KR101736783B1 - 하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기 - Google Patents

하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기에 관한 것이다.
이에 본 발명의 기술적 요지는 세정시 화학약품(케미칼)의 사용을 원천적으로 배제하여 환경오염을 방지함은 물론 세정 과정을 하나의 챔버 내에서 단계(브러시, 스팀, 린스, 탈수, 건조)별 세정구조로 분할한 뒤 세척과 탈수 건조를 수행하도록 하되, 건조 공정을 포함한 전체 세정 라인은 자동화 라인으로 형성되어 신속하고 정밀한 세정이 이루어지도록 형성되고, 특히 세정 공정에서 구비되는 브러시와 스팀 분사용 나이프 및 에어 분사노즐은 기존 설비 대비 세정액 분사 분포도와 스팀 분사 균일도 및 집중화 모션 기능이 선택적으로 구현되어 세척 효율이 크게 개선되고 이로 인해 목적한 세정 대상품의 품질이 우수하게 확보되는 것을 특징으로 한다.

Description

하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기{An eco-friendly Steam Cleaning System}
본 발명은 세정시 화학약품(케미칼)의 사용을 원천적으로 배제하여 환경오염을 방지함은 물론 세정 과정을 하나의 챔버 내에서 단계(브러시, 스팀, 린스, 탈수, 건조)별 세정구조로 분할한 뒤 세척과 탈수 건조를 수행하도록 하되, 건조 공정을 포함한 전체 세정 라인은 자동화 라인으로 형성되어 신속하고 정밀한 세정이 이루어지도록 형성되고, 특히 세정 공정에서 구비되는 브러시와 스팀 분사용 나이프 및 에어 분사노즐은 기존 설비 대비 세정액 분사 분포도와 스팀 분사 균일도 및 집중화 모션 기능이 선택적으로 구현되어 세척 효율이 크게 개선되고 이로 인해 목적한 세정 대상품의 품질이 우수하게 확보되는 것을 특징으로 하는 하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 집적 회로 소자 중 하나인 디스플레이 소자는 유리(규소) 재질의 기판을 기초로 증착 공정, 식각 공정, 포토리소그래피 공정, 세정 공정 등을 수행하여 제조되는데, 이러한 공정 중에는 통상적으로 다양한 종류의 케미컬이 사용된다.
특히, 상기 세정 공정은 기판에 묻어 있는 케미컬 또는 이물질 제거를 위한 화학품의 제거를 위해 실시하는 것으로, 보통 마지막에 탈이온수(DI)와 같은 중성의 세정물을 이용하여 기판을 세정하게 된다.
즉, 평판 표시 패널의 제조를 위해서는 다양한 공정들이 요구되는데, 이러한 공정들 중 세정 공정은 기판 상에 부착된 파티클 등과 같은 오염 물질을 제거하는 공정으로서 박막 트랜지스터 등의 소자 손실을 최소화하여 수율을 향상시키기 위해 수행된다.
이때, 이전 공정에서 강산성인 염산(HCl)을 케미컬로 사용할 경우 기판에는 염소(Cl2) 물질이 남아 있게 되고 이를 제거하기 위해서는 세정 공정시 탈이온수(DI)를 약 80℃ 이상의 고온으로 가열하여 기판에 분사하도록 형성된다.
한편, 기판에 남아 있는 염소(Cl2) 물질을 제거하기 위해서는 상대적으로 과다한 양의 탈이온수(DI)가 필요하게 된다.
즉, 과다한 양의 탈이온수(DI)로 인하여 환경오염을 일으키게 되고, 공정 중 케미칼 구입 비용이 발생하게 되며, 상기 탈이온수(DI)를 가열하기 위해서는 상대적으로 넓은 공간이 필요하게 되고 에너지도 많이 소모되는 문제점이 있다.
또한, 위와 같은 종래의 스팀 세정기는 파티클을 제거하기 위해서 필연적으로 화학 약품인 케미칼을 사용해야 하는 바, 이는 환경오염의 원인이 되기도 하고 이를 처리하기 위한 별도의 처리시설(또는 처리 장비)을 요하게 됨으로써, 생산설비 증가로 인해 설치비의 증가와 현장의 대형화가 필연적으로 수반되어야 하는 문제가 야기된다.
1. 대한민국 공개특허공보 제10-2015-0146292호(2015.12.31.공개)
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 기술적 요지는 세정시 화학약품(케미칼)의 사용을 원천적으로 배제하여 환경오염을 방지함은 물론 세정 과정을 하나의 챔버 내에서 단계(브러시, 스팀, 린스, 탈수, 건조)별 세정구조로 분할한 뒤 세척과 탈수 건조를 수행하도록 하되, 건조 공정을 포함한 전체 세정 라인은 자동화 라인으로 형성되어 신속하고 정밀한 세정이 이루어지도록 형성되고, 특히 세정 공정에서 구비되는 브러시와 스팀 분사용 나이프 및 에어 분사노즐은 기존 설비 대비 세정액 분사 분포도와 스팀 분사 균일도 및 집중화 모션 기능이 선택적으로 구현되어 세척 효율이 크게 개선되고 이로 인해 목적한 세정 대상품의 품질이 우수하게 확보되는 것을 특징으로 하는 하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기를 제공함에 그 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 매거진으로부터 낱장 투입된 PCB기판에 대하여 상,하면 회전 세정을 실시하도록 하되, 일측에는 구동모터(110)가 구비되고 타측에는 상기 구동모터(110)와 연동하면서 회전하는 한 쌍의 브러시 로울러(120)가 구비되며, 상기 브러시 로울러(120)는 외주면에 나일론 재질의 교체형 브러시(130)가 장착되도록 형성되는 브러시 세정부(100)와; 상기 브러시 세정부(100)를 경유한 PCB기판에 대하여 상,하면 스팀 분사를 실시하도록 하되, 일측에는 스팀생성기(210)가 구비되고 타측에는 상기 스팀생성기(210)로부터 유입된 증기를 분사하도록 멀티노즐(220)이 구비되며, 상기 멀티노즐(220)은 설정된 압력과 분사각이 조절되도록 형성되는 스팀 세정부(200)와; 상기 스팀 세정부(200)를 경유한 PCB기판에 대하여 최종 세척을 도모하도록 하되, 일측에는 순수 저류조(310)가 형성되고 타측에는 상기 순수 저류조(310)로부터 공급받은 물이 고압 분사되면서 미세 세척이 가능하도록 분사노즐(320)이 형성되는 린스부(300)와; 상기 린스부(300)를 경유한 PCB기판에 대하여 질소(N2)를 분사하도록 하되, 일측에는 질소 저장소(410)가 형성되고 타측에는 다수개의 분사나이프(420)가 형성되는 탈수부(400)와; 상기 탈수부(400)를 경유한 PCB기판에 대하여 대류식 간접 가열공기를 제공하도록 하되, PCB기판이 이송되는 상,하면에는 히터부재가 내입된 핫플레이트(510)가 구비되도록 형성되고 타측에는 상기 핫플레이트(510)의 설정온도를 제어하도록 컨트롤러가 형성되는 건조부(500)가; 구성되어 이루어진다.
이에, 상기 브러시 세정부(100)는 한 쌍의 브러시 로울러(120)가 2개 1조 형태로 나란하게 연속되도록 형성되되, 상기 브러시 로울러(120)를 향한 외측 상하부에는 순수 분사용 노즐(140)이 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스팀 세정부의 멀티노즐(220)은 일방향으로 길이를 갖는 박스형 함체(221)의 일측에 직경이 좁고 긴 슬릿형 분사공(222)이 마련되도록 형성되어 공급된 스팀 배출 압력이 증대되도록 형성된다.
이에, 상기 스팀 세정기는 브러시 세정부(100), 스팀 세정부(200), 린스부(300), 탈수부(400) 및 건조부(500)는 메인챔버(600) 내에서 구획을 이루며 설치되도록 하되, 상기 메인챔버(600)는 내부 일측에 프리필터(710)를 갖는 외기 공급부(700)가 더 구비되는 것이 바람직하다.
아울러, 상기 메인챔버(600)는 내부 공간부에 배기 배출부(800)와 워터 드레인 파트(900)가 더 구비되도록 형성된다.
이와 같이 본 발명은 세정시 화학약품(케미칼)의 사용을 원천적으로 배제하여 환경오염을 방지함은 물론 세정 과정을 하나의 챔버 내에서 단계(브러시, 스팀, 린스, 탈수, 건조)별 세정구조로 분할한 뒤 세척과 탈수 건조를 수행하도록 하되, 건조 공정을 포함한 전체 세정 라인은 자동화 라인으로 형성되어 신속하고 정밀한 세정이 이루어지도록 하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 세정 공정에서 구비되는 브러시와 스팀 분사용 나이프 및 에어 분사노즐이 기존 설비 대비 세정액 분사 분포도와 스팀 분사 균일도 및 집중화 모션 기능이 선택적으로 구현되어 세척 효율이 크게 개선되고 이로 인해 목적한 세정 대상품의 품질이 우수하게 확보되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 스팀 세정기의 개략적 계통도,
도 2는 본 발명에 따른 스팀 세정기의 정면, 측면, 평면을 나타낸 예시도,
도 3은 도 2에 따른 정면 확대 예시도,
도 4 내지 도 5는 본 발명에 따른 메인챔버를 나타낸 예시도,
도 6 내지 도 10은 본 발명에 따른 브러시 세정부를 나타낸 예시도,
도 11 내지 도 12는 본 발명에 따른 스팀 세정부의 멀티노즐을 나타낸 예시도,
도 13은 본 발명에 따른 린스부를 나타낸 예시도,
도 14는 본 발명에 따른 탈수부를 나타낸 예시도,
도 15는 본 발명에 따른 건조부를 나타낸 예시도,
도 16 내지 도 18은 본 발명에 따른 쿨링챔버(520)를 나타낸 예시도이다.
다음은 첨부된 도면을 참조하며 본 발명을 보다 상세히 설명하겠다.
먼저, 도 1 내지 도 15에서 보는 바와 같이 본 발명은 브러시 세정부(100), 스팀 세정부(200), 린스부(300), 탈수부(400) 및 건조부(500)로 크게 구성된다.
이에, 상기 브러시 세정부(100)는 매거진으로부터 낱장 투입된 PCB기판에 대하여 상,하면 회전 세정을 실시하도록 하되, 일측에는 구동모터(110)가 구비되고 타측에는 상기 구동모터(110)와 연동하면서 회전하는 한 쌍의 브러시 로울러(120)가 구비되며, 상기 브러시 로울러(120)는 외주면에 나일론 재질의 교체형 브러시(130)가 장착되도록 형성된다.
즉, 상기 PCB기판은 INPUT 매거진에 의해 공급되는 것으로, 이러한 INPUT 매거진은 로딩부 내에 수납되어 장착되도록 형성된다.
이때, PCB기판은 연속해서 5개 이상 작업가능하도록 형성되며 작업이 완료된 빈 매거진은 로딩부의 일측에 형성된 취출부를 통해 배출되도록 형성된다.
이때, 로딩부의 또 다른 일측에는 실질적인 세정 존으로 투입 전 대기할 수 있는 공간이 형성된다.
이때, 상기 매거진 내 PCB기판은 푸쉬 로울러에 의한 푸싱 방법으로 정밀 공급되도록 하는 것이 바람직하다.
한편, 본 발명에 따른 스팀 세정기는 다수개의 드라이브 샤프트를 통해 PCB기판이 언로딩측으로 이송되는 것으로, 이러한 드라이브 샤프트는 메인구동장치인 모터에 의해 연동구동 회전하도록 형성된다.
이때, 상기 브러시 세정부(100)는 한 쌍의 브러시 로울러(120)가 2개 1조 형태로 나란하게 연속되도록 형성되되, 상기 브러시 로울러(120)를 향한 외측 상하부에는 순수 분사용 노즐(140)이 형성되는 것이 바람직하다.
즉, 상기 순수 분사용 노즐은 브러시에 잔존하는 이물이나 오물을 제거하도록 하면서 동시에 PCB기판 면상에 흡착된 찌꺼기 등의 잔존물(Burr)의 수세를 도모하도록 형성된다.
이때, 상기 순수 분사용 노즐은 일방향 설정된 기울기를 갖도록 형성되어 PCB기판에 대한 분사압이 상하 직하방향이 아닌 경사각을 이루도록 형성된다.
이는 PCB기판 내 소자를 보호함은 물론 분사압에 따른 분무 물결 흐름이 원활하게 이루어지도록 하기 위함이다.
이에, 상기 스팀 세정부(200)는 상기 브러시 세정부(100)를 경유한 PCB기판에 대하여 상,하면 스팀 분사를 실시하도록 하되, 일측에는 스팀생성기(210)가 구비되고 타측에는 상기 스팀생성기(210)로부터 유입된 증기를 분사하도록 멀티노즐(220)이 구비되며, 상기 멀티노즐(220)은 설정된 압력과 분사각이 조절되도록 형성된다
또한, 상기 스팀 세정부의 멀티노즐(220)은 일방향으로 길이를 갖는 박스형 함체(221)의 일측에 직경이 좁고 긴 슬릿형 분사공(222)이 마련되도록 형성되어 공급된 스팀 배출 압력이 증대되도록 형성된다.
즉, 상기 멀티노즐은 PCB기판을 향한 단부에 모서리와 같은 날카로운 형태의 슬릿형 분사공이 형성되어 스팀 분사시 균등 가압과 균일 분포도가 이루어지도록 형성된다.
이는 일종의 에어커튼과 같은 형태로 구비되어 PCB기판 면상에 대한 스팀 증착성이 확장되도록 형성된다.
또한, 상기 멀티노즐은 좌우 폭방향 대비 내측 절개부가 좁게 형성되어 가로막과 같은 닫힘형 분사가 이루어지도록 형성되는 것이 바람직하다. 이는 스팀 분사시 스팀의 외측 분산에 따른 효율 낭비를 최소화하기 위함이다.
이에, 상기 린스부(300)는 상기 스팀 세정부(200)를 경유한 PCB기판에 대하여 최종 세척을 도모하도록 하되, 일측에는 순수 저류조(310)가 형성되고 타측에는 상기 순수 저류조(310)로부터 공급받은 물이 고압 분사되면서 미세 세척이 가능하도록 분사노즐(320)이 형성된다.
즉, 상기 린스부는 스팀을 통해 불려진 이물 오물에 대한 최종 세척을 도모하도록 하는 것으로, 상기 분사노즐은 PCB기판을 향해 다수개가 형성되어 균일한 분사성능을 확보할 수 있도록 형성된다.
이에, 상기 탈수부(400)는 상기 린스부(300)를 경유한 PCB기판에 대하여 질소(N2)를 분사하도록 하되, 일측에는 질소 저장소(410)가 형성되고 타측에는 다수개의 분사나이프(420)가 형성된다.
이에, 상기 건조부(500)는 상기 탈수부(400)를 경유한 PCB기판에 대하여 대류식 간접 가열공기를 제공하도록 하되, PCB기판이 이송되는 상,하면에는 히터부재가 내입된 핫플레이트(510)가 구비되도록 형성되고 타측에는 상기 핫플레이트(510)의 설정온도를 제어하도록 컨트롤러가 형성된다.
이에, 본 발명의 스팀 세정기는 브러시 세정부(100), 스팀 세정부(200), 린스부(300), 탈수부(400) 및 건조부(500)는 메인챔버(600) 내에서 구획을 이루며 설치되도록 하되, 상기 메인챔버(600)는 내부 일측에 프리필터(710)를 갖는 외기 공급부(700)가 더 구비되는 것이 바람직하다.
아울러, 상기 메인챔버(600)는 내부 공간부에 배기 배출부(800)와 워터 드레인 파트(900)가 더 구비되도록 형성된다.
한편, 상기 건조부(500)는 도 16 내지 도 18에 도시된 바와 같이 핫플레이트(510) 후방(PCB기판이 진행하는 방향 기준의 후방)에 별도의 쿨링챔버(520)가 더 구비되도록 하는 것이 바람직하다.
이때, 상기 쿨링 챔버(520)는 이송 중인 PCB기판을 기준으로 상하측에 냉각 에어를 공급하도록 챔버 본체(511)가 각각 형성되어 서로 대칭되는 형태로 한 쌍을 이루도록 형성되며, 상기 챔버 본체(511)의 일측에는 공기 유입구(512)가 형성되고, PCB기판을 향한 면상에는 좌우 폭방향으로 절개된 립 노즐(513)이 구비되며, 상기 립 노즐(513)은 'V' 형태로 형성되도록 하되, 상기 립 노즐(513)은 중앙부 직경(S2)을 기준으로 양측단의 직경(S1)이 협소해지도록 형성되고, 상기 양측단은 중앙부를 기준으로 소정 간격 거리차(D)를 갖도록 형성되어 핫플레이트(510)를 통과한 뒤 이송되는 PCB기판의 평면과 저면에 대하여 해당면의 중앙부 냉각 온도와 양끝단부 냉각온도가 수평화를 이루면서 균일하게 냉각 유도되도록 형성된다.
이때, 상기 쿨링 챔버는 이송 중인 PCB기판에 대하여 서로 대칭되는 형태로 한 쌍을 이루도록 형성되는 것이 바람직하다.
이때, 상기 쿨링 챔버의 립 노즐(513)은 중앙부 직경(S2)을 기준으로 양측단의 직경(S1)이 협소해지도록 형성되고, 상기 양측단은 중앙부를 기준으로 소정 간격 거리차(D)를 갖도록 형성되어 PCB기판의 이송 속도에 따라 설계 변경이 가능하도록 형성된다.
또한, 립 노즐의 중앙부 센터점을 기준으로 거리차를 갖는 경사 라인(L2)은 각도로서 23.2°인 것이 바람직하다.
이는 이송 중인 PCB기판의 히팅 온도 편차를 고려할 때 수평화를 이루는 가장 합리적인 각도이기 때문이다.
이때 상기 립 노즐의 폭방향(PCB기판 폭방향 기준) 양측단은 직경이 좁게 형성되는 것으로, 이는 에어 커튼과 같은 가림막 형태를 이루도록 형성되어 냉기가 외부로 누출되지 않고 가둬진 상태에서 공급되도록 형성된다.
또한, 상기 립 노즐은 쿨링 챔버의 면상에 형성시 상하 적층식 구조를 이루는 복수개로 형성되는 것이 바람직하다.
즉, 립 노즐의 폭이 S1과 S2가 다르다. 그 이유는 PCB기판의 중앙부와 양끝의 히팅 온도가 다르기 때문으로, 중앙의 온도가 높기 때문에 중앙에 바람을 많이 보내 양끝보다 중앙을 빨리 냉각시키기 위함이다.
그리고 양끝을 좁게 해서 압력을 높여 중앙에서 대류 현상으로 인하여 냉각 바람이 양끝으로 가지 않고 냉각 바람이 중앙에서 계속 상승하여 쿨링의 효과를 최대한 사용하기 위함이다.
간격 D의 결정은 PCB기판의 이송속도를 반영하여 설계하는 것이 바람직하고 주어진 공간에서의 최대한 이용하는 것이 품질에 좋은 영향을 미친다.
본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
100 ... 브러시 세정부 110 ... 구동모터
120 ... 브러시 로울러 130 ... 브러시
140 ... 순수 분사용 노즐 200 ... 스팀 세정부
210 ... 스팀생성기 220 ... 멀티노즐
221 ... 함체 222 ... 슬릿형 분사공
300 ... 린스부 310 ... 순수 저류조
320 ... 분사노즐 400 ... 탈수부
410 ... 질소 저장소 420 ... 분사나이프
500 ... 건조부 510 ... 핫플레이트
600 ... 메인챔버 700 ... 외기 공급부
710 ... 프리필터 800 ... 배기 배출부
900 ... 워터 드레인 파트

Claims (5)

  1. 매거진으로부터 낱장 투입된 PCB기판에 대하여 상,하면 회전 세정을 실시하도록 하되, 일측에는 구동모터(110)가 구비되고 타측에는 상기 구동모터(110)와 연동하면서 회전하는 한 쌍의 브러시 로울러(120)가 구비되며, 상기 브러시 로울러(120)는 외주면에 나일론 재질의 교체형 브러시(130)가 장착되도록 형성되는 브러시 세정부(100)와; 상기 브러시 세정부(100)를 경유한 PCB기판에 대하여 상,하면 스팀 분사를 실시하도록 하되, 일측에는 스팀생성기(210)가 구비되고 타측에는 상기 스팀생성기(210)로부터 유입된 증기를 분사하도록 멀티노즐(220)이 구비되며, 상기 멀티노즐(220)은 설정된 압력과 분사각이 조절되도록 형성되는 스팀 세정부(200)와; 상기 스팀 세정부(200)를 경유한 PCB기판에 대하여 최종 세척을 도모하도록 하되, 일측에는 순수 저류조(310)가 형성되고 타측에는 상기 순수 저류조(310)로부터 공급받은 물이 고압 분사되면서 미세 세척이 가능하도록 분사노즐(320)이 형성되는 린스부(300)와; 상기 린스부(300)를 경유한 PCB기판에 대하여 질소(N2)를 분사하도록 하되, 일측에는 질소 저장소(410)가 형성되고 타측에는 다수개의 분사나이프(420)가 형성되는 탈수부(400)와; 상기 탈수부(400)를 경유한 PCB기판에 대하여 대류식 간접 가열공기를 제공하도록 하되, PCB기판이 이송되는 상,하면에는 히터부재가 내입된 핫플레이트(510)가 구비되도록 형성되고 타측에는 상기 핫플레이트(510)의 설정온도를 제어하도록 컨트롤러가 형성되는 건조부(500)가; 구성되어 이루어진 스팀 세정기에 있어서,
    상기 브러시 세정부(100)는 한 쌍의 브러시 로울러(120)가 2개 1조 형태로 나란하게 연속되도록 형성되되, 상기 브러시 로울러(120)를 향한 외측 상하부에는 순수 분사용 노즐(140)이 형성되고, 상기 스팀 세정부의 멀티노즐(220)은 일방향으로 길이를 갖는 박스형 함체(221)의 일측에 직경이 좁고 긴 슬릿형 분사공(222)이 마련되도록 형성되어 공급된 스팀 배출 압력이 증대되도록 형성되며, 상기 브러시 세정부(100), 스팀 세정부(200), 린스부(300), 탈수부(400) 및 건조부(500)는 메인챔버(600) 내에서 구획을 이루며 설치되도록 하되, 상기 메인챔버(600)는 내부 일측에 프리필터(710)를 갖는 외기 공급부(700)가 더 구비되고, 상기 메인챔버(600)는 내부 공간부에 배기 배출부(800)와 워터 드레인 파트(900)가 더 구비되도록 형성되며, 상기 건조부(500)는 핫플레이트(510) 후방에 쿨링챔버(520)가 구비되도록 하되, 상기 쿨링 챔버(520)는 이송 중인 PCB기판을 기준으로 상하측에 냉각 에어를 공급하도록 챔버 본체(511)가 각각 형성되어 서로 대칭되는 형태로 한 쌍을 이루도록 형성되며, 상기 챔버 본체(511)의 일측에는 공기 유입구(512)가 형성되고, PCB기판을 향한 면상에는 좌우 폭방향으로 절개된 립 노즐(513)이 구비되며, 상기 립 노즐(513)은 'V' 형태로 형성되도록 하되, 상기 립 노즐(513)은 중앙부 직경(S2)을 기준으로 양측단의 직경(S1)이 협소해지도록 형성되고, 상기 양측단은 중앙부를 기준으로 소정 간격 거리차(D)를 갖도록 형성되어 핫플레이트(510)를 통과한 뒤 이송되는 PCB기판의 평면과 저면에 대하여 해당면의 중앙부 냉각 온도와 양끝단부 냉각온도가 수평화를 이루면서 균일하게 냉각 유도되도록 하는 것을 특징으로 하는 하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107302831A (zh) * 2017-08-03 2017-10-27 安徽博泰电路科技有限公司 一种电路板钻污清洗装置
CN110000127A (zh) * 2019-05-10 2019-07-12 连云港职业技术学院 基于聚乙烯试管架清洗机
WO2021097870A1 (zh) * 2019-11-22 2021-05-27 苏州昊云电子科技有限公司 一种电子产品开发实验平台

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002355619A (ja) * 2001-05-30 2002-12-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002355619A (ja) * 2001-05-30 2002-12-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107302831A (zh) * 2017-08-03 2017-10-27 安徽博泰电路科技有限公司 一种电路板钻污清洗装置
CN107302831B (zh) * 2017-08-03 2024-05-03 衢州市天英电子有限公司 一种电路板钻污清洗装置
CN110000127A (zh) * 2019-05-10 2019-07-12 连云港职业技术学院 基于聚乙烯试管架清洗机
CN110000127B (zh) * 2019-05-10 2023-10-27 连云港职业技术学院 基于聚乙烯试管架清洗机
WO2021097870A1 (zh) * 2019-11-22 2021-05-27 苏州昊云电子科技有限公司 一种电子产品开发实验平台

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