TW202033227A - 氣體處理裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題，係提供可抑制處理包含VOC之被處理氣體的能力經時降低之狀況的氣體處理裝置。 解決手段是一種氣體處理裝置，具備：框體、將包含VOC的被處理氣體，導入至框體的內側的吸氣口、收容於框體的內側，於內部填充放電用氣體所成，且包含呈現延伸於第一方向之長條形狀的管體的準分子燈、將被照射從準分子燈射出之紫外線的被處理氣體，導出至框體的外側的排氣口、及從框體的內側，對於管體的表面噴射包含水分之洗淨用的第一流體的洗淨機構。

Description

氣體處理裝置
本發明係關於氣體處理裝置，尤其關於使用準分子燈，處理被處理氣體的氣體處理裝置。
先前，提案使用低壓水銀燈來淨化被處理氣體的技術。例如，於後述專利文獻1，記載使用放射波長185nm及波長254nm之紫外線的低壓水銀燈，分解去除被處理氣體中的不純物及細菌類。更具體來說，記載藉由波長185nm的紫外線生成臭氧(O3 )氣體，藉由該臭氧氣體來分解不純物及惡臭物質。
然而，於後述專利文獻2，揭示放射比前述低壓水銀燈更短波長之172nm的光線的氙準分子燈。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2006-204683號公報 [專利文獻2] 日本特開2007-335350號公報
[發明所欲解決之課題]
像專利文獻2所揭示的準分子燈係先前於半導體或液晶面板的製造工程中，使用目的是有機物的去除。也就是說，至今準分子燈通常在嚴密管理的清淨環境下利用。
本案發明者係檢討利用該準分子燈，代替像專利文獻1所記載的低壓水銀燈，將更短波長的光線照射至被處理氣體以提升VOC(Volatile Organic Compounds：揮發性有機化合物)的分解效率，以提升殺菌性能。尤其，被處理氣體包含氧及水分時，利用從準分子燈照射短波長的光線，生成高反應性的O(1 D)及羥自由基(‧OH)，故可期待包含於被處理氣體之VOC的高分解性。
然而，本案發明者係針對使用準分子燈進行包含VOC之被處理氣體的處理，進行銳意研究的結果，發現隨著持續進行處理，準分子燈的管體的表面會附著污濁物，導致從準分子燈放射之紫外線的照度降低的新課題。發生此種事態的話，VOC的處理能力會隨著時間一起降低。
又，本案發明者係進行將準分子燈設為不點燈狀態，使包含VOC的被處理氣體通過該準分子燈的附近的實驗。於是，即使時間經過也未在準分子燈的管體確認到污垢。據此，本案發明者推測因為使準分子燈點燈，對於包含VOC的被處理氣體照射紫外線，會生成前述污濁物，可能是該污濁物附著於管體。
本發明的課題，係提供可抑制處理包含VOC之被處理氣體的能力經時降低之狀況的氣體處理裝置。 [用以解決課題之手段]
本發明的氣體處理裝置，其特徵為具備： 框體； 吸氣口，係將包含VOC的被處理氣體，導入至前述框體的內側； 準分子燈，係收容於前述框體的內側，於內部填充放電用氣體所成，且包含呈現延伸於第一方向之長條形狀的管體； 排氣口，係將被照射從前述準分子燈射出之紫外線的前述被處理氣體，導出前述框體的外側；及 洗淨機構，係從前述框體的內側，對於前述管體的表面噴射包含水分之洗淨用的第一流體。
藉由本案發明者的銳意研究，發現使準分子燈點燈，持續處理包含VOC的被處理氣體時附著於準分子燈之管體的表面的污濁物，會因為包含水分的流體而溶解，可從管體的表面脫離。該污濁物可推測是起源於VOC的物質，因為照射紫外線所生成之二次生成物。依據前述的構造，具備噴射包含水分之第一流體的洗淨機構，故根據污濁物附著於管體的表面的狀況，也可利用將該第一流體朝向管體的表面噴射，使污濁物從管體的表面脫離，所以，可抑制紫外線的照度經時降低。
前述準分子燈，係於前述管體的前述第一方向的端部，具有由無機材料所成的基座部； 前述洗淨機構，係對於位於比前述基座部更靠內側之前述管體的表面噴射前述洗淨用流體亦可。
基座部係具有支持管體的端部之功能的構件，例如以塊滑石、鎂橄欖石、賽隆(Sialon)、氧化鋁等的陶瓷材料所構成。又，設置通過設置於基座部的孔部或基座部的外緣，用以對準分子燈供給電壓的供電線。因此，對於該基座部噴射包含水分的流體，基座部吸收水分的話，有通過基座部設置的供電線之間會發生短路之虞。依據前述的構造，藉由洗淨機構對位於比基座部更內側之管體的表面噴射第一流體，故執行洗淨工程時，可減低水分被基座部吸收的風險。
前述框體，係具備用以將藉由前述第一流體洗淨前述管體的表面之後殘存之液體狀的第二流體，排出至該框體的外側的排液口亦可。
依據相關構造，可將起源於VOC的二次生成物溶解於水分所成的第二流體，從排液口排出至框體的外側，故難以發生第二流體貯留於框體內的問題。
前述洗淨機構，亦可設為包含： 注水管，係以貫通前述框體的一部分之方式配置；及 供水管，係配置於前述框體的外側，對前述注水管供給作為前述第一流體的水； 前述注水管，係將作為前述第一流體的水，噴射至前述管體的表面的構造。
前述洗淨機構，係構成為可沿著前述第一方向移動前述第一流體的噴射目標亦可。
依據該構造，可涵蓋準分子燈的管體之表面的廣泛範圍，使附著的污濁物脫離。
前述洗淨機構，亦可包含： 噴嘴構件，係呈現實質上包圍前述管體的表面之外周的環形狀，於與前述管體對向之面具有複數孔部；及 供水管，係對前述噴嘴構件，供給作為前述第一流體的水。
依據該構造，可涵蓋管體的表面之圓周方向的廣泛範圍，使附著的污濁物脫離。
前述洗淨機構，亦可包含將作為前述第一流體的加濕空氣，在呈現平面形狀的狀態下噴射的氣刀。
依據該構造，可利用氣刀的前端部朝向管體的表面，一邊以水分溶解污濁物，一邊藉由氣刀的氣流，使其容易從管體的表面脫離。
又，前述氣體處理裝置所具備的準分子燈可採用任意的形狀。
作為一例，前述準分子燈可設為具備配置於前述管體的外表面之所定位置的第一電極，與配置於前述管體的外表面，且隔著填充了前述放電用氣體之前述管體的內部與前述第一電極對向的位置的第二電極。此時，前述管體係具有實質上呈現平面之形狀的對向的兩面，於一方的面配置第一電極，於另一方的面配置第二電極亦可。
作為其他一例，前述準分子燈可具備配置於前述管體的外表面之所定位置的第一電極，與配置於填充了前述放電用氣體之前述管體的內部的第二電極。
作為另其他一例，前述管體，係具有外側管，與配置於前述外側管之內側的內側管，呈現前述外側管與前述內側管於前述第一方向的兩端中封止所成的雙重管構造； 於被前述內側管與前述外側管挾持的空間內，填充前述放電用氣體； 前述準分子燈，係具備配置於前述外側管的外表面上的第一電極，與配置於前述內側管的內表面上的第二電極。 [發明的效果]
依據本發明的氣體處理裝置，可抑制處理包含VOC之被處理氣體的能力經時降低之狀況。
針對本發明的氣體處理裝置，適當參照圖面來進行說明。再者，以下的各圖面任一都是模式揭示者，圖面上的尺寸比與實際的尺寸比不一定一致，於各圖面間尺寸比也不一定一致。
圖1係模式揭示氣體處理裝置之一實施形態的構造的剖面圖。圖1所示的氣體處理裝置1係具備框體2、收容於框體2的內側的準分子燈3、洗淨機構4。
準分子燈3係呈現沿著方向d1(對應「第一方向」)延伸的形狀。圖2係從方向d1觀察準分子燈3時的模式俯視圖，與洗淨機構4一起圖示者。於本實施形態中，準分子燈3係具備沿著方向d1延伸的管體30、配置於管體30的外表面的第一電極31、配置於管體30的外表面，且與第一電極31對向的位置的第二電極32。管體30係由合成石英玻璃等的介電體所成。於管體30的內側，充填有藉由放電形成準分子的放電用氣體33G。於本實施形態中，放電用氣體33G包含氙(Xe)。作為放電用氣體33G的更詳細之一例，以所定比率(例如3：7)混合氙(Xe)與氖(Ne)的氣體所成，進而包含微量氧及氫者亦可。
利用對第一電極31與第二電極32之間施加例如50kHz～5MHz程度之高頻的交流電壓，對於放電用氣體33G隔著管體30施加前述電壓，在填充放電用氣體33G的放電空間內會產生放電電漿。藉此激發放電用氣體33G的原子，成為準分子狀態，該原子轉移至基底狀態時，會產生準分子發光。作為發電用氣體33G，使用上述之包含氙(Xe)的氣體時，該準分子發光成為波長在172nm附近的紫外線L1。再者，利用讓利用來作為放電用氣體33G的物質不同，可改變紫外線L1的波長。例如作為放電用氣體33G，可利用ArBr(165nm)、ArCl(175nm)、F2 (153nm)等。
第一電極31及第二電極32係以不妨礙管體30內發生的紫外線L1射出至管體30的外側之方式，呈現網格形狀(網目形狀)或線形狀。
氣體處理裝置1係利用於包含VOC(Volatile Organic Compounds：揮發性有機化合物)的被處理氣體G1的處理。VOC係具有揮發性，在大氣中成為氣體狀之有機化合物的總稱，是包含甲醛、甲苯、二甲苯、丙酮等之物質群的總稱。例如，氣體處理裝置1係假設直接連結於建築物的空調用導管、工場的排氣處理用導管來使用的狀況。
圖1所示，氣體處理裝置1係具備將包含VOC的被處理氣體G1吸入至框體2的內側的吸氣口5，與將對於被處理氣體G1照射來自準分子燈3的紫外線L1之後的氣體(已處理氣體G2)，排出至框體2的外側的排氣口6。
從吸氣口5吸入之包含VOC的被處理氣體G1，係被照射從準分子燈3射出的紫外線L1的話，經由以下的(1)及(2)式的反應，生成高反應性的O(1 D)及羥自由基(‧OH)。再者，於以下式中，O(1 D)係指激發狀態的O原子，O(3 P)係指基底狀態的O原子。又，hν(λ)係表示波長λ的光線被吸收。
Figure 02_image001
再者，前述(1)式的反應係在紫外線L1的波長λ為180nm以下時容易發生。
O(1 D)及羥自由基(‧OH)係反應性比臭氧(O3 )還高。因此，相較於藉由使用低壓水銀燈所生成的臭氧來分解之先前的氣體處理裝置，依據氣體處理裝置1，可有效率地進行利用臭氧難以分解之包含甲醛等的起源於VOC之物質的被處理氣體G1的分解。
在此，氣體處理裝置1具備洗淨機構4。在本實施形態中，洗淨機構4係如圖2所示，具有複數根的注水管48。該注水管48係如圖1所示，透過供水管43與供水源40連接。注水管48係以貫通框體2的一部分之處的方式形成，構成為可將貯水於配置在框體2的外側之供水源40的作為第一流體51的水，朝向管體30噴射的構造。
再者，於圖1及圖2，從d1方向觀察時對於管體30僅於上下方向形成注水管48地圖示，但是，注水管48的配置樣態可為任意。也就是說，以可對於管體30的表面從複數方向注入作為第一流體51的水之方式，於複數處配置注水管48亦可。
藉由前述構造，即使於管體30的表面，附著起源於VOC的二次生成物的狀況中，可藉由從洗淨機構4(注水管48)供給的水來溶解該二次生成物，故可清淨化管體30的表面，抑制紫外線L1的照度的降低。關於此點，參照實施例於後敘述。
於本實施形態中，氣體處理裝置1係具備排液口13。該排液口13係可利用水(第一流體51)噴射至管體30的表面，將附著於管體30的表面之起源於VOC的二次生成物溶解於水所得之流體(第二流體52)排出至框體2的外側。排液口13係作為可將框體2的內側中生成之第二流體52排出至框體2的外側的構造即可，形狀及配置場所可為任意。
準分子燈3係於管體30的方向d1的端部，具有基座部35。該基座部35係由塊滑石、鎂橄欖石、賽隆、氧化鋁等的陶瓷材料(無機材料)所成，具有固定管體30的端部之功能。
通過設置於基座部35的孔部或基座部35的外緣，配設用以對第一電極31及第二電極32供電的供電線(未圖示)。因此，如果基座部35吸收水分的話，有配設於基座部35附近的供電線之間會發生短路之虞。根據迴避該短路現象的觀點，洗淨機構4係理想為以不對於該基座部35噴射水，而對於位於比基座部35更內側之管體30的表面噴射水之方式構成。
圖3係仿照圖1圖示其他實施形態之氣體處理裝置1的構造者。相較於圖1所示的氣體處理裝置1，洗淨機構4的構造不同。圖4係從方向d1觀察準分子燈3時的模式俯視圖，與洗淨機構4一起圖示者。
在本實施形態中，洗淨機構4係如圖4所示，具有以實質上包圍準分子燈3的管體30之外周的方式設置之環形狀的噴嘴構件41。該噴嘴構件41係於朝向管體30的方向具有複數孔部42。
再者，「實質上包圍準分子燈3的管體30之外周」係完全包圍管體30的外周的狀況，也包含包圍管體30的外周50%以上之區域的構造。也就是說，噴嘴構件41係作為完全環狀構造的狀況亦可，也可作為像C字型或U字型之欠缺一部分的環狀構造。
理想是洗淨機構4係構成為可沿著管體30的方向d1移動。在圖3中，利用一併記載虛線所示的洗淨機構4，表示洗淨機構4可移動的狀況。藉此，可涵蓋管體30的方向d1之表面的廣泛範圍，噴射作為第一流體51的水，可洗淨管體30的表面的廣泛範圍。此時，洗淨機構4係作為可藉由手動移動者亦可，作為構成為可透過馬達等的驅動機構(未圖示)移動亦可。前者的狀況，例如作為將用以使洗淨機構4沿著方向d1移動的軌道配設於框體2的內側，可從框體2的外側沿著軌道移動洗淨機構4的構造亦可。
於圖3及圖4所示之構造的氣體處理裝置1中，於管體30的表面，附著起源於VOC的二次生成物時，也可藉由作為第一流體51的水來溶解該二次生成物，故可洗淨管體30的表面，抑制紫外線L1的照度降低之狀況。
圖5係仿照圖1圖示另其他實施形態之氣體處理裝置1的構造者。相較於圖1所示的氣體處理裝置1，洗淨機構4的構造不同。圖6係從方向d1觀察準分子燈3時的模式俯視圖，與洗淨機構4一起圖示者。在本實施形態中，洗淨機構4係如圖6所示，於準分子燈3的管體30的表面，具備噴射作為第一流體51的加濕空氣51a的氣刀46。
如圖5所示，該氣刀46係構成為從加濕空氣源45透過供氣管47，供給作為第一流體51的加濕空氣51a，可將該加濕空氣51a(第一流體51)朝向管體30噴射。該加濕空氣51a係相對濕度為85%以上的空氣為佳，95%以上的空氣更佳。
於圖6，圖示作為從氣刀46噴出之第一流體51的薄膜狀的加濕空氣51a的形狀，具有從方向d1觀察時平行於管體30的寬度方向(紙面左右方向)的端部之狀況。也就是說，在本實施形態中，假設從氣刀46，該薄膜狀的加濕空氣51a，從於方向d1隔開的複數處噴射之狀況。但是，薄膜狀的加濕空氣51a的形狀為任意，例如作為薄膜狀的加濕空氣51a的前端部分呈現沿著方向d1延伸的平面形狀者亦可。又，氣刀46係作為將作為第一流體51之薄膜狀的加濕空氣51a，除了管體30的外表面中形成有電極(31，32)的表面之外，也對於未形成電極(31，32)的表面噴射者亦可。
於圖5及圖6所示之構造的氣體處理裝置1中，於管體30的表面，附著起源於VOC的二次生成物時，也可藉由加濕空氣51a所包含的水分來溶解該二次生成物，故可洗淨管體30的表面，抑制紫外線L1的照度降低之狀況。又，利用設為可從氣刀46噴射加濕空氣51a的構造，可一邊藉由含有水分溶解二次生成物，一邊藉由薄膜狀的加濕空氣51a之前端部的風勢，使其容易從管體30的表面脫離。
(檢證) 如「用以解決課題之手段」中所述般，本案發明者係使用準分子燈3進行被處理氣體G1的處理之後，發現準分子燈3的管體30的表面會附著污垢(污濁物)的現象。又，本案發明者係確認不使準分子燈3點燈，僅使被處理氣體G1流通於框體2內，污濁物不會附著於管體30的表面。根據該結果，本案發明者推測因為從準分子燈3射出之紫外線L1照射至被處理氣體G1所生成之二次生成物是附著於管體30的表面者。
然後，本案發明者推測紫外線L1照射至包含VOC的被處理氣體G1，分解VOC時，因為附加羥基而生成易溶於水的二次生成物。因此，推測對於污濁物附著於管體30的表面之準分子燈3的管體30，從洗淨機構4噴射第一流體51(水或加濕空氣等)，可能可以藉此溶解二次生成物，可讓二次生成物從管體30脫離，故進行實驗。於後說明其結果。
(實驗內容) 將被處理氣體G1導入至框體2內之前，以點燈電源的輸入電力26.4W使準分子燈3點燈，以照度計測定d1方向之中央的位置A之管體30的表面的照度。此時的照度為30.0W/cm2 。
接著，一邊將被處理氣體G1導入至框體2內，一邊使準分子燈3點燈，執行300小時之被處理氣體G1的處理。之後，以照度計測定前述位置A之照度。此時的照度為0.0W/cm2 (比較例1)。根據該比較例1的結果，推估準分子燈3的管體30的表面，被污濁物覆蓋。
對於比較例1之狀況的準分子燈3，分別持續60秒鐘噴射(比較例2)乾燥空氣(相對濕度10%)、(實施例1)水、(實施例2)加濕空氣(相對濕度85%)、(實施例3)加濕空氣(相對濕度95%)之後，以照度計測定前述位置A之照度。再者，實施例1的狀況中，為了迴避水滴直接附著於管體30的表面的狀態，噴射水之後，持續30秒鐘噴吹一般的大氣以清除水滴之後，以照度計測定前述位置A之照度。各結果係如後述表1所示。再者，在比較例2、實施例2、及實施例3中，空氣的流量都設為37L/分鐘。又，在實施例1中，所供給的水量設為0.5L/分鐘。
Figure 02_image003
依據比較例2，可確認即使在將乾燥空氣噴射至管體30的表面的狀況中，照度也從比較例1的狀況並未改變，無法使污濁物從管體30的表面脫離。相對於此，於實施例1～3任一的狀況中，照度都比比較例1更為提升，即使與將被處理氣體G1導入至框體2內之前的照度進行比較，也相較於比較例1～2，照度的減少幅度極少。藉此，可知利用將水或加濕空氣噴射至管體30的表面，污濁物會溶解於水，可從管體30的表面脫離。
再者，作為即使藉由比較例2的方法，污濁物也無法從管體30的表面脫離的理由，可推測是起源於VOC的二次生成物氣溶膠化而接觸管體30的表面之後，氣溶膠彼此聚合導致聚合物化，因此，在具有黏性的狀態下污濁物強固地附著於管體30的表面所致。另一方面，由於在VOC的分解過程中發生附加羥基的反應，故該二次生成物包含羥基，可推估包含有易溶於水的物質。實際上，將作為VOC之包含二甲苯的氣體，作為被處理氣體G1導入至框體2內，使準分子燈3點燈以進行被處理氣體G1的處理，分析附著於準分子燈3的管體30之後，確認到包含2,5/2,6 二甲酚、2,5/2,6 二甲氫醌、4,5 二甲間苯二酚。該等都是包含羥基的物質。
[其他實施形態] 以下，針對其他實施形態進行說明。
＜1＞ 氣體處理裝置1的配置方向為任意，但是，如圖7所示，將方向d1設為垂直方向，配置氣體處理裝置1亦可。此時，附著於管體30的表面之起源於VOC的二次生成物溶解於水所得之流體(第二流體52)，於框體2內隨重力朝下移動。因此，如圖7所示，氣體處理裝置1不一定需要具備排液口13亦可。圖7所示之構造的狀況中，作為具備用以暫時貯留沿框體2的內壁面移動從排氣口6流出至框體2的外側之第二流體52的貯留器(未圖示)亦可。
＜2＞ 於本發明中，準分子燈3的構造為任意。例如，如圖8所示，作為呈現所謂「單管構造」的準分子燈3亦可，如圖9所示，作為呈現所謂「雙重管構造」的準分子燈3亦可。圖8及圖9都是模式揭示從方向d1觀察準分子燈3時之構造的圖面。
圖8所示的準分子燈3係於管體30的內側配設第一電極31並且填充放電用氣體33G，於管體30之外側的壁面配設第二電極32所構成。此時，第一電極31呈現沿著方向d1延伸的形狀，第二電極32呈現網格狀或線狀。
又，圖9所示的準分子燈3係具有兩個管體30(30a，30b)。具有圓筒狀之外側的管體30b，與管體30b的內側中配置於與管體30b的同軸上，內徑小於管體30b之圓筒狀的管體30a。管體30a與管體30b係於方向d1的端部中被封止(未圖示)，兩者之間構城圓環狀的發光空間，於該空間內填充放電用氣體33G。然後，於內側的管體30a配設第一電極31，於外側的管體30b的外壁面配設第二電極32。第一電極31呈現膜形狀，第二電極32呈現網格狀或線狀。
＜3＞ 前述實施形態中所說明之洗淨機構4的構造僅為一例，本發明的氣體處理裝置1所具備之洗淨機構4並不限定於圖示的樣態。也就是說，洗淨機構4係只要是可將包含水分的第一流體51，從框體2的內側朝向管體30的表面噴射的構造的話，可採用任意的構造。該洗淨機構4構成可從氣體處理裝置1卸下亦可。
又，在上述之實施形態中，已針對第一流體51是水之狀況，與加濕空氣之狀況進行說明。但是，前者的狀況中，也就是說第一流體51是水的狀況中，第一流體51不需要是純粹的水。例如，第一流體51作為水包含介面活性劑的構造亦可。藉此，可提升使附著於管體30的表面之二次生成物脫離的效果。第一流體51並不限定於界面活性劑，亦可對於水而包含VOC以外的其他物質。進而，於第一流體51是水，或水包含前述其他物質的狀況中，作為不是純粹的液體，而是粒徑為數μm～數十μm程度的噴霧，或前述噴霧混合空氣者所構成亦可。也就是說，於本發明中，第一流體51也包含呈現流體的微粒子浮游於氣體內之狀態(霧化的狀態)之狀況的概念。
前者的狀況中，也就是說第一流體51是加濕空氣的狀況中，第一流體51不需要是對純粹的空氣進行加濕的氣體，作為包含於除了起源於VOC之物質外的其他物質被加濕的空氣所成之氣體亦可。
1:氣體處理裝置 2:框體 3:準分子燈 4:洗淨機構 5:吸氣口 6:排氣口 13:排液口 30:管體 30a:管體 30b:管體 31:第一電極 32:第二電極 33G:放電用氣體 35:基座部 40:供水源 41:噴嘴構件 42:孔部 43:供水管 45:加濕空氣源 46:氣刀 47:供氣管 48:注水管 51:第一流體 51a:加濕空氣 52:第二流體 G1:被處理氣體 G2:已處理氣體 L1:紫外線 d1:方向
[圖1] 模式揭示本發明的氣體處理裝置之一實施形態的構造的剖面圖。 [圖2] 從方向d1觀察圖1所示之氣體處理裝置所具備的準分子燈時的模式俯視圖，與洗淨機構一起圖示者。 [圖3] 模式揭示本發明的氣體處理裝置之一實施形態的構造的剖面圖。 [圖4] 從方向d1觀察圖3所示之氣體處理裝置所具備的準分子燈時的模式俯視圖，與洗淨機構一起圖示者。 [圖5] 模式揭示本發明的氣體處理裝置之另一實施形態的構造的剖面圖。 [圖6] 從方向d1觀察圖5所示之氣體處理裝置所具備的準分子燈時的模式俯視圖，與洗淨機構一起圖示者。 [圖7] 模式揭示本發明的氣體處理裝置之另一實施形態的構造的剖面圖。 [圖8] 從方向d1觀察本發明的氣體處理裝置所具備之其他構造例的準分子燈時的模式俯視圖。 [圖9] 從方向d1觀察本發明的氣體處理裝置所具備之另其他構造例的準分子燈時的模式俯視圖。
1:氣體處理裝置
2:框體
3:準分子燈
4:洗淨機構
5:吸氣口
6:排氣口
13:排液口
35:基座部
40:供水源
43:供水管
48:注水管
52:第二流體
G1:被處理氣體
G2:已處理氣體
L1:紫外線
d1:方向

Claims (10)

  1. 一種氣體處理裝置，其特徵為具備： 框體； 吸氣口，係將包含VOC的被處理氣體，導入至前述框體的內側； 準分子燈，係收容於前述框體的內側，於內部填充放電用氣體所成，且包含呈現延伸於第一方向之長條形狀的管體； 排氣口，係將被照射從前述準分子燈射出之紫外線的前述被處理氣體，導出前述框體的外側；及 洗淨機構，係從前述框體的內側，對於前述管體的表面噴射包含水分之洗淨用的第一流體。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述準分子燈，係於前述管體的前述第一方向的端部，具有由無機材料所成的基座部； 前述洗淨機構，係對於位於比前述基座部更靠內側之前述管體的表面噴射第一流體。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述框體，係具備用以將藉由前述第一流體洗淨前述管體的表面之後殘存之液體狀的第二流體，排出至該框體的外側的排液口。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述洗淨機構，係包含： 注水管，係以貫通前述框體的一部分之方式配置；及 供水管，係配置於前述框體的外側，對前述注水管供給作為前述第一流體的水； 前述注水管，係將作為前述第一流體的水，噴射至前述管體的表面。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述洗淨機構，係包含： 噴嘴構件，係呈現實質上包圍前述管體的表面之外周的環形狀，於與前述管體對向之面具有複數孔部；及 供水管，係對前述噴嘴構件，供給作為前述第一流體的水。
  6. 如申請專利範圍第5項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述洗淨機構，係構成為可沿著前述第一方向移動前述第一流體的噴射目標。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述洗淨機構，係包含將作為前述第一流體的加濕空氣，在呈現平面形狀的狀態下噴射的氣刀。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述準分子燈，係具備配置於前述管體的外表面之所定位置的第一電極，與配置於前述管體的外表面，且隔著填充了前述放電用氣體之前述管體的內部與前述第一電極對向的位置的第二電極。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述準分子燈，係具備配置於前述管體的外表面之所定位置的第一電極，與配置於填充了前述放電用氣體之前述管體的內部的第二電極。
  10. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之氣體處理裝置，其中， 前述管體，係具有外側管，與配置於前述外側管之內側的內側管，呈現前述外側管與前述內側管於前述第一方向的兩端中封止所成的雙重管構造； 於被前述內側管與前述外側管挾持的空間內，填充前述放電用氣體； 前述準分子燈，係具備配置於前述外側管的外表面上的第一電極，與配置於前述內側管的內表面上的第二電極。
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