JP3558471B2 - 基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）に対して、SOG(Spin On Glass,シリカ系被膜形成材とも呼ばれる) 液、フォトレジスト液、ポリイミド樹脂などの薬液を供給して塗布被膜を形成する基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置に係り、特に複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを待機させて薬液の固化を防止する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の装置として、例えば、基板の回転中心上方にあたる供給位置と基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能であって、複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備えているものがある。この装置では、各薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、薬液中の溶媒が揮発して薬液が各先端部で固化することを防止するための待機ポットを備えているのが一般的である。この待機ポットには、複数個の薬液供給ノズルの先端部をそれぞれ収納するための複数個の挿入口が形成されている。これらの挿入口は待機ポット内で連通しており、各薬液供給ノズルの先端部は同一の溶剤によって形成された溶剤雰囲気中に置かれるようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように構成されている従来の基板塗布装置は、待機ポット内に形成されている溶剤雰囲気によって各薬液供給ノズルの薬液が各先端部で固化することを防止することができる。しかしながら、その一方で同一の溶剤により形成されている溶剤雰囲気中に全ての薬液供給ノズルの先端部を置くようにしている関係上、薬液の種類によってはその溶剤雰囲気が過度のものとなって、溶剤雰囲気中の溶剤成分を吸収して濃度が薄くなるという問題がある。また、溶剤雰囲気中の溶剤成分を吸収することにより薬液が物性的（例えば粘度）に変化してしまうという問題がある。このように濃度が薄くなったり粘度が変化した薬液を基板に対して供給すると塗布ムラを生じるという問題点がある。また、複数種類の薬液を予め待機ポット内に吐出（いわゆるダミーディスペンスであり、以下、予備吐出と称する）すると、これらが混ざり合って凝固し、待機ポット内に堆積した後に乾燥してパーティクルを発生するという問題点もある。
【０００４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、各薬液に応じた雰囲気を形成することによって、薬液の固化を防止しつつもその濃度や物性的な変化が生じることを防止できる基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法は、基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、前記待機位置に配設されている待機ポットの複数個の挿入口のそれぞれに前記各薬液供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法において、前記複数個の薬液供給ノズルが前記待機位置で待機しているときに、前記各薬液供給ノズルが吐出する各々の薬液の溶媒に応じた雰囲気を、前記各薬液供給ノズルが予備吐出によって前記待機ポットの各挿入口内部に吐出した各々の薬液により形成したことを特徴とするものである。
【０００６】
また、請求項２に記載の基板塗布装置は、基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、前記待機位置に配設された待機ポットの複数個の挿入口の各々に前記各薬液供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置において、前記待機ポット内部に隔壁を設けて前記各挿入口内部の雰囲気をそれぞれ遮断し、前記各挿入口内部の雰囲気を、前記各薬液供給ノズルが予備吐出によって前記待機ポットの各挿入口内部に吐出した各々の薬液により前記各薬液供給ノズルが吐出する薬液に応じた雰囲気にそれぞれ独立して保持するようにしたことを特徴とするものである。
【０００７】
また、請求項３に記載の基板塗布装置は、請求項２に記載の基板塗布装置において、前記待機ポットの各挿入口内部を、当該挿入口に先端部が収納された薬液供給ノズルから予備吐出された薬液が流下し、隣接する挿入口内部と前記隔壁により遮断された薬液流下空間と、この薬液流下空間に連通した排液口と、前記排液口および前記薬液流下空間に連通し、溶剤を貯留する溶剤貯留部とによって構成するとともに、予備吐出により前記各薬液供給ノズルから吐出された薬液のそれぞれが前記各溶剤貯留部に貯留してそれぞれ連通した薬液流下空間を薬液に応じた雰囲気に形成し、前記各溶剤貯留部に共通した溶剤を供給することにより前記各薬液を前記各溶剤貯留部の溶剤とともに前記排液口へ排出するようにしたことを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】
請求項１に記載の発明方法の作用は次のとおりである。
基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する薬液供給ノズルは、待機位置で待機しているときに固化を防止するために各先端部を待機ポットの各挿入口に収納する。この待機ポットの各挿入口内部の雰囲気を、薬液供給ノズルが待機しているときに各々の先端部から予備吐出した所定量の薬液によって形成する。したがって、特に薬液に応じた溶剤を供給することなく、薬液の溶媒と雰囲気中の溶剤とを一致させることができる。その結果、薬液がその雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化を緩和することができる。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明装置の作用は次のとおりである。
複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルは、基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と基板の側方に離れた待機位置とにわたってそれぞれ移動可能に構成されており、待機位置では固化を防止するために待機ポットに設けられている各挿入口に各先端部を収納する。待機ポット内は、隔壁が配設されて各挿入口内部の雰囲気がそれぞれ遮断されているので、各挿入口内部の雰囲気を各薬液供給ノズルから予備吐出によって吐出された薬液に応じた雰囲気にそれぞれ独立して保持することができる。したがって、各薬液供給ノズルが吐出する薬液の溶媒に応じた雰囲気を、自分自身の薬液に含まれている溶媒によって各挿入口内部に形成することができるので、待機位置において各薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化を緩和することができる。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明装置によれば、各挿入口に収納された薬液供給ノズルの先端部から予備吐出される薬液は、隣接する挿入口内部と隔壁によって遮断された薬液流下空間を流下する。予備吐出された薬液は溶剤を貯留している溶剤貯留部に滞留するが、この溶剤貯留部は薬液流下空間に連通しているので、薬液流下空間の雰囲気を各薬液に応じた雰囲気にすることができる。つまり、自分自身の薬液に含まれている溶媒によって、各挿入口内部の雰囲気を形成することになる。これにより複数種類の薬液ごとに溶剤を供給することなく、各挿入口内部の雰囲気を各薬液に含まれている溶媒に一致させることできるので、待機中に薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化を緩和することができる。また、予備吐出された薬液は共通した溶剤を溶剤貯留部に供給することにより、排液口を通って溶剤貯留部の溶剤とともに排出されるので、待機ポット内で複数種類の薬液が混ざり合って溶剤貯留部に堆積することを防止できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
＜実施例＞
以下、図１および図２を参照して本発明の一実施例を説明する。
なお、図１は実施例に係る基板塗布装置の概略構成を示す縦断面図であり、図２は待機ポットの平面図である。また、薬液の一例としてフォトレジスト液を例にとって説明する。
【００１２】
図中、符号１は、吸引式スピンチャックである。この吸引式スピンチャック１は、平面視ほぼ円形に形成されており、基板Ｗの下面を吸着して水平姿勢で保持するようになっている。その下面回転中心には、図示しないモータに連動連結された回転軸３が嵌め付けられており、モータを回転駆動することにより基板Ｗを水平面内で回転するようになっている。吸引式スピンチャック１の周囲には、基板Ｗに供給されたフォトレジスト液などの薬液が周囲に飛散することを防止するための飛散防止カップ５が配設されている。この飛散防止カップ５は、底部にリング状の排液ゾーン６ａを形成された下カップ６と、上部に開口７ａを形成され、下カップ６の上部内周面に嵌め付けられている上カップ７とから構成されている。基板Ｗの周囲に飛散して排液ゾーン６ａに滞留した薬液は、その一部位に形成されたドレイン６ｂから排出されるようになっている。なお、上述した吸引式スピンチャック１と飛散防止カップ５とは、基板Ｗの搬送の際に図示しない昇降機構によって相対昇降されるようになっている。これらを相対昇降することにより、吸引式スピンチャック１が飛散防止カップ５の開口７ａを通って上方に突出するようになっている（図中の二点鎖線）。
【００１３】
この装置は、一例としてそれぞれ異なる種類（粘度や、含まれている溶剤の種類や樹脂が異なる）のフォトレジスト液を吐出する３本の薬液供給ノズル１０〜１２を備えている。基板Ｗの上面には、これらの薬液供給ノズル１０〜１２のうちのいずれか１つからフォトレジスト液が供給される。各薬液供給ノズル１０〜１２は、剛性を有する部材により形成された剛性アーム１０ａ〜１２ａと、その下方に向けられた先端部１０ｂ〜１２ｂとから構成されている。先端部１０ｂ〜１２ｂは、図示しない薬液供給機構から供給されたフォトレジスト液を、その下面に形成された吐出孔１０ｃ〜１２ｃから吐出するものである。各薬液供給ノズル１０〜１２は、基板Ｗの回転中心の上方で基板Ｗに対して薬液を供給するための供給位置（図１中に点線で示す位置）と、この供給位置より上方にあたる上方待機位置（図１中に二点鎖線で示す位置）と、基板Ｗから側方に離れた待機位置（図１中に実線で示す位置）とにわたって図示しない移動機構により移動するように構成されている。
【００１４】
各薬液供給ノズル１０〜１２が待機位置にある際には、各先端部１０ｂ〜１２ｂが待機ポット２０の各挿入口２１に収納されるようになっている。各挿入口２１の内部には、待機位置にある薬液供給ノズル１０〜１２から予備吐出されたフォトレジスト液が流下する薬液流下空間２３が形成されている。各薬液流下空間２３は、図１のＡ−Ａ矢視断面図である図３に示すように、隔壁２４によって遮断されている。これらの薬液流下空間２３から側方に離れた位置には、予備吐出されたフォトレジスト液と溶剤とを排出するための排液口２５が形成されている。この排液口２５は、各薬液流下空間２３に連通しているとともに、排液タンク２５ａに連通接続されている。これらの薬液流下空間２３の下方には、上記の排液口２５に連通し、溶剤供給部２６から供給された共通の溶剤を貯留する溶剤貯留部２７が形成されている。溶剤供給部２６から供給された溶剤は、溶剤貯留部２７の底面から立設された側壁２７ａによってその液量が一定に保持される。なお、上記の溶剤貯留部２７に貯留可能な溶剤の容積は予め判っているので、溶剤供給部２６から貯留可能な量の溶剤を供給して、図１に示すように常に溶剤貯留部２７が溶剤で満たされるようになっている。
【００１５】
次に、上述した基板塗布装置の動作について、図４ないし図６を参照して説明する。なお、図４は動作を示すフローチャートであり、図５および図６は待機ポットを拡大した縦断面図である。
【００１６】
ステップＳ１（予備吐出）
処理の対象である１ロット分の基板群のうち第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されるまでの間、各薬液供給ノズル１０〜１２は図１に示すように待機位置にある。このとき各先端部１０ｂ〜１２ｂが待機ポット２０の各挿入口２１に収納されている。このような状態にある各薬液供給ノズル１０〜１２の吐出孔１０ｃ〜１２ｃから一定量のフォトレジスト液Ｒ（図５中に点線矢印で示す）を一斉に予備吐出する。吐出されたフォトレジスト液Ｒは、薬液流下空間２３を経て溶剤貯留部２７に貯留している溶剤中に流下する。これにより溶剤貯留部２７に貯留していた溶剤の一部が、図５中に実線矢印で示すように側壁２７ａを越えて排液口２５に流れ込むとともに、フォトレジスト液Ｒに含まれている溶媒が揮発して薬液流下空間２３をフォトレジスト液Ｒに含まれている溶媒成分を含んだ雰囲気にする。したがって、各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が固化することを防止できる。さらに、この例では、各薬液供給ノズル１０〜１２がそれぞれ異なるフォトレジスト液を吐出するが、各薬液流下空間２３が隔壁２４によって遮断されているので、各薬液流下空間２３の雰囲気が独立して保持される。したがって、各薬液流下空間２３の雰囲気は各フォトレジスト液の溶媒成分を含んだ適切な状態にされるので、溶剤成分の雰囲気が過度となって各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が雰囲気を吸収すること等により、濃度や物性的な変化を生じることを緩和することができる。
【００１７】
ステップＳ２（供給位置へ移動）
１ロットを構成する基板群のうち第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されると、３本の薬液供給ノズル１０〜１２のうち基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給するもの、例えば、薬液供給ノズル１０が図１に示すように待機位置（実線）から上方待機位置（二点鎖線）を経て供給位置（点線）まで移動する。そして、図示しないモータを回転駆動することにより、回転軸３および吸引式スピンチャック１を介して基板Ｗを所定の回転数で回転させる。次いで、薬液供給ノズル１０の吐出孔１０ｃから所定量のフォトレジスト液を基板Ｗに対して供給する。基板Ｗの表面全体をフォトレジスト液が覆った後に、回転数を上昇してその余剰分を振り切って一定膜厚のフォトレジスト被膜を形成する。このように基板Ｗの表面に供給されたフォトレジスト液は待機中の間、固化はもちろんのこと粘度や物性的な変化が防止されているので、塗布ムラを生じることなく均一なフォトレジスト被膜を形成する。そして、上記の処理が１ロット分の基板Ｗに対して完了するまで、選択された薬液供給ノズル１０は上方待機位置と供給位置との間を繰り返し移動する。
【００１８】
ステップＳ３（薬液の排出）
上記のステップＳ２において薬液供給ノズル１０が供給位置へ移動するとともに、溶剤供給部２６から一定量の溶剤を溶剤貯留部２７に供給する。これによって図６に示すように各薬液供給ノズル１０〜１２から予備吐出されて溶剤貯留部２７に流下したフォトレジスト液Ｒは、溶剤とともに側壁２７ａを越えて排液口２５に排出される。排出された溶剤およびフォトレジスト液Ｒは、排液タンク２５ａに回収される。このように予備吐出された３種類のフォトレジスト液Ｒが溶剤とともに排液口２５に排出されるので、それらがが混ざり合って凝固し、溶剤貯留部２７や排液口２５内に堆積してパーティクルが発生することを防止できる。また、排液口２５から排液タンク２５ａに至る経路の詰まりによるフォトレジスト液を含む溶剤のオーバーフローといった不都合をも防止できる。
【００１９】
ステップＳ４（予備吐出）
選択された薬液供給ノズル１０以外の薬液供給ノズル１１，１２は待機位置にあるが、上記ステップＳ３において予備吐出したフォトレジスト液を排出したので、薬液流下空間２３の雰囲気が不適切なものとなる前に再び予備吐出を行う。これにより待機位置にある薬液供給ノズル１１，１２の薬液流下空間２３内には、新たなフォトレジスト液によって再び上述したように適切な溶剤雰囲気が形成される。
【００２０】
なお、上記の説明では、選択された薬液供給ノズル１０が供給位置に移動した際に、ステップＳ３において予備吐出した薬液を排出するようにしたが、これを行うことなく選択された薬液供給ノズル１０が処理を終えて待機位置に復帰した際に、上記のステップＳ３を行うようにしてもよい。このように予備吐出されたフォトレジスト液の排出のタイミングを遅らせたとしてもフォトレジスト液は溶剤貯留部２７の溶剤中にあるので、溶剤貯留部２７で固化するような不都合は生じ得ない。
【００２１】
また、待機ポット２０の薬液流下空間２３に形成された雰囲気が排液口２５を介して乱されることを防止するために、図５中に点線で示すように、溶剤貯留部２７の溶剤の液面よりも下方に下端部が位置するような凸部（２３ａ）を形成しておくことが好ましい。
【００２２】
＜参考例＞
上記の実施例では、共通の溶剤を待機ポット２０に供給し、各薬液供給ノズル１０〜１２が予備吐出した自分自身のフォトレジスト液によって薬液流下空２３の雰囲気を形成するようにしたが、次にフォトレジスト液に応じた溶剤を供給して薬液流下空間２３の雰囲気を形成する例について説明する。
【００２３】
図７および図８を参照する。
待機ポット２０は、上述した実施例と同様に、上部に各挿入口２１を形成されており、その下方には隔壁２４によりそれぞれ雰囲気遮断された薬液流下空間２３が形成されている。各薬液流下空間２３から側方に離れた位置には、排液口２５が形成されている。各薬液流下空間２３の下方には、上記の排液口２５に連通し、溶剤供給部２６から供給された各溶剤をそれぞれ貯留する溶剤貯留部２７が形成されている。溶剤供給部２６は、薬液供給ノズル１０の溶剤貯留部２７に第１の溶剤を供給する第１溶剤供給部２６ａと、薬液供給ノズル１１の溶剤貯留部２７に第２の溶剤を供給する第２溶剤供給部２６ｂと、薬液供給ノズル１２の溶剤貯留部２７に第３の溶剤を供給する第３溶剤供給部２６ｃとから構成されている。
例えば、薬液供給ノズル１０が『ＥＣＡ』を溶媒とするフォトレジスト液を供給し、薬液供給ノズル１１が『酢酸ブチル』を溶媒とするフォトレジスト液を供給し、薬液供給ノズル１２が『乳酸エチル』を溶媒とするフォトレジスト液を供給するものである場合には、各フォトレジスト液に含まれる溶媒をそれぞれの溶剤として採用する。すなわち、第１の溶剤として『ＥＣＡ』を採用し、第２の溶剤として『酢酸ブチル』を採用し、第３の溶剤として『乳酸エチル』を採用すればよい。なお、各フォトレジスト液に含まれている溶媒を採用しなくても各フォトレジスト液に適切な溶剤雰囲気を形成することができるものであれば、種々の溶剤を採用してもよい。
【００２４】
なお、各溶剤貯留部２７には、第１溶剤供給部２６ａ，第２溶剤供給部２６ｂ，第３溶剤供給部２６ｃから上述したようにそれぞれ異なる溶媒が供給されて、常時各溶剤貯留部２７を満たすようになっている。
【００２５】
次に図９のフローチャートを参照して動作について説明する。
ステップＳ１０（予備吐出）
第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されるまでの間、各薬液供給ノズル１０〜１２は図１に示すように待機位置にある。このとき各先端部１０ｂ〜１２ｂは待機ポット２０の各挿入口２１に収納されているが、各溶剤貯留部２７には各フォトレジスト液に含まれる溶媒と同じ溶剤が満たされているので、それらの上方に形成されている各薬液流下空間２３が各フォトレジスト液に応じた適切な雰囲気に形成されている。したがって、各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留している各フォトレジスト液が固化することを防止できる。さらに、各薬液流下空間２３の雰囲気が独立して保持されて各フォトレジスト液に応じた適切な状態にされているので、雰囲気が過度となって各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が雰囲気を吸収すること等による濃度や物性的な変化を生じることを緩和することができる。
【００２６】
このように各薬液流下空間２３には各フォトレジスト液に応じた適切な雰囲気が形成されてはいるが、基板Ｗにフォトレジスト液を供給する前には、使用する薬液供給ノズルだけから念のために一定量のフォトレジスト液を予備吐出する。例えば、図５に示すように薬液供給ノズル１０から予備吐出を行う。予備吐出されたフォトレジスト液Ｒ（図中の点線）は、薬液供給ノズル１０の溶剤貯留部２７に流下するが、ここにはフォトレジスト液Ｒに含まれている溶媒と同じものが貯留しているため溶剤中に溶けやすく容易に拡散する。したがって溶剤貯留部２７でフォトレジスト液が固化することに起因するパーティクルの発生を防止することができる。
【００２７】
ステップＳ１１（供給位置へ移動）
第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されると、３本の薬液供給ノズル１０〜１２のうち基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給するもの、この例では薬液供給ノズル１０が待機位置から供給位置まで移動する（図１参照）。そして、基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給して一定膜厚のフォトレジスト被膜を形成する。このように基板Ｗの表面に供給されたフォトレジスト液は、上記の実施例と同様に、固化はもちろんのこと粘度や物性的な変化が緩和されているので、塗布ムラを生じることなく均一なフォトレジスト被膜を形成する。
【００２８】
ステップＳ１２（薬液の排出）
上記のステップＳ１１において薬液供給ノズル１０が供給位置へ移動するとともに、溶剤供給部２６ａからのみ一定量の溶剤を溶剤貯留部２７に供給する。これによって図６に示すように薬液供給ノズル１０から予備吐出されて溶剤貯留部２７に流下したフォトレジスト液Ｒは、溶剤とともに側壁２７ａを越えて排液口２５に排出される。このように予備吐出されたフォトレジスト液Ｒが溶剤とともに排液口２５に排出されるので、これが凝固・堆積してパーティクルが発生することを防止できる。
【００２９】
なお、このステップＳ１２では、使用した薬液供給ノズル１０の溶剤貯留部２７に対してのみ、つまり予備吐出を行ったものだけに溶剤を供給するようにしたが、待機位置にあって予備吐出を行っていない薬液供給ノズル１１，１２の溶剤貯留部２７に対して第２溶剤供給部２６ｂ，第３溶剤供給部２６ｃから一定量の溶媒を供給するようにしてもよい。
【００３０】
また、上記の説明では、薬液としてフォトレジスト液を例に採って説明したが、薬液がSOG 液やポリイミド樹脂であっても各々に応じた溶剤を各溶剤貯留部２７に供給することによって上記と同様の効果を得ることができる。例えば、SOG 液の場合にはＩＰＡやキシレンを溶剤として採用し、ポリイミド樹脂の場合にはＮメチルピロリゾンを溶剤として採用すればよい。
【００３１】
なお、上述した実施例および参考例では、３本の薬液供給ノズル１０〜１２を配備した装置を例に採って説明したが、２本以上の複数本の薬液供給ノズルを備えているものであれば上記と同様に実施することで同様の効果を奏する。また、上記の説明では、３本の薬液供給ノズル１０〜１２がそれぞれ異なるフォトレジスト液を供給するとしたが、２本の薬液供給ノズル１０，１１が同一のフォトレジスト液を供給し、１本の薬液供給ノズル１２だけがそれらと異なるフォトレジスト液を供給するようなものであってもよい。
【００３２】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明方法によれば、薬液供給ノズルが待機しているときに各々の先端部から予備吐出した自分自身の薬液によって雰囲気を形成するので、薬液に応じた溶剤を特に供給することなく、容易に薬液の溶媒と雰囲気中の溶剤成分とを一致させることができる。その結果、各薬液が固化することを防止しつつも、各薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や物性的な変化を緩和することができる。
【００３３】
また、請求項２に記載の発明装置によれば、請求項１に記載の発明方法を好適に実施することができる。
【００３４】
また、請求項３に記載の発明装置によれば、請求項１に記載の発明方法を好適に実施することができるとともに、予備吐出された薬液を溶剤の供給により排液口から排出するので、待機ポット内で複数種類の薬液が混ざり合って凝固し、溶剤貯留部に堆積することに起因するパーティクルの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施例に係る基板塗布装置を示す縦断面図である。
【図２】待機ポットの平面図である。
【図３】図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図４】 実施例の動作を示すフローチャートである。
【図５】動作説明に供する図である。
【図６】動作説明に供する図である。
【図７】参考例に係る基板塗布装置の待機ポットを示す平面図である。
【図８】待機ポットの横断面図である。
【図９】参考例の動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
Ｗ … 基板
Ｒ … フォトレジスト液
１ … 吸引式スピンチャック
５ … 飛散防止カップ
６ … 下カップ
７ … 上カップ
１０〜１２ … 薬液供給ノズル
１０ａ〜１２ａ … 剛性アーム
１０ｂ〜１２ｂ … 先端部
１０ｃ〜１２ｃ … 吐出孔
２０ … 待機ポット
２１ … 挿入口
２３ … 薬液流下空間
２４ … 隔壁
２５ … 排液口
２６ … 溶剤供給部
２６ａ … 第１溶剤供給部
２６ｂ … 第２溶剤供給部
２６ｃ … 第３溶剤供給部
２７ … 溶剤貯留部
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）に対して、SOG(Spin On Glass,シリカ系被膜形成材とも呼ばれる) 液、フォトレジスト液、ポリイミド樹脂などの薬液を供給して塗布被膜を形成する基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置に係り、特に複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを待機させて薬液の固化を防止する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の装置として、例えば、基板の回転中心上方にあたる供給位置と基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能であって、複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備えているものがある。この装置では、各薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、薬液中の溶媒が揮発して薬液が各先端部で固化することを防止するための待機ポットを備えているのが一般的である。この待機ポットには、複数個の薬液供給ノズルの先端部をそれぞれ収納するための複数個の挿入口が形成されている。これらの挿入口は待機ポット内で連通しており、各薬液供給ノズルの先端部は同一の溶剤によって形成された溶剤雰囲気中に置かれるようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように構成されている従来の基板塗布装置は、待機ポット内に形成されている溶剤雰囲気によって各薬液供給ノズルの薬液が各先端部で固化することを防止することができる。しかしながら、その一方で同一の溶剤により形成されている溶剤雰囲気中に全ての薬液供給ノズルの先端部を置くようにしている関係上、薬液の種類によってはその溶剤雰囲気が過度のものとなって、溶剤雰囲気中の溶剤成分を吸収して濃度が薄くなるという問題がある。また、溶剤雰囲気中の溶剤成分を吸収することにより薬液が物性的（例えば粘度）に変化してしまうという問題がある。このように濃度が薄くなったり粘度が変化した薬液を基板に対して供給すると塗布ムラを生じるという問題点がある。また、複数種類の薬液を予め待機ポット内に吐出（いわゆるダミーディスペンスであり、以下、予備吐出と称する）すると、これらが混ざり合って凝固し、待機ポット内に堆積した後に乾燥してパーティクルを発生するという問題点もある。
【０００４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、各薬液に応じた雰囲気を形成することによって、薬液の固化を防止しつつもその濃度や物性的な変化が生じることを防止できる基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法は、基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、前記待機位置に配設されている待機ポットの複数個の挿入口のそれぞれに前記各薬液供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法において、前記複数個の薬液供給ノズルが前記待機位置で待機しているときに、前記各薬液供給ノズルが吐出する各々の薬液の溶媒に応じた雰囲気を、前記各薬液供給ノズルが予備吐出によって前記待機ポットの各挿入口内部に吐出した各々の薬液により形成したことを特徴とするものである。
【０００６】
また、請求項２に記載の基板塗布装置は、基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、前記待機位置に配設された待機ポットの複数個の挿入口の各々に前記各薬液供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置において、前記待機ポット内部に隔壁を設けて前記各挿入口内部の雰囲気をそれぞれ遮断し、前記各挿入口内部の雰囲気を、前記各薬液供給ノズルが予備吐出によって前記待機ポットの各挿入口内部に吐出した各々の薬液により前記各薬液供給ノズルが吐出する薬液に応じた雰囲気にそれぞれ独立して保持するようにしたことを特徴とするものである。
【０００７】
また、請求項３に記載の基板塗布装置は、請求項２に記載の基板塗布装置において、前記待機ポットの各挿入口内部を、当該挿入口に先端部が収納された薬液供給ノズルから予備吐出された薬液が流下し、隣接する挿入口内部と前記隔壁により遮断された薬液流下空間と、この薬液流下空間に連通した排液口と、前記排液口および前記薬液流下空間に連通し、溶剤を貯留する溶剤貯留部とによって構成するとともに、予備吐出により前記各薬液供給ノズルから吐出された薬液のそれぞれが前記各溶剤貯留部に貯留してそれぞれ連通した薬液流下空間を薬液に応じた雰囲気に形成し、前記各溶剤貯留部に共通した溶剤を供給することにより前記各薬液を前記各溶剤貯留部の溶剤とともに前記排液口へ排出するようにしたことを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】
請求項１に記載の発明方法の作用は次のとおりである。
基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する薬液供給ノズルは、待機位置で待機しているときに固化を防止するために各先端部を待機ポットの各挿入口に収納する。この待機ポットの各挿入口内部の雰囲気を、薬液供給ノズルが待機しているときに各々の先端部から予備吐出した所定量の薬液によって形成する。したがって、特に薬液に応じた溶剤を供給することなく、薬液の溶媒と雰囲気中の溶剤とを一致させることができる。その結果、薬液がその雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化を緩和することができる。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明装置の作用は次のとおりである。
複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルは、基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と基板の側方に離れた待機位置とにわたってそれぞれ移動可能に構成されており、待機位置では固化を防止するために待機ポットに設けられている各挿入口に各先端部を収納する。待機ポット内は、隔壁が配設されて各挿入口内部の雰囲気がそれぞれ遮断されているので、各挿入口内部の雰囲気を各薬液供給ノズルから予備吐出によって吐出された薬液に応じた雰囲気にそれぞれ独立して保持することができる。したがって、各薬液供給ノズルが吐出する薬液の溶媒に応じた雰囲気を、自分自身の薬液に含まれている溶媒によって各挿入口内部に形成することができるので、待機位置において各薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化を緩和することができる。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明装置によれば、各挿入口に収納された薬液供給ノズルの先端部から予備吐出される薬液は、隣接する挿入口内部と隔壁によって遮断された薬液流下空間を流下する。予備吐出された薬液は溶剤を貯留している溶剤貯留部に滞留するが、この溶剤貯留部は薬液流下空間に連通しているので、薬液流下空間の雰囲気を各薬液に応じた雰囲気にすることができる。つまり、自分自身の薬液に含まれている溶媒によって、各挿入口内部の雰囲気を形成することになる。これにより複数種類の薬液ごとに溶剤を供給することなく、各挿入口内部の雰囲気を各薬液に含まれている溶媒に一致させることできるので、待機中に薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や、粘度などの物性変化を緩和することができる。また、予備吐出された薬液は共通した溶剤を溶剤貯留部に供給することにより、排液口を通って溶剤貯留部の溶剤とともに排出されるので、待機ポット内で複数種類の薬液が混ざり合って溶剤貯留部に堆積することを防止できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
＜実施例＞
以下、図１および図２を参照して本発明の一実施例を説明する。
なお、図１は実施例に係る基板塗布装置の概略構成を示す縦断面図であり、図２は待機ポットの平面図である。また、薬液の一例としてフォトレジスト液を例にとって説明する。
【００１２】
図中、符号１は、吸引式スピンチャックである。この吸引式スピンチャック１は、平面視ほぼ円形に形成されており、基板Ｗの下面を吸着して水平姿勢で保持するようになっている。その下面回転中心には、図示しないモータに連動連結された回転軸３が嵌め付けられており、モータを回転駆動することにより基板Ｗを水平面内で回転するようになっている。吸引式スピンチャック１の周囲には、基板Ｗに供給されたフォトレジスト液などの薬液が周囲に飛散することを防止するための飛散防止カップ５が配設されている。この飛散防止カップ５は、底部にリング状の排液ゾーン６ａを形成された下カップ６と、上部に開口７ａを形成され、下カップ６の上部内周面に嵌め付けられている上カップ７とから構成されている。基板Ｗの周囲に飛散して排液ゾーン６ａに滞留した薬液は、その一部位に形成されたドレイン６ｂから排出されるようになっている。なお、上述した吸引式スピンチャック１と飛散防止カップ５とは、基板Ｗの搬送の際に図示しない昇降機構によって相対昇降されるようになっている。これらを相対昇降することにより、吸引式スピンチャック１が飛散防止カップ５の開口７ａを通って上方に突出するようになっている（図中の二点鎖線）。
【００１３】
この装置は、一例としてそれぞれ異なる種類（粘度や、含まれている溶剤の種類や樹脂が異なる）のフォトレジスト液を吐出する３本の薬液供給ノズル１０〜１２を備えている。基板Ｗの上面には、これらの薬液供給ノズル１０〜１２のうちのいずれか１つからフォトレジスト液が供給される。各薬液供給ノズル１０〜１２は、剛性を有する部材により形成された剛性アーム１０ａ〜１２ａと、その下方に向けられた先端部１０ｂ〜１２ｂとから構成されている。先端部１０ｂ〜１２ｂは、図示しない薬液供給機構から供給されたフォトレジスト液を、その下面に形成された吐出孔１０ｃ〜１２ｃから吐出するものである。各薬液供給ノズル１０〜１２は、基板Ｗの回転中心の上方で基板Ｗに対して薬液を供給するための供給位置（図１中に点線で示す位置）と、この供給位置より上方にあたる上方待機位置（図１中に二点鎖線で示す位置）と、基板Ｗから側方に離れた待機位置（図１中に実線で示す位置）とにわたって図示しない移動機構により移動するように構成されている。
【００１４】
各薬液供給ノズル１０〜１２が待機位置にある際には、各先端部１０ｂ〜１２ｂが待機ポット２０の各挿入口２１に収納されるようになっている。各挿入口２１の内部には、待機位置にある薬液供給ノズル１０〜１２から予備吐出されたフォトレジスト液が流下する薬液流下空間２３が形成されている。各薬液流下空間２３は、図１のＡ−Ａ矢視断面図である図３に示すように、隔壁２４によって遮断されている。これらの薬液流下空間２３から側方に離れた位置には、予備吐出されたフォトレジスト液と溶剤とを排出するための排液口２５が形成されている。この排液口２５は、各薬液流下空間２３に連通しているとともに、排液タンク２５ａに連通接続されている。これらの薬液流下空間２３の下方には、上記の排液口２５に連通し、溶剤供給部２６から供給された共通の溶剤を貯留する溶剤貯留部２７が形成されている。溶剤供給部２６から供給された溶剤は、溶剤貯留部２７の底面から立設された側壁２７ａによってその液量が一定に保持される。なお、上記の溶剤貯留部２７に貯留可能な溶剤の容積は予め判っているので、溶剤供給部２６から貯留可能な量の溶剤を供給して、図１に示すように常に溶剤貯留部２７が溶剤で満たされるようになっている。
【００１５】
次に、上述した基板塗布装置の動作について、図４ないし図６を参照して説明する。なお、図４は動作を示すフローチャートであり、図５および図６は待機ポットを拡大した縦断面図である。
【００１６】
ステップＳ１（予備吐出）
処理の対象である１ロット分の基板群のうち第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されるまでの間、各薬液供給ノズル１０〜１２は図１に示すように待機位置にある。このとき各先端部１０ｂ〜１２ｂが待機ポット２０の各挿入口２１に収納されている。このような状態にある各薬液供給ノズル１０〜１２の吐出孔１０ｃ〜１２ｃから一定量のフォトレジスト液Ｒ（図５中に点線矢印で示す）を一斉に予備吐出する。吐出されたフォトレジスト液Ｒは、薬液流下空間２３を経て溶剤貯留部２７に貯留している溶剤中に流下する。これにより溶剤貯留部２７に貯留していた溶剤の一部が、図５中に実線矢印で示すように側壁２７ａを越えて排液口２５に流れ込むとともに、フォトレジスト液Ｒに含まれている溶媒が揮発して薬液流下空間２３をフォトレジスト液Ｒに含まれている溶媒成分を含んだ雰囲気にする。したがって、各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が固化することを防止できる。さらに、この例では、各薬液供給ノズル１０〜１２がそれぞれ異なるフォトレジスト液を吐出するが、各薬液流下空間２３が隔壁２４によって遮断されているので、各薬液流下空間２３の雰囲気が独立して保持される。したがって、各薬液流下空間２３の雰囲気は各フォトレジスト液の溶媒成分を含んだ適切な状態にされるので、溶剤成分の雰囲気が過度となって各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が雰囲気を吸収すること等により、濃度や物性的な変化を生じることを緩和することができる。
【００１７】
ステップＳ２（供給位置へ移動）
１ロットを構成する基板群のうち第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されると、３本の薬液供給ノズル１０〜１２のうち基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給するもの、例えば、薬液供給ノズル１０が図１に示すように待機位置（実線）から上方待機位置（二点鎖線）を経て供給位置（点線）まで移動する。そして、図示しないモータを回転駆動することにより、回転軸３および吸引式スピンチャック１を介して基板Ｗを所定の回転数で回転させる。次いで、薬液供給ノズル１０の吐出孔１０ｃから所定量のフォトレジスト液を基板Ｗに対して供給する。基板Ｗの表面全体をフォトレジスト液が覆った後に、回転数を上昇してその余剰分を振り切って一定膜厚のフォトレジスト被膜を形成する。このように基板Ｗの表面に供給されたフォトレジスト液は待機中の間、固化はもちろんのこと粘度や物性的な変化が防止されているので、塗布ムラを生じることなく均一なフォトレジスト被膜を形成する。そして、上記の処理が１ロット分の基板Ｗに対して完了するまで、選択された薬液供給ノズル１０は上方待機位置と供給位置との間を繰り返し移動する。
【００１８】
ステップＳ３（薬液の排出）
上記のステップＳ２において薬液供給ノズル１０が供給位置へ移動するとともに、溶剤供給部２６から一定量の溶剤を溶剤貯留部２７に供給する。これによって図６に示すように各薬液供給ノズル１０〜１２から予備吐出されて溶剤貯留部２７に流下したフォトレジスト液Ｒは、溶剤とともに側壁２７ａを越えて排液口２５に排出される。排出された溶剤およびフォトレジスト液Ｒは、排液タンク２５ａに回収される。このように予備吐出された３種類のフォトレジスト液Ｒが溶剤とともに排液口２５に排出されるので、それらがが混ざり合って凝固し、溶剤貯留部２７や排液口２５内に堆積してパーティクルが発生することを防止できる。また、排液口２５から排液タンク２５ａに至る経路の詰まりによるフォトレジスト液を含む溶剤のオーバーフローといった不都合をも防止できる。
【００１９】
ステップＳ４（予備吐出）
選択された薬液供給ノズル１０以外の薬液供給ノズル１１，１２は待機位置にあるが、上記ステップＳ３において予備吐出したフォトレジスト液を排出したので、薬液流下空間２３の雰囲気が不適切なものとなる前に再び予備吐出を行う。これにより待機位置にある薬液供給ノズル１１，１２の薬液流下空間２３内には、新たなフォトレジスト液によって再び上述したように適切な溶剤雰囲気が形成される。
【００２０】
なお、上記の説明では、選択された薬液供給ノズル１０が供給位置に移動した際に、ステップＳ３において予備吐出した薬液を排出するようにしたが、これを行うことなく選択された薬液供給ノズル１０が処理を終えて待機位置に復帰した際に、上記のステップＳ３を行うようにしてもよい。このように予備吐出されたフォトレジスト液の排出のタイミングを遅らせたとしてもフォトレジスト液は溶剤貯留部２７の溶剤中にあるので、溶剤貯留部２７で固化するような不都合は生じ得ない。
【００２１】
また、待機ポット２０の薬液流下空間２３に形成された雰囲気が排液口２５を介して乱されることを防止するために、図５中に点線で示すように、溶剤貯留部２７の溶剤の液面よりも下方に下端部が位置するような凸部（２３ａ）を形成しておくことが好ましい。
【００２２】
＜参考例＞
上記の実施例では、共通の溶剤を待機ポット２０に供給し、各薬液供給ノズル１０〜１２が予備吐出した自分自身のフォトレジスト液によって薬液流下空２３の雰囲気を形成するようにしたが、次にフォトレジスト液に応じた溶剤を供給して薬液流下空間２３の雰囲気を形成する例について説明する。
【００２３】
図７および図８を参照する。
待機ポット２０は、上述した実施例と同様に、上部に各挿入口２１を形成されており、その下方には隔壁２４によりそれぞれ雰囲気遮断された薬液流下空間２３が形成されている。各薬液流下空間２３から側方に離れた位置には、排液口２５が形成されている。各薬液流下空間２３の下方には、上記の排液口２５に連通し、溶剤供給部２６から供給された各溶剤をそれぞれ貯留する溶剤貯留部２７が形成されている。溶剤供給部２６は、薬液供給ノズル１０の溶剤貯留部２７に第１の溶剤を供給する第１溶剤供給部２６ａと、薬液供給ノズル１１の溶剤貯留部２７に第２の溶剤を供給する第２溶剤供給部２６ｂと、薬液供給ノズル１２の溶剤貯留部２７に第３の溶剤を供給する第３溶剤供給部２６ｃとから構成されている。
例えば、薬液供給ノズル１０が『ＥＣＡ』を溶媒とするフォトレジスト液を供給し、薬液供給ノズル１１が『酢酸ブチル』を溶媒とするフォトレジスト液を供給し、薬液供給ノズル１２が『乳酸エチル』を溶媒とするフォトレジスト液を供給するものである場合には、各フォトレジスト液に含まれる溶媒をそれぞれの溶剤として採用する。すなわち、第１の溶剤として『ＥＣＡ』を採用し、第２の溶剤として『酢酸ブチル』を採用し、第３の溶剤として『乳酸エチル』を採用すればよい。なお、各フォトレジスト液に含まれている溶媒を採用しなくても各フォトレジスト液に適切な溶剤雰囲気を形成することができるものであれば、種々の溶剤を採用してもよい。
【００２４】
なお、各溶剤貯留部２７には、第１溶剤供給部２６ａ，第２溶剤供給部２６ｂ，第３溶剤供給部２６ｃから上述したようにそれぞれ異なる溶媒が供給されて、常時各溶剤貯留部２７を満たすようになっている。
【００２５】
次に図９のフローチャートを参照して動作について説明する。
ステップＳ１０（予備吐出）
第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されるまでの間、各薬液供給ノズル１０〜１２は図１に示すように待機位置にある。このとき各先端部１０ｂ〜１２ｂは待機ポット２０の各挿入口２１に収納されているが、各溶剤貯留部２７には各フォトレジスト液に含まれる溶媒と同じ溶剤が満たされているので、それらの上方に形成されている各薬液流下空間２３が各フォトレジスト液に応じた適切な雰囲気に形成されている。したがって、各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留している各フォトレジスト液が固化することを防止できる。さらに、各薬液流下空間２３の雰囲気が独立して保持されて各フォトレジスト液に応じた適切な状態にされているので、雰囲気が過度となって各先端部１０ｂ〜１２ｂの吐出孔１０ｃ〜１２ｃ内に貯留しているフォトレジスト液が雰囲気を吸収すること等による濃度や物性的な変化を生じることを緩和することができる。
【００２６】
このように各薬液流下空間２３には各フォトレジスト液に応じた適切な雰囲気が形成されてはいるが、基板Ｗにフォトレジスト液を供給する前には、使用する薬液供給ノズルだけから念のために一定量のフォトレジスト液を予備吐出する。例えば、図５に示すように薬液供給ノズル１０から予備吐出を行う。予備吐出されたフォトレジスト液Ｒ（図中の点線）は、薬液供給ノズル１０の溶剤貯留部２７に流下するが、ここにはフォトレジスト液Ｒに含まれている溶媒と同じものが貯留しているため溶剤中に溶けやすく容易に拡散する。したがって溶剤貯留部２７でフォトレジスト液が固化することに起因するパーティクルの発生を防止することができる。
【００２７】
ステップＳ１１（供給位置へ移動）
第１番目の基板Ｗが吸引式スピンチャック１に吸着されて飛散防止カップ５内に収容されると、３本の薬液供給ノズル１０〜１２のうち基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給するもの、この例では薬液供給ノズル１０が待機位置から供給位置まで移動する（図１参照）。そして、基板Ｗに対してフォトレジスト液を供給して一定膜厚のフォトレジスト被膜を形成する。このように基板Ｗの表面に供給されたフォトレジスト液は、上記の実施例と同様に、固化はもちろんのこと粘度や物性的な変化が緩和されているので、塗布ムラを生じることなく均一なフォトレジスト被膜を形成する。
【００２８】
ステップＳ１２（薬液の排出）
上記のステップＳ１１において薬液供給ノズル１０が供給位置へ移動するとともに、溶剤供給部２６ａからのみ一定量の溶剤を溶剤貯留部２７に供給する。これによって図６に示すように薬液供給ノズル１０から予備吐出されて溶剤貯留部２７に流下したフォトレジスト液Ｒは、溶剤とともに側壁２７ａを越えて排液口２５に排出される。このように予備吐出されたフォトレジスト液Ｒが溶剤とともに排液口２５に排出されるので、これが凝固・堆積してパーティクルが発生することを防止できる。
【００２９】
なお、このステップＳ１２では、使用した薬液供給ノズル１０の溶剤貯留部２７に対してのみ、つまり予備吐出を行ったものだけに溶剤を供給するようにしたが、待機位置にあって予備吐出を行っていない薬液供給ノズル１１，１２の溶剤貯留部２７に対して第２溶剤供給部２６ｂ，第３溶剤供給部２６ｃから一定量の溶媒を供給するようにしてもよい。
【００３０】
また、上記の説明では、薬液としてフォトレジスト液を例に採って説明したが、薬液がSOG 液やポリイミド樹脂であっても各々に応じた溶剤を各溶剤貯留部２７に供給することによって上記と同様の効果を得ることができる。例えば、SOG 液の場合にはＩＰＡやキシレンを溶剤として採用し、ポリイミド樹脂の場合にはＮメチルピロリゾンを溶剤として採用すればよい。
【００３１】
なお、上述した実施例および参考例では、３本の薬液供給ノズル１０〜１２を配備した装置を例に採って説明したが、２本以上の複数本の薬液供給ノズルを備えているものであれば上記と同様に実施することで同様の効果を奏する。また、上記の説明では、３本の薬液供給ノズル１０〜１２がそれぞれ異なるフォトレジスト液を供給するとしたが、２本の薬液供給ノズル１０，１１が同一のフォトレジスト液を供給し、１本の薬液供給ノズル１２だけがそれらと異なるフォトレジスト液を供給するようなものであってもよい。
【００３２】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明方法によれば、薬液供給ノズルが待機しているときに各々の先端部から予備吐出した自分自身の薬液によって雰囲気を形成するので、薬液に応じた溶剤を特に供給することなく、容易に薬液の溶媒と雰囲気中の溶剤成分とを一致させることができる。その結果、各薬液が固化することを防止しつつも、各薬液が雰囲気中の溶剤成分を吸収すること等による薬液の濃度変化や物性的な変化を緩和することができる。
【００３３】
また、請求項２に記載の発明装置によれば、請求項１に記載の発明方法を好適に実施することができる。
【００３４】
また、請求項３に記載の発明装置によれば、請求項１に記載の発明方法を好適に実施することができるとともに、予備吐出された薬液を溶剤の供給により排液口から排出するので、待機ポット内で複数種類の薬液が混ざり合って凝固し、溶剤貯留部に堆積することに起因するパーティクルの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施例に係る基板塗布装置を示す縦断面図である。
【図２】待機ポットの平面図である。
【図３】図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図４】 実施例の動作を示すフローチャートである。
【図５】動作説明に供する図である。
【図６】動作説明に供する図である。
【図７】参考例に係る基板塗布装置の待機ポットを示す平面図である。
【図８】待機ポットの横断面図である。
【図９】参考例の動作を示すフローチャートである。
【符号の説明】
Ｗ … 基板
Ｒ … フォトレジスト液
１ … 吸引式スピンチャック
５ … 飛散防止カップ
６ … 下カップ
７ … 上カップ
１０〜１２ … 薬液供給ノズル
１０ａ〜１２ａ … 剛性アーム
１０ｂ〜１２ｂ … 先端部
１０ｃ〜１２ｃ … 吐出孔
２０ … 待機ポット
２１ … 挿入口
２３ … 薬液流下空間
２４ … 隔壁
２５ … 排液口
２６ … 溶剤供給部
２６ａ … 第１溶剤供給部
２６ｂ … 第２溶剤供給部
２６ｃ … 第３溶剤供給部
２７ … 溶剤貯留部
Claims (3)
- 基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、前記待機位置に配設されている待機ポットの複数個の挿入口のそれぞれに前記各薬液供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法において、
前記複数個の薬液供給ノズルが前記待機位置で待機しているときに、前記各薬液供給ノズルが吐出する各々の薬液の溶媒に応じた雰囲気を、前記各薬液供給ノズルが予備吐出によって前記待機ポットの各挿入口内部に吐出した各々の薬液により形成したことを特徴とする基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法。 - 基板の回転中心付近の上方にあたる供給位置と前記基板の側方に離れた待機位置とにわたって移動可能に構成されている複数種類の薬液を吐出する複数個の薬液供給ノズルを備え、各々の薬液供給ノズルが待機位置に移動したときに、前記待機位置に配設された待機ポットの複数個の挿入口の各々に前記各薬液供給ノズルの先端部を収納して待機させる基板塗布装置において、
前記待機ポット内部に隔壁を設けて前記各挿入口内部の雰囲気をそれぞれ遮断し、前記各挿入口内部の雰囲気を、前記各薬液供給ノズルが予備吐出によって前記待機ポットの各挿入口内部に吐出した各々の薬液により前記各薬液供給ノズルが吐出する薬液に応じた雰囲気にそれぞれ独立して保持するようにしたことを特徴とする基板塗布装置。 - 請求項２に記載の基板塗布装置において、前記待機ポットの各挿入口内部を、当該挿入口に先端部が収納された薬液供給ノズルから予備吐出された薬液が流下し、隣接する挿入口内部と前記隔壁により遮断された薬液流下空間と、この薬液流下空間に連通した排液口と、前記排液口および前記薬液流下空間に連通し、溶剤を貯留する溶剤貯留部とによって構成するとともに、予備吐出により前記各薬液供給ノズルから吐出された薬液のそれぞれが前記各溶剤貯留部に貯留してそれぞれ連通した薬液流下空間を薬液に応じた雰囲気に形成し、前記各溶剤貯留部に共通した溶剤を供給することにより前記各薬液を前記各溶剤貯留部の溶剤とともに前記排液口へ排出するようにしたことを特徴とする基板塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30617696A JP3558471B2 (ja) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | 基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30617696A JP3558471B2 (ja) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | 基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10137665A JPH10137665A (ja) | 1998-05-26 |
| JP3558471B2 true JP3558471B2 (ja) | 2004-08-25 |
Family
ID=17953960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30617696A Expired - Fee Related JP3558471B2 (ja) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | 基板塗布装置の薬液供給ノズル待機方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3558471B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW548143B (en) * | 2001-06-29 | 2003-08-21 | Dainippon Screen Mfg | Substrate application apparatus, liquid supply apparatus and method of manufacturing nozzle |
| JP4322469B2 (ja) * | 2002-04-26 | 2009-09-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| TWI276366B (en) | 2002-07-09 | 2007-03-11 | Semiconductor Energy Lab | Production apparatus and method of producing a light-emitting device by using the same apparatus |
| JP4628656B2 (ja) * | 2002-07-09 | 2011-02-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置の製造装置及び発光装置の作製方法 |
| JP4828484B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2011-11-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| JP6028929B2 (ja) * | 2013-06-10 | 2016-11-24 | トヨタ自動車株式会社 | 基板処理装置 |
| CN110164796B (zh) * | 2019-05-27 | 2021-09-24 | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） | 胶头保湿装置及涂胶设备 |
| JP7194645B2 (ja) * | 2019-05-31 | 2022-12-22 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
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1996
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| JPH10137665A (ja) | 1998-05-26 |
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