TW201722569A - 塗布器洗淨裝置以及塗布裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種可抑制由洗淨液之溫度上升帶來之溫度差而使塗佈器產生由熱變形引起之應變的塗布器洗淨裝置以及塗布裝置。本發明之塗布器洗淨裝置係對自於一方向延伸之狹縫噴嘴噴出塗布液而於基板上形成塗布膜之塗布器進行洗淨者,其構成為,具備能夠浸漬塗布器之狹縫噴嘴之於一方向延伸之形狀之洗淨槽、對洗淨槽供給洗淨液之洗淨液供給部、及對洗淨槽內之洗淨液賦予振動波之振子,且洗淨液供給部以如下方式設定,即,遍及長度方向而向洗淨槽內供給洗淨液,並且洗淨液之供給量於洗淨槽之中央部分多於長度方向兩端部,洗淨槽於長度方向兩端部具有使洗淨液排出之溢流部,且在使上述狹縫噴嘴浸漬於洗淨槽中之狀態下,洗淨槽內之洗淨液之流動係自長度方向中央部分向溢流部流動。
Description
本發明係關於一種用以對噴出塗布液之塗布器進行洗淨之塗布器洗淨裝置、以及具備該塗布器洗淨裝置之塗布裝置。
對於液晶顯示器或電漿顯示器等平板顯示器,使用於玻璃等基板上塗布有抗蝕液等塗布液者(稱為塗布基板)。該塗布基板係藉由將塗布液均勻地塗布之塗布裝置而形成。塗布裝置具有載置基板之載置台、及對所載置之基板噴出塗布液之塗布單元,一面使塗布液自塗布單元之塗布器噴出,一面使基板與塗布器相對移動,藉此於基板上形成塗布膜。於該塗布器上,在與基板對向之基板對向面形成有狹縫噴嘴,可遍及狹縫噴嘴之長度方向而均勻地噴出塗布液。然而,在塗布液完全乾燥之乾燥殘留液或異物(合稱為異物等)附著於狹縫噴嘴之狀態下,由該異物等而導致塗布液之噴出狀態不均勻化,由此成為於塗布膜上形成線條不均等乾燥不均之原因。因此,為保持塗布膜之均勻性,此種噴嘴部可藉由塗布器洗淨裝置而定期地洗淨(例如參照專利文獻1)。如圖4所示,該塗布器106洗淨裝置具有積存有機溶劑洗淨液之於一方向延伸之形狀之洗淨槽100、對洗淨槽100供給洗淨液之洗淨液供給部101、及對洗淨槽100內之洗淨液賦予超音波振動之振子102,在使狹縫噴嘴103浸漬於洗淨槽100之狀態下賦予超音波振動,藉此可將附著於狹縫噴嘴103上之異物等去除。而且,於洗淨槽100上,在與洗淨液供給部101於長度方向相反之側設置有溢流部104,使由異物等之去除而污染之洗淨液流向溢流槽105並循環,且使潔淨之洗淨液自洗淨液供給部101不斷地流出,從而可維持一定之洗淨效果。而且,根據情形,藉由使洗淨液自狹縫噴嘴103進入且於塗布器106內循環亦可進行塗布器106內之洗淨。藉此,塗布器106之洗淨作業可不依賴於人工作業而自動地進行。[先前技術文獻][專利文獻][專利文獻1]日本專利特開2004-314048號公報
[發明所欲解決之問題]然而,於先前之塗布器洗淨裝置中存在以下問題,即,由洗淨液中產生之熱而導致塗布器106熱變形,從而對塗布膜之品質造成影響。即,由於對洗淨槽100之洗淨液賦予超音波振動,故自洗淨液供給部101供給之洗淨液之溫度上升。而且,自洗淨液供給部101供給之洗淨液沿長度方向流向溢流槽105,故洗淨槽100內之洗淨液一面流向溢流槽105側一面逐漸地溫度上升,從而溫度更高之洗淨液集中於溢流槽105附近。即,洗淨槽100內之洗淨液形成自洗淨液供給部101向溢流槽105而溫度上升之溫度分佈。若洗淨液形成溫度分佈,則浸漬於洗淨液中之塗布器106由遍及長度方向產生溫度差而使狹縫噴嘴103之開口狀態(開口寬度)於長度方向上變得不均勻。因此,存在以下問題,即,狹縫噴嘴103之噴出狀態變得不穩定,從而對形成於基板上之塗布膜之品質造成影響。本發明係鑒於上述問題點而完成者,其目的在於提供一種可抑制由洗淨液之溫度上升帶來之溫度差而使塗布器產生由熱變形引起之應變的塗布器洗淨裝置及塗布裝置。[解決問題之技術手段]為解決上述課題,本發明之塗布器洗淨裝置之特徵在於,其係對一面於基板上掃描、一面自形成於基板對向面之於一方向延伸之狹縫噴嘴噴出塗布液而於基板上形成塗布膜之塗布器進行洗淨者,且具備:洗淨槽,其具有能夠浸漬上述塗布器之狹縫噴嘴之於一方向延伸之形狀;洗淨液供給部,其對上述洗淨槽供給洗淨液;及振子,其對上述洗淨槽內之洗淨液賦予振動波;且上述洗淨液供給部遍及長度方向而向洗淨槽內供給洗淨液,並且將洗淨液之供給量設定為於上述洗淨槽之中央部分多於長度方向兩端部,上述洗淨槽於長度方向兩端部具有使洗淨液排出之溢流部,於使上述上述狹縫噴嘴浸漬於洗淨槽中之狀態下,上述洗淨槽內之洗淨液之流動形成為自長度方向中央部分向溢流部流動。根據本發明,自洗淨液供給部供給之洗淨液對中央部分較長度方向兩端部更多地供給,故自中央部分向溢流部流動。即,藉由自振子產生之振動波(超音波振動等)而溫度上升之洗淨液自中央部分流向兩端部之溢流部,故溢流部附近之溫度上升,但除可自洗淨液供給部供給新的洗淨液(溫度上升前之洗淨液)之外,與如先前般自長度方向一端部供給洗淨液、且自另一端部溢流之情形相比,還可使洗淨液流動之距離縮短。因此,與先前相比可抑制長度方向之溫度差,故可抑制由基於超音波洗淨之洗淨液之溫度上升帶來之長度方向之溫度差而使狹縫噴嘴之開口狀態於長度方向變得不均勻從而導致塗布膜的品質下降。又,亦可設為如下構成,即,上述洗淨液供給部具有沿上述洗淨槽之長度方向配置之洗淨液供給配管,於該洗淨液供給配管上,形成有噴出洗淨液之複數個洗淨液供給孔,上述洗淨液供給孔於上述洗淨槽之長度方向兩端部稀疏地配置,且於中央部分密集地配置。根據該構成,洗淨液之供給量於洗淨槽之中央部分多於長度方向兩端部,可使洗淨槽內之洗淨液之流動容易地形成為自長度方向中央部分向溢流部流動。又,亦可設為如下構成,即,於上述洗淨槽之底面,遍及長度方向而配置有上述振子,上述洗淨液供給孔係以向上述振子噴出洗淨液之朝向開口。根據該構成,振子上之洗淨槽產生對流,故藉由自振子賦予之振動而溫度上升之洗淨液因對流而受到攪拌,從而可抑制洗淨槽內局部之溫度上升。又,亦可設為如下構成,即,上述洗淨槽之溢流部具有於高度方向上洗淨槽之長度方向兩端部之側壁較其他側壁低之切口部。根據該構成,若洗淨液之液面較切口部高,則洗淨槽之洗淨液會排出,故可以簡單之構成而形成溢流部。又,亦可設為如下構成,即,於上述洗淨槽上設置有密封壁,其藉由沿長度方向與上述基板對向面相接而防止洗淨槽之洗淨液飛散。根據該構成,可防止由振子對洗淨液賦予振動之情形時產生之洗淨液之飛散。又,為解決上述課題,本發明之塗布裝置之特徵在於,具備上述塗布器洗淨裝置,且具有載置基板之載置台、及自狹縫噴嘴對載置台上之基板噴出塗布液之塗布器,一面使載置於載置台上之基板與上述塗布器相對地移動,一面自上述塗布器噴出塗布液,藉此於基板上形成塗布膜。根據本發明,即便利用塗布器洗淨裝置洗淨塗布器,亦可抑制由洗淨液之溫度上升帶來之狹縫噴嘴之開口狀態於長度方向變得不均勻,從而可使塗布膜之品質穩定。[發明之效果]根據本發明,可抑制由洗淨液之溫度上升帶來之溫度差而使塗布器產生由熱變形引起之應變。
以下,基於圖式來說明本發明之實施形態。使用圖式對本發明之實施形態進行說明。圖1係概略地表示本發明之塗布裝置之圖,圖2係概略地表示塗布裝置所具備之塗布器30洗淨裝置之圖,圖3係自長度方向觀察塗布器30洗淨裝置之圖。如圖1~圖3所示,塗布裝置1係於基板10上形成藥液或抗蝕液等液狀物(以下稱為塗布液)之塗布膜者,其具備用以載置基板10之載置台21、及構成能相對於該載置台21朝特定方向移動之塗布單元3。再者,於以下之說明中,將塗布單元3移動之方向設為X軸方向,將與此方向於水平面上正交之方向設為Y軸方向,且將與X軸及Y軸方向之兩者正交之方向設為Z軸方向而開展說明。載置台21係載置藉由機器手等搬入之基板10者。於該載置台21上設置有基板保持設備,藉由該基板保持設備而保持基板10。具體而言,形成有於載置台21之表面所形成之複數個抽吸孔,藉由使該抽吸孔產生抽吸力而可將基板10吸附並保持於載置台21之表面。又,塗布單元3係對基板10上噴出塗布液而形成塗布膜者。如圖1、圖2所示,該塗布單元3具有噴出塗布液之塗布器30、及保持該塗布器30之支架(gantry)部35,且能夠沿X軸方向移動地形成。具體而言,於載置台21之Y軸方向端部,設置有沿X軸方向延伸之導軌,支架部35滑動自如地安裝於該導軌。而且,於腳部35a安裝有線性馬達,藉由對該線性馬達驅動控制而可使塗布單元3沿X軸方向移動,且可於任意之位置停止。本實施形態中,設為可移動至載置台21、及設置於載置台21之外側之塗布器洗淨裝置5。又,於支架部35設置有使塗布器30升降之升降機構。具體而言,藉由使升降機構作動而可使塗布器30相對於基板10相接/分離。藉此,於塗布動作中,塗布器30可位於相對於載置台21上之基板10適切之高度位置,並且於洗淨塗布器30之情形時,可適當調節為相對於塗布器洗淨裝置5適切之高度位置。又,塗布器30係噴出塗布液而於基板10上形成塗布膜者。該塗布器30係具有於一方向延伸之形狀之柱狀構件,且以與塗布單元3之移行方向大致正交之方式而設置。於該塗布器30上,在與基板10對向之基板對向面31上形成有於長度方向延伸之狹縫噴嘴32,供給至塗布器30之塗布液自狹縫噴嘴32遍及長度方向而均勻地噴出。因此,藉由在自狹縫噴嘴32噴出塗布液之狀態下使塗布單元3沿X軸方向移行,而遍及狹縫噴嘴32之長度方向於基板10上形成一定厚度之塗布膜。又,塗布裝置1具備用以洗淨塗布器30之塗布器洗淨裝置5。該塗布器洗淨裝置5係設置於載置台21之X軸方向端部側,且藉由使塗布器30浸漬於洗淨液中而將附著於狹縫噴嘴32上之塗布液即乾燥殘留液或異物(合稱為異物等)去除者。該塗布器洗淨裝置5具有於一方向延伸之形狀之洗淨槽50、對該洗淨槽50供給洗淨液之洗淨液供給部、及對洗淨槽50內之洗淨液賦予振動之振子6。洗淨槽50係積存有一定量之洗淨液之液體收容器,其具有可浸漬狹縫噴嘴32之洗淨槽本體51、及於該洗淨槽本體51之長度方向兩端部所具備之溢流部52。該洗淨槽本體51係於底面部51a以包圍底面部51a之方式設置有於與其正交之鉛垂方向延伸之側壁51b,且可在不超出側壁51b之高度之範圍積存洗淨液。該洗淨槽本體51具有於一方向延伸之形狀,且形成為長度方向尺寸大於狹縫噴嘴32之長度方向尺寸。而且,洗淨槽50係以使洗淨槽本體51之長度方向與Y軸方向一致之方式而配置。因此,若使塗布單元3於塗布器洗淨裝置5之位置停止且使塗布器30下降,則可將塗布器30之一部分收容於洗淨槽本體51中,且可使狹縫噴嘴32浸漬於洗淨槽本體51之洗淨液中。又,於洗淨槽本體51之底面部51a設置有振子6(超音波振子)。具體而言,於洗淨槽本體51之底面部51a之下側,於寬度方向(X軸方向)中央位置上沿長度方向排列有複數個振子6,且以使振子6之振動面與底面部51a之下表面對向之方式設置。因此,若使振子6作動,則對洗淨槽本體51內之洗淨液遍及長度方向而賦予超音波振動。藉此,可對浸漬於洗淨槽本體51中之狹縫噴嘴32進行超音波洗淨。又,於洗淨槽本體51之長度方向兩端部設置有溢流部52。該溢流部52係使洗淨槽本體51內之洗淨液排出之部分,且藉由設置於洗淨槽本體51之長度方向兩端部之溢流槽53、及形成於洗淨槽本體51之長度方向兩端部之側壁51b上之切口部54而形成。溢流槽53於洗淨槽本體51之長度方向之兩端部以隔著側壁51b且相鄰之方式而設置,且可收容自洗淨槽50溢出之洗淨液。而且,於溢流槽53之底面部51a上設置有廢液口55,可將向溢流槽53溢流之洗淨液排出。又,於洗淨槽本體51之長度方向兩端部之側壁51b上形成有切口部54。具體而言,如圖3所示,長度方向兩端部之側壁51b上,形成有切開至較側壁51b之上端部低之位置之切口部54,可使洗淨槽本體51內之洗淨液優先溢出。即,若對洗淨槽本體51供給洗淨液則洗淨液之液面逐漸上升,但洗淨液之液面到達各側壁51b之上端部之前會到達切口部54,藉此可通過切口部54溢出而將洗淨液排出至溢流槽53。藉此,可於洗淨槽本體51內形成朝向溢流部52(於本實施形態中為切口部54)之液流。再者,自廢液口55排出之洗淨液於本實施形態中被廢棄,但亦可淨化後再利用,且可設為使再利用之洗淨液以再次供給至洗淨槽本體51之方式而循環之構成。又,洗淨液供給部7係對洗淨槽本體51供給洗淨液者,於本實施形態中,於洗淨液供給配管70上開口形成有洗淨液供給孔71。洗淨液供給配管70為直線形狀之管,其以貫通於溢流槽53及洗淨槽本體51之方式而設置。而且,就寬度方向(X軸方向)而言,如圖3所示,配置於偏離洗淨槽50之寬度方向中央位置之位置,且較寬度方向中央位置更靠近左側之側壁51b而配置。於該洗淨液供給配管70上,形成有噴出洗淨液之洗淨液供給孔71。具體而言,該洗淨液供給孔71係貫通洗淨液供給配管70之表面之貫通孔,且複數個洗淨液供給孔71在洗淨液供給配管70之位於洗淨槽本體51內之部分遍及長度方向排成一排而形成。藉此,洗淨液供給配管70內之洗淨液通過該等洗淨液供給孔71而供給至洗淨槽本體51內。又,該等洗淨液供給孔71以密集地配置於長度方向中央部分、且於長度方向兩端部變得稀疏之方式而配置。因此,若對洗淨液供給配管70供給洗淨液,則自各個洗淨液供給孔71噴出洗淨液,但以使長度方向中央部分之洗淨液之噴出量多於長度方向兩端部分之方式而供給。藉此,洗淨槽本體51內之洗淨液之流動形成為自長度方向中央部分向溢流部52流動。即,洗淨槽本體51內之洗淨液流向溢流槽53,但由於對長度方向中央部分供給更大量之洗淨液,故洗淨槽本體51內之洗淨液欲自長度方向中央部分流向位於長度方向兩端部之溢流槽53之傾向變強。藉此,洗淨槽本體51內之洗淨液自長度方向中央部分流向任一個溢流槽53,由此可使洗淨液於洗淨槽本體51內流動之距離小於如先前般使洗淨液自長度方向一端供給且自另一端排出之情形,從而可抑制局部之溫度上升。即,洗淨槽本體51內之洗淨液藉由來自振子6之超音波振動而溫度上升。該洗淨液流向溢流槽53,故於溢流部52中溫度上升之洗淨液集中,形成朝洗淨液流動之方向而溫度上升之溫度分佈。且說,於本實施形態中,可使洗淨液於洗淨槽本體51中流動之距離減小,故與使洗淨液自長度方向一端供給且自另一端排出之情形相比,可抑制長度方向上之溫度上升。因此,可使朝洗淨液流動之方向上升之溫度變化減小,從而可減小洗淨槽本體51內局部之溫度差之形成。又,洗淨液供給孔71係以可向振子6噴出洗淨液之朝向開口而形成。具體而言,洗淨液供給配管70位於自寬度方向中央位置偏離之位置,故洗淨液供給孔71於寬度方向中央位置側、且於下方開口而形成。即,洗淨液供給孔71係以向洗淨槽本體51之底面部51a之朝向開口而形成。又,於底面部51a,藉由自配置於背面之振子6賦予之振動波而形成自底面部51a上升之對流(圖3之箭頭)。因此,自洗淨液供給孔71噴出之洗淨液藉由超音波振動而溫度上升,但藉由自底面部51a上升之對流而受到攪拌,故可抑制洗淨槽50內之深淺方向上局部之溫度上升。即,洗淨槽50內之洗淨液因受到攪拌而可抑制局部之溫度上升,因此整體之溫度分佈更加均勻化。而且,藉由形成洗淨液自長度方向中央部分流向任一個溢流槽53之液流,而可使洗淨液於洗淨槽本體51內流動之距離減小,從而可抑制長度方向上局部之溫度上升。藉由該等協同效應而可減小洗淨槽本體51內局部之溫度差之形成,從而可儘可能地減小對洗淨中之狹縫噴嘴32賦予之熱之影響。又,於洗淨槽50中,設置有防止洗淨液飛散之密封壁8。該密封壁8沿洗淨槽50之側壁51b而設置,且具有安裝於側壁51b上之基底部81、及自該基底部81向斜上方突出之舌片部82。基底部81安裝於側壁51b之上端部分,且夾持側壁51b之上端部而固定。又,舌片部82係由橡膠構件形成,其剖面為環狀且於長度方向延伸而形成。即,形成為與洗淨槽50之側壁51b之長度方向尺寸相同之長度。而且,形成為在將基底部81安裝於側壁51b之狀態下可維持向洗淨槽50之內側上方突出之姿勢。即,若自上方按壓舌片部82,則欲返回至原先之姿勢之回復力發揮作用,藉此可密接於抵接之構件。因此,於塗布器30位於洗淨槽50之上方之後,若塗布器30下降,則密封壁8之舌片部82抵接於塗布器30之形成有狹縫噴嘴32之基板對向面31。而且,若塗布器30進一步下降,則回復力作用於舌片部82而使舌片部82與基板對向面31密接,藉此洗淨槽本體51之寬度方向兩端密閉。即,若對洗淨槽本體51內之洗淨液賦予超音波振動,則洗淨槽本體51內之洗淨液產生較大之表面波紋,且頻繁地產生液體飛濺,但藉由以密封壁8之舌片部82進行密封而可防止洗淨液飛散至洗淨槽50之外側。如此,根據上述實施形態之塗布器洗淨裝置5及塗布裝置1,中央部分較長度方向兩端部被更多地供給洗淨液,故洗淨液自中央部分向溢流部52流動。即,因超音波振動等而溫度上升之洗淨液自中央部分流向兩端部之溢流部52,故溢流部52附近之溫度上升,但除可自洗淨液供給部7供給新的洗淨液(溫度上升前之洗淨液)之外,與如先前般自長度方向一端部供給洗淨液、且自另一端部溢流之情形相比,可使洗淨液流動之距離縮短,故與先前相比可抑制長度方向之溫度差。因此,可抑制由基於超音波洗淨之洗淨液之溫度上升帶來之長度方向之溫度差而使狹縫噴嘴32之開口狀態於長度方向變得不均勻從而導致塗布膜的品質下降。又,於上述實施形態中,對洗淨液供給配管70為1根之情形進行了說明,但亦可為配置2根以上之構成。於該情形時,洗淨液供給孔71之開口方向較佳亦為在朝向於背面配置有振子6之洗淨槽50之底面之方向上開口。又,於上述實施形態中,對以使位於洗淨槽本體51內之洗淨液供給配管70之中央部分密集、且長度方向兩端部稀疏之方式而配置洗淨液供給孔71之例進行了說明,但亦可為如下構成,即,藉由使中央部分之洗淨液供給孔71之直徑大於兩端部之直徑,而使中央部分之洗淨液之供給量多於兩端部。又,於上述實施形態中,對洗淨附著於狹縫噴嘴32上之異物等之例進行了說明,但亦可為自狹縫噴嘴32抽吸洗淨液而對塗布器30內部進行洗淨之構成。
1‧‧‧塗布裝置
3‧‧‧塗布單元
5‧‧‧塗布器洗淨裝置
6‧‧‧振子
7‧‧‧塗布液供給部
8‧‧‧密封壁
10‧‧‧基板
21‧‧‧載置台
30‧‧‧塗布器
31‧‧‧基板對向面
32‧‧‧狹縫噴嘴
35‧‧‧支架部
35a‧‧‧腳部
50‧‧‧洗淨槽
51‧‧‧洗淨槽本體
51a‧‧‧底面部
51b‧‧‧側壁
52‧‧‧溢流部
53‧‧‧溢流槽
54‧‧‧切口部
55‧‧‧廢液口
70‧‧‧塗布液供給配管
71‧‧‧塗布液供給孔
81‧‧‧基底部
82‧‧‧舌片部
100‧‧‧洗淨槽
101‧‧‧洗淨液供給部
102‧‧‧振子
103‧‧‧狹縫噴嘴
104‧‧‧溢流部
105‧‧‧溢流槽
106‧‧‧塗布器
3‧‧‧塗布單元
5‧‧‧塗布器洗淨裝置
6‧‧‧振子
7‧‧‧塗布液供給部
8‧‧‧密封壁
10‧‧‧基板
21‧‧‧載置台
30‧‧‧塗布器
31‧‧‧基板對向面
32‧‧‧狹縫噴嘴
35‧‧‧支架部
35a‧‧‧腳部
50‧‧‧洗淨槽
51‧‧‧洗淨槽本體
51a‧‧‧底面部
51b‧‧‧側壁
52‧‧‧溢流部
53‧‧‧溢流槽
54‧‧‧切口部
55‧‧‧廢液口
70‧‧‧塗布液供給配管
71‧‧‧塗布液供給孔
81‧‧‧基底部
82‧‧‧舌片部
100‧‧‧洗淨槽
101‧‧‧洗淨液供給部
102‧‧‧振子
103‧‧‧狹縫噴嘴
104‧‧‧溢流部
105‧‧‧溢流槽
106‧‧‧塗布器
圖1係概略地表示本發明之塗布裝置之圖。圖2係概略地表示本發明之塗布器洗淨裝置之圖。圖3係自長度方向觀察本發明之塗布器洗淨裝置之圖。圖4係表示先前之塗布器洗淨裝置之圖。
6‧‧‧振子
7‧‧‧塗布液供給部
30‧‧‧塗布器
31‧‧‧基板對向面
32‧‧‧狹縫噴嘴
50‧‧‧洗淨槽
51‧‧‧洗淨槽本體
51a‧‧‧底面部
51b‧‧‧側壁
52‧‧‧溢流部
53‧‧‧溢流槽
55‧‧‧廢液口
71‧‧‧塗布液供給孔
Claims (6)
- 一種塗布器洗淨裝置,其特徵在於,其係對一面於基板上掃描、一面自形成於基板對向面之於一方向延伸之狹縫噴嘴噴出塗布液而於基板上形成塗布膜之塗布器進行洗淨者,且具備:洗淨槽,其具有能夠浸漬上述塗布器之狹縫噴嘴之於一方向延伸之形狀;洗淨液供給部,其對上述洗淨槽供給洗淨液;及振子,其對上述洗淨槽內之洗淨液賦予振動波;且上述洗淨液供給部遍及長度方向而向洗淨槽內供給洗淨液,並且將洗淨液之供給量設定為於上述洗淨槽之中央部分多於長度方向兩端部,上述洗淨槽於長度方向兩端部具有使洗淨液排出之溢流部,於使上述狹縫噴嘴浸漬於上述洗淨槽中之狀態下,上述洗淨槽內之洗淨液之流動形成為自長度方向中央部分向溢流部流動。
- 如請求項1之塗布器洗淨裝置,其中上述洗淨液供給部具有沿上述洗淨槽之長度方向配置之洗淨液供給配管,且於該洗淨液供給配管上,形成有噴出洗淨液之複數個洗淨液供給孔,上述洗淨液供給孔於上述洗淨槽之長度方向兩端部稀疏地配置,且於中央部分密集地配置。
- 如請求項1或2之塗布器洗淨裝置,其中於上述洗淨槽之底面,遍及長度方向而配置有上述振子,上述洗淨液供給孔係以向上述振子噴出洗淨液之朝向開口。
- 如請求項1至3中任一項之塗布器洗淨裝置,其中上述洗淨槽之溢流部具有於高度方向上洗淨槽之長度方向兩端部之側壁較其他側壁低之切口部。
- 如請求項1至4中任一項之塗布器洗淨裝置,其中於上述洗淨槽上設置有密封壁,該密封壁藉由沿長度方向與上述基板對向面相接而防止洗淨槽之洗淨液飛散。
- 一種塗布裝置,其具備如上述請求項1至5中任一項之塗布器洗淨裝置,且具有載置基板之載置台、及自狹縫噴嘴對載置台上之基板噴出塗布液之塗布器,一面使載置於載置台上之基板與上述塗布器相對地移動,一面自上述塗布器噴出塗布液,藉此於基板上形成塗布膜。
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KR102322678B1 (ko) * | 2019-12-12 | 2021-11-05 | 세메스 주식회사 | 노즐 건조 방지 장치 |
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DE19655219C2 (de) * | 1996-04-24 | 2003-11-06 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung zum Behandeln von Substraten in einem Fluid-Behälter |
US20030064579A1 (en) * | 2001-09-27 | 2003-04-03 | Masafumi Miyakawa | Surface protecting adhesive film for semiconductor wafer and protecting method for semiconductor wafer using said adhesive film |
US7077916B2 (en) * | 2002-03-11 | 2006-07-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Substrate cleaning method and cleaning apparatus |
JP2004314048A (ja) | 2003-01-15 | 2004-11-11 | Toray Ind Inc | 循環式口金洗浄装置および洗浄方法 |
KR100926308B1 (ko) * | 2003-04-23 | 2009-11-12 | 삼성전자주식회사 | 세정 유닛, 이를 갖는 코팅 장치 및 방법 |
JP4202934B2 (ja) * | 2004-01-23 | 2008-12-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置 |
TWI289477B (en) * | 2004-04-23 | 2007-11-11 | Innolux Display Corp | Apparatus for coating |
JP4830329B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-12-07 | 凸版印刷株式会社 | スリットノズルの洗浄方法、及びスリットコータ |
JP4841280B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2011-12-21 | 東京応化工業株式会社 | スリットノズル洗浄方法 |
JP2009039604A (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Fujitsu Ltd | 洗浄装置、洗浄槽、洗浄方法および洗浄制御プログラム |
JP5156488B2 (ja) * | 2007-08-21 | 2013-03-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
CN101121170A (zh) * | 2007-09-10 | 2008-02-13 | 张家港市超声电气有限公司 | 超声波清洗槽及其加工方法 |
JP2009166014A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Hitachi High-Technologies Corp | ヘッドクリーニング装置、フラットパネルディスプレイの製造装置、フラットパネルディスプレイ、太陽電池の製造装置、太陽電池及びヘッドクリーニング方法 |
US20110027478A1 (en) * | 2008-03-31 | 2011-02-03 | Showa Denko K.K. | Double-side coating apparatus, method for coating double sides with coating solution, edge rinsing apparatus, and edge rinsing method |
CN101574686B (zh) * | 2009-05-20 | 2011-01-05 | 浙江明泉工业涂装有限公司 | 工业自动化涂装生产线 |
JP2011072857A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 液滴ジェット装置 |
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JP5258811B2 (ja) * | 2010-02-17 | 2013-08-07 | 東京エレクトロン株式会社 | スリットノズル洗浄装置及び塗布装置 |
CN101829643B (zh) * | 2010-04-12 | 2011-12-07 | 中扩实业集团有限公司 | 一种自动喷涂设备 |
JP4934739B2 (ja) * | 2010-06-07 | 2012-05-16 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 |
JP5819123B2 (ja) * | 2011-07-12 | 2015-11-18 | 東レ株式会社 | 口金洗浄方法 |
JP2013071033A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置 |
JP5701822B2 (ja) * | 2012-06-20 | 2015-04-15 | 東レエンジニアリング株式会社 | 洗浄装置および洗浄方法 |
CN103294309B (zh) * | 2013-05-09 | 2017-09-26 | 晟光科技股份有限公司 | 一种ogs触摸屏黑色边框的制作方法 |
CN103331276B (zh) * | 2013-07-12 | 2016-05-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机 |
CN103533767B (zh) * | 2013-10-23 | 2016-08-17 | 国电南瑞三能电力仪表(南京)有限公司 | 一种利用超声波进行电路板三防处理的方法 |
CN103551336A (zh) * | 2013-11-12 | 2014-02-05 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种清洗装置以及清洗方法 |
CN204564659U (zh) * | 2015-03-28 | 2015-08-19 | 合肥汇通控股股份有限公司 | 喷涂预处理超声波清洗槽 |
CN105045003A (zh) * | 2015-09-18 | 2015-11-11 | 南京华日触控显示科技有限公司 | 内置触控功能的被动式液晶显示屏及制作方法 |
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