JP6664952B2

JP6664952B2 - 塗布器洗浄装置及び塗布装置

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Publication number: JP6664952B2
Application number: JP2015246346A
Authority: JP
Inventors: 展雄堀内
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2015-12-17
Filing date: 2015-12-17
Publication date: 2020-03-13
Anticipated expiration: 2035-12-17
Also published as: JP2017109180A; CN106914366B; KR20170072789A; CN106914366A; TWI698290B; TW201722569A; KR102520093B1

Description

本発明は、塗布液を吐出する塗布器を洗浄するための塗布器洗浄装置、及び、この塗布器洗浄装置を備える塗布装置に関するものである。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等の基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。塗布装置は、基板を載置するステージと、載置された基板に塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの塗布器から塗布液を吐出させながら、基板と塗布器とを相対的に移動させることにより、基板上に塗布膜が形成されるようになっている。

この塗布器には、基板と対向する基板対向面にスリットノズルが形成されており、スリットノズルの長手方向に亘って均一に塗布液を吐出できるようになっている。しかし、スリットノズルに塗布液が完全に乾燥した乾燥残留液や異物（合わせて異物等と呼ぶ）が付着した状態では、その異物等により塗布液の吐出状態が不均一化され、塗布膜に筋ムラなどの乾燥ムラが形成される原因になる。そのため、このような口金部は、塗布膜の均一性を保つため塗布器洗浄装置により定期的に洗浄される（例えば特許文献１参照）。

この塗布器１０６洗浄装置は、図４に示すように、有機溶剤の洗浄液を溜める一方向に延びる形状の洗浄槽１００と、洗浄槽１００に洗浄液を供給する洗浄液供給部１０１と、洗浄槽１００内の洗浄液に超音波振動を与える振動子１０２とを有しており、洗浄槽１００にスリットノズル１０３を浸漬させた状態で超音波振動を付与することによりスリットノズル１０３に付着した異物等を除去することができる。そして、洗浄槽１００には、洗浄液供給部１０１の長手方向反対側に、オーバーフロー部１０４が設けられており、異物等の除去により汚れた洗浄液をオーバーフロー槽１０５に流して循環させ、きれいな洗浄液を洗浄液供給部１０１から常に流すことにより、一定の洗浄効果を維持できるようになっている。そして、場合によっては、洗浄液をスリットノズル１０３から侵入させて塗布器１０６内を循環させることにより、塗布器１０６内の洗浄も行われる。これにより、塗布器１０６の洗浄作業が手作業によらず、自動的に行うことができるようになっている。

特開２００４−３１４０４８号公報

しかし、従来の塗布器洗浄装置では、洗浄液に発生した熱により塗布器１０６が熱変形し、塗布膜の品質に影響を及ぼすという問題があった。すなわち、洗浄槽１００の洗浄液には超音波振動が付与されるため、洗浄液供給部１０１から供給された洗浄液は温度が上昇する。そして、洗浄液供給部１０１から供給された洗浄液がオーバーフロー槽１０５に向かって長手方向に流れるため、洗浄槽１００内の洗浄液は、オーバーフロー槽１０５側に流れつつ次第に温度が上昇し、より温度の高い洗浄液がオーバーフロー槽１０５付近に集中することになる。すなわち、洗浄槽１００内の洗浄液には、洗浄液供給部１０１からオーバーフロー槽１０５に向かって温度が上昇する温度分布が形成される。

洗浄液に温度分布が形成されると、洗浄液に浸漬された塗布器１０６は、長手方向に亘って温度差が生じることにより、スリットノズル１０３の開口状態（開口幅）が長手方向に不均一になる。そのため、スリットノズル１０３の吐出状態が安定しなくなり、基板上に形成される塗布膜の品質に影響を及ぼすという問題があった。

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、洗浄液の温度上昇に伴う温度差から塗布器に熱変形による歪みが生じるのを抑えることができる塗布器洗浄装置及び塗布装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決するために本発明の塗布器洗浄装置は、基板上を走査しつつ、基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を洗浄する塗布器洗浄装置であって、前記塗布器のスリットノズルを浸漬可能に一方向に延びる形状の洗浄槽と、前記洗浄槽に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記洗浄槽内の洗浄液に振動波を付与する振動子と、を備え、前記洗浄液供給部は、洗浄槽内への洗浄液を長手方向に亘って供給するとともに、洗浄液の供給量が前記洗浄槽の長手方向両端部よりも中央部分が多くなるように設定されており、前記洗浄槽は、長手方向両端部に洗浄液を排出させるオーバーフロー部を有しており、前記洗浄槽に前記スリットノズルを浸漬させた状態で、前記洗浄槽内の洗浄液の流れが長手方向中央部分からオーバーフロー部に向かって流れるように形成されおり、前記洗浄槽内で洗浄液を長手方向一方端から供給し他方端から排出させる場合に比べて、前記スリットノズルに対して洗浄液が流れる距離を小さくすることを特徴としている。

本発明によれば、洗浄液供給部から供給された洗浄液は、長手方向両端部よりも中央部分で多く供給されるため、中央部分からオーバーフロー部に向かって流れる。すなわち、振動子から発せられた振動波（超音波振動等）により温度が上昇した洗浄液は、中央部分から両端部のオーバーフロー部に流れるため、オーバーフロー部付近の温度が上昇するが、洗浄液供給部から新たな洗浄液（温度上昇前の洗浄液）が供給されることに加え、従来のように長手方向一端部から洗浄液を供給し、他端部からオーバーフローさせる場合に比べて、洗浄液が流れる距離を短くすることができる。したがって、従来に比べて長手方向における温度差を抑えることができるため、超音波洗浄による洗浄液の温度上昇に伴う長手方向の温度差からスリットノズルの開口状態が長手方向に不均一になって塗布膜の品質が低下するのを抑えることができる。

また、前記洗浄液供給部は、前記洗浄槽の長手方向に沿って配置される洗浄液供給配管を有しており、この洗浄液供給配管には、洗浄液を吐出する複数の洗浄液供給孔が形成されており、前記洗浄液供給孔は、前記洗浄槽の長手方向両端部で疎、中央部分で密に配置されている構成にしてもよい。

この構成によれば、洗浄液の供給量が洗浄槽の長手方向両端部よりも中央部分が多くなり、洗浄槽内の洗浄液の流れを容易に長手方向中央部分からオーバーフロー部に向かって流れるように形成することができる。

また、前記洗浄槽の底面には、長手方向に亘って前記振動子が配置されており、前記洗浄液供給孔は、前記振動子に向かって洗浄液が吐出される向きに開口している構成にしてもよい。

この構成によれば、振動子上の洗浄槽は対流が生じているため、振動子から与えられて振動によって温度上昇した洗浄液が対流により撹拌され、洗浄槽内の局所的な温度上昇を抑えることができる。

また、前記洗浄槽のオーバーフロー部は、洗浄槽の長手方向両端部における側壁が他の側壁よりも高さ方向に低くなる切欠部を有している構成にしてもよい。

この構成によれば、洗浄液の液面が切欠部よりも高くなると洗浄槽の洗浄液が排出されるため、容易な構成でオーバーフロー部を形成することができる。

また、前記洗浄槽には、長手方向に沿って前記基板対向面と接することにより、洗浄槽の洗浄液が飛散するのを防止するシール壁が設けられている構成にしてもよい。

この構成によれば、振動子により洗浄液に振動を与えた場合に生じる洗浄液の飛散を防止することができる。

また、上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、上述の塗布器洗浄装置を備え、基板を載置するステージと、ステージ上の基板にスリットノズルから塗布液を吐出する塗布器と、を有し、ステージ上に載置された基板と前記塗布器とを相対的に移動させつつ、前記塗布器から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成することを特徴としている。

本発明によれば、塗布器を塗布器洗浄装置で洗浄しても、洗浄液の温度上昇に伴うスリットノズルの開口状態が長手方向に不均一になるのを抑え、塗布膜の品質を安定させることができる。

本発明によれば、洗浄液の温度上昇に伴う温度差から塗布器に熱変形による歪みが生じるのを抑えることができる。

本発明の塗布装置を概略的に示す図である。本発明の塗布器洗浄装置を概略的に示す図である。本発明の塗布器洗浄装置を長手方向から見た図である。従来の塗布器洗浄装置を示す図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。

本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。

図１は、本発明のの塗布装置を概略的に示す図、図２は、塗布装置に備える塗布器３０洗浄装置を概略的に示す図、図３は、塗布器３０洗浄装置を長手方向から見た図である。

図１〜図３に示すように、塗布装置１は、基板１０上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜を形成するものであり、基板１０を載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３とを備えている。

なお、以下の説明では、塗布ユニット３が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。

ステージ２１は、ロボットハンド等により搬入された基板１０を載置するものである。このステージ２１には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板１０が保持されるようになっている。具体的には、ステージ２１の表面に形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板１０をステージ２１の表面に吸着させて保持できるようになっている。

また、塗布ユニット３は、基板１０上に塗布液を吐出して塗布膜を形成するものである。この塗布ユニット３は、図１，図２に示すように、塗布液を吐出する塗布器３０と、この塗布器３０を保持するガントリ部３５とを有しており、Ｘ軸方向に移動可能に形成されている。具体的には、ステージ２１のＹ軸方向端部には、Ｘ軸方向に延びるレールが設置されており、ガントリ部３５がこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、脚部３５ａにはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット３がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。本実施形態では、ステージ２１と、ステージ２１の外側に設置される塗布器洗浄装置５とに移動できるようになっている。

また、ガントリ部３５には、塗布器３０を昇降させる昇降機構が設けられている。具体的には、おり、昇降機構を作動させることにより、塗布器３０が基板１０に対して接離できるようになっている。これにより、塗布動作中には、ステージ２１上の基板１０に対して適切な高さ位置に位置することができると共に、塗布器３０を洗浄する場合には、塗布器洗浄装置５に対して適切な高さ位置に適宜調節できるようになっている。

また、塗布器３０は、塗布液を吐出して基板１０上に塗布膜を形成するものである。この塗布器３０は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３の走行方向とほぼ直交するように設けられている。この塗布器３０には、基板１０と対向する基板対向面３１に長手方向に延びるスリットノズル３２が形成されており、塗布器３０に供給された塗布液がスリットノズル３２から長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３２から塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３をＸ軸方向に走行させることにより、スリットノズル３２の長手方向に亘って基板１０上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。

また、塗布装置１は、塗布器３０を洗浄するための塗布器洗浄装置５を備えている。この塗布器洗浄装置５は、ステージ２１のＸ軸方向端部側に設けられており、洗浄液中に塗布器３０を浸漬させることにより、スリットノズル３２に付着した塗布液である乾燥残留液や異物（合わせて異物等と呼ぶ）を除去するものである。

この塗布器洗浄装置５は、一方向に延びる形状の洗浄槽５０と、この洗浄槽５０に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、洗浄槽５０内の洗浄液に振動を与える振動子６とを有している。

洗浄槽５０は、一定量の洗浄液を溜める液体収容器であり、スリットノズル３２が浸漬できる洗浄槽本体５１と、この洗浄槽本体５１の長手方向両端部にオーバーフロー部５２とを有している。この洗浄槽本体５１は、底面部５１ａにこれと直交する鉛直方向に延びる側壁５１ｂが底面部５１ａを囲うように設けられており、側壁５１ｂの高さを超えない範囲で洗浄液を溜めることができるようになっている。この洗浄槽本体５１は、一方向に延びる形状を有しており、長手方向寸法がスリットノズル３２の長手方向寸法よりも大きくなるように形成されている。そして、洗浄槽５０は、洗浄槽本体５１の長手方向がＹ軸方向に一致するように配置されている。したがって、塗布ユニット３を塗布器洗浄装置５の位置で停止させ塗布器３０を下降させると、洗浄槽本体５１の一部が洗浄槽本体５１に収容され、洗浄槽本体５１の洗浄液にスリットノズル３２を浸漬させることができるようになっている。

また、洗浄槽本体５１の底面部５１ａには、振動子６（超音波振動子）が設けられている。具体的には、洗浄槽本体５１の底面部５１ａの下側には、複数の振動子６が幅方向（Ｘ軸方向）中央位置に長手方向に沿って配列されており、振動子６の振動面が底面部５１ａの下面に対向するように設けられている。したがって、振動子６を作動させると、洗浄槽本体５１内の洗浄液には長手方向に亘って超音波振動が付与される。これにより、洗浄槽本体５１に浸漬されたスリットノズル３２に対して超音波洗浄を行うことができるようになっている。

また、洗浄槽本体５１の長手方向両端部には、オーバーフロー部５２が設けられている。このオーバーフロー部５２は、洗浄槽本体５１内の洗浄液を排出させる部分であり、洗浄槽本体５１の長手方向両端部に設けられるオーバーフロー槽５３と、洗浄槽本体５１の長手方向両端部の側壁５１ｂに形成される切欠部５４とによって形成されている。

オーバーフロー槽５３は、洗浄槽本体５１の長手方向の両端部に側壁５１ｂを挟んで隣接するように設けられており、洗浄槽５０から溢れる洗浄液を収容できるようになっている。そして、オーバーフロー槽５３の底面部５１ａには、廃液ポート５５が設けられており、オーバーフロー槽５３にオーバーフローされた洗浄液を排出できるようになっている。

また、洗浄槽本体５１の長手方向両端部における側壁５１ｂには、切欠部５４が形成されている。具体的には、図３に示すように、長手方向両端部の側壁５１ｂは、側壁５１ｂの上端部よりも低い位置にまで切り欠いた切欠部５４が形成されており、洗浄槽本体５１内の洗浄液を優先的に溢れ出させることができるようになっている。すなわち、洗浄槽本体５１に洗浄液が供給されると洗浄液の液面が次第に上昇するが、洗浄液の液面が各側壁５１ｂの上端部に達する前に切欠部５４に達することにより切欠部５４を通じて溢れ出し洗浄液をオーバーフロー槽５３に排出できる。これにより、洗浄槽本体５１内には、オーバーフロー部５２（本実施形態では切欠部５４）に向かう流れを形成することができる。なお、廃液ポート５５から排出された洗浄液は、本実施形態では廃棄されるが、浄化後再利用されてもよく、再利用される洗浄液が再度洗浄槽本体５１に供給されるように循環させる構成にしてもよい。

また、洗浄液供給部７は、洗浄槽本体５１に洗浄液を供給するものであり、本実施形態では、洗浄液供給配管７０に洗浄液供給孔７１が開口されて形成されている。洗浄液供給配管７０は、直線形状のパイプであり、オーバーフロー槽５３及び洗浄槽本体５１に貫通するように設けられいる。そして、幅方向（Ｘ軸方向）については、図３に示すように、洗浄槽５０の幅方向中央位置を外れる位置に配置されており、幅方向中央位置よりも左側の側壁５１ｂ近くに配置されている。

この洗浄液供給配管７０には、洗浄液を吐出する洗浄液供給孔７１が形成されている。具体的には、この洗浄液供給孔７１は、洗浄液供給配管７０の表面を貫通する貫通孔であり、洗浄液供給配管７０が洗浄槽本体５１内に位置する部分に長手方向に亘って複数個一列に並んで形成されている。これにより、洗浄液供給配管７０内の洗浄液がこれらの洗浄液供給孔７１を通じて洗浄槽本体５１内に供給されるようになっている。

また、これらの洗浄液供給孔７１は、長手方向中央部分に密に配置され、長手方向両端部では疎になるように配置されている。したがって、洗浄液供給配管７０に洗浄液が供給されると、それぞれの洗浄液供給孔７１から洗浄液が吐出されるが、長手方向両端部分よりも長手方向中央部分で洗浄液の吐出量が多くなるように供給される。これにより、洗浄槽本体５１内の洗浄液の流れが長手方向中央部分からオーバーフロー部５２に向かって流れるように形成される。すなわち、洗浄槽本体５１内の洗浄液はオーバーフロー槽５３に流れるが、長手方向中央部分に、より大量の洗浄液が供給されるため、洗浄槽本体５１内の洗浄液は、長手方向中央部分から長手方向両端部に位置するオーバーフロー槽５３に流れようとする傾向が強くなる。これにより、洗浄槽本体５１内の洗浄液は、長手方向中央部分からいずれか一方のオーバーフロー槽５３に流れることにより、洗浄液が洗浄槽本体５１内を流れる距離は、従来のように洗浄液を長手方向一方端から供給し他方端から排出させる場合に比べて小さくすることができ、局所的な温度上昇を抑えることができる。すなわち、洗浄槽本体５１内の洗浄液は、振動子６からの超音波振動により温度が上昇する。この洗浄液は、オーバーフロー槽５３に流れるためオーバーフロー部５２では温度が上昇した洗浄液が集中し、洗浄液が流れる方向に向かって温度が上昇するという温度分布が形成される。ところが、本実施形態では、洗浄液が洗浄槽本体５１を流れる距離を小さくできるため、洗浄液を長手方向一方端から供給し他方端から排出させる場合に比べて、長手方向における温度上昇を抑えることができる。したがって、洗浄液が流れる方向に向かって上昇する温度変化を小さくすることができ、洗浄槽本体５１内の局所的な温度差が形成されるのを小さくすることができる。

また、洗浄液供給孔７１は、洗浄液を振動子６に向かって吐出できる向きに開口して形成されている。具体的には、洗浄液供給配管７０が幅方向中央位置から外れた位置に位置しているため、洗浄液供給孔７１は、幅方向中央位置側であって、かつ、下方に開口して形成されている。すなわち、洗浄液供給孔７１は、洗浄槽本体５１の底面部５１ａに向かう向きに開口して形成されている。また、底面部５１ａでは、裏面に配置された振動子６から与えられる振動波により、底面部５１ａから上昇する対流が形成されている（図３の矢印）。したがって、洗浄液供給孔７１から吐出された洗浄液は、超音波振動により温度が上昇するが、底面部５１ａから上昇する対流によって撹拌されるため、洗浄槽５０内の深浅方向における局所的な温度上昇を抑えることができる。すなわち、洗浄槽５０内の洗浄液は撹拌されることにより局所的な温度上昇が抑えられることにより全体的に温度分布がより均一化される。そして、洗浄液が長手方向中央部分からいずれか一方のオーバーフロー槽５３に流れる流れを形成することにより、洗浄液が洗浄槽本体５１内を流れる距離を小さくし、長手方向における局所的な温度上昇を抑えることができる。これらの相乗効果により洗浄槽本体５１内の局所的な温度差が形成されるのを小さくし、洗浄中のスリットノズル３２に与える熱の影響を極力小さくすることができる。

また、洗浄槽５０には、洗浄液が飛散するのを防止するシール壁８が設けられている。このシール壁８は、洗浄槽５０の側壁５１ｂに沿って設けられており、側壁５１ｂに取り付けられるベース部８１と、このベース部８１から斜め上方に突出する舌片部８２とを有している。ベース部８１は、側壁５１ｂの上端部分に取り付けられており、側壁５１ｂの上端部を挟持して固定されている。また、舌片部８２は、ゴム部材で形成されており、断面が環状で長手方向に延びて形成されている。すなわち、洗浄槽５０の側壁５１ｂの長手方向寸法と同じ長さに形成されている。そして、ベース部８１が側壁５１ｂに取り付けられた状態では、洗浄槽５０の内側上方に突出する姿勢を維持できるように形成されている。すなわち、上方から舌片部８２を押圧すると、元の姿勢に戻ろうとする復元力が作用することにより、当接する部材に密着できるようになっている。したがって、塗布器３０が洗浄槽５０の上方に位置した後、下降すると、塗布器３０のスリットノズル３２が形成される基板対向面３１にシール壁８の舌片部８２が当接する。そして、さらに塗布器３０が下降すると、舌片部８２に復元力が作用して舌片部８２が基板対向面３１と密着することにより、洗浄槽本体５１の幅方向両端が密閉される。すなわち、洗浄槽本体５１内の洗浄液に超音波振動を付与させると、洗浄槽本体５１内の洗浄液が大きく波打ち、液跳ねが頻繁に生じるが、シール壁８の舌片部８２によりシールされることにより、洗浄槽５０の外側に洗浄液が飛散するのを防止することができる。

このように、上記実施形態における塗布器洗浄装置５及び塗布装置１によれば、長手方向両端部よりも中央部分で多く供給されるため、中央部分からオーバーフロー部５２に向かって流れる。すなわち、超音波振動等により温度が上昇した洗浄液は、中央部分から両端部のオーバーフロー部５２に流れるため、オーバーフロー部５２付近の温度が上昇するが、洗浄液供給部７から新たな洗浄液（温度上昇前の洗浄液）が供給されることに加え、従来のように長手方向一端部から洗浄液を供給し、他端部からオーバーフローさせる場合に比べて、洗浄液が流れる距離を短くすることができるため、従来に比べて長手方向における温度差を抑えることができる。したがって、超音波洗浄による洗浄液の温度上昇に伴う長手方向の温度差からスリットノズル３２の開口状態が長手方向に不均一になって塗布膜の品質が低下するのを抑えることができる。

また、上記実施形態では、洗浄液供給配管７０が１本の場合に説明したが、２本以上配置する構成であってもよい。この場合であっても、洗浄液供給孔７１の開口方向は、裏面に振動子６が配置される洗浄槽５０の底面に向かう方向に開口されていることが好ましい。

また、上記実施形態では、洗浄槽本体５１内に位置する洗浄液供給配管７０の中央部分で密、長手方向両端部で疎となるように配置する例について説明したが、中央部分の洗浄液供給孔７１の径を両端部の径よりも大きくすることにより、中央部分における洗浄液の供給量を両端部よりも多くする構成であってもよい。

また、上記実施形態では、スリットノズル３２に付着した異物等を洗浄する例について説明したが、洗浄液をスリットノズル３２から吸引させて塗布器３０内部を洗浄する構成にしてもよい。

１塗布装置
３塗布ユニット
５塗布器洗浄装置
７塗布液供給部
１０基板
２１ステージ
３０塗布器
３２スリットノズル
５０洗浄槽
５１洗浄槽本体
５２オーバーフロー部
５３オーバーフロー槽
５４切欠部
７０塗布液供給配管
７１塗布液供給孔

Claims

基板上を走査しつつ、基板対向面に形成された一方向に延びるスリットノズルから塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布器を洗浄する塗布器洗浄装置であって、
前記塗布器のスリットノズルを浸漬可能に一方向に延びる形状の洗浄槽と、
前記洗浄槽に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記洗浄槽内の洗浄液に振動波を付与する振動子と、
を備え、
前記洗浄液供給部は、洗浄槽内への洗浄液を長手方向に亘って供給するとともに、洗浄液の供給量が前記洗浄槽の長手方向両端部よりも中央部分が多くなるように設定されており、前記洗浄槽は、長手方向両端部に洗浄液を排出させるオーバーフロー部を有しており、前記洗浄槽に前記スリットノズルを浸漬させた状態で、前記洗浄槽内の洗浄液の流れが長手方向中央部分からオーバーフロー部に向かって流れるように形成されており、前記洗浄槽内で洗浄液を長手方向一方端から供給し他方端から排出させる場合に比べて、前記スリットノズルに対して洗浄液が流れる距離を小さくすることを特徴とする塗布器洗浄装置。
前記洗浄液供給部は、前記洗浄槽の長手方向に沿って配置される洗浄液供給配管を有しており、この洗浄液供給配管には、洗浄液を吐出する複数の洗浄液供給孔が形成されており、前記洗浄液供給孔は、前記洗浄槽の長手方向両端部で疎、中央部分で密に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布器洗浄装置。
前記洗浄槽の底面には、長手方向に亘って前記振動子が配置されており、前記洗浄液供給孔は、前記振動子に向かって洗浄液が吐出される向きに開口していることを特徴とする請求項２に記載の塗布器洗浄装置。
前記洗浄槽のオーバーフロー部は、洗浄槽の長手方向両端部における側壁が他の側壁よりも高さ方向に低くなる切欠部を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布器洗浄装置。
前記洗浄槽には、長手方向に沿って前記基板対向面と接することにより、洗浄槽の洗浄液が飛散するのを防止するシール壁が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の塗布器洗浄装置。
前記請求項１〜５のいずれかに記載された塗布器洗浄装置を備え、
基板を載置するステージと、ステージ上の基板にスリットノズルから塗布液を吐出する塗布器と、を有し、ステージ上に載置された基板と前記塗布器とを相対的に移動させつつ、前記塗布器から塗布液を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成する塗布装置。