JPH10137665A - 基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各薬液に応じた雰囲気を形成することによっ
て、薬液の固化を防止しつつもその濃度や物性的な変化
が生じることを防止できる。 【解決手段】 供給位置と待機位置とにわたって移動可
能に構成されている複数種類の薬液を吐出する３本の薬
液供給ノズル１０（１１，１２）を備え、各々の薬液供
給ノズル１０（１１，１２）が待機位置に移動したとき
に、待機ポット２０の挿入口のそれぞれに各先端部１０
ｂ（１１ｂ，１２ｂ）を収納して待機させる基板塗布装
置の薬液供給ノズル待機方法において、３本の薬液供給
ノズル１０（１１，１２）が待機位置で待機していると
きに、各薬液供給ノズル１０（１１，１２）が吐出する
各々の薬液の溶媒に応じた雰囲気を待機ポット２０の各
挿入口内部に形成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称す
る）に対して、SOG(Spin On Glass,シリカ系被膜形成材
とも呼ばれる) 液、フォトレジスト液、ポリイミド樹脂
などの薬液を供給して塗布被膜を形成する基板塗布装置
の薬液供給ノズル待機方法およびその装置に係り、特に
複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを待
機させて薬液の固化を防止する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の装置として、例えば、基
板の回転中心上方にあたる供給位置と基板の側方に離れ
た待機位置とにわたって移動可能であって、複数種類の
薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備えているも
のがある。この装置では、各薬液供給ノズルが待機位置
に移動したときに、薬液中の溶媒が揮発して薬液が各先
端部で固化することを防止するための待機ポットを備え
ているのが一般的である。この待機ポットには、複数個
の薬液供給ノズルの先端部をそれぞれ収納するための複
数個の挿入口が形成されている。これらの挿入口は待機
ポット内で連通しており、各薬液供給ノズルの先端部は
同一の溶剤によって形成された溶剤雰囲気中に置かれる
ようになっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のように構成され
ている従来の基板塗布装置は、待機ポット内に形成され
ている溶剤雰囲気によって各薬液供給ノズルの薬液が各
先端部で固化することを防止することができる。しかし
ながら、その一方で同一の溶剤により形成されている溶
剤雰囲気中に全ての薬液供給ノズルの先端部を置くよう
にしている関係上、薬液の種類によってはその溶剤雰囲
気が過度のものとなって、溶剤雰囲気中の溶剤成分を吸
収して濃度が薄くなるという問題がある。また、溶剤雰
囲気中の溶剤成分を吸収することにより薬液が物性的
（例えば粘度）に変化してしまうという問題がある。こ
のように濃度が薄くなったり粘度が変化した薬液を基板
に対して供給すると塗布ムラを生じるという問題点があ
る。また、複数種類の薬液を予め待機ポット内に吐出
（いわゆるダミーディスペンスであり、以下、予備吐出
と称する）すると、これらが混ざり合って凝固し、待機
ポット内に堆積した後に乾燥してパーティクルを発生す
るという問題点もある。

【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、各薬液に応じた雰囲気を形成すること
によって、薬液の固化を防止しつつもその濃度や物性的
な変化が生じることを防止できる基板塗布装置の薬液供
給ノズル待機方法およびその装置を提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板塗布装置の薬液供給ノズル待
機方法は、基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置
と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可
能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の
薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位
置に移動したときに、前記待機位置に配設されている待
機ポットの複数個の挿入口のそれぞれに前記各薬液供給
ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置の薬
液供給ノズル待機方法において、前記複数個の薬液供給
ノズルが前記待機位置で待機しているときに、前記各薬
液供給ノズルが吐出する各々の薬液の溶媒に応じた雰囲
気を前記待機ポットの各挿入口内部に形成したことを特
徴とするものである。

【０００６】また、請求項２に記載の基板塗布装置の薬
液供給ノズル待機方法は、請求項１に記載の基板塗布装
置の薬液供給ノズル待機方法において、前記待機ポット
の各挿入口内部に形成する各々の薬液に応じた雰囲気
を、前記各薬液供給ノズルが予備吐出によって前記待機
ポットの各挿入口内部に吐出した各々の薬液により形成
するようにしたことを特徴とするものである。

【０００７】また、請求項３に記載の基板塗布装置の薬
液供給ノズル待機方法は、請求項１に記載の基板塗布装
置の薬液供給ノズル待機方法において、前記待機ポット
の各挿入口内部に形成する各々の薬液に応じた雰囲気
を、前記各々の薬液に応じた溶剤を前記待機ポットの各
挿入口内部に供給して形成するようにしたことを特徴と
するものである。

【０００８】また、請求項４に記載の基板塗布装置は、
基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板
の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成さ
れている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノ
ズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動し
たときに、前記待機位置に配設された待機ポットの複数
個の挿入口の各々に前記各薬液供給ノズルの先端部を収
納して待機させる基板塗布装置において、前記待機ポッ
ト内部に隔壁を設けて前記各挿入口内部の雰囲気をそれ
ぞれ遮断し、前記各挿入口内部の雰囲気を前記各薬液供
給ノズルが吐出する薬液に応じた雰囲気にそれぞれ独立
して保持するようにしたことを特徴とするものである。

【０００９】また、請求項５に記載の基板塗布装置の待
機ポットは、請求項４に記載の基板塗布装置において、
前記待機ポットの各挿入口内部を、当該挿入口に先端部
が収納された薬液供給ノズルから予備吐出された薬液が
流下し、隣接する挿入口内部と前記隔壁により遮断され
た薬液流下空間と、この薬液流下空間に連通した排液口
と、前記排液口および前記薬液流下空間に連通し、溶剤
を貯留する溶剤貯留部とによって構成するとともに、予
備吐出により前記各薬液供給ノズルから吐出された薬液
のそれぞれが前記各溶剤貯留部に貯留してそれぞれ連通
した薬液流下空間を薬液に応じた雰囲気に形成し、前記
各溶剤貯留部に共通した溶剤を供給することにより前記
各薬液を前記各溶剤貯留部の溶剤とともに前記排液口へ
排出するようにしたことを特徴とするものである。

【００１０】また、請求項６に記載の基板塗布装置の待
機ポットは、請求項４に記載の基板塗布装置において、
前記待機ポットの各挿入口内部を、当該挿入口に先端部
が収納された薬液供給ノズルから予備吐出された薬液が
流下し、隣接する挿入口内部と前記隔壁により遮断され
た薬液流下空間と、この薬液流下空間に連通した排液口
と、前記排液口および前記薬液流下空間に連通し、各薬
液供給ノズルが吐出する薬液に応じた溶剤をそれぞれ貯
留する溶剤貯留部とによって構成するとともに、前記各
薬液流下空間の雰囲気を前記各溶剤によって薬液に応じ
た雰囲気に形成し、前記各溶剤貯留部に前記各溶剤を供
給することにより予備吐出された各薬液を前記各溶剤貯
留部の各溶剤とともに前記排液口に排出するようにした
ことを特徴とするものである。

【００１１】

【作用】請求項１に記載の発明方法の作用は次のとおり
である。基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と
基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構
成されている複数種類の薬液を吐出する薬液供給ノズル
は、待機位置で待機しているときに固化を防止するため
に各先端部を待機ポットの各挿入口に収納する。この待
機ポットの各挿入口内部には、各薬液供給ノズルが吐出
する薬液の溶媒に応じた雰囲気が形成されているので、
待機位置において各薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収す
ること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化
を緩和することができる。

【００１２】また、請求項２に記載の発明方法の作用は
次のとおりである。待機ポットの各挿入口内部の雰囲気
を、薬液供給ノズルが待機しているときに各々の先端部
から予備吐出した所定量の薬液によって形成する。した
がって、特に薬液に応じた溶剤を供給することなく、薬
液の溶媒と雰囲気中の溶剤とを一致させることができ
る。その結果、薬液がその雰囲気中の溶剤成分を吸収す
ること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化
を緩和することができる。

【００１３】また、請求項３に記載の発明方法によれ
ば、薬液供給ノズルが待機しているときに待機ポットの
各挿入口内部に各薬液供給ノズルが吐出する薬液の溶媒
に応じた溶剤を供給するので、薬液の溶剤と雰囲気中の
溶剤を一致させることができる。したがって薬液がその
雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度
変化や、粘度などの物性変化を緩和することができる。

【００１４】また、請求項４に記載の発明装置の作用は
次のとおりである。複数種類の薬液を吐出する複数個の
薬液供給ノズルは、基板の回転中心付近の上方にあたる
供給位置と基板の側方に離れた待機位置とにわたってそ
れぞれ移動可能に構成されており、待機位置では固化を
防止するために待機ポットに設けられている各挿入口に
各先端部を収納する。待機ポット内は、隔壁が配設され
て各挿入口内部の雰囲気がそれぞれ遮断されているの
で、各挿入口内部の雰囲気を各薬液供給ノズルから吐出
される薬液に応じた雰囲気にそれぞれ独立して保持する
ことができる。したがって、各薬液供給ノズルが吐出す
る薬液の溶媒に応じた雰囲気を各挿入口内部に形成する
ことができるので、待機位置において各薬液が雰囲気中
の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、
粘度などの物性変化を緩和することができる。

【００１５】また、請求項５に記載の発明装置によれ
ば、各挿入口に収納された薬液供給ノズルの先端部から
予備吐出される薬液は、隣接する挿入口内部と隔壁によ
って遮断された薬液流下空間を流下する。予備吐出され
た薬液は溶剤を貯留している溶剤貯留部に滞留するが、
この溶剤貯留部は薬液流下空間に連通しているので、薬
液流下空間の雰囲気を各薬液に応じた雰囲気にすること
ができる。つまり、自分自身の薬液に含まれている溶媒
によって、各挿入口内部の雰囲気を形成することにな
る。これにより複数種類の薬液ごとに溶剤を供給するこ
となく、各挿入口内部の雰囲気を各薬液に含まれている
溶媒に一致させることできるので、待機中に薬液が雰囲
気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化
や、粘度などの物性変化を緩和することができる。ま
た、予備吐出された薬液は共通した溶剤を溶剤貯留部に
供給することにより、排液口を通って溶剤貯留部の溶剤
とともに排出されるので、待機ポット内で複数種類の薬
液が混ざり合って溶剤貯留部に堆積することを防止でき
る。

【００１６】また、請求項６に記載の発明装置によれ
ば、各挿入口に収納された薬液供給ノズルの先端部から
予備吐出される薬液は、隣接する挿入口内部と隔壁によ
って遮断された薬液流下空間を流下する。予備吐出され
た薬液は溶剤貯留部に滞留するが、この溶剤貯留部は各
薬液に応じた溶剤を貯留しているので、薬液流下空間の
雰囲気中の溶剤成分を各薬液の溶媒と一致させることが
できる。したがって、待機中に薬液が雰囲気中の溶剤成
分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、粘度など
の物性変化を緩和することができる。また、予備吐出さ
れた薬液は溶剤貯留部に薬液に応じた溶剤を供給するこ
とにより、排液口を通って溶剤貯留部の溶剤とともに排
出されるので、待機ポット内で複数種類の薬液が混ざり
合って薬液が溶剤貯留部に堆積することを防止できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】

＜第１実施例＞以下、図１および図２を参照して本発明
の一実施例を説明する。なお、図１は第１実施例に係る
基板塗布装置の概略構成を示す縦断面図であり、図２は
待機ポットの平面図である。また、薬液の一例としてフ
ォトレジスト液を例にとって説明する。

【００１８】図中、符号１は、吸引式スピンチャックで
ある。この吸引式スピンチャック１は、平面視ほぼ円形
に形成されており、基板Ｗの下面を吸着して水平姿勢で
保持するようになっている。その下面回転中心には、図
示しないモータに連動連結された回転軸３が嵌め付けら
れており、モータを回転駆動することにより基板Ｗを水
平面内で回転するようになっている。吸引式スピンチャ
ック１の周囲には、基板Ｗに供給されたフォトレジスト
液などの薬液が周囲に飛散することを防止するための飛
散防止カップ５が配設されている。この飛散防止カップ
５は、底部にリング状の排液ゾーン６ａを形成された下
カップ６と、上部に開口７ａを形成され、下カップ６の
上部内周面に嵌め付けられている上カップ７とから構成
されている。基板Ｗの周囲に飛散して排液ゾーン６ａに
滞留した薬液は、その一部位に形成されたドレイン６ｂ
から排出されるようになっている。なお、上述した吸引
式スピンチャック１と飛散防止カップ５とは、基板Ｗの
搬送の際に図示しない昇降機構によって相対昇降される
ようになっている。これらを相対昇降することにより、
吸引式スピンチャック１が飛散防止カップ５の開口７ａ
を通って上方に突出するようになっている（図中の二点
鎖線）。

【００１９】この装置は、一例としてそれぞれ異なる種
類（粘度や、含まれている溶剤の種類や樹脂が異なる）
のフォトレジスト液を吐出する３本の薬液供給ノズル１
０〜１２を備えている。基板Ｗの上面には、これらの薬
液供給ノズル１０〜１２のうちのいずれか１つからフォ
トレジスト液が供給される。各薬液供給ノズル１０〜１
２は、剛性を有する部材により形成された剛性アーム１
０ａ〜１２ａと、その下方に向けられた先端部１０ｂ〜
１２ｂとから構成されている。先端部１０ｂ〜１２ｂ
は、図示しない薬液供給機構から供給されたフォトレジ
スト液を、その下面に形成された吐出孔１０ｃ〜１２ｃ
から吐出するものである。各薬液供給ノズル１０〜１２
は、基板Ｗの回転中心の上方で基板Ｗに対して薬液を供
給するための供給位置（図１中に点線で示す位置）と、
この供給位置より上方にあたる上方待機位置（図１中に
二点鎖線で示す位置）と、基板Ｗから側方に離れた待機
位置（図１中に実線で示す位置）とにわたって図示しな
い移動機構により移動するように構成されている。

【００２０】各薬液供給ノズル１０〜１２が待機位置に
ある際には、各先端部１０ｂ〜１２ｂが待機ポット２０
の各挿入口２１に収納されるようになっている。各挿入
口２１の内部には、待機位置にある薬液供給ノズル１０
〜１２から予備吐出されたフォトレジスト液が流下する
薬液流下空間２３が形成されている。各薬液流下空間２
３は、図１のＡ−Ａ矢視断面図である図３に示すよう
に、隔壁２４によって遮断されている。これらの薬液流
下空間２３から側方に離れた位置には、予備吐出された
フォトレジスト液と溶剤とを排出するための排液口２５
が形成されている。この排液口２５は、各薬液流下空間
２３に連通しているとともに、排液タンク２５ａに連通
接続されている。これらの薬液流下空間２３の下方に
は、上記の排液口２５に連通し、溶剤供給部２６から供
給された共通の溶剤を貯留する溶剤貯留部２７が形成さ
れている。溶剤供給部２６から供給された溶剤は、溶剤
貯留部２７の底面から立設された側壁２７ａによってそ
の液量が一定に保持される。なお、上記の溶剤貯留部２
７に貯留可能な溶剤の容積は予め判っているので、溶剤
供給部２６から貯留可能な量の溶剤を供給して、図１に
示すように常に溶剤貯留部２７が溶剤で満たされるよう
になっている。

【００２１】次に、上述した基板塗布装置の動作につい
て、図４ないし図６を参照して説明する。なお、図４は
動作を示すフローチャートであり、図５および図６は待
機ポットを拡大した縦断面図である。

【００２２】ステップＳ１（予備吐出） 処理の対象である１ロット分の基板群のうち第１番目の
基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止
カップ５内に収容されるまでの間、各薬液供給ノズル１
０〜１２は図１に示すように待機位置にある。このとき
各先端部１０ｂ〜１２ｂが待機ポット２０の各挿入口２
１に収納されている。このような状態にある各薬液供給
ノズル１０〜１２の吐出孔１０ｃ〜１２ｃから一定量の
フォトレジスト液Ｒ（図５中に点線矢印で示す）を一斉
に予備吐出する。吐出されたフォトレジスト液Ｒは、薬
液流下空間２３を経て溶剤貯留部２７に貯留している溶
剤中に流下する。これにより溶剤貯留部２７に貯留して
いた溶剤の一部が、図５中に実線矢印で示すように側壁
２７ａを越えて排液口２５に流れ込むとともに、フォト
レジスト液Ｒに含まれている溶媒が揮発して薬液流下空
間２３をフォトレジスト液Ｒに含まれている溶媒成分を
含んだ雰囲気にする。したがって、各先端部１０ｂ〜１
２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレ
ジスト液が固化することを防止できる。さらに、この例
では、各薬液供給ノズル１０〜１２がそれぞれ異なるフ
ォトレジスト液を吐出するが、各薬液流下空間２３が隔
壁２４によって遮断されているので、各薬液流下空間２
３の雰囲気が独立して保持される。したがって、各薬液
流下空間２３の雰囲気は各フォトレジスト液の溶媒成分
を含んだ適切な状態にされるので、溶剤成分の雰囲気が
過度となって各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜
１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が雰囲気を吸
収すること等により、濃度や物性的な変化を生じること
を緩和することができる。

【００２３】ステップＳ２（供給位置へ移動） １ロットを構成する基板群のうち第１番目の基板Ｗが吸
引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内
に収容されると、３本の薬液供給ノズル１０〜１２のう
ち基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給するもの、例
えば、薬液供給ノズル１０が図１に示すように待機位置
（実線）から上方待機位置（二点鎖線）を経て供給位置
（点線）まで移動する。そして、図示しないモータを回
転駆動することにより、回転軸３および吸引式スピンチ
ャック１を介して基板Ｗを所定の回転数で回転させる。
次いで、薬液供給ノズル１０の吐出孔１０ｃから所定量
のフォトレジスト液を基板Ｗに対して供給する。基板Ｗ
の表面全体をフォトレジスト液が覆った後に、回転数を
上昇してその余剰分を振り切って一定膜厚のフォトレジ
スト被膜を形成する。このように基板Ｗの表面に供給さ
れたフォトレジスト液は待機中の間、固化はもちろんの
こと粘度や物性的な変化が防止されているので、塗布ム
ラを生じることなく均一なフォトレジスト被膜を形成す
る。そして、上記の処理が１ロット分の基板Ｗに対して
完了するまで、選択された薬液供給ノズル１０は上方待
機位置と供給位置との間を繰り返し移動する。

【００２４】ステップＳ３（薬液の排出） 上記のステップＳ２において薬液供給ノズル１０が供給
位置へ移動するとともに、溶剤供給部２６から一定量の
溶剤を溶剤貯留部２７に供給する。これによって図６に
示すように各薬液供給ノズル１０〜１２から予備吐出さ
れて溶剤貯留部２７に流下したフォトレジスト液Ｒは、
溶剤とともに側壁２７ａを越えて排液口２５に排出され
る。排出された溶剤およびフォトレジスト液Ｒは、排液
タンク２５ａに回収される。このように予備吐出された
３種類のフォトレジスト液Ｒが溶剤とともに排液口２５
に排出されるので、それらがが混ざり合って凝固し、溶
剤貯留部２７や排液口２５内に堆積してパーティクルが
発生することを防止できる。また、排液口２５から排液
タンク２５ａに至る経路の詰まりによるフォトレジスト
液を含む溶剤のオーバーフローといった不都合をも防止
できる。

【００２５】ステップＳ４（予備吐出） 選択された薬液供給ノズル１０以外の薬液供給ノズル１
１，１２は待機位置にあるが、上記ステップＳ３におい
て予備吐出したフォトレジスト液を排出したので、薬液
流下空間２３の雰囲気が不適切なものとなる前に再び予
備吐出を行う。これにより待機位置にある薬液供給ノズ
ル１１，１２の薬液流下空間２３内には、新たなフォト
レジスト液によって再び上述したように適切な溶剤雰囲
気が形成される。

【００２６】なお、上記の説明では、選択された薬液供
給ノズル１０が供給位置に移動した際に、ステップＳ３
において予備吐出した薬液を排出するようにしたが、こ
れを行うことなく選択された薬液供給ノズル１０が処理
を終えて待機位置に復帰した際に、上記のステップＳ３
を行うようにしてもよい。このように予備吐出されたフ
ォトレジスト液の排出のタイミングを遅らせたとしても
フォトレジスト液は溶剤貯留部２７の溶剤中にあるの
で、溶剤貯留部２７で固化するような不都合は生じ得な
い。

【００２７】また、待機ポット２０の薬液流下空間２３
に形成された雰囲気が排液口２５を介して乱されること
を防止するために、図５中に点線で示すように、溶剤貯
留部２７の溶剤の液面よりも下方に下端部が位置するよ
うな凸部（２３ａ）を形成しておくことが好ましい。

【００２８】＜第２実施例＞上記の第１実施例では、共
通の溶剤を待機ポット２０に供給し、各薬液供給ノズル
１０〜１２が予備吐出した自分自身のフォトレジスト液
によって薬液流下空２３の雰囲気を形成するようにした
が、次にフォトレジスト液に応じた溶剤を供給して薬液
流下空間２３の雰囲気を形成する例について説明する。

【００２９】図７および図８を参照する。待機ポット２
０は、上述した第１実施例と同様に、上部に各挿入口２
１を形成されており、その下方には隔壁２４によりそれ
ぞれ雰囲気遮断された薬液流下空間２３が形成されてい
る。各薬液流下空間２３から側方に離れた位置には、排
液口２５が形成されている。各薬液流下空間２３の下方
には、上記の排液口２５に連通し、溶剤供給部２６から
供給された各溶剤をそれぞれ貯留する溶剤貯留部２７が
形成されている。溶剤供給部２６は、薬液供給ノズル１
０の溶剤貯留部２７に第１の溶剤を供給する第１溶剤供
給部２６ａと、薬液供給ノズル１１の溶剤貯留部２７に
第２の溶剤を供給する第２溶剤供給部２６ｂと、薬液供
給ノズル１２の溶剤貯留部２７に第３の溶剤を供給する
第３溶剤供給部２６ｃとから構成されている。例えば、
薬液供給ノズル１０が『ＥＣＡ』を溶媒とするフォトレ
ジスト液を供給し、薬液供給ノズル１１が『酢酸ブチ
ル』を溶媒とするフォトレジスト液を供給し、薬液供給
ノズル１２が『乳酸エチル』を溶媒とするフォトレジス
ト液を供給するものである場合には、各フォトレジスト
液に含まれる溶媒をそれぞれの溶剤として採用する。す
なわち、第１の溶剤として『ＥＣＡ』を採用し、第２の
溶剤として『酢酸ブチル』を採用し、第３の溶剤として
『乳酸エチル』を採用すればよい。なお、各フォトレジ
スト液に含まれている溶媒を採用しなくても各フォトレ
ジスト液に適切な溶剤雰囲気を形成することができるも
のであれば、種々の溶剤を採用してもよい。

【００３０】なお、各溶剤貯留部２７には、第１溶剤供
給部２６ａ，第２溶剤供給部２６ｂ，第３溶剤供給部２
６ｃから上述したようにそれぞれ異なる溶媒が供給され
て、常時各溶剤貯留部２７を満たすようになっている。

【００３１】次に図９のフローチャートを参照して動作
について説明する。 ステップＳ１０（予備吐出） 第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着され
て飛散防止カップ５内に収容されるまでの間、各薬液供
給ノズル１０〜１２は図１に示すように待機位置にあ
る。このとき各先端部１０ｂ〜１２ｂは待機ポット２０
の各挿入口２１に収納されているが、各溶剤貯留部２７
には各フォトレジスト液に含まれる溶媒と同じ溶剤が満
たされているので、それらの上方に形成されている各薬
液流下空間２３が各フォトレジスト液に応じた適切な雰
囲気に形成されている。したがって、各先端部１０ｂ〜
１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留している各フォ
トレジスト液が固化することを防止できる。さらに、各
薬液流下空間２３の雰囲気が独立して保持されて各フォ
トレジスト液に応じた適切な状態にされているので、雰
囲気が過度となって各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１
０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が雰囲
気を吸収すること等による濃度や物性的な変化を生じる
ことを緩和することができる。

【００３２】このように各薬液流下空間２３には各フォ
トレジスト液に応じた適切な雰囲気が形成されてはいる
が、基板Ｗにフォトレジスト液を供給する前には、使用
する薬液供給ノズルだけから念のために一定量のフォト
レジスト液を予備吐出する。例えば、図５に示すように
薬液供給ノズル１０から予備吐出を行う。予備吐出され
たフォトレジスト液Ｒ（図中の点線）は、薬液供給ノズ
ル１０の溶剤貯留部２７に流下するが、ここにはフォト
レジスト液Ｒに含まれている溶媒と同じものが貯留して
いるため溶剤中に溶けやすく容易に拡散する。したがっ
て溶剤貯留部２７でフォトレジスト液が固化することに
起因するパーティクルの発生を防止することができる。

【００３３】ステップＳ１１（供給位置へ移動） 第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着され
て飛散防止カップ５内に収容されると、３本の薬液供給
ノズル１０〜１２のうち基板Ｗに対してフォトレジスト
液を供給するもの、この例では薬液供給ノズル１０が待
機位置から供給位置まで移動する（図１参照）。そし
て、基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給して一定膜
厚のフォトレジスト被膜を形成する。このように基板Ｗ
の表面に供給されたフォトレジスト液は、上記の第１実
施例と同様に、固化はもちろんのこと粘度や物性的な変
化が緩和されているので、塗布ムラを生じることなく均
一なフォトレジスト被膜を形成する。

【００３４】ステップＳ１２（薬液の排出） 上記のステップＳ１１において薬液供給ノズル１０が供
給位置へ移動するとともに、溶剤供給部２６ａからのみ
一定量の溶剤を溶剤貯留部２７に供給する。これによっ
て図６に示すように薬液供給ノズル１０から予備吐出さ
れて溶剤貯留部２７に流下したフォトレジスト液Ｒは、
溶剤とともに側壁２７ａを越えて排液口２５に排出され
る。このように予備吐出されたフォトレジスト液Ｒが溶
剤とともに排液口２５に排出されるので、これが凝固・
堆積してパーティクルが発生することを防止できる。

【００３５】なお、このステップＳ１２では、使用した
薬液供給ノズル１０の溶剤貯留部２７に対してのみ、つ
まり予備吐出を行ったものだけに溶剤を供給するように
したが、待機位置にあって予備吐出を行っていない薬液
供給ノズル１１，１２の溶剤貯留部２７に対して第２溶
剤供給部２６ｂ，第３溶剤供給部２６ｃから一定量の溶
媒を供給するようにしてもよい。

【００３６】また、上記の説明では、薬液としてフォト
レジスト液を例に採って説明したが、薬液がSOG 液やポ
リイミド樹脂であっても各々に応じた溶剤を各溶剤貯留
部２７に供給することによって上記と同様の効果を得る
ことができる。例えば、SOG液の場合にはＩＰＡやキシ
レンを溶剤として採用し、ポリイミド樹脂の場合にはＮ
メチルピロリゾンを溶剤として採用すればよい。

【００３７】なお、上述した第１実施例および第２実施
例では、３本の薬液供給ノズル１０〜１２を配備した装
置を例に採って説明したが、２本以上の複数本の薬液供
給ノズルを備えているものであれば上記と同様に実施す
ることで同様の効果を奏する。また、上記の説明では、
３本の薬液供給ノズル１０〜１２がそれぞれ異なるフォ
トレジスト液を供給するとしたが、２本の薬液供給ノズ
ル１０，１１が同一のフォトレジスト液を供給し、１本
の薬液供給ノズル１２だけがそれらと異なるフォトレジ
スト液を供給するようなものであってもよい。

【００３８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明方法によれば、待機ポットの各挿入口内
部に、各薬液供給ノズルが吐出する薬液の溶媒に応じた
雰囲気を形成しているので、待機位置において各薬液が
固化することを防止しつつも、各薬液が雰囲気中の溶剤
成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や物性的な
変化を緩和することができる。

【００３９】また、請求項２に記載の発明方法によれ
ば、薬液供給ノズルが待機しているときに各々の先端部
から予備吐出した自分自身の薬液によって雰囲気を形成
するので、薬液に応じた溶剤を特に供給することなく、
容易に薬液の溶媒と雰囲気中の溶剤成分とを一致させる
ことができる。その結果、各薬液が固化することを防止
しつつも、各薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収すること
等による薬液の濃度変化や物性的な変化を緩和すること
ができる。

【００４０】また、請求項３に記載の発明方法によれ
ば、薬液供給ノズルが待機しているときに待機ポットの
各挿入口内部に各薬液供給ノズルが吐出する薬液の溶媒
に応じた溶剤を供給するので、薬液の溶媒と雰囲気中の
溶剤を一致させることができる。したがって、各薬液が
固化することを防止しつつも、各薬液が雰囲気中の溶剤
成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や物性的な
変化を緩和することができる。

【００４１】また、請求項４に記載の発明装置によれ
ば、請求項１に記載の発明方法を好適に実施することが
できる。

【００４２】また、請求項５に記載の発明装置によれ
ば、請求項２に記載の発明方法を好適に実施することが
できるとともに、予備吐出された薬液を溶剤の供給によ
り排液口から排出するので、待機ポット内で複数種類の
薬液が混ざり合って凝固し、溶剤貯留部に堆積すること
に起因するパーティクルの発生を防止することができ
る。

【００４３】また、請求項６に記載の発明装置によれ
ば、請求項３に記載の発明方法を好適に実施することが
できるとともに、予備吐出された薬液を、薬液に応じた
溶剤を供給して排液口から排出するので、待機ポット内
で複数種類の薬液が混ざり合って凝固し、溶剤貯留部に
堆積することに起因するパーティクルの発生を防止する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係る基板塗布装置を示す縦断面図
である。

【図２】待機ポットの平面図である。

【図３】図１のＡ−Ａ矢視断面図である。

【図４】第１実施例の動作を示すフローチャートであ
る。

【図５】動作説明に供する図である。

【図６】動作説明に供する図である。

【図７】第２実施例に係る基板塗布装置の待機ポットを
示す平面図である。

【図８】待機ポットの横断面図である。

【図９】第２実施例の動作を示すフローチャートであ
る。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 Ｒ … フォトレジスト液 １ … 吸引式スピンチャック ５ … 飛散防止カップ ６ … 下カップ ７ … 上カップ １０〜１２ … 薬液供給ノズル １０ａ〜１２ａ … 剛性アーム １０ｂ〜１２ｂ … 先端部 １０ｃ〜１２ｃ … 吐出孔 ２０ … 待機ポット ２１ … 挿入口 ２３ … 薬液流下空間 ２４ … 隔壁 ２５ … 排液口 ２６ … 溶剤供給部 ２６ａ … 第１溶剤供給部 ２６ｂ … 第２溶剤供給部 ２６ｃ … 第３溶剤供給部 ２７ … 溶剤貯留部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の回転中心付近の上方にあたる供給
   位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移
   動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数
   個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待
   機位置に移動したときに、前記待機位置に配設されてい
   る待機ポットの複数個の挿入口のそれぞれに前記各薬液
   供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置
   の薬液供給ノズル待機方法において、 前記複数個の薬液供給ノズルが前記待機位置で待機して
   いるときに、前記各薬液供給ノズルが吐出する各々の薬
   液の溶媒に応じた雰囲気を前記待機ポットの各挿入口内
   部に形成したことを特徴とする基板塗布装置の薬液供給
   ノズル待機方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板塗布装置の薬液供
   給ノズル待機方法において、前記待機ポットの各挿入口
   内部に形成する各々の薬液に応じた雰囲気を、前記各薬
   液供給ノズルが予備吐出によって前記待機ポットの各挿
   入口内部に吐出した各々の薬液により形成するようにし
   たことを特徴とする基板塗布装置の薬液供給ノズル待機
   方法。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板塗布装置の薬液供
   給ノズル待機方法において、前記待機ポットの各挿入口
   内部に形成する各々の薬液に応じた雰囲気を、前記各々
   の薬液に応じた溶剤を前記待機ポットの各挿入口内部に
   供給して形成するようにしたことを特徴とする基板塗布
   装置の薬液供給ノズル待機方法。
4. 【請求項４】 基板の回転中心付近の上方にあたる供給
   位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移
   動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数
   個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待
   機位置に移動したときに、前記待機位置に配設された待
   機ポットの複数個の挿入口の各々に前記各薬液供給ノズ
   ルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置におい
   て、 前記待機ポット内部に隔壁を設けて前記各挿入口内部の
   雰囲気をそれぞれ遮断し、前記各挿入口内部の雰囲気を
   前記各薬液供給ノズルが吐出する薬液に応じた雰囲気に
   それぞれ独立して保持するようにしたことを特徴とする
   基板塗布装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の基板塗布装置におい
   て、前記待機ポットの各挿入口内部を、当該挿入口に先
   端部が収納された薬液供給ノズルから予備吐出された薬
   液が流下し、隣接する挿入口内部と前記隔壁により遮断
   された薬液流下空間と、この薬液流下空間に連通した排
   液口と、前記排液口および前記薬液流下空間に連通し、
   溶剤を貯留する溶剤貯留部とによって構成するととも
   に、予備吐出により前記各薬液供給ノズルから吐出され
   た薬液のそれぞれが前記各溶剤貯留部に貯留してそれぞ
   れ連通した薬液流下空間を薬液に応じた雰囲気に形成
   し、前記各溶剤貯留部に共通した溶剤を供給することに
   より前記各薬液を前記各溶剤貯留部の溶剤とともに前記
   排液口へ排出するようにしたことを特徴とする基板塗布
   装置。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の基板塗布装置におい
   て、前記待機ポットの各挿入口内部を、当該挿入口に先
   端部が収納された薬液供給ノズルから予備吐出された薬
   液が流下し、隣接する挿入口内部と前記隔壁により遮断
   された薬液流下空間と、この薬液流下空間に連通した排
   液口と、前記排液口および前記薬液流下空間に連通し、
   各薬液供給ノズルが吐出する薬液に応じた溶剤をそれぞ
   れ貯留する溶剤貯留部とによって構成するとともに、前
   記各薬液流下空間の雰囲気を前記各溶剤によって薬液に
   応じた雰囲気に形成し、前記各溶剤貯留部に前記各溶剤
   を供給することにより予備吐出された各薬液を前記各溶
   剤貯留部の各溶剤とともに前記排液口に排出するように
   したことを特徴とする基板塗布装置。