JP2000164491A - レジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノズル待機ユニットの内部で待機しているノ
ズル先端部のレジストの固形化を防止できるようにす
る。 【解決手段】 レジスト塗布装置１は、レジストを吐出
するノズル２と、内部にノズル２を待機させるための密
閉構造のノズル待機ユニット３と、ノズル待機ユニット
３に接続されてこの内部に、レジストを溶解する溶剤１
０を供給する溶剤供給ライン４とを備えた構成となって
いる。また、ノズル待機ユニット３の内部には、溶剤供
給ライン４から供給された溶剤１０を一時溜め置く液溜
まり部６が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト塗布装置
に関し、詳細には、半導体装置の製造プロセスにおける
フォトリソグラフィ工程にて用いられるレジスト塗布装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にレジスト塗布装置には、レジスト
を吐出するノズルと、このノズルを待機させるためのノ
ズル待機ユニットとが備えられている。従来のノズル待
機ユニットは、その内部が大気に開放されていて大気雰
囲気となっている。またノズル待機ユニットには、シン
ナー洗浄ラインとドレインラインとが接続されており、
よって、シンナー洗浄ラインから供給されたシンナーに
よってユニットの内部に付着したレジストが除去されて
洗浄されるとともに、洗浄に使用されたシンナーがドレ
インラインから排出されるように構成されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のレジ
スト塗布装置では、ノズル待機ユニットの内部が大気雰
囲気であるため、このユニットの内部に待機しているノ
ズルの先端部にてレジスト中の有機溶剤成分が揮発して
固形化してしまう。このため、ダミーディスペンスを行
って固形化したレジスト固形物を定期的に除去しなけれ
ばならず、結果として大量のレジストを使用することと
なって、膨大な経費が必要であるという不都合が生じて
いる。

【０００４】また、ダミーディスペンスを行ってもレジ
スト固形物を除去できないことがある。この場合には、
レジスト固形物がウエハ上に付着してウエハ面内におけ
るレジストの膜厚均一性を悪化させたり、パターン形成
時にマスクとなってパターン欠陥を発生させるといった
不具合が生じる。したがって、ノズル待機ユニットの内
部で待機しているノズル先端部のレジストの固形化を防
止できる装置が切望されている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
するために本発明に係るレジスト塗布装置は、レジスト
を吐出するノズルと、内部にノズルを待機させるための
密閉構造のノズル待機ユニットと、ノズル待機ユニット
に接続されてこの内部に、レジストを溶解する溶剤を供
給する溶剤供給ラインと、を備えた構成となっている。

【０００６】上記発明では、ノズル待機ユニットが密閉
構造であるため、ノズル待機ユニットの内部に待機して
いるノズル先端部のレジスト中の有機溶剤成分が揮発し
難い。しかもノズル待機ユニットには、レジストを溶解
する溶剤の溶剤供給ラインが接続されてノズル待機ユニ
ットの内部に上記溶剤が供給される構成となっているた
め、ノズル待機ユニットの内部に溶剤を供給して溶剤を
密閉構造のノズル待機ユニットの内部にて揮発させ、溶
剤の蒸気を飽和させて溶剤雰囲気とすることが可能とな
る。よって、溶剤雰囲気のノズル待機ユニットの内部に
待機しているノズル内のレジストの濃度が保持されて、
レジストの固形化が防止される。

【０００７】またノズル待機ユニットの内部に、溶剤供
給ラインから供給された溶剤を一時溜め置く液溜まり部
が設けられていれば、ノズル待機ユニットの内部を確実
に溶剤の蒸気が飽和した溶剤雰囲気とすることが可能で
あるとともに、この溶剤雰囲気を長時間維持し易い。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１は本発明に係るレジスト塗布装
置の一実施形態を示す要部側面図である。図１に示すよ
うにこのレジスト塗布装置１は、レジストを吐出するノ
ズル２と、ノズル待機ユニット３と、溶剤供給ライン４
と、ドレインライン５とを備えて構成されている。

【０００９】ノズル待機ユニット３は、従来の装置と同
様に、内部に複数本のノズルを待機させておくためのも
のであるが、従来と異なり、例えば箱形をなす密閉構造
のものとなっている。このノズル待機ユニット３の内部
には、待機状態にあるノズル２をレジスト塗布に際して
所定の位置に搬送したり、使用後のノズル２をノズル待
機ユニット３の内部へと搬送するためのアームが設けら
れており、ノズル待機ユニット３の内部を大気開放する
ことなくノズル２を搬送できるようになっている。

【００１０】さらにノズル待機ユニット３の内部には、
後述するごとく溶剤供給ライン４により供給される溶剤
１０を一時溜め置く液溜まり部６が設けられている。図
１では、液溜まり部６をノズル待機ユニット３の底部側
に設けている例が示されているが、溶剤１０を一時溜め
置くことができればどのように構成されていてもよい。

【００１１】溶剤供給ライン４は、ノズル待機ユニット
３に接続されてこの内部に、ノズル２内のレジストを溶
解する溶剤１０を供給するものである。溶剤１０として
は、例えば従来、ノズル待機ユニット３を洗浄するため
に用いられている、エステル、アルコール、ベンゼン等
からなるシンナー系の有機溶剤が挙げられる。この溶剤
供給ライン４は、従来装置におけるシンナー洗浄ライン
をそのまま転用したもので、シンナー洗浄ラインを洗浄
用でなく、ノズル待機ユニット３の内部を溶剤雰囲気に
するためのものとしている。

【００１２】また図示しないが、溶剤供給ライン４に
は、ノズル待機ユニット３の内部に供給する溶剤１０の
供給量および供給間隔を調整する調整手段が接続されて
いる。よって、溶剤供給ライン４からの溶剤１０の供給
に際しては、ノズル２から吐出するレジストの品種や粘
度に応じて溶剤１０のノズル待機ユニット３の内部への
供給量や供給間隔を調整手段によって自由に設定するこ
とが可能となっている。

【００１３】ドレインライン５は従来装置のドラインラ
インをそのまま用いて構成されており、ノズル待機ユニ
ット２に接続されて、溶剤供給ライン４からノズル待機
ユニット２の内部に過剰に供給されたあるいは不要とな
った溶剤１０を排出するようになっている。

【００１４】上記のように構成されたレジスト塗布装置
１では、溶剤供給ライン４からノズル待機ユニット３の
内部に溶剤１０が供給されると、揮発する分とドレイン
ライン５へ流れる分とに分かれる。そして、ノズル待機
ユニット３が密閉構造であることから、ノズル待機ユニ
ット３の内部が大気から一定の濃度（溶剤１０の蒸気が
飽和する濃度）の溶剤雰囲気となるまで、揮発する分は
ノズル待機ユニット３の内部の溶剤濃度を上昇させてい
くことになる。

【００１５】また、ノズル待機ユニット３が密閉構造で
あるため、ノズル待機ユニット３の内部に待機している
ノズル２内のレジスト中の有機溶剤成分は揮発し難い状
態になっている。しかも、ノズル待機ユニット３の内部
に、溶剤１０の液溜まり部６が設けられているので、ノ
ズル待機ユニット３の内部を確実に溶剤１０の蒸気が飽
和した溶剤雰囲気とすることができるとともに、この溶
剤雰囲気を長時間容易に維持できる。

【００１６】したがって、本実施形態のレジスト塗布装
置１によれば、ノズル待機ユニット３の内部に待機して
いるノズル２内のレジストの濃度を所定の濃度に保持で
き、ノズル２先端部のレジストの固形化を防止できるの
で、ダミーディスペンスを行う回数を大幅に削減するこ
とができる。その結果、ダミーディスペンスにより大量
にレジストを消費することがなくなるため、経費を削減
することができる。

【００１７】またノズル２の先端部にてレジストが固形
化し難いことにより、レジスト固形物によるウエハ面内
における塗布むらを防止できてレジストの膜厚均一性の
向上を図ることができ、またレジスト固形物によるパタ
ーン欠陥の発生を防止することができる。

【００１８】さらに、本実施形態のレジスト塗布装置１
は、既存の従来装置を転用することにより構成可能であ
るため、装置の改造費用や改造期間の必要がなく、レジ
スト塗布装置１を用いた例えばリソグラフィプロセス等
のための一連の設備を停止させることがないという利点
もある。

【００１９】なお、本実施形態ではノズル待機ユニット
の内部に液溜まり部を設けた例を説明したが、本発明の
レジスト塗布装置は液溜まり部を必ずしも設ける必要は
ない。例えば、溶剤供給ラインからノズル待機ユニット
に連続して溶剤を供給することにより、安定した濃度の
溶剤雰囲気を形成でき、非常に長時間、ノズル先端部の
レジストの固形化を防止できる。しかしながら、液溜ま
り部を設ければ、より一層確実かつ容易にノズル待機ユ
ニットの内部の溶剤雰囲気を長時間維持できる効果があ
る。

【００２０】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るレジス
ト塗布装置によれば、ノズル待機ユニットを密閉構造と
し、このノズル待機ユニットの内部に溶剤供給ラインか
らレジストを溶解する溶剤を供給可能な構成としたこと
により、ノズル待機ユニットの内部を溶剤の蒸気が飽和
した溶剤雰囲気とすることができるので、ノズル待機ユ
ニットの内部に待機しているノズル先端部のレジストの
固形化を防止できる。したがって、ダミーディスペンス
を行う回数を大幅に削減することができ、経費を削減す
ることができる。また、ウエハ面内におけるレジストの
膜厚均一性の向上を図ることができるとともに、レジス
ト固形物によるパターン欠陥の発生を防止することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るレジスト塗布装置の一実施形態を
示す要部側面図である。

【符号の説明】

１…レジスト塗布装置、２…ノズル、３…ノズル待機ユ
ニット、４…溶剤供給ライン、６…液溜まり部、１０…
溶剤

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レジストを吐出するノズルと、 内部に前記ノズルを待機させるための密閉構造のノズル
   待機ユニットと、 前記ノズル待機ユニットに接続されてこのノズル待機ユ
   ニットの内部に、前記レジストを溶解する溶剤を供給す
   る溶剤供給ラインと、 を備えていることを特徴とするレジスト塗布装置。
2. 【請求項２】 前記ノズル待機ユニットの内部には、こ
   の内部に前記溶剤供給ラインから供給された溶剤を一時
   溜め置く液溜まり部が設けられていることを特徴とする
   請求項１記載のレジスト塗布装置。
3. 【請求項３】 前記ノズル待機ユニットの内部に供給す
   る溶剤の供給量および供給間隔を調整する調整手段を備
   えていることを特徴とする請求項１記載のレジスト塗布
   装置。