KR20070088370A

KR20070088370A - 현상 처리 장치, 현상 처리 방법, 컴퓨터 판독 가능한 기억매체

Info

Publication number: KR20070088370A
Application number: KR1020070018142A
Authority: KR
Inventors: 다까시 다께꾸마
Original assignee: 도쿄 엘렉트론 가부시키가이샤
Priority date: 2006-02-24
Filing date: 2007-02-23
Publication date: 2007-08-29
Also published as: JP2007227736A; JP4652250B2

Abstract

본 발명의 과제는 현상액의 공급량을 억제하면서, 기판 전체면에 걸쳐 균일한 처리를 신속하게 실시할 수 있는 현상 처리 장치를 제공하는 것이다.

현상 유닛(30)은 기판(G)을 수평 자세로 적재하여 반송하는 반송 벨트(53)와, 반송 벨트(53) 상의 기판(G)에 현상액을 공급하는 현상액 공급 기구(60)를 구비하고, 반송 벨트(53)의 표면에는 적재된 기판(G)을 둘러싸도록 현상액 공급 기구(60)에 의해 기판(G)에 공급된 현상액을 막는 댐부(55)가 설치되어 있다.

현상 유닛, 기판, 반송 벨트, 현상 처리 장치, 현상액 공급 기구

Description

현상 처리 장치, 현상 처리 방법, 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체{DEVELOPING PROCESSING APPARATUS, DEVELOPING PROCESSING METHOD AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM}

도1은 본 발명의 일실시 형태에 관한 현상 유닛이 탑재되고, 기판에의 레지스트막의 형성 및 노광 처리 후의 레지스트막의 현상 처리를 행하는 레지스트 도포·현상 처리 시스템의 개략 평면도.

도2는 현상 유닛의 측면도.

도3은 현상 유닛의 평면도.

도4는 현상 유닛을 구성하는 벨트 반송 기구 부분의 사시도.

도5는 현상 유닛의 제어계를 개념적으로 도시하는 블록도.

도6은 벨트 반송 기구에 의한 기판의 반송 태양을 설명하기 위한 도면.

도7은 현상 유닛을 구성하는 현상액 공급 존에 있어서의 기판에의 현상액의 공급 태양을 설명하기 위한 도면.

도8은 현상 유닛을 구성하는 현상액 제거 존에 있어서의 기판에의 현상액의 제거 태양을 설명하기 위한 도면.

도9는 현상액 공급 존에 있어서의 기판의 처리의 다른 예를 설명하기 위한 도면.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

5b : 벨트 반송 기구

30 : 현상 유닛(현상 처리 장치)

53 : 반송 벨트

55(55a 내지 55d) : 댐부

60 : 현상액 공급 기구

61 : 세정 기구

62 : 건조 노즐(건조 기구 : 건조 유체 공급 기구)

63 : 현상 노즐

65 : 세정 노즐

66 : 공액 세정 노즐

G : 기판

[문헌 1] 일본 특허 출원 공개 제2003-17401호 공보

본 발명은, 플랫 패널 디스플레이(FPD)용 유리 기판 등의 기판에 현상액을 공급하여 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치 및 현상 처리 방법, 및 이러한 현상 처리 방법을 행하기 위한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체에 관한 것이다.

FPD의 제조에 있어서는, FPD용 유리 기판 상에 회로 패턴을 형성하기 위해 포토리소그래피 기술이 이용된다. 포토리소그래피에 의한 회로 패턴의 형성은, 유리 기판 상에 레지스트막을 도포 형성하고, 회로 패턴에 대응하도록 레지스트막을 노광하고, 이것을 현상 처리하는 등의 순서로 행해진다.

현상 처리에는 기판을 롤러 반송하는 롤러 반송 기구와, 롤러 반송 기구 상의 기판에 현상액을 공급하는 현상 노즐을 구비한 현상 처리 장치가 이용되고 있다(예를 들어, 문헌 1 참조). 이 현상 처리 장치는, 우선 롤러 반송 기구에 의해 수평 자세로 반송한 기판을 소정 위치에서 일시 정지시키고, 다음에 현상 노즐이 기판을 따라 이동하면서 기판 상에 현상액을 쌓음으로써 기판 상에 현상액의 퍼들(puddle)을 형성하고, 그 후 현상액의 퍼들이 형성된 기판을 롤러 반송 기구에 의해 다시 반송하도록 구성되어 있다.

그러나, 상기한 종래의 현상 처리 장치는 현상 노즐이 이동하면서 기판 상에 현상액을 쌓고, 현상액의 퍼들이 형성된 상태에서 기판을 롤러 반송하므로, 현상액이 쌓일 때 및 쌓인 후의 기판의 반송시에 각각, 관성력이나 진동 등에 의해 현상액이 기판 상으로부터 넘치기 쉬워 현상액의 손실이 크다. 게다가, 현상액이 넘침으로써 기판 상에 현상액의 흐름이 발생하므로, 기판에 처리 불균일이 발생할 우려가 있다. 현상액의 손실을 억지하기 위해서는, 현상 노즐의 이동 속도 및 롤러 반송 기구에 의한 반송 속도를 느리게 설정하는 것을 생각할 수 있지만, 현상 노즐의 이동 속도 및 롤러 반송 기구에 의한 반송 속도가 느리면 처리에 시간을 필요로 해 버린다. 특히, 현상 노즐의 이동 속도가 느리면, 기판의 일단부와 타단부에서 현 상액의 공급에 큰 시간차가 발생하므로, 결과적으로 처리 불균일도 발생해 버린다.

또한, 상기한 종래의 현상 처리 장치는 기판 상에 현상액을 공급하여 기판 상에 현상액의 퍼들이 형성되어 있는 동안, 기판이 국소적으로 롤러에 접촉하여 지지되어 있으므로, 기판에 롤러의 흔적이 전사됨으로써도 처리 불균일이 발생할 우려가 있다.

본 발명은 이러한 사정에 비추어 이루어진 것으로, 현상액의 공급량을 억제하면서 기판 전체면에 걸쳐 균일한 처리를 신속하게 실시할 수 있는 현상 처리 장치 및 현상 처리 방법, 및 이러한 현상 처리 방법을 행하기 위한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체의 제공을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 기판에 현상액을 공급하여 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치이며, 기판을 대략 수평 자세로 적재하여 반송하는 반송 벨트와, 상기 반송 벨트 상의 기판에 현상액을 공급하는 현상액 공급 기구를 구비하고, 상기 반송 벨트의 표면에는 적재된 기판을 둘러싸도록 상기 현상액 공급 기구에 의해 기판에 공급된 현상액을 막는 댐(堰)부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치를 제공한다.

본 발명에 있어서, 상기 반송 벨트는 상기 현상액 공급 기구에 의한 현상액의 공급시 또는 공급 후에, 정역(正逆) 교대로 작동함으로써 현상액을 상기 댐부 내에서 교반하는 것이 바람직하다.

이상의 본 발명에 있어서, 상기 반송 벨트를 세정하는 세정 기구를 더 구비 하는 것이 바람직하다. 이 경우에, 상기 반송 벨트는 무단(無端) 형상이며, 상기 세정 기구는 상기 반송 벨트에 하방으로부터 세정액을 공급하여 상기 반송 벨트를 세정하는 것이 바람직하다.

또한, 이상의 본 발명에 있어서, 상기 반송 벨트를 건조시키는 건조 기구를 더 구비하는 것이 바람직하다. 이 경우에, 상기 반송 벨트는 무단 형상이고, 상기 건조 기구는 상기 반송 벨트에 하방으로부터 건조 유체를 공급하여 상기 반송 벨트를 건조시키는 것이 바람직하다.

또한, 이상의 본 발명에 있어서 상기 댐부는 상기 반송 벨트의 반송 방향으로 복수 배열되어 있는 것이 바람직하다.

또한 본 발명은, 기판에 현상 처리를 실시하는 현상 처리 방법이며, 표면에 현상액 저류부를 갖고, 기판을 수평 자세로 적재하여 반송하는 반송 벨트를 준비하고, 상기 현상액 저류부 내의 현상액에 기판을 침지하여 현상을 진행시키면서, 상기 반송 벨트에 의해 기판을 반송하여 기판에 현상 처리를 실시하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 방법을 제공한다.

본 발명에 있어서, 기판이 침지된 상기 현상액 저류부 내의 현상액을, 소정의 온도 프로파일이 형성되도록 온조(溫調)하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명은 컴퓨터상에서 동작하는 제어 프로그램이 기억된 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체이며, 상기 제어 프로그램은 실행시에 상기 현상 처리 방법이 행해지도록 컴퓨터에 처리 장치를 제어시키는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체를 제공한다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대해 구체적으로 설명한다.

도1은 본 발명의 일실시 형태에 관한 현상 유닛이 탑재된 FPD용 유리 기판(이하, 단순히「기판」이라 함)에의 레지스트막의 형성 및 노광 처리 후의 레지스트막의 현상 처리를 행하는 레지스트 도포·현상 처리 시스템의 개략 평면도이다.

레지스트 도포·현상 처리 시스템(100)은, 복수의 기판(G)을 수용하기 위한 카세트(C)가 적재되는 카세트 스테이션(1)과, 기판(G)에 레지스트 도포 및 현상을 포함하는 일련의 처리를 실시하는 처리 스테이션(2)과, 기판(G)에 노광 처리를 실시하는 노광 장치(9)와의 사이에서 기판(G)의 전달을 행하는 인터페이스 스테이션(4)을 구비하고 있고, 카세트 스테이션(1) 및 인터페이스 스테이션(4)은 각각 처리 스테이션(2)의 양측에 배치되어 있다. 또한, 도1에 있어서 레지스트 도포·현상 처리 시스템(100)의 길이 방향을 X 방향, 평면 상에 있어서 X 방향과 직교하는 방향을 Y 방향이라 한다.

카세트 스테이션(1)은, 카세트(C)를 Y 방향으로 병렬로 적재 가능한 적재대(12)와 처리 스테이션(2)과의 사이에서 기판(G)의 반입·반출을 행하는 반송 장치(11)를 구비하고, 적재대(12)와 외부와의 사이에서 카세트(C)의 반송이 행해진다. 반송 장치(11)에 설치된 반송 아암(11a)은 Y 방향으로 연장되는 가이드(10)를 따라 이동 가능한 동시에, 상하 이동, 전후 이동 및 수평 회전 가능하고, 카세트(C)와 처리 스테이션(2)과의 사이에서 기판(G)의 반입·반출을 행하는 것이다.

처리 스테이션(2)은 카세트 스테이션(1)과 인터페이스 스테이션(4)과의 사이에 X 방향으로 신장되는 평행한 2열의 기판(G)의 반송 라인 A, B를 갖고 있다. 반송 라인 A는 롤러 반송이나 벨트 반송 등의 소위 수평 진행 반송에 의해 기판(G)을 카세트 스테이션(1)측으로부터 인터페이스 스테이션(4)측을 향해 반송하도록 구성되고, 반송 라인 B는 롤러 반송이나 벨트 반송 등의 소위 수평 진행 반송에 의해 기판(G)을 인터페이스 스테이션(4)측으로부터 카세트 스테이션(1)측을 향해 반송하도록 구성되어 있다.

반송 라인 A 상에는 카세트 스테이션(1)측으로부터 인터페이스 스테이션(4)측을 향해, 엑시머 UV 조사 유닛(e-UV)(21), 스크럽 세정 유닛(SCR)(22), 프리 히트 유닛(PH)(23), 어드히전 유닛(AD)(24), 냉각 유닛(COL)(25), 레지스트 도포 유닛(CT)(26), 감압 건조 유닛(DP)(27), 프리 베이크 유닛(PREB)(28), 냉각 유닛(COL)(29)이 차례로 배열되어 있다.

엑시머 UV 조사 유닛(e-UV)(21)은 기판(G)에 포함되는 유기물의 제거 처리를 행하고, 스크럽 세정 유닛(SCR)(22)은 기판(G)의 스크럽 세정 처리 및 건조 처리를 행한다. 프리 히트 유닛(PH)(23)은 기판(G)의 탈수 가열 처리를 행하고, 어드히전 유닛(AD)(24)은 기판(G)의 소수화 처리를 행하고, 냉각 유닛(COL)(25)은 기판(G)을 냉각한다. 레지스트 도포 유닛(CT)(26)은 기판(G) 상에 레지스트액을 공급하여 레지스트막을 형성하고, 감압 건조 유닛(DP)(27)은 감압하에서 기판(G) 상의 레지스트막에 포함되는 휘발 성분을 증발시켜 레지스트막을 건조시킨다. 프리 베이크 유닛(PREB)(28)은 기판(G)의 프리 베이크 처리를 행하고, 냉각 유닛(COL)(29)은 냉각 유닛(COL)(25)과 마찬가지로 기판(G)을 냉각한다.

반송 라인 B 상에는 인터페이스 스테이션(4)측으로부터 카세트 스테이션(1)측을 향해, 현상 유닛(DEV)(30), 포스트 베이크 유닛(POB)(31), 냉각 유닛(COL)(32)이 차례로 배열되어 있다. 또한, 냉각 유닛(COL)(32)과 카세트 스테이션(1)과의 사이에는 레지스트 도포 및 현상을 포함하는 일련의 처리가 실시된 기판(G)을 검사하는 검사 장치(IP)(35)가 설치되어 있다.

이후에 상세하게 서술하는 현상 유닛(DEV)(30)(현상 처리 장치)은, 기판(G) 상으로의 현상액의 도포, 기판(G)의 린스 처리, 기판(G)의 건조 처리를 차례로 행한다. 포스트 베이크 유닛(POB)(31)은 기판(G)의 포스트 베이크 처리를 행하고, 냉각 유닛(COL)(32)은 냉각 유닛(COL)(25)과 마찬가지로 기판(G)을 냉각한다.

인터페이스 스테이션(4)은 기판(G)을 수용 가능한 버퍼 카세트가 배치된, 기판(G)의 전달부인 로터리 스테이지(RS)(44)와, 반송 라인 A로 반송된 기판(G)을 수취하여 로터리 스테이지(RS)(44)로 반송하는 반송 아암(43)을 구비하고 있다. 반송 아암(43)은 상하 이동, 전후 이동 및 수평 회전 가능하고, 반송 아암(43)에 인접하여 설치된 노광 장치(9)와, 반송 아암(43) 및 현상 유닛(DEV)(30)에 인접하여 설치된 주변 노광 장치(EE) 및 타이틀러(TITLER)를 갖는 외부 장치 블록(90)에도 액세스 가능하다.

레지스트 도포·현상 처리 장치(100)는, CPU를 구비한 프로세스 제어기(101)에 접속되어 제어되도록 구성되어 있다. 프로세스 제어기(101)에는 공정 관리자가 레지스트 도포·현상 처리 장치(100)의 각 부분 또는 각 유닛을 관리하기 위해 요 구의 입력 조작 등을 행하는 키보드나, 각 부분 또는 각 유닛의 가동 상황을 가시화하여 표시하는 디스플레이 등으로 이루어지는 사용자 인터페이스(102)와, 레지스트 도포·현상 처리 장치(100)에서 실행되는 가열 처리나 냉각 처리 등의 각종 처리를 프로세스 제어기(101)의 제어로 실현하기 위한 제어 프로그램이나 처리 조건 데이터 등이 기록된 레시피가 저장된 기억부(103)가 접속되어 있다.

그리고, 필요에 따라서 사용자 인터페이스(102)로부터의 지시 등으로 임의의 레시피를 기억부(103)로부터 불러내어 프로세스 제어기(101)에 실행시킴으로써, 프로세스 제어기(101)의 제어하에서 레지스트 도포·현상 처리 장치(100)에서 원하는 처리가 행해진다. 또한, 제어 프로그램이나 처리 조건 데이터 등의 레시피는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체, 예를 들어 CD-ROM, 하드 디스크, 가요성 디스크, 플래시 메모리 등에 저장된 상태인 것을 이용하거나, 혹은 다른 장치로부터 예를 들어 전용 회선을 통해 수시 전송시켜 온라인으로 이용하는 것도 가능하다.

이와 같이 구성된 레지스트 도포 현상 처리 장치(100)에 있어서는, 우선 카세트 스테이션(1)의 적재대(12)에 적재된 카세트(C) 내의 기판(G)이 반송 장치(11)의 반송 아암(11a)에 의해 처리 스테이션(2)의 반송 라인 A의 상류측 단부로 반송되고, 또한 반송 라인 A 상을 반송되어 엑시머 UV 조사 유닛(e-UV)(21)에서 기판(G)에 포함되는 유기물의 제거 처리가 행해진다. 엑시머 UV 조사 유닛(e-UV)(21)에서의 유기물의 제거 처리가 종료된 기판(G)은, 반송 라인 A 상을 반송되어 스크럽 세정 유닛(SCR)(22)에서 스크럽 세정 처리 및 건조 처리가 실시된다.

스크럽 세정 유닛(SCR)(22)에서의 스크럽 세정 처리 및 건조 처리가 종료된 기판(G)은, 반송 라인 A 상을 반송되어 프리 히트 유닛(PH)(23)에서 가열되어 탈수된다. 프리 히트 유닛(PH)(23)에서의 탈수 가열 처리가 종료된 기판(G)은 반송 라인 A 상을 반송되어 어드히전 유닛(AD)(24)에서 소수화 처리가 실시된다. 어드히전 유닛(AD)(24)에서의 소수화 처리가 종료된 기판(G)은, 반송 라인 A 상을 반송되어 냉각 유닛(COL)(25)에서 냉각된다.

냉각 유닛(COL)(25)에서 냉각된 기판(G)은 반송 라인 A 상을 반송되어 레지스트 도포 유닛(CT)(26)에서 레지스트막이 형성된다. 레지스트 도포 유닛(CT)(26)에서의 레지스트막의 형성은, 기판(G)이 반송 라인 A 상을 반송되면서 기판(G) 상에 레지스트액이 공급됨으로써 행해진다.

레지스트 도포 유닛(CT)(26)에서 레지스트막이 형성된 기판(G)은 반송 라인 A 상을 반송되어 감압 건조 유닛(DP)(27)에서 감압 분위기에 노출됨으로써 레지스트막의 건조 처리가 실시된다.

감압 건조 유닛(DP)(27)에서 레지스트막의 건조 처리가 실시된 기판(G)은, 반송 라인 A 상을 반송되어 프리 베이크 유닛(PREB)(28)에서 프리 베이크 처리가 실시되고, 레지스트막에 포함되는 용제가 제거된다. 기판(G)의 프리 베이크 처리는, 후술하는 롤러 반송 기구에 의해 반송 라인 A 상을 반송되면서 행해진다. 프리 베이크 유닛(PREB)(28)에서의 가열 처리가 종료한 기판(G)은 반송 라인 A 상을 반송되어 냉각 유닛(COL)(29)에서 냉각된다.

냉각 유닛(COL)(29)에서 냉각된 기판(G)은, 반송 라인 A 상을 하류측 단부까지 반송한 후, 인터페이스 스테이션(4)의 반송 아암(43)에 의해 로터리 스테이 지(RS)(44)로 반송된다. 다음에, 기판(G)은 반송 아암(43)에 의해 외부 장치 블록(90)의 주변 노광 장치(EE)로 반송되어, 주변 노광 장치(EE)에서 레지스트막의 외주부(불필요 부분)를 제거하기 위한 노광 처리가 실시된다. 이어서, 기판(G)은 반송 아암(43)에 의해 노광 장치(9)로 반송되고, 레지스트막에 소정 패턴의 노광 처리가 실시된다. 또한, 기판(G)은 일시적으로 로터리 스테이지(RS)(44) 상의 버퍼 카세트에 수용된 후에, 노광 장치(9)로 반송되는 경우가 있다. 노광 처리가 종료된 기판(G)은 반송 아암(43)에 의해 외부 장치 블록(90)의 타이틀러(TITLER)로 반송되고, 타이틀러(TITLER)에서 소정의 정보가 기록된다.

타이틀러(TITLER)에서 소정의 정보가 기록된 기판(G)은, 반송 라인 B 상을 반송되어 현상 유닛(DEV)(30)에서 현상액의 도포 처리, 린스 처리 및 건조 처리가 차례로 실시된다. 현상 유닛(DEV)(30)에서의 현상액의 도포 처리, 린스 처리 및 건조 처리에 대해서는 이후에 상세하게 설명한다.

현상 유닛(DEV)(30)에서의 현상액의 도포 처리, 린스 처리 및 건조 처리가 종료된 기판(G)은, 반송 라인 B 상을 반송되어 포스트 베이크 유닛(POB)(31)에서 포스트 베이크 처리가 실시되고, 레지스트막에 포함되는 용제 및 수분이 제거된다. 기판(G)의 포스트 베이크 처리는, 후술하는 롤러 반송 기구에 의해 반송 라인 B 상을 반송되면서 행해진다. 또한, 현상 유닛(DEV)(30)과 포스트 베이크 유닛(POB)(31) 사이에는, 현상액의 탈색 처리를 행하는 i선 UV 조사 유닛을 설치해도 좋다. 포스트 베이크 유닛(POB)(31)에서의 가열 처리가 종료된 기판(G)은, 반송 라인 B 상을 반송되어 냉각 유닛(COL)(32)에서 냉각된다.

냉각 유닛(COL)(32)에서 냉각된 기판(G)은, 반송 라인 B 상을 반송하여 검사 유닛(IP)(35)에서 검사된다. 검사를 통과한 기판(G)은, 카세트 스테이션(1)에 설치된 반송 장치(11)의 반송 아암(11a)에 의해 적재대(12)에 적재된 소정의 카세트(C)에 수용되게 된다.

다음에, 현상 유닛(DEV)(30)(현상 처리 장치)에 대해 상세하게 설명한다.

도2는 현상 유닛(DEV)(30)의 측면도이고, 도3은 그 평면도이다.

현상 유닛(DEV)(30)은 외부 장치 블록(90)측으로부터 포스트 베이크 유닛(POB)(31)측을 향해 차례로, 도입 존(Zone)(30a), 현상액 공급 존(30b), 현상액 제거 존(30c), 린스 존(30d), 건조 존(30e)을 구비하고 있다.

도입 존(30a)은, 이후에 상세하게 서술하는 현상액 공급 존(30b)으로부터의 현상액의 비산 등에 의한 외부 장치 블록(90)의 오염을 방지하기 위해 마련된 것이다. 도입 존(30a)은 외부 장치 블록(90)으로부터 반송된 기판(G)을 현상액 공급 존(30b)으로 롤러 반송하여, 반송 라인 B의 일부로서 기능하는 제1 롤러 반송 기구(5a)를 갖고 있다. 제1 롤러 반송 기구(5a)는 Y 방향으로 연장되는 대략 원기둥 형상으로 형성된 모터 등의 구동원에 의해 회전하는 롤러(50)를 X 방향으로 간격을 두고 복수 갖고, 롤러(50)의 회전에 의해 롤러(50) 상의 기판(G)을 X 방향으로 반송하도록 구성되어 있다. 또한, 롤러(50)는 적재된 기판(G)에 휨이 발생하기 어려운 간격으로 복수 설치되어 있다.

현상액 공급 존(30b)은, 도입 존(30a)으로부터 반송된 기판(G)을 현상액 제거 존(30c)으로 벨트 반송하여, 반송 라인 B의 일부로서 기능하는 벨트 반송 기 구(5b)와, 벨트 반송 기구(5b) 상의 기판(G)에 현상액을 공급하는 현상액 공급 기구(60)와, 벨트 반송 기구(5b) 상의 기판(G)에 공급된 현상액을 온조하는 온조 기구, 예를 들어 히터(85)와(도6 참조), 현상액이 공급된 기판(G)의 벨트 반송 기구(5b)에 의한 반송 후의 후술하는 반송 벨트(53)를 세정하는 세정 기구(61) 및 반송 벨트(53)를 건조시키는 건조 노즐(건조 기구 : 건조 유체 공급 기구)(62)을 갖고 있다.

벨트 반송 기구(5b)는 X 방향으로 간격을 두고 설치되고, Y 방향으로 연장되는 대략 원기둥 형상의 회전 가능한 2개의 풀리(52)와, 이들 2개의 풀리(52)에 걸쳐진 무단 형상의 반송 벨트(53)를 갖고 있다. 벨트 반송 기구(5b)는 2개의 풀리(52) 중 적어도 어느 한쪽이, 교류 모터 등의 정역 가능한 구동원에 의해 회전함으로써 반송 벨트(53)가 회전 작동하여 반송 벨트(53) 상의 기판(G)을 대략 수평 자세로 X 방향으로 반송하도록 구성되어 있다.

도4는 현상 유닛(DEV)(30)을 구성하는 벨트 반송 기구(5b) 부분의 사시도이다. 풀리(52)는 기판(G)의 폭(Y 방향 길이)보다도 긴 대략 원기둥 형상으로 형성되고, 2개의 풀리(52, 52)끼리의 간격은 적어도 기판(G)의 길이(X 방향 길이)보다도 크게 설정되어 있다. 반송 벨트(53)는 내약품성, 내수성 및 내열성이 우수한 테프론(등록 상표)계 고무 탄성 재료에 의해, 적어도 기판(G)의 폭보다도 큰 폭을 갖도록 형성되어 있다. 반송 벨트(53)의 표면(외주면)에는 제1 롤러 반송 기구(5a)에 의해 반송된 기판(G)을 수취하여 수용하여, 기판(G)의 형상과 대응하는 직사각 형상의 프레임부(54)가, 반송 방향(X 방향)으로 대략 등간격으로 복수, 예 를 들어 2개 형성되어 있다(도4에는 1개만 도시). 프레임부(54)는 기판(G)의 두께 및 후술하는 기판(G) 상으로의 현상액의 쌓임 높이의 합계보다도 약간 높게, 예를 들어 수 mm 정도 높게 형성되어 있다. 프레임부(54)의 내주면은 현상액 공급 기구(60)에 의해 기판(G)에 공급된 현상액을 막는 댐부(55)를 구성하고, 프레임부(54)의 내주면 및 프레임부(54)로 둘러싸인 반송 벨트(53)의 표면 부분은, 현상액 공급 기구(60)에 의해 기판(G)에 공급된 현상액을 저류 가능한 현상액 저류부를 구성한다. 또한, 2개의 풀리(52, 52) 사이에는 반송 벨트(53)의 휨을 방지하기 위한 휨 방지 롤러(56)가, 예를 들어 X 방향으로 간격을 두고 복수 설치되어 있다.

현상액 공급 기구(60)는 벨트 반송 기구(5b)의 상방에 설치되어, 반송 벨트(53)의 프레임부(54) 내에 수용된 기판(G) 상에 현상액을 토출하는 현상 노즐(63)과, 이 현상 노즐(63)을 X 방향으로 이동시키는 동시에 승강시키는 현상 노즐 이동 기구(64)를 갖고 있다. 현상 노즐(63)은 Y 방향으로 길게, 하단부에 그 길이 방향을 따라 슬릿 형상의 토출구(도시하지 않음)가 형성되고, 토출구로부터 기판(G)의 대략 전체 폭에 걸쳐 현상액을 띠형으로 토출하도록 구성되어 있다. 또한, 현상 노즐(63)로서는 슬릿 형상의 토출구를 갖는 것 대신에, 복수의 토출구가 Y 방향으로 간격을 두고 복수 형성되어 있는 것을 이용할 수도 있다.

히터(85)는 예를 들어 반송 벨트(53) 내[반송 벨트(53)로 둘러싸인 공간 내]의 풀리(52)와 휨 방지 롤러(56) 사이 및 휨 방지 롤러(56, 56) 사이에 각각 설치되어 있다. 히터(85)는 벨트 반송 기구(5b) 상의 기판(G)에 공급된 현상액을, 반송 벨트(53)를 통해 하방으로부터 온조하도록 구성되어 있다. 또한, 온조 기구로 서 히터(85) 대신에 펠티에 소자나 온조수를 순환시키는 구성 등을 이용해도 좋다.

도5는 현상 유닛(DEV)(30)의 제어계를 개념적으로 도시하는 블록도이다. 벨트 반송 기구(5b)의 구동, 현상 노즐 이동 기구(64)에 의한 현상 노즐(63)의 이동, 현상 노즐(63)에 의한 현상액의 토출 및 히터(85)의 온조는, 프로세스 제어기(101)로부터 유닛 제어기(104)를 통해 지령을 받은 현상액 공급 존 제어기(105)에 의해 제어된다.

도6은 벨트 반송 기구(5b)에 의한 기판(G)의 반송 태양을 설명하기 위한 도면이다. 현상액 공급 존 제어기(105)는 기판(G)이 도입 존(30a)으로부터 반송되면, 기판(G)의 전단부가 프레임부(54) 내부 또는 댐부(55)의 전단부 근방에 위치하도록 벨트 반송 기구(5b)의 반송 벨트(53)를 작동시켜 반송 벨트(53)에 의해 기판(G)을 수취시키고[도6의 (a) 참조], 또한 반송 벨트(53)를 작동시켜 기판(G)을 프레임부(54) 내에 수용시킨다[도6의 (b) 참조].

도7은 현상 유닛(DEV)(30)을 구성하는 현상액 공급 존(30b)에 있어서의 기판(G)의 현상액의 공급 태양을 설명하기 위한 도면이다. 기판(G)이 프레임부(54) 내에 수용되면, 현상액 공급 존 제어기(105)는 반송 벨트(53)를 정지시키고, 현상 노즐 이동 기구(64)에 의해 현상 노즐(63)을 하강시켜 반송 벨트(53) 상의 기판(G)과의 간격을 조정한 후, 기판(G)의 X 방향 일단부로부터 타단부를 향해, 예를 들어 벨트 반송 기구(5b)에 의한 기판(G)의 통상 반송 방향과 반대 방향으로 이동시키면서, 도시하지 않은 현상액 공급원으로부터의 현상액을 현상 노즐(63)에 의해 기판(G) 상에 토출시킴으로써[도7의 (a) 및 도7의 (b) 참조], 기판(G) 상의 대략 전 체면에 걸쳐 현상액의 퍼들이 형성된다[도7의 (c) 참조].

기판(G) 상에 현상액의 퍼들이 형성되면, 현상액 공급 존 제어기(105)는 반송 벨트(53)를 X 방향 한쪽측(+B 방향) 및 다른 쪽측(-B 방향)으로 교대로 소정 시간 작동시켜[도7의 (d) 및 도7의 (e) 참조] 현상 반응을 진행시킨다.

또한, 현상 노즐(63)에 의해 현상액을 토출시켰을 때, 및/또는 반송 벨트(53)를 X 방향 한쪽측 및 다른 쪽측으로 교대로 작동시켰을 때에, 현상액 공급 존 제어기(105)는 히터(85)를 온도 제어하여, 기판(G) 상 또는 현상액 저류부 내의 현상액을 소정의 온도 프로파일이 형성되도록 온조함으로써도 현상 반응을 진행시킨다.

현상 반응을 진행시킨 후, 현상액 공급 존 제어기(105)는 반송 벨트(53)를 X 방향 한쪽측(통상 반송 방향)으로 작동시켜 벨트 반송 기구(5b)에 의해 기판(G)을 현상액 제거 존(30c)으로 반송시킨다. 또한, 기판(G)의 현상액 제거 존(30c)으로의 반송에 수반하여 프레임부(54) 내부로부터 넘친 현상액은, 벨트 반송 기구(5b)의 하방에 설치된 회수 라인(67)에 의해 회수되어 재이용된다.

세정 기구(61)는, 벨트 반송 기구(5b)의 하방에 설치되고, 하방으로부터 반송 벨트(53)의 표면에 순수(純水) 등의 세정액을 토출하여 반송 벨트(53)를 세정하는 세정 노즐(65)과, 하방으로부터 반송 벨트(53)의 표면에 현상액을 토출하여 반송 벨트(53)를 공액 세정(共液洗淨)하는 공액 세정 노즐(66)을 갖고 있다. 건조 노즐(62)은 세정 노즐(65)과 공액 세정 노즐(66) 사이에 위치하도록 벨트 반송 기구(5b)의 하방에 설치되어 있고, 하방으로부터 반송 벨트(53)의 표면에 질소 가스 등의 건조 유체를 토출하여 반송 벨트(53)를 건조시키는 동시에, 반송 벨트(53)에 부착된 진애 등을 제거한다. 세정 노즐(65), 공액 세정 노즐(66), 건조 노즐(62)은 각각 Y 방향으로 길게, 상단부에 형성된 토출구로부터 반송 벨트(53)의 대략 전체 폭에 걸쳐 세정액, 현상액, 건조 유체를 토출하도록 구성되어 있다. 또한, 반송 벨트(53)를 건조시키는 건조 기구로서, 건조 노즐(62) 대신에 Y 방향으로 연장되는 스폰지 고무 롤러를 이용하여 반송 벨트를 닦도록 구성해도 좋다.

반송 벨트(53)는 X 방향 한쪽측으로의 회전 작동에 수반하여, 기판(G)을 현상액 제거 존(30c)으로의 반송 후, 우선 세정 노즐(65)에 의해 세정되고, 표면에 부착된 현상액이 제거된다. 다음에, 반송 벨트(53)는 X 방향 한쪽측으로의 회전 작동에 수반하여 건조 노즐(62)에 의해 건조된다. 그 후, 반송 벨트(53)는 X 방향 한쪽측으로의 회전 작동에 수반하여 공액 세정 노즐(66)에 의해 공액 세정된다. 또한, 반송 벨트(53)에 토출된 세정액은 벨트 반송 기구(5b)의 하방에 설치된 배액 라인(68)에 의해 배액되고, 반송 벨트(53)에 토출된 공액 세정용 현상액은 벨트 반송 기구(5b)의 하방에 설치된 회수 라인(69)에 의해 회수되어 재이용된다.

도8은 현상 유닛(DEV)(30)을 구성하는 현상액 제거 존(30c)에 있어서의 기판으로의 현상액의 제거 태양을 설명하기 위한 도면이다. 또한, 도8에서는 현상액 퍼들의 도시를 생략하고 있다. 현상액 제거 존(30c)은 현상액 공급 존(30b)으로부터 반송된 기판(G)을 린스 존(30d)으로 롤러 반송하여, 반송 라인 B의 일부로서 기능하는 롤러 반송 기구(5c)와, 롤러 반송 기구(5c)에 의해 반송된 기판(G)을 경사 자세로 변환하는 자세 변환 기구(70)와, 현상액을 씻어내기 위한 순수 등의 린스액 을 기판(G) 상으로 토출하는 제1 린스 노즐(76)과, 제1 린스 노즐(76)을 이동시키기 위한 제1 린스 노즐 이동 기구(77)(도5 참조)를 갖고 있다. 롤러 반송 기구(5c)는 롤러 반송 기구(5a)와 동일한 구성을 갖고 있다. 제1 린스 노즐(76)은 Y 방향으로 길게, 하단부에 형성된 토출구로부터 기판(G)의 대략 전체 폭에 걸쳐 린스액을 토출하도록 구성되어 있다.

자세 변환 기구(70)는 프레임(71)과, 프레임(71)에 설치된 복수의 지지 핀(72)과, 기판(G)을 경사 자세로 변환하였을 때에 그 하단부를 지지하는 기판 지지 부재(73)와, 프레임(71)을 승강시키는 제1 승강 기구(74) 및 제2 승강 기구(75)를 갖고 있다. 또한, 프레임(71)은 제1 승강 기구(74)의 설치 부분에서 회전 가능하게 되어 있다.

도5에 도시한 바와 같이, 자세 변환 기구(70)의 작동, 제1 린스 노즐 이동 기구(77)에 의한 제1 린스 노즐(76)의 이동 및 제1 린스 노즐(76)에 의한 린스액의 토출은, 프로세스 제어기(101)로부터 유닛 제어기(104)를 통해 지령을 받은 현상액 제거 존 제어기(106)에 의해 제어된다.

도8의 (a)에 도시한 바와 같이, 자세 변환 기구(70)는 기판(G)이 현상액 제거 존(30c)으로 반송되는 동안은, 롤러 반송 기구(5c)의 롤러(50)의 하방에 배치되어 있다. 현상액 제거 존 제어기(106)는 롤러 반송 기구(5c)에 의해 기판(G)이 현상액 제거 존(30c)으로 반송되면, 롤러 반송 기구(5c)의 구동을 정지시켜 기판(G)을 정지시킨다. 다음에, 도8의 (b)에 도시한 바와 같이 자세 변환 기구(70)는 제1 승강 기구(74) 및 제2 승강 기구(75)를 동시 작동시키고, 복수의 지지 핀(72)이 기 판(G)의 이면 또는 하면에 똑같이 접촉할 때까지 프레임(71)을 상승시킨다.

계속해서, 도8의 (c)에 도시한 바와 같이 현상액 제거 존 제어기(106)는 제2 승강 기구(75)만을 작동시키고, 기판 지지 부재(73) 주위로 프레임(71)을 소정 각도, 예를 들어 15도 회전시킨다. 이에 의해, 기판(G)은 경사진 상태가 되고, 기판(G) 상의 현상액이 흘러 떨어져 액 끊김된다. 이 때에, 기판(G)은 하단부가 기판 보유 지지 부재(73)에 의해 지지되어 있으므로, 미끄러져 떨어지는 일은 없다. 기판(G)을 경사시켰을 때에 흘러 떨어진 현상액은, 롤러 반송 기구(5c)의 하방에 설치된 회수 라인(80)에 의해 회수되어 재이용된다(도2 참조).

기판(G) 상의 현상액의 대부분이 흘러 떨어진 후, 도8의 (d)에 도시한 바와 같이 현상액 제거 존 제어기(106)는 제2 승강 기구(75)만을 구동시키고, 기판(G)의 경사 각도를 예를 들어 5도로 완만하게 한다. 이 상태에서, 현상액 제거 존 제어기(106)는 제1 린스 노즐 이동 기구(77)에 의해, 기판(G)의 표면에 따라 하단부로부터 상단부로 제1 린스 노즐(76)을 스캔 이동시키면서, 제1 린스 노즐(76)에 의해 기판(G)의 표면에 린스액을 토출시킨다. 이에 의해, 기판(G) 상의 현상액이 씻어내어져, 현상 반응을 완전하게 정지시킬 수 있다. 또한, 회수 라인(80)에는 덮개(79)가 이동 가능하게 설치되어 있고, 린스액이 혼입된 농도가 옅은 현상액 및 린스액은 회수 라인(80)에는 혼입되지 않고, 회수 라인(80)에 인접하여 설치된 배액 라인(78)에 의해 배액되도록 구성되어 있다(도2 참조).

린스 존(30d)은 현상액 제거 존(30c)으로부터 반송된 기판(G)을 건조 존(30e)으로 롤러 반송하여, 반송 라인 B의 일부로서 기능하는 롤러 반송 기구(5d) 와, 롤러 반송 기구(5d)에 의해 반송된 기판(G)에 순수 등의 린스액을 토출하는 제2 린스 노즐(81)을 갖고 있다. 롤러 반송 기구(5d)는 롤러 반송 기구(5a)와 동일한 구성을 갖고 있다. 제2 린스 노즐(81)은, Y 방향으로 길고 기판(G)의 대략 전체 폭에 걸쳐 린스액을 토출하도록 구성되어 있다. 린스 존(30d)에 있어서는, 롤러 반송 기구(5d)에 의해 기판(G)을 반송하면서 제2 린스 노즐(81)에 의해 기판(G)의 표면 및 이면으로 린스액을 토출함으로써, 기판(G)에 부착된 현상액 잔류 찌꺼기의 제거 및 기판(G)의 세정이 행해진다.

건조 존(30e)은 린스 존(30d)으로부터 반송된 기판(G)을 포스트 베이크 유닛(POB)(31)으로 롤러 반송하여, 반송 라인 B의 일부로서 기능하는 롤러 반송 기구(5e)와, 롤러 반송 기구(5e)에 의해 반송된 기판(G)에 질소 가스 등의 건조 유체를 토출하는 건조 노즐(82)을 갖고 있다. 롤러 반송 기구(5e)는 롤러 반송 기구(5a)와 동일한 구성을 갖고 있다. 건조 노즐(82)은 Y 방향으로 길게, 기판(G)의 대략 전체 폭에 걸쳐 건조 유체를 토출하도록 구성되어 있다. 건조 존(30e)에 있어서는, 롤러 반송 기구(5e)에 의해 기판(G)을 반송하면서 건조 노즐(82)에 의해 기판(G)의 표면 및 이면으로 건조 유체를 토출함으로써 기판(G)을 건조시킨다.

다음에, 현상 유닛(DEV)(30)에 있어서의 현상 처리 공정에 대해 설명한다.

우선, 외부 장치 블록(90)에 설치된 반송 기구에 의해 반송된 기판(G)은, 도입 존(30a)의 롤러 반송 기구(5a)에 전달되고, 롤러 반송 기구(5a)에 의해 현상액 공급 존(30b)으로 반송된다. 다음에, 기판(G)은 롤러 반송 기구(5a)로부터 현상액 공급 존(30b)의 벨트 반송 기구(5b)에 전달되고[도6의 (a) 참조], 벨트 반송 기 구(5b)의 반송 벨트(53)에 설치된 프레임부(54) 내에 수용된다[도6의 (b) 참조].

기판(G)이 프레임부(54) 내에 수용된 상태에서 반송 벨트(53)가 정지하면, 현상 노즐(63)이 하강하여 반송 벨트(53) 상의 기판(G)과의 간격을 조정한 후, 기판(G)의 X 방향 일단부로부터 타단부를 향해 이동하면서 현상액을 토출함으로써[도7의 (a) 및 도7의 (b) 참조], 기판(G) 상에 현상액의 퍼들이 형성된다[도7의 (c) 참조]. 여기서, 현상 노즐(63)의 이동 속도를 빠르게 설정해도, 기판(G) 상으로 토출되었을 때에 현상 노즐(63)의 이동의 관성력에 의해 기판(G) 상으로부터 넘치려고 하는 현상액이 댐부(55)에 의해 막히거나, 혹은 현상액 저류부 내에 저류되어 기판(G)이 댐부(55) 또는 현상액 저류부 내에서 현상액에 침지되는 상태가 된다. 따라서, 현상액이 넘친 만큼 기판 상에 새롭게 보충하는 등의 필요가 없어, 현상액의 공급량을 적게 억제할 수 있는 동시에, 기판(G)의 표면에 전체면에 걸쳐 현상액을 신속하게 접촉시킬 수 있고, 현상액의 공급 시간차에 기인하는 기판의 처리 불균일 발생을 억지할 수 있다. 한편, 기판(G)이 전체면에 걸쳐 반송 벨트(53)에 접촉하여 대략 균등하게 지지되어 있으므로, 국부적인 지지에 기인하는 기판의 처리 불균일의 발생도 억지할 수 있다. 또한, 현상 노즐(63)에 의한 현상액의 토출은 현상 노즐(63)을 이동시키는 동시에, 반송 벨트(53)를 현상 노즐(63)의 이동 방향과 반대 방향으로 작동시키면서 행해도 좋고, 현상 노즐(63)을 이동시키지 않고 반송 벨트(53)만을 작동시키면서 실시해도 좋고, 혹은 현상 노즐(63) 및 반송 벨트(53)를 모두 정지시킨 상태에서 행해도 좋다.

기판(G) 상에 현상액의 퍼들이 형성되면, 반송 벨트(53)가 X 방향 한쪽측(+B 방향) 및 다른 쪽측(-B 방향)으로 교대로 소정 시간 작동하여[도7의 (d) 및 도7의 (e) 참조] 현상 반응이 진행한다. 여기서, 반송 벨트(53)가 전후 이동함으로써 현상액이 댐부(55) 또는 현상액 저류부 내에서 기판(G) 상을 흘러 교반되므로, 댐부(55) 또는 현상액 저류부 내에서의 현상액의 농도를 대략 균일하게 할 수 있다. 따라서, 현상의 균일성을 향상시킬 수 있다.

또한, 현상 노즐(63)에 의해 현상액을 토출시켰을 때, 및/또는 반송 벨트(53)를 X 방향 한쪽측 및 다른 쪽측으로 교대로 작동시켰을 때에, 댐부(55) 또는 현상액 저류부 내의 현상액을, 소정의 온도 프로파일이 형성되도록 히터(85)에 의해 온조함으로써 기판(G)의 현상 처리의 균일성을 보다 향상시킬 수 있다. 히터(85)는, 예를 들어 현상 노즐(63)에 의한 현상액의 토출시로부터 반송 벨트(53)의 전후 이동의 도중까지는 소정의 온도로 유지하고, 반송 벨트(53)의 전후 이동의 종료 직전에 상승시킴으로써 현상의 균일성을 효과적으로 높일 수 있다.

반송 벨트(53)의 소정 시간의 전후 이동 후, 기판(G)은 벨트 반송 기구(5b)에 의해 현상액 제거 존(30c)으로 반송되고, 현상액 제거 존(30c)의 롤러 반송 기구(5c)에 전달된다. 여기서, 기판(G) 상의 현상액은 댐부(55)에 의해 막혀 넘칠 우려가 없으므로, 벨트 반송 기구(5b)에 의한 기판(G)의 반송 속도를 빠르게 설정할 수 있다. 따라서, 현상액 공급 존(30b)에서의 액 쌓임·현상 진행 처리의 종료시로부터 현상액 제거 존(30c)에서의 액 끊김·린스 처리의 개시시까지의 시간의 단축화를 도모할 수 있어, 현상의 균일성을 더욱 향상시킬 수 있다.

벨트 반송 기구(5b)의 반송 벨트(53)는 기판(G)을 적재하여, 반송하고 있을 때에도 벨트 반송 기구(5b)의 하방에 설치된 세정 노즐(65), 건조 노즐(62) 및 공액 세정 노즐(66)에 의해 각각 기판(G)을 적재하고 있지 않은 하면이 차례로, 세정액 세정, 건조 및 공액 세정된다. 세정 노즐(65), 건조 노즐(62) 및 공액 세정 노즐(66)을 벨트 반송 기구(5b)의 하방에 설치함으로써, 장치의 풋프린트가 작게 억제되는 동시에, 기판(G)을 적재하고 있지 않은 반송 벨트(53)의 하면을 세정액 세정, 건조 및 공액 세정함으로써 장치의 스루풋의 향상이 도모된다. 또한, 반송 벨트(53)를 건조시키는 건조 노즐(62) 등의 건조 기구 자체를 설치하지 않고, 반송 벨트(53)를 세정 노즐(65)에 의해 세정한 후 공액 세정 노즐(66)에 의해 공액 세정하도록 구성해도 좋다. 또한, 프레임부(54) 내부[댐부(55) 또는 현상액 저류부]의 X 방향 양단부나 4코너부 등의 오염이 남기 쉬운 부분을 향해 세정액을 토출하는 세정 노즐을 별도 설치해도 좋다.

롤러 반송 기구(5c)에 전달된 기판(G)은, 현상액 제거 존(30c)에 있어서 자세 변환 기구(70)에 의해 경사 자세로 변환되어, 표면의 현상액이 흘러 떨어진다. 이 상태에서, 제1 린스 노즐 이동 기구(77)에 의해 제1 린스 노즐(76)이 기판(G)의 표면을 따라 하단부로부터 상단부로 이동하면서, 기판(G)의 표면에 린스액을 토출함으로써 기판(G) 상의 현상액이 씻어내어진다. 여기서, 제1 린스 노즐(76)을 기판(G)의 하단부로부터 상단부로 이동시킴으로써 기판(G)의 하단부측에서 현상액을 포함하는 린스액이 급류가 되는 것이 방지되어, 액류 흔적의 발생이 억제된다.

현상액이 흘러 떨어진 기판(G)은 롤러 반송 기구(5c)에 의해 린스 존(30d)으로 반송되고, 린스 존(30d)의 롤러 반송 기구(5d)로 전달된다. 여기서, 기판(G)은 롤러 반송 기구(5d)에 의해 반송되면서, 제2 린스 노즐(81)에 의해 세정되어 현상액 잔류 찌꺼기가 제거된다.

현상액 잔류 찌꺼기가 제거된 기판(G)은, 롤러 반송 기구(5d)에 의해 건조 존(30e)으로 반송되고, 건조 존(30e)의 롤러 반송 기구(5e)로 전달된다. 여기서, 기판(G)은 롤러 반송 기구(5e)에 의해 반송되면서, 건조 노즐(82)에 의해 건조된다. 그 후, 기판(G)은 롤러 반송 기구(5e)에 의해 포스트 베이크 유닛(POB)(31)으로 반송되게 된다.

도9는 현상액 공급 존(30b)에 있어서의 기판(G)의 처리의 다른 예를 설명하기 위한 도면이다. 현상액 공급 존(30b)에 있어서는, 도9에 도시한 바와 같이 3개 이상의 다수, 예를 들어 4개의 프레임부(54a 내지 54d)[댐부(55a 내지 55d)]를 반송 벨트(53)에 X 방향으로 병렬로 설치해 두고, 댐부(55a) 내의 기판(G)에 현상 노즐(63)에 의해 현상액을 공급하고 있는 동안에, 선행하여 다른 댐부(55b) 내의 기판(G)에 공급한 현상액의 반응을 진행시키도록 구성해도 좋다(현상액은 도시하지 않음). 이에 의해, 스루풋의 가일층의 향상을 도모하는 것이 가능해진다.

또한, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 다양한 변경이 가능하다. 예를 들어, 현상액 저류부 및 댐부는 각각 반송 벨트의 표면에 형성된 기판을 수용 가능한 오목부 및 오목부의 내주면으로 구성해도 좋고, 반송 벨트는 현상액 공급 기구에 의해 기판에 현상액을 공급하고 있을 때에, 정역 교대로 작동시켜도 좋다.

본 발명에 따르면, FPD용 유리 기판에 한정되지 않고, 반도체 웨이퍼, 포토 마스크, 혹은 프린트 기판 등의 다른 기판의 현상 처리에도 널리 적용할 수 있다.

본 발명에 따르면, 기판을 대략 수평 자세로 적재하여 반송하는 반송 벨트와, 반송 벨트 상의 기판에 현상액을 공급하는 현상액 공급 기구를 설치하는 동시에, 반송 벨트의 표면에 적재된 기판을 둘러싸도록 현상액 공급 기구에 의해 기판에 공급된 현상액을 막는 댐부를 설치하였으므로, 반송 벨트에 의해 기판 전체면이 균등하게 지지되는 동시에, 예를 들어 현상액 공급 기구가 반송 벨트로 상대적으로 신속하게 이동하면서 기판에 현상액을 공급해도 댐부에 의해 현상액의 확산 및 낙하가 방지된다. 따라서, 현상액의 공급량을 억제하면서 기판 전체에 균일한 처리를 신속하게 실시하는 것이 가능해진다.

또한, 본 발명에 따르면 표면에 현상액 저류부를 갖고, 기판을 수평 자세로 적재하여 반송하는 반송 벨트를 준비하고, 현상액 저류부 내의 현상액에 기판을 침지하여 현상을 진행시키면서, 반송 벨트에 의해 기판을 반송하여 기판에 현상 처리를 실시하므로 반송 벨트에 의해 기판 전체면이 균등하게 지지되는 동시에, 예를 들어 반송 벨트에 의한 기판의 반송 속도를 빠르게 설정해도 현상액 저류부에 의해 현상액의 확산 및 낙하가 방지된다. 따라서, 현상액의 공급량을 억제하면서 기판 전체에 균일한 처리를 신속하게 실시하는 것이 가능해진다.

Claims

기판에 현상액을 공급하여 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치이며,

기판을 수평 자세로 적재하여 반송하는 반송 벨트와,

상기 반송 벨트 상의 기판에 현상액을 공급하는 현상액 공급 기구를 구비하고,

상기 반송 벨트의 표면에는, 적재된 기판을 둘러싸도록 상기 현상액 공급 기구에 의해 기판에 공급된 현상액을 막는 댐부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 반송 벨트는 상기 현상액 공급 기구에 의한 현상액의 공급시 또는 공급 후에, 정역 교대로 작동함으로써 현상액을 상기 댐부 내에서 교반하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 반송 벨트를 세정하는 세정 기구를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
제3항에 있어서, 상기 반송 벨트는 무단 형상이고,

상기 세정 기구는 상기 반송 벨트에 하방으로부터 세정액을 공급하여 상기 반송 벨트를 세정하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반송 벨트를 건조시키는 건조 기구를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
제5항에 있어서, 상기 반송 벨트는 무단 형상이고,

상기 건조 기구는 상기 반송 벨트에 하방으로부터 건조 유체를 공급하여 상기 반송 벨트를 건조시키는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 댐부는 상기 반송 벨트의 반송 방향으로 복수 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
기판에 현상 처리를 실시하는 현상 처리 방법이며,

표면에 현상액 저류부를 갖고, 기판을 수평 자세로 적재하여 반송하는 반송 벨트를 준비하고,

상기 현상액 저류부 내의 현상액에 기판을 침지하여 현상을 진행시키면서, 상기 반송 벨트에 의해 기판을 반송하여 기판에 현상 처리를 실시하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 방법.
제8항에 있어서, 기판이 침지된 상기 현상액 저류부 내의 현상액을, 소정의 온도 프로파일이 형성되도록 온조하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 방법.
컴퓨터상에서 동작하는 제어 프로그램이 기억된 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체이며,

상기 제어 프로그램은, 실행시에 제8항 또는 제9항에 기재된 현상 처리 방법이 행해지도록 컴퓨터에 처리 장치를 제어시키는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체.