噴嘴掃描機構的構成的局部 斷面側視圖。 第1 0圖是表示實施形態的噴嘴掃描機構的構成的局 部斷面立體圖。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -35- 541620 A7 B7 i、發明説明（β 第1 1圖是表示實施形態的基板傾斜機構的構成及作 用（抬高基板）的局部斷面側視圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第1 2圖是表示實施形態的基板傾斜機構的構成及作 用（傾斜基板.）的局部斷面側視圖。 第1 3圖是義未:實施形態的噴嘴掃描的作用的槪略側 視圖。 第1 4圖是表示實施形態的氣體切割部的作用的槪略 側視圖。 (記號之說明） 1 0 :塗布顯像處理系統，1 6 ( p / s ):處理站 ，32 :塗布處理部，92 :塗布單元，108 :搬運路 ’ 1 1 0 :基板搬入部，1 1 2 :顯像部，1 1 4 :沖洗 部，1 1 6 ··乾燥部，1 1 8 :基板搬出部，1 2 4 :預 濕部，1 2 6 :顯像液供給部，1 2 8 :顯像液除去部， 1 3 0 :預濕液盤，1 3 2 :顯像液盤，1 3 4 :沖洗液 盤，Ν :可動噴嘴，Ρ Ν :預濕液供給噴嘴，D N a， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 D N b :顯像液供給噴嘴，R N :沖洗液供給噴嘴， SCP，SCN，SCR:噴嘴掃描機構，156 :噴嘴 支持體，158 :導軌，160 :掃描驅動部，170 : 昇降驅動部，1 8 0 ··基板傾斜機構。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 36-