KR101000299B1 - 기판 코팅 장치 - Google Patents

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KR101000299B1
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김병재
함승원
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세메스 주식회사
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Abstract

기판 코팅 장치는 기판이 놓여지는 테이블과, 테이블의 상부에서 수평 방향으로 이동 가능하며 테이블 상에 놓여진 기판 상에 코팅막을 형성하기 위하여 수평 방향으로 이동하면서 기판 상에 코팅 물질을 제공하는 코팅 유닛, 그리고 코팅막의 에지 비드(edge bead)를 형성하기 위하여 테이블 상에 지지된 기판의 일측에 인접하도록 배치되는 비드 형성용 블록을 포함한다. 따라서 코팅막의 에지 비드가 기판 외부에서 형성되므로 코팅막 불균일에 의한 기판 폐기 부분을 줄일 수 있다.

Description

기판 코팅 장치{Apparatus for coating a substrate}
본 발명은 기판 코팅 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비드 형성 방식으로 기판에 코팅액을 도포하기 위한 기판 코팅 장치에 관한 것이다.
일반적으로 정보 처리 기기에는 처리된 정보를 표시하기 위해 평판 표시 장치가 사용되고 있으며, 상기 평판 표시 장치의 예로는 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 표시 장치(PDP), 유기 발광 소자(OLED) 등을 들 수 있다.
상기 평판 표시 장치는 대면적의 유리 기판을 대상으로 상기 기판 상에 회로 패턴들을 형성하기 위한 다양한 단위 공정들을 반복적으로 수행하여 제조된다. 상기 제조 공정 중에는 포토리소그래피 공정이 있으며, 상기 포토리소그래피 공정은 기판 상에 증착된 막 상에 포토레지스트를 코팅한 후에 노광 공정, 현상 공정, 식각 공정을 진행하여 막을 소정 패턴으로 형성하는 공정이다.
상기 기판에 대한 포토레지스트 코팅은 슬롯 형태의 코팅 노즐을 이용할 수 있다. 예를 들어 상기 코팅 노즐을 기판의 일측 상부에 위치시킨 상태에서 포토레지스트를 공급하기 시작하여 기판의 타측으로 이동하며 기판 상에 포토레지스트를 제공하게 된다. 즉, 코팅 노즐은 포토레지스트 공급을 기판 상부의 일측에서 시작 하여 타측에서 완료한다.
하지만, 상기 코팅 노즐을 이용한 포토레지스트 도포 공정에서는 포토레지스트를 공급하기 시작하는 위치와 종료하는 위치에서 에지 비드(edge bead)가 형성된다. 즉, 코팅 공정의 시작 위치와 종료 위치인 기판 상부의 일측 및 타측에는 에지 비드가 형성되어 코팅 두께의 균일성이 저하되는 문제점을 갖는다. 이에, 에지 비드가 형성된 기판의 일측 및 타측 부위는 폐기처리 되고 있는 실정이다.
이에, 본 발명의 바람직한 실시예들을 통해 해결하고자 하는 일 과제는 코팅 노즐을 이용하여 기판 상에 코팅막을 형성할 때 기판 양측부에서 코팅막 두께의 균일성을 확보하여 기판의 양측부 폐기 부분을 줄일 수 있는 기판 코팅 장치를 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 기판 코팅 장치는 테이블, 코팅 유닛 및 비드 형성용 블록을 포함한다. 상기 테이블 상에는 기판이 놓여진다. 상기 코팅 유닛은 상기 테이블의 상부에서 수평 방향으로 이동 가능하며, 상기 테이블 상에 놓여진 기판 상에 코팅막을 형성하기 위하여 수평 방향으로 이동하면서 상기 기판 상에 코팅 물질을 제공한다. 상기 비드 형성용 블록은 상기 코팅막의 에지 비드(edge bead)를 형성하기 위하여 상기 테이블 상에 지지된 기판의 일측에 인접하도록 배치된다.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 비드 형성용 블록은 승강 가능하도록 구비될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에서 상기 비드 형성용 블록은 상승된 위치가 상기 테이블 상에 지지된 기판과 수평을 이루도록 배치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 비드 형성용 블록은 상승된 위치에서 그 측면이 상기 테이블 상에 지지된 기판의 측면과 접하도록 배치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 테이블은 상기 기판의 폭보다 작거나 같은 폭은 가질 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 테이블의 일측에 구비되고, 상기 비드 형성용 블록이 하강된 위치에서 상기 비드 형성용 블록을 세정하는 세정 유닛을 더 포함할 수 있다.
이 때, 상기 세정 유닛은 세정 공간을 제공하며, 하강된 상기 비드 형성용 블록이 침지되도록 세정액이 채워지는 세정 용기를 포함할 수 있다. 또한, 상기 세정 유닛은 상기 세정 용기 내의 세정액을 순환시키는 순환 유닛을 더 포함하며, 상기 순환 유닛은 상기 세정 용기로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부 및 상기 세정 용기로부터 세정액을 배출시키기 위한 배출부를 포함할 수 있다. 또한, 상기 세정 유닛은 상기 비드 형성용 블록이 침지된 세정액에 초음파 진동을 발생시키는 진동 유닛을 더 포함할 수 있다. 또한, 또 다른 실시예에서 상기 세정 유닛은 상기 세정 용기 상부에 구비되며, 상기 세정 용기에서 꺼내진 기판의 건조를 위해 상기 기판으로 건조 기체를 분사하는 건조 노즐을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 세정 유닛은 세정 공간을 제공하는 세정 용기 및 상기 세정 용기에 수용되는 상기 비드 형성용 블록 상부에 배치되고, 상기 비드 형성용 블록으로 세정액을 분사하는 세정 노즐을 포함할 수 있다.
여기서, 상기 세정 유닛은 상기 세정 용기로부터 상기 비드 형성용 블록의 세정에 사용된 세정액을 배출하기 위한 배출부를 더 포함할 수 있다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 코팅 장치는 기판에 코팅 물질을 코팅할 때 기판의 외부에서 코팅 물질의 제공을 시작하며, 이와 함께 기판의 외부에서 코팅 물질의 제공을 완료하므로 기판의 양측부에서 코팅막의 균일성을 확보할 수 있다. 따라서 코팅막 형성 이후에 코팅막의 불균일에 기인한 기판의 측면 폐기 부분을 줄일 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 코팅 장치에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코팅 장치를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2는 도 1의 기판 코팅 장치에 의한 기판 코팅 과정을 나타내는 도면이며, 도 3은 도 1에 도시된 세정 유닛에 의한 비드 형성용 블록의 세정 동작을 나타내는 도면이다.
도 1, 도 2 그리고 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코팅 장치(100)는 테이블(110), 코팅 유닛(120) 및 비드 형성용 블록(130)을 포함한다.
상기 기판 코팅 장치(100)는 기판(G) 상에 코팅 물질을 제공하여 코팅막을 형성하기 위하여 사용될 수 있다. 여기서, 상기 기판(G)은 유리 기판과 같은 평판 표시 장치를 제조하기 위한 기판(G)일 수 있고, 평판 표시 장치와 동종의 기술로서 실리콘웨이퍼와 같은 반도체 소자를 제조하기 위한 기판(G)일 수 있다. 또한, 상기 코팅 물질은 예를 들어 포토레지스트(photoresist)를 포함할 수 있다. 이와 달리 상기 코팅 물질은 평판 표시 장치의 제조 공정에서 기판 상에 코팅막을 형성하기 위하여 사용되는 다양한 종류의 물질일 수 있다.
상기 테이블(110)은 공정 스테이지로서 코팅 공정을 진행할 기판(G)이 놓여진다. 상기 테이블(110)은 상부에 놓여지는 기판(G)의 폭보다 작거나 같은 폭을 가질 수 있다. 이는 이하 설명하게 되는 비드 형성용 블록(130)의 배치 영역을 확보하기 위함이다. 또한, 상기 기판(G)은 코팅 공정이 진행되는 동안 움직이지 않고 고정될 필요가 있다. 이에, 상기 테이블(110)은 코팅 공정이 진행되는 동안 기판(G)을 고정할 수 있도록 진공 흡착을 위한 구성을 갖는다. 예를 들어, 상기 테이블(110) 내에는 외부의 진공 펌프(114)와 연결되어 진공이 부여되는 진공 라인(112)이 구비된다. 상기 진공 라인(112)은 선단에 테이블(110)의 상면에 위치하는 다수의 진공홀을 갖는다. 따라서, 상기 테이블(110)의 상면에 놓여지는 기판(G)은 진공 라인(112)에 의해 진공 흡착되어 고정된다.
상기 코팅 유닛(120)은 상기 테이블(110)의 상부에서 수평 방향으로 이동 가능하게 구비된다. 상기 코팅 유닛(120)은 상기 테이블(110) 상에 놓여진 기판(G) 상에 코팅막을 형성하는 역할을 한다. 즉, 상기 코팅 유닛(120)은 상기 기판(G) 상 에서 수평 방향으로 이동하면서 상기 기판(G) 상에 코팅 물질을 제공한다.
상기 코팅 유닛(120)은 코팅 물질을 공급하는 코팅 물질 공급원(122)과 상기 코팅 물질 공급원(122)으로부터 제공되는 코팅 물질을 직접 기판(G)에 제공하는 코팅 노즐(124)을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 코팅 물질은 예를 들어 포토레지스트일 수 있다. 상기 코팅 노즐(124)은 슬롯 구조를 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 코팅 노즐(124)은 기판(G)의 길이 방향으로 연장하는 슬롯(slot) 구조를 가질 수 있다.
한편, 도시하지는 않았지만 상기 코팅 유닛(120)은 상기 코팅 물질 공급원(122)과 상기 코팅 노즐(124) 사이에 구비되어 상기 코팅 물질 공급원(122)으로부터 상기 코팅 노즐(124)로 코팅 물질을 공급하기 위한 펌프를 포함할 수 있다. 또한, 상기 코팅 노즐(124)을 상기 테이블(110)의 상부에 수평 방향으로 이동시키기 위한 구동 유닛을 더 포함할 수 있다. 상기 코팅 노즐(124)을 수평 방향으로 이동시키는 구동 유닛은 공지된 다양한 기술이 적용될 수 있을 것이다.
상기 비드 형성용 블록(130)은 테이블(110)의 일측에 구비되며, 상기 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)의 일측에 인접하도록 배치된다. 상기 비드 형성용 블록(130)은 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)의 길이 방향으로 연장되는 구조를 갖는다. 상기 비드 형성용 블록(130)은 상기 기판(G)의 폭 방향의 단면이 사각 형상을 가질 수 있고, 또는 절곡 형상을 가질 수 있다. 즉, 상기 비드 형성용 블록(130)은 단면이 두 개의 바(bar) 형상 구조물이 서로 수직하게 선접하는 형상을 가질 수 있다. 상기 비드 형성용 블록(130)이 상기 절곡 형상을 가질 경우 상기 테 이블(110)의 폭이 상기 기판(G)보다 작은 경우에 유리하게 적용할 수 있다. 이와 달리, 상기 비드 형성용 블록(130)은 이하 설명하게 될 에지 비드 형성 기능을 수행할 수 있는 다양한 형상을 가질 수도 있다.
상기 비드 형성용 블록(130)은 상기 기판(G) 상에 코팅막을 형성할 때 코팅막의 에지 비드(edge bead)를 형성하기 위하여 구비된다. 즉, 상기 비드 형성용 블록(130)은 코팅 노즐(124)을 이용한 코팅막 형성 공정의 시작 위치를 제공하는 역할을 한다. 결과적으로 본 실시예에서 상기 코팅 노즐(124)이 상기 비드 형성용 블록(130) 상에서 코팅을 시작함으로써 상기 비드 형성용 블록(130) 상에 에지 비드를 형성한 후 기판(G)에 대한 코팅을 진행하므로 기판(G) 상에는 균일한 두께의 코팅막을 형성할 수 있게 된다.
특히, 상기 비드 형성용 블록(130)은 상기 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)과 수평을 이루도록 배치되며, 상기 비드 형성용 블록(130)의 측면이 상기 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)의 측면과 접하도록 배치되는 것이 바람직하다. 이는 상기 비드 형성용 블록(130)과 상기 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)이 단차 또는 이격구간을 갖는 경우 상기 코팅 노즐(124)이 단차 부위 또는 이격 구간을 이동할 때 코팅막 두께에 변화가 발생할 수 있기 때문이다. 즉, 상기 단차 또는 이격구간에 의해 상기 기판(G)의 측부에서 코팅막의 두께 균일성이 저하되므로 상기 비드 형성용 블록(130)은 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)과 수평을 이루도록 배치되며, 그 측면이 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)의 측면과 접하도록 배치되는 것이 바람직할 것이다.
일 실시예에서 상기 비드 형성용 블록(130)은 승강 가능하도록 구비될 수 있다. 이는 상기 비드 형성용 블록(130)을 필요에 따라서 기판(G)의 일측에 인접하도록 배치시키거나 그로부터 이탈시키기 위함이다. 예를 들어, 코팅막을 형성할 경우에 상기 비드 형성용 블록(130)을 상승시켜 기판(G)의 일측에 인접하도록 배치시킨 상태에서 코팅 공정을 진행하며, 코팅 공정이 완료되어 기판(G)을 이송할 경우에 원활한 이송을 위해 상기 비드 형성용 블록(130)을 하강시켜 기판(G)의 일측으로부터 이탈시킨다. 이 때, 상기 비드 형성용 블록(130)이 승강 가능한 구조를 가질 경우, 상기 비드 형성용 블록(130)은 상승된 위치가 상기 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)과 수평을 이루고, 그 측면이 상기 기판(G)의 측면과 접하도록 배치되는 것이 바람직하다. 이는 앞서 설명한 바 있는 이유와 동일하다. 도시하진 않았지만 상기 비드 형성용 블록(130)을 승강 시키기 위한 구동부(미도시)가 구비될 수 있으며, 실린더, 볼스크류, 리니어가드 구조 등 직선 운동을 실현할 수 있는 다양한 종류의 레귤레이터가 사용될 수 있다. 상기 비드 형성용 블록(130)을 승강시키기 위한 구성은 공지된 다양한 기술이 적용될 수 있으며, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
한편, 상기 비드 형성용 블록(130)이 상기 테이블(110)에 지지된 기판(G)의 일측에 구비된 것으로 설명하였다. 하지만, 상기 비드 형성용 블록(130)은 상기 테이블(110)에 지지된 기판(G)의 일측 반대편에 위치하는 기판(G)의 타측에 추가적으로 구비될 수 있다. 상기 기판(G)의 타측에 구비되는 상기 비드 형성용 블록(130)의 구성은 앞서 설명한 기판(G)의 일측에 구비되는 비드 형성용 블록(130)과 실질 적으로 동일한 구성을 갖는다. 상기 기판(G)의 타측에 구비되는 비드 형성용 블록(130)은 코팅 공정의 종료시점에 발생되는 에지 비드를 형성하기 위함이다. 즉, 코팅 공정의 종료 시점에 발생되는 에지 비드를 상기 비드 형성용 블록(130) 상에서 형성함으로써 기판(G) 상에 형성된 코팅막의 두께 균일성을 확보한다.
상기 기판 코팅 장치(100)에 의한 코팅 동작을 설명하면, 상기 테이블(110) 상에 지지된 기판(G)의 양측에 각각 구비되는 비드 형성용 블록(130)이 상승하여 상기 기판(G)과 수평을 이룬 상태에서 상기 코팅 노즐(124)이 기판(G) 일측에 배치된 비드 형성용 블록(130) 상에 위치한다. 상기 코팅 노즐(124)이 비드 형성용 블록(130) 상에서 코팅 물질을 제공하기 시작하여 에지 비드를 형성시킨 후 기판(G) 상으로 수평 이동한다. 따라서 기판(G)의 일측부에는 균일한 두께의 코팅막이 형성된다. 상기 코팅 노즐(124)을 코팅 물질을 계속해서 제공하면서 수평 이동하여 기판(G)의 타측에 배치되는 비드 형성용 블록(130) 상으로 이동한다. 따라서 기판(G) 타측에 배치된 비드 형성용 블록(130) 상에서 코팅 종료 시점에 발생되는 에지 비드가 형성되므로, 기판(G)의 타측부에는 균일한 두께의 코팅막이 형성될 수 있다. 결과적으로, 상기 비드 형성용 블록(130)에 의해 상기 기판(G) 상에는 균일한 두께를 갖는 코팅막을 형성할 수 있게 된다.
한편, 상기 비드 형성용 블록(130)의 사용이 반복되면 누적되는 에비 비드에 의해 기판(G)에 두께가 균일하지 못한 코팅막이 형성될 수 있다. 이를 개선하기 위하여 본 실시예에서는 상기 비드 형성용 블록(130)을 세정하기 위한 세정 유닛(140)을 구비한다.
도 3의 도시된 바와 같이 상기 세정 유닛(140)은 상기 비드 형성용 블록(140)이 하강된 위치에서 상기 비드 형성용 블록(130)에 대한 세정을 진행한다. 상기 세정 유닛(140)은 상기 비드 형성용 블록(130)을 대상으로 세정액을 이용한 세정 공정을 진행할 수 있다. 상기 세정액은 코팅 물질의 종류에 따라서 다양한 종류의 용액이 사용될 수 있다. 예를 들어 상기 세정액은 케미컬 또는 탈이온수 등일 수 있다.
상기 세정 유닛(140)은 상기 비드 형성용 블록(130)에 대응하여 구비된다. 즉, 상기 비드 형성용 블록(130)이 상기 기판(G)의 양측부에 각각 구비됨에 따라 상기 세정 유닛(140)은 상기 기판(G)의 양측부에 각각 구비될 수 있다. 이 경우 기판(G)의 양측부에 구비되는 세정 유닛(140)은 서로 실질적으로 동일한 구성을 가지므로 설명의 편의를 위해 하나의 세정 유닛(140)을 기준으로 설명한다.
도 4는 도 1에 도시된 세정 유닛의 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 5는 도 4에 도시된 건조 노즐에 의한 건조 동작을 나타내는 도면이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 일 실시예에 따른 상기 세정 유닛(140)은 세정 용기(141) 및 순환 유닛(143a, 143b)을 포함할 수 있다.
상기 세정 용기(141)는 상기 비드 형성용 블록(130)을 세정하기 위한 세정 공간을 제공한다. 상기 세정 용기(141)는 상부가 개방된 박스 형상을 가질 수 있다. 이와 달리 상기 세정 용기(141)는 다양한 형상을 가질 수 있다. 상기 세정 용기(141)는 상기 비드 형성용 블록(130)이 하강했을 때 상기 비드 형성용 블록(130)이 침지되도록 그 내부에 세정액이 채워진다. 즉, 상기 세정 용기(141)는 상기 비 드 형성용 블록(130)을 세정액에 침지시키는 방식으로 상기 비드 형성용 블록(130) 상에 형성된 에지 비드를 제거한다.
상기 순환 유닛(143a, 143b)은 상기 세정 용기(141) 내의 세정액을 순환시켜, 상기 세정액을 깨끗하게 유지하는 역할을 한다. 상기 순환 유닛(143a, 143b)은 상기 세정 용기(141)로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부(143a) 및 상기 세정 용기(141)로부터 상기 비드 형성용 블록(130)의 세정에 사용된 세정액을 배출시키기 위한 배출부(143b)를 포함할 수 있다. 이처럼, 상기 세정액 공급부(143a)가 세정 용기(141)로 새로운 세정액을 공급하고, 배출부(143b)는 세정에 사용된 세정액을 배출시킴으로써 상기 세정 용기(141) 내의 세정액을 순환시켜 깨끗한 상태로 유지시킨다. 한편, 도시하진 않았지만 상기 세정액 공급부(143a)와 배출부(143b)는 세정액 내의 오염물을 걸러주기 위한 필터링 유닛을 통해 서로 연결될 수 있다. 즉, 상기 세정액은 반복해서 사용될 수 있다.
상기 세정 유닛(140)은 세정 효율을 향상시키기 위하여 진동 유닛(145)을 더 포함할 수 있다. 상기 진동 유닛(145)은 상기 세정 용기(141)에 채워진 세정액에 접촉하여 상기 세정액에 초음파 진동을 발생시킨다. 이처럼 상기 진동 유닛(145)이 상기 세정 용기(141)에 채워진 세정액에 초음파 진동을 발생시킴으로써 세정액의 진동력에 의해 상기 비드 형성용 블록(130)의 세정 효율을 개선할 수 있다. 상기 진동 유닛(145)은 세정 용기(141)의 외부에 배치되고, 세정을 진행할 때 상기 세정 용기(141) 내부로 이동하는 구조를 가질 수 있다.
이 때, 상기 세정 유닛(140)을 통해 세정된 상태의 상기 비드 형성용 블 록(130) 상에는 세정액이 잔류할 수 있다. 상기 비드 형성용 블록(130) 상에 잔류하는 세정액은 이후 코팅 공정시 불량을 유발하는 원인이 될 수 있으므로 제거하는 것이 바람직하다.
이를 위해, 상기 세정 유닛(140)은 세정된 상기 비드 형성용 블록(130) 상에 잔류하는 세정액을 제거하기 위한 건조 노즐(147)을 더 포함할 수 있다. 상기 건조 노즐(147)은 상기 세정 용기(141) 상부에 구비되며, 도 5에 도시된 바와 같이 상기 세정 용기(141)에서 세정된 비드 형성용 블록(130)으로 건조 기체를 분사한다. 따라서, 상기 세정된 비드 형성용 블록(130) 상에 잔류하는 세정액은 상기 건조 노즐(147)로부터 분사되는 건조 기체에 의해 제거된다.
도 6은 도 1에 도시된 세정 유닛의 다른 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6을 참조하면, 다른 실시예에 따른 상기 세정 유닛(140)은 세정 용기(142) 및 세정 노즐(146)을 포함한다.
상기 세정 용기(142)는 상기 비드 형성용 블록(130)을 세정하기 위한 세정 공간을 제공한다. 이에, 상기 세정 용기(142)는 상기 비드 형성용 블록(130)이 하강된 위치에서 상기 비드 형성용 블록(130)을 수용한다.
상기 세정 노즐(146)은 상기 세정 용기(142)에 수용되는 상기 비드 형성용 블록(130) 상부에 배치되며, 상기 비드 형성용 블록(130) 상의 에지 비드를 제거하기 위하여 상기 비드 형성용 블록(130)으로 세정액을 분사한다. 이 때, 상기 세정 노즐(146)은 상기 비드 형성용 블록(130)의 상부 면적이 클 경우 수평 이동하며 상 기 비드 형성용 블록(130)으로 세정액을 분사하는 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 세정 노즐(146)은 상기 비드 형성용 블록(130)에 대하여 세정액을 비스듬하게 분사할 수 있고, 수직하게 분사할 수 있다.
여기서, 상기 비드 형성용 블록(130)의 세정이 상기 세정 노즐(146)에서 분사되는 세정액에 의해 이루어지므로, 상기 세정 용기(142)는 세정액을 비산을 억제할 수 있는 구조를 갖는 것이 바람직할 것이다.
또한, 상기 세정 용기(142)에는 상기 세정 노즐(146)로부터 분사되어 상기 비드 형성용 블록(130)을 세정한 후 상기 세정 용기(142) 내에 포집되는 세정액을 상기 세정 용기(142)로부터 배출하기 위한 배출부(144)가 구비될 수 있다.
한편, 다른 실시예에 따른 상기 세정 유닛(140)은 세정액을 이용하여 세정된 비드 형성용 블록(130) 상에 잔류하는 세정액을 제거하기 위하여 건조 노즐(148)을 더 포함할 수 있다. 상기 건조 노즐(148)은 앞서 일 실시예에 따른 세정 유닛(140)에 구비되는 건조 노즐(147)과 실질적으로 동일한 구성을 가지므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.
이와 같이, 상기 세정 유닛(140)을 통해 상기 비드 형성용 블록(130)을 세정하여 상기 비드 형성용 블록(130) 상에 형성되는 에지 비드를 제거함으로써, 상기 비드 형성용 블록(130)의 오염에 의해 기판(G)에 불균일한 코팅막이 형성되는 것을 개선할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 코팅 장치는 테 이블 상에 지지된 코팅막을 형성할 기판의 양측으로 비드 형성용 블록이 구비되고, 기판 상에 코팅 물질을 제공할 때 상기 비드 형성용 블록 상에서 비드를 형성한 후 기판 상으로 이동하면서 코팅막을 형성함으로써, 두께가 불균일한 에지 비드가 비드 형성용 블록 상에 형성된다. 따라서, 기판 상에서는 코팅막이 균일한 두께를 가질 수 있게 되므로, 코팅막의 두께 불균일로 인한 기판의 측면 폐기 부분을 줄일 수 있다.
또한, 상기 비드 형성용 블록은 승강 가능하도록 구비되고, 비드 형성용 블록이 하강된 위치에 비드 형성용 블록을 세정하기 위한 세정 유닛이 구비됨으로써, 반복 사용으로 오염된 비드 형성용 블록을 주기적으로 세정하여 비드 형성용 블록의 오염에 의한 코팅막의 두께 균일성 저하를 억제할 수 있다. 따라서 비드 형성용 블록을 이용한 코팅막 두께 균일성 효과를 계속해서 유지할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 코팅 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 기판 코팅 장치에 의한 기판 코팅 과정을 나타내는 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 세정 유닛에 의한 비드 형성용 블록의 세정 동작을 나타내는 도면이다.
도 4는 도 1에 도시된 세정 유닛의 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 도 4에 도시된 건조 노즐에 의한 건조 동작을 나타내는 도면이다.
도 6은 도 1에 도시된 세정 유닛의 다른 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100: 기판 코팅 장치 110: 테이블
112: 진공 라인 114: 진공 펌프
120: 코팅 유닛 122: 코팅 물질 공급원
124: 코팅 노즐 130: 비드 형성용 블록
140: 세정 유닛 141, 142: 세정 용기
143a: 세정액 공급부 143b, 144: 배출부
145: 진동 유닛 146: 세정 노즐
147, 148: 건조 노즐

Claims (12)

  1. 기판이 놓여지는 테이블;
    상기 테이블의 상부에서 수평 방향으로 이동 가능하며, 상기 테이블 상에 놓여진 기판 상에 코팅막을 형성하기 위하여 수평 방향으로 이동하면서 상기 기판 상에 코팅 물질을 제공하는 코팅 유닛; 및
    상기 코팅막의 에지 비드(edge bead)를 형성하기 위하여 상기 테이블 상에 지지된 기판의 일측에 인접하도록 배치되는 비드 형성용 블록을 포함하고,
    상기 비드 형성용 블록은 승강 가능하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 비드 형성용 블록은 상승된 위치가 상기 테이블 상에 지지된 기판과 수평을 이루도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 비드 형성용 블록은 상승된 위치에서 그 측면이 상기 테이블 상에 지지된 기판의 측면과 접하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 테이블은 상기 기판의 폭보다 작거나 같은 폭은 갖는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 테이블의 일측에 구비되고, 상기 비드 형성용 블록이 하강된 위치에서 상기 비드 형성용 블록을 세정하는 세정 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 세정 유닛은 세정 공간을 제공하며, 하강된 상기 비드 형성용 블록이 침지되도록 세정액이 채워지는 세정 용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 세정 유닛은 상기 세정 용기 내의 세정액을 순환시키는 순환 유닛을 포함하며, 상기 순환 유닛은
    상기 세정 용기로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부; 및
    상기 세정 용기로부터 세정액을 배출시키기 위한 배출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 세정 유닛은 상기 비드 형성용 블록이 침지된 세정액에 초음파 진동을 발생시키는 진동 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  10. 제7항에 있어서, 상기 세정 유닛은 상기 세정 용기 상부에 구비되며, 상기 세정 용기에서 세정된 비드 형성용 블록의 건조를 위해 상기 비드 형성용 블록으로 건조 기체를 분사하는 건조 노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  11. 제6항에 있어서, 상기 세정 유닛은
    세정 공간을 제공하는 세정 용기; 및
    상기 세정 용기에 수용되는 상기 비드 형성용 블록 상부에 배치되고, 상기 비드 형성용 블록으로 세정액을 분사하는 세정 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 세정 유닛은 상기 세정 용기로부터 상기 비드 형성용 블록의 세정에 사용된 세정액을 배출하기 위한 배출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
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