JP2013243317A - 塗布装置、基板処理システムおよび基板処理方法 - Google Patents
塗布装置、基板処理システムおよび基板処理方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】塗布装置10は、基板1を囲うカップ11と、塗布液を基板1に吐出するノズル12と、基板1を回転させる回転部18と、カップ11から塗布液を排出する排出経路14と、カップ1の内壁および排出経路14の少なくとも何れかに洗浄液を供給する装置洗浄部16および17と、を備えている。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の一実施形態に係る塗布装置10の概略構成を示す側方断面図である。塗布装置10は、基板1に塗布液を塗布する装置であり、基板1を囲うカップ11と、塗布液を基板1に吐出するノズル12と、ノズル12を収納するノズル受け13と、カップ11から塗布液を排出する排出経路14と、装置内に洗浄液を供給する装置洗浄部(洗浄手段)16および17と、基板1を回転させる回転部(回転手段)18と、基板1における上記塗布液を塗布する面とは反対側の面に対向するように設けられたカバー部材19と、基板1の裏面に洗浄液を供給する裏面洗浄部20と、基板1を載置するための載置部21とを備えている。また、排出経路14中に、カップ11から排出された液滴状の塗布液を排出気体から分離する気液分離部15が設けられている。
図3は、本発明の一実施形態に係る基板処理システム100の概略構成を示すブロック図である。図3に示すように、本実施形態に係る基板処理システム100は、塗布装置10の他に、塗布液が塗布された基板1の裏面および周縁部を洗浄する洗浄装置30、洗浄装置30が使用する基板洗浄液を貯める基板洗浄液槽50、洗浄装置30から排出された使用済みの基板洗浄液を貯める使用済み洗浄液槽51、未使用の洗浄液を貯める未使用洗浄液槽52、塗布装置10から排出された廃液を貯める廃液槽53、ならびに、使用済み洗浄液槽51および未使用洗浄液槽52の何れから塗布装置10に洗浄液を供給するかを制御する弁(洗浄液供給手段)54を備えている。また、図示していないが、基板処理システム100は、各槽および各装置間をつなぐ配管(洗浄液供給手段)、ならびに、当該配管内に洗浄液等を各槽および各装置に供給するためのポンプ(洗浄液供給手段)等も備えている。
10 塗布装置
11、31 カップ
12 ノズル
13 ノズル受け
14、34 排出経路
15、35 気液分離部
16 装置洗浄部(洗浄手段)
17 装置洗浄部(洗浄手段)
18 回転部(回転手段)
19、39 カバー部材
20、40 裏面洗浄部
30 洗浄装置
32 EBRノズル
38 回転部
50 基板洗浄液槽
51 使用済み洗浄液槽
52 未使用洗浄液槽
53 廃液槽
54 弁(洗浄液供給手段)
Claims (8)
- 基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、
該基板を囲うカップと、
該塗布液を該基板に吐出するノズルと、
該基板を回転させる回転手段と、
該カップから該塗布液を排出する排出経路と、
該カップの内壁および該排出経路の少なくとも何れかに洗浄液を供給する洗浄手段と、を備えていることを特徴とする塗布装置。 - 上記カップから排出された液滴状の上記塗布液を排出気体から分離する気液分離部を上記排出経路中に備え、
上記洗浄手段は、該気液分離部内に上記洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 - 上記基板における上記塗布液を塗布する面とは反対側の面に対向するように設けられたカバー部材を備え、
上記洗浄手段は、さらに、該カバー部材に上記洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする請求項1または2に記載の塗布装置。 - 上記ノズルを収納するノズル受けを備え、
上記洗浄手段は、さらに、該ノズル受けに上記洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の塗布装置。 - 請求項1〜4の何れか一項に記載の塗布装置と、
上記基板を基板洗浄液によってスピン洗浄する洗浄装置と、
該洗浄装置から排出された使用済みの上記基板洗浄液を上記塗布装置に供給する洗浄液供給手段と、を備え、
上記洗浄手段は、該洗浄液供給手段によって上記塗布装置に供給された上記基板洗浄液を、上記カップの内壁および上記排出経路の少なくとも何れかに供給するようになっていることを特徴とする基板処理システム。 - 未使用の洗浄液を貯める未使用洗浄液槽と、
上記使用済みの基板洗浄液を貯める使用済み洗浄液槽と、を備え、
上記洗浄液供給手段は、上記使用済み洗浄液槽に貯められた基板洗浄液の量に応じて、上記未使用洗浄液槽に貯められた該未使用の洗浄液、および上記使用済み洗浄液槽に貯められた上記使用済みの基板洗浄液の何れか一方を上記塗布装置に供給するようになっていることを特徴とする請求項5に記載の基板処理システム。 - カップ内に配置された基板に塗布液を塗布し、該基板を回転させる塗布工程を包含し、
該塗布工程では、該カップの内壁および該カップから該塗布液を排出する排出経路の少なくとも何れかに洗浄液を供給することを特徴とする基板処理方法。 - 上記基板を基板洗浄液によってスピン洗浄する洗浄工程をさらに包含し、
上記塗布工程では、該洗浄工程において使用された使用済みの上記基板洗浄液を、上記カップの内壁および上記排出経路の少なくとも何れかに供給することを特徴とする請求項7に記載の基板処理方法。
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