KR20050072585A - 슬릿노즐 세정 장치 및 이를 가지는 슬릿노즐 처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 슬릿노즐을 세정하고 비드를 형성하는 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 베이스와 그 상부에 서로 나란히 위치되는 비드형성부와 세정부를 가진다. 세정부의 상부면에는 슬릿노즐이 삽입되는 삽입부가 형성되며, 삽입부의 측면에는 슬릿노즐을 세정하는 세정액 분사부와 슬릿노즐을 건조시키는 가스 분사부가 형성되고, 삽입부의 바닥면에는 슬릿노즐의 토출구로 세정액이 유입되는 것을 방지하고 슬릿노즐의 토출구를 접촉에 의해 세정하는 폴리우레탄 재질의 스펀지가 설치된다.

Description

슬릿노즐 세정 장치 및 이를 가지는 슬릿노즐 처리 장치{APPARATUS FOR CLEANING A SLIT NOZZLE AND APPARATUS FOR TREATING A SLIT NOZZLE WITH THE CLEANING APPARATUS}

본 발명은 평판 표시 소자를 제조하는 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 평판표시소자 제조를 위한 기판 상에 약액을 토출하는 슬릿노즐에 비드를 형성하고 이를 세정하는 장치에 관한 것이다.

최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지 디스플레이 장치로는 주로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이(flat panel display) 사용이 증대되고 있다.

평판 디스플레이에 소자를 제조하기 위해 수행되는 공정들 중 도포공정은 노광 광원에 반응하는 포토레지스트와 같은 감광액을 기판 상에 도포하는 공정이다. 일반적으로 도포공정은 도포부에 놓여진 기판의 일단에서 타단으로 슬릿노즐이 일정속도로 이동되면서 기판 상에 포토레지스트를 토출하면서 이루어진다.

기판(700) 상에 포토레지스트를 토출하기 전에 슬릿노즐(720)에 비드(bead)가 형성되어야 한다. 슬릿노즐(720)에 적절한 비드가 형성되지 않은 상태에서 슬릿노즐(720)로부터 포토레지스트가 토출되면, 도 1a와 도 1b에서 보는 바와 같이 슬릿노즐(720)에 일정비드가 형성될 때까지 포토레지스트는 불균일한 두께로 기판(700) 상에 도포된다. 도 1a는 노즐에 적절한 비드가 형성되지 않은 상태에서 기판에 포토레지스트를 토출할 때의 기판의 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 A-A선을 따라 절단한 단면도이다.

따라서 기판(700) 상에 포토레지스트를 토출하기 전에 슬릿노즐(720)에 적절한 비드를 형성하는 공정이 수행된다. 일반적인 도포설비에서 비드형성 공정은 도 2에 도시된 바와 같이 슬릿노즐(720)과 상응되는 길이를 가지는 회전하는 롤러(740) 상에 슬릿노즐(720)의 토출부 측면에 적절한 비드가 형성될 때까지 슬릿노즐(720)로부터 포토레지스트가 토출된다. 상술한 방법은 비드형성을 위해 고가의 포토레지스트가 다량 소모되는 문제가 있으며, 이 문제는 기판의 크기가 대형화됨에 따라 더욱 커진다.

또한, 하나의 기판 상에 포토레지스트 도포가 완료되면, 슬릿노즐은 상술한 비드형성 공정이 이루어지기 전에 세정액에 의해 세정된다. 그러나 일반적인 설비에서는 슬릿노즐을 세정하기 위한 세정부와 슬릿노즐에 비드를 형성하기 위한 비드형성부가 각각 분리되어 배치되므로, 슬릿노즐의 이동경로가 길다. 이로 인해 장치의 처리량(through-put)이 감소되고, 설비면적(footprint)이 증가된다.

또한, 슬릿노즐의 세정시 슬릿노즐 내의 포토레지스트와 슬릿노즐로 공급되는 세정액간 점도차이로 인하여 세정액이 슬릿노즐의 토출구로 유입되기 쉬우며, 이는 기판에 포토레지스트 도포를 시작할 때 기판에 물결무늬현상이 발생되는 원인이 된다.

본 발명은 노즐에 비드 형성시 소모되는 포토레지스트의 량을 최소화할 수 있는 슬릿노즐 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 슬릿노즐의 이동경로를 단축하여 처리량을 향상시킬 수 있는, 그리고 그 설치면적을 줄일 수 있는 슬릿노즐 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 슬릿노즐의 세정시 세정액이 슬릿노즐의 토출구 내로 유입되는 것을 최소화 할 수 있는 슬릿노즐 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 슬릿노즐 세정 장치는 상부면에 슬릿노즐의 토출부가 삽입되는 삽입부가 형성된 몸체를 가진다. 상기 삽입부의 측면에는 세정액을 토출하는 세정액 토출부가 형성되고, 상기 삽입부의 바닥면 상에는 스펀지가 설치되어, 세정 공정 진행 중 상기 슬릿노즐의 토출구는 상기 스펀지와 접촉된다. 또한, 상기 장치는 상기 스펀지가 설치되는 상기 삽입부의 바닥면에는 세정액 배출부가 형성되어, 상기 스펀지에 흡수된 세정액이 배출된다.

상기 스펀지는 상기 세정액에 대해 친수성, 흡수성, 내후성, 내구성, 그리고 이 강한 재질로 이루어지며, 바람직하게는 상기 스펀지는 폴리 우레탄을 재질로 한다.

또한, 상기 몸체는 상기 슬릿노즐보다 적은 길이를 가지며, 상기 장치는 상기 슬릿노즐과 상기 몸체간에 상대적 이동이 가능하도록 상기 슬릿노즐 또는 상기 몸체를 수평이동시키는 이송부를 더 포함할 수 있다.

또한, 상기 장치는 상기 몸체의 측면에 형성되어 상기 슬릿노즐을 건조시키기 위해 건조용 기체를 분사하는 기체 분사부와 상기 몸체의 삽입부 내에 잔존하는 유체를 배기하는 유체 배기구를 더 포함할 수 있다.

또한, 본 발명의 슬릿노즐 처리 장치는 베이스, 상기 베이스를 직선 이동시키는 수평이동부, 그리고 비드형성부를 가진다. 상기 비드형성부에는 상기 베이스에 결합되어 상기 베이스와 함께 이동되며 상부에 슬릿노즐의 토출부가 삽입되는 삽입부가 형성되고, 상기 삽입부의 바닥면에는 상기 슬릿노즐에 비드를 형성하기 위해 감광액을 토출하는 노즐이 설치된다. 상기 비드형성부의 일측에는 상기 베이스에 결합되어 상기 베이스와 함께 이동되며, 상기 슬릿노즐의 토출부를 세정하는 세정부가 위치된다. 상기 세정부는 상부면에 슬릿노즐의 토출부가 삽입되는 삽입부가 형성된 몸체, 상기 삽입부의 측면에 형성되며 세정액을 토출하는 세정액 토출부, 그리고 상기 삽입부의 바닥면 상에 설치되는 스펀지를 가지며, 세정 공정 진행 중 상기 슬릿노즐의 토출구는 상기 스펀지와 접촉된다.

상기 비드형성부와 상기 베이스는 상기 슬릿노즐보다 적은 길이를 가지며, 상기 슬릿노즐의 비드형성은 상기 비드형성부가 상기 슬릿노즐의 일단에서 타단까지 이동되면서 이루어지고, 상기 슬릿노즐의 세정은 상기 세정부가 상기 슬릿노즐의 일단에서 타단까지 이동되면서 이루어진다. 상기 스펀지는 폴리우레탄을 재질로 하여 이루어진다.

또한, 상기 세정부의 상기 삽입부의 바닥면에 형성되는, 그리고 상기 스펀지에 흡수된 세정액이 배출되는 세정액 배출부가 형성될 수 있다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 3 내지 도 12를 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.

본 실시예에서 기판은 평판 표시(flat panel display) 소자를 제조하기 위한 것으로, 평판 표시 소자는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), FED(FieldEmission Display), 또는 ELD(Electro Luminescence Display) 일 수 있다.

도 3은 본 발명의 슬릿노즐 처리 장치가 사용되는 도포설비(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 도포설비(1)는 지지판(10), 슬릿노즐(slit nozzle)(20), 도포부(30), 그리고 슬릿노즐 처리부(40)를 가진다. 지지판(10) 상의 일부분에는 슬릿노즐(20)로부터 포토레지스트와 같은 감광액이 기판(50) 상으로 공급되면서 도포공정이 진행되는 도포부(30)가 배치되고, 지지판(10) 상의 타부분에는 슬릿노즐(20)을 세정하고 슬릿노즐(20)에 비드(bead)를 형성하는 처리부(40)가 배치된다. 처리부(40) 내에는 세정 및 비드형성 공정을 수행하는 처리 장치(2)가 위치된다. 도포부(30)와 처리부(40)는 나란히 배치된다. 지지판(10) 상의 일측에는 제 1가이드 레일(62)이 설치되고, 이와 마주보는 지지판(10) 상의 타측에는 제 2가이드 레일(64)이 설치된다. 슬릿노즐(20)의 일단은 브라켓(72)에 의해 제 1가이드 레일(62)과 결합되고 슬릿노즐(20)의 타단은 브라켓(74)에 의해 제 2가이드 레일(64)과 결합된다. 제 1가이드 레일(62)의 끝부분에는 슬릿노즐(20)이 가이드 레일들(52, 64)을 따라 수평 이동되도록 슬릿노즐(20)을 구동하는 구동부(66)가 설치된다. 상술한 구조에 의해 슬릿노즐(20)은 도포부(30)와 처리부(40) 사이로 이동하며, 또한 도포부(30) 내에서 기판(50)의 일단부터 타단까지 이동되면서 도포공정을 수행한다.

도 4는 본 발명의 슬릿노즐(20)의 사시도이다. 슬릿노즐(20)은 기판(50) 상으로 포토레지스트를 공급하는 부분이다. 슬릿노즐(20)은 폭이 점진적으로 감소되며 끝단에 토출구(22)가 형성된 토출부(26)와 토출부(26)로부터 연장되는 직육면체 형상의 몸체(28)를 가진다. 슬릿노즐(20)은 기판과 유사한 길이를 가지도록 길게 형성되며, 토출구(22)는 슬릿으로 형성된다. 토출부(26)는 양측면(24a, 24b)을 가지며, 비드는 슬릿노즐의 토출부 일측면(24a)에만 형성된다.

도 5는 본 발명의 처리장치(2)의 정면도이고, 도 6은 도 5의 처리장치(2)에서 비드형성부(100)와 세정부(200)의 사시도이다. 도 5를 참조하면, 처리장치(2)는 비드형성부(100), 세정부(200), 베이스(300), 그리고 수평이동부(500)를 가진다.

도 6을 참조하면, 비드형성부(100)는 슬릿노즐(20)이 도포부(30)로 이동되기 전에 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)에 비드를 형성하는 부분으로 베이스(300) 상의 일측에 위치된다. 상부면에 슬릿노즐의 토출부(26) 일부가 삽입되는 삽입부(120)가 형성된 몸체(180)을 가진다. 삽입부(120)는 양측면(122)과 바닥면(124)을 가지며, 각각의 측면(122)은 위로 갈수록 넓은 폭을 제공하기 위해 경사진 경사부(122a)와 경사부(122a) 아래에 위치되는 수직한 면인 수직부(122b)를 가진다. 삽입부의 경사부(122a)는 삽입부(120)에 삽입되는 슬릿노즐의 토출부(26)와 대응되는 형상으로 형성된다. 삽입부의 바닥면(124)은 평평하게 형성되며, 바닥면(124)에는 상부로 돌출된 분사노즐(140)이 설치된다. 삽입부(120)의 전면과 후면은 개방되며, 몸체(180)는 슬릿노즐(20)보다 적은 길이로 형성된다.

분사노즐(140)은 비드형성을 위해 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)으로 포토레지스트를 분사한다. 도 7은 삽입부(120)에 삽입된 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)으로 포토레지스트를 분사하는 분사노즐(140)을 보여주는 단면도이다. 도 7을 참조하면, 분사노즐(140)은 수평부(142)와 안내부(144)를 가진다. 수평부(142)는 슬릿노즐의 토출구(22) 아래에 평평하게 형성되고, 안내부(144)는 수평부(142)의 일단으로부터 상부로 경사지도록 연장되어 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)과 대향되도록 형성된다. 분사노즐의 분사구(146)는 안내부(144) 일부로부터 수평부(142) 일부에까지 형성될 수 있다.

처음에 슬릿노즐의 토출부(26) 일단이 비드형성부의 삽입부(120)에 삽입되면, 분사노즐의 분사구(146)로부터 포토레지스트가 분사된다. 도 7에서 보는 바와 같이 슬릿노즐(20)로부터 분사된 일부의 포토레지스트는 안내부(144)에 의해 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)을 따라 이동되고, 나머지 포토레지스트는 토출구(22)를 향하는 방향으로 이동된다. 이로 인해 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)에 비드가 형성된다. 비드형성부(100)는 슬릿노즐의 토출부(26)가 일단에서 타단까지 순차적으로 삽입부(120)에 삽입되도록 직선으로 이동되고, 이동 중에 분사노즐(140)은 계속적으로 포토레지스트를 분사한다.

비드형성부(100)의 삽입부 양측면 중 경사부(122a)에는 각각 에어 베어링부(160)가 형성된다. 에어 베어링부(160)는 삽입부(120)에 슬릿노즐(20)이 삽입된 상태에서 비드형성부(100)가 슬릿노즐(20)의 일단에서 타단까지 원활하게 이동되도록 슬릿노즐의 토출부의 양측(24a, 24b)에 고압의 기체를 분사한다. 기체로는 공기가 사용될 수 있다. 도 8을 참조하면, 슬릿노즐의 토출부 측면(24a, 24b)은 삽입부의 측면(122)과 미세간격을 유지한 상태에서 삽입부(120)에 삽입되고, 에어 베어링부(160)를 통해 분사되는 공기압에 의해 비드형성부의 삽입부 양측면(122a, 122b)은 슬릿노즐(20)과 동일간격을 유지하면서 슬릿노즐(20)을 따라 원활하게 이동된다.

세정부(200)는 도포부(30)에서 하나의 기판(40)에 대해 도포공정을 수행한 슬릿노즐(20)을 세정하는 부분으로 베이스(300) 상의 비드형성부(100)와 나란히 배치된다. 도 6을 다시 참조하면, 세정부(200)는 건조가스 분사부(230), 세정액 분사부(240), 유체 배기부(250), 스펀지(260), 세정액 배출부(270), 그리고 몸체(280)를 가진다. 몸체(280)의 상부면에는 슬릿노즐의 토출부(26) 일부가 삽입되는 삽입부(220)가 형성된다. 세정부의 삽입부(220)는 비드형성부의 삽입부(120)와 위에서 바라볼 때 동일선상에 배치된다. 삽입부(220)는 아래로 갈수록 폭이 감소하여, 슬릿노즐의 토출부(26)와 상응되는 형상을 가진다.

삽입부(220)는 양측면(222)과 바닥면(224)을 가지며, 각각의 측면(222)은 위로 갈수록 넓은 폭을 제공하기 위해 경사진 경사부(222a)와 경사부 아래에 위치되는 수직한 면인 수직부(222b)를 가진다. 삽입부의 측면 중 경사부(222a)는 삽입부(220)에 삽입되는 슬릿노즐의 토출부(26)와 대응되는 형상으로 형성된다. 삽입부의 바닥면(224)은 평평하게 형성되며, 바닥면(224)의 중앙에는 상부로 돌출된 스펀지(250)가 고정 설치된다. 삽입부(220)의 전면과 후면은 개방되며, 몸체(280)는 슬릿노즐(20)보다 적은 길이로 형성된다.

삽입부(220)에는 슬릿노즐의 토출부(26)를 세정하기 위해 세정액을 분사하는 세정액 분사부(240)와 슬릿노즐의 토출부(26)에 부착된 세정액을 제거하고 이를 건조하기 위해 건조 가스를 분사하는 가스 분사부(230)가 형성된다. 도 6의 선 B-B를 따라 절단한 단면도인 도 9를 참조하면, 세정액 분사부(240)는 삽입부의 경사부(222a)에 형성된 세정액 분사구(244)와 이로부터 연장되어 몸체(280) 내에 형성된 세정액 공급라인(242)을 가진다. 비록 도시되지는 않았으나 세정액 공급라인(242)은 외부의 도관과 연결된다. 또한, 가스 분사부(230)는 삽입부의 측면 경사부(222a)에 형성된 가스 분사구(234)와 이로부터 연장되어 몸체(280) 내에 형성된 가스 공급라인(232)을 가진다. 처리 장치(2)가 이동되면서 세정과 동시에 건조가 이루어지도록 세정액 분사구(244)와 가스 분사구(234)는 삽입부의 측면 경사부(222a)에 나란히 배치된다. 세정액으로는 신나 또는 아세톤이 사용될 수 있으며, 건조 가스로는 질소가스와 같은 비반응성 기체 또는 깨끗한 건조 공기가 사용될 수 있다.

삽입부(220)로 분사되어 세정 및 건조공정을 수행한 세정액과 건조 공기는 유체 배기부(250)를 통해 외부로 배기된다. 유체 배기부(250)는 삽입부의 측면 수직부(222b)에 형성된 유체 배기구(254)와 이로부터 연장되도록 몸체(280) 내에 형성된 유체 배기라인(252)을 가진다. 비록 도시되지는 않았으나 유체 배기라인(252)은 펌프가 설치된 외부의 배관과 연결된다. 선택적으로 유체 배기구(254)는 삽입부의 바닥면(224)에 형성될 수 있다.

도 10에 도시된 바와 같이 슬릿노즐(20)은 세정공정 진행시 그 토출구(22)가 스펀지(sponge)(260)와 접촉되도록 위치된다. 스펀지(260)는 반원통형의 긴 길이를 가지며, 상술한 바와 같이 삽입부의 바닥면(224)에 설치된다. 일반적으로 슬릿노즐(20)은 토출부(26) 내에 포토레지스트가 채워진 상태에서 세정공정이 수행된다. 세정공정 진행시 신나와 같은 세정액은 토출부(26) 내에 채워진 포토레지스트와의 점도 차이로 인하여 토출부(26) 내로 유입된다. 이는 이후에 기판(50) 상에 포토레지스트 도포시 물결무늬가 생기는 원인이 된다. 본 실시예에서 슬릿노즐의 토출구(22)는 스펀지(260)와 접촉된 상태에서 공정이 수행되므로 신나가 슬릿노즐의 토출부(26) 내로 유입되는 것이 방지된다. 또한, 스펀지(260)와의 접촉에 의해 토출구(22) 및 그 주변이 세정되므로 신나에 의해 세정이 이루어질 때보다 더 효과적이다. 일반적으로 알려진 재질의 스펀지는 신나 또는 아세톤과 같은 약액에 대해 내구성이 약하다. 그러나 본 실시예의 스펀지(260)는 친수성이 우수하여 흡수성이 뛰어나고, 내구성 및 내약품성이 우수한 재질로 만들어진다. 실험에 의하면 폴리우레탄(poly urethane)의 경우 세정액에 대해 상술한 성질이 매우 우수하다. 따라서, 스펀지(260)는 폴리우레탄을 재질로 하여 만들어질 수 있다.

스펀지(260)가 장기간 사용되기 위해서 스펀지(260)에 흡수된 세정액은 세정액 배출부(270)를 통해 외부로 배출된다. 세정액 배출부(270)는 스펀지(260)에 흡수된 세정액가 설치되는 삽입부의 바닥면(224)에 형성된 세정액 배출구(274)와 이로부터 연장되어 몸체(280) 내에 형성된 세정액 배출라인(272)이 형성된다. 비록 도시되지는 않았으나 세정액 배출라인(272)은 몸체(280) 외부에 설치된 배관과 연결된다.

세정부의 삽입부(220)에 슬릿노즐의 토출부(26)가 삽입되면, 세정액 분사부(240)로부터 신나가 분사되어 슬릿노즐의 토출부(26)를 세정한다. 이후 세정부(200)가 슬릿노즐 토출부(26)의 길이방향을 따라 이동되고, 가스 분사부(230)로부터 질소가스가 분사되어 슬릿노즐의 토출부(26)에 부착된 신나를 제거하고 또한 토출부(26)를 건조시킨다.

즉, 본 발명의 처리장치(2)에 의하면, 세정부(200)가 슬릿노즐의 토출부(26) 일단에서 타단까지 이동되는 동안 슬릿노즐의 토출부(26)를 신나로 세정하는 공정과 질소가스로 세정하는 공정이 동시에 이루어진다.

비록 도시되지는 않았으나 비드형성부(100)의 높이를 조절하는 수직이동부가 제공될 수 있다. 이는 슬릿노즐(20)에 비드형성시 비드형성부(100)가 세정부(200)보다 높게 위치되도록 비드형성부(100)를 승강시키고, 슬릿노즐(20)을 세정할 때에는 비드형성부(100)가 세정부(200)보다 낮게 위치되도록 비드형성부(100)를 하강시킨다.

수평이동부(500)는 비드형성부(100) 및 세정부(200)가 설치된 베이스(300)를 슬릿노즐(20)의 일단에서 타단까지 이동시키는 부분이다. 수평이동부(500)의 사시도인 도 11을 참조하면, 수평이동부(500)는 스크류(540), 모터(520), 브라켓(560), 그리고 가이드부(580)를 가진다. 브라켓(560)의 중앙에는 스크류(540)를 삽입하는 관통된 나사홀(562)이 형성되고, 상부면에는 베이스(300)와 결합을 위한 나사홀들(564)이 형성된다. 스크류(540)의 일단에는 스크류(540)를 회전시키는 모터(520)가 결합되고, 스크류(540)의 타단에는 스크류(540)가 이동되는 것을 방지하는 고정블럭(530)이 결합된다. 따라서 스크류(540)가 회전되면 베이스(300)와 결합된 브라켓(560)이 스크류(540)를 따라 이동된다.

가이드부(580)는 베이스(300)의 직선이동을 안내하기 위한 것으로 가이드레일(582), 고정블럭들(584), 그리고 이동블럭(586)을 가진다. 가이드레일(582)은 스크류(540)와 평행하게 스크류(540)의 양측에 각각 설치되며 가이드레일(582)의 양단에는 고정블럭들(584)이 결합된다. 이동블럭(586)은 가이드레일(582)과 결합되어 가이드레일(582)을 따라 이동되며, 베이스(300)에 고정 결합된다.

이하, 본 발명의 도포설비(1)를 사용하여 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 방법을 설명한다. 도포방법을 순차적으로 보여주는 플로우차트인 도 12를 참조하면, 하나의 기판에 대해 도포공정을 완료한 슬릿노즐(20)은 도포부(30)로부터 처리부(40)의 처리장치(2)로 이송된다(스텝 S10). 이후 슬릿노즐을 세정하는 공정이 진행된다(스텝 S20). 처리장치의 비드형성부(100)는 세정부(200)보다 낮은 위치로 하강되고, 슬릿노즐의 토출부(26)는 처리장치의 세정부 삽입부(220)로 삽입되며, 그 토출구가 스펀지에 접촉되는 위치까지 하강된다(스텝 S21). 세정액 분사구((244)로부터 신나가 분사되어 슬릿노즐의 토출부(26)를 세정하고, 가스 분사구(234)로부터 질소가스가 분사되어 슬릿노즐의 토출부(26)를 건조시킨다.(스텝 S22, S23). 슬릿노즐의 토출부(26) 일단부터 타단까지 전체를 세정하기 위해 수평이동부(500)에 의해 세정부(200)는 직선 이동된다(스텝 S24). 삽입부(220)로 분사된 신나 및 질소가스는 유체 배기부(250)를 통해 외부로 배기되고, 스펀지(260)에 흡수된 신나는 세정액 배출부(270)를 통해 외부로 배출된다.

이후, 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)에 비드를 형성하는 공정이 수행된다(스텝 S30). 비드형성부(100)는 수직이동부(400)에 의해 승강되고, 슬릿노즐(20)이 비드형성부의 삽입부(120) 내로 삽입된다(스텝 S31). 에어 베어링부(160)로부터 고압의 공기가 슬릿노즐의 토출부 측면(24a, 24b)들을 향해 분사되고, 분사노즐(140)로부터 포토레지스트가 슬릿노즐의 토출부 일측(24a)에 분사된다(스텝 S32, S33). 슬릿노즐의 토출부(26) 일단부터 타단까지 비드를 형성하기 위해, 비드형성부(100)는 수평이동부(500)에 의해 직선 이동된다(스텝 S34). 슬릿노즐의 토출부(26)에 비드형성이 완료되면, 슬릿노즐(20)은 도포부(30)로 이동되어 기판(50) 상에 포토레지스트를 도포한다(스텝 S40).

본 발명의 장치에 의하면, 노즐에 비드를 형성하는 비드형성공정 진행시 소모되는 포토레지스트의 량을 줄일 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 장치에 의하면, 세정부와 비드형성부가 일체로 이루어져 있으므로 설비면적이 줄어들고, 슬릿노즐의 이동경로가 짧아 처리량을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명에 의하면, 스펀지와 직접 접촉됨으로써 슬릿노즐의 세정이 이루어지므로 슬릿노즐에 부착된 불순물 제거가 우수한 효과가 있다.

또한, 슬릿노즐의 토출구가 스펀지와 직접 접촉되어 세정이 이루어지므로 슬릿노줄로부터 분사되는 신나와 같은 세정액이 슬릿노즐의 토출구로 유입되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

도 1a는 슬릿노즐에 적절한 비드가 형성되지 않은 상태에서 기판에 포토레지스트를 토출할 때의 기판의 평면도;

도 1b는 도 1a의 A-A선을 따라 절단한 단면도;

도 2는 슬릿노즐에 비드를 형성하기 위한 일반적인 방법을 보여주는 도면;

도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 도포설비를 개략적으로 보여주는 도면;

도 4는 도 3의 슬릿노즐의 사시도;

도 5는 도 3의 처리장치의 정면도;

도 6은 도 5의 처리장치에서 비드형성부와 세정부의 사시도;

도 7은 슬릿노즐의 토출부 일측으로 포토레지스트를 분사하는 분사노즐을 보여주는 도면;

도 8은 비드형성부의 삽입부에 슬릿노즐이 삽입된 상태를 보여주는 단면도;

도 9는 도 6의 선 B-B를 따라 절단한 단면도;

도 10은 세정공정 진행시 슬릿노즐의 위치를 보여주는 도면;

도 11은 수평이동부의 사시도; 그리고

도 12는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 도포방법을 순차적으로 보여주는 플로우차트이다

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

2 : 처리장치 20 : 슬릿노즐

100 : 비드형성부 120 : 삽입부

140 : 분사노즐 160 : 에어베어링부

200 : 세정부 220 : 삽입부

230 : 가스분사부 240 : 세정액 분사부

260 : 스펀지 300 : 베이스

500 : 수평이동부

Claims (11)

1. 평판표시소자 제조에 사용되는 슬릿노즐을 세정하는 장치에 있어서,

   상부면에 슬릿노즐의 토출부가 삽입되는 삽입부가 형성된 몸체와;

   상기 삽입부의 측면에 형성되며 세정액을 토출하는 세정액 토출부와; 그리고

   상기 삽입부의 바닥면 상에 설치되는 스펀지를 구비하되,

   세정 공정 진행 중 상기 슬릿노즐의 토출구는 상기 스펀지와 접촉되는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 세정 장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 장치는 상기 스펀지가 설치되는 상기 삽입부의 바닥면에 형성되는, 그리고 상기 스펀지에 흡수된 세정액이 배출되는 세정액 배출부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 세정 장치.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 스펀지는 상기 세정액에 대해 친수성, 흡수성, 내후성, 내구성, 그리고 이 강한 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 세정 장치.
4. 제 1항에 있어서,

   상기 스펀지는 폴리 우레탄을 재질로 하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 세정 장치.
5. 제 1항에 있어서,

   상기 몸체는 상기 슬릿노즐보다 적은 길이를 가지며,

   상기 장치는 상기 슬릿노즐과 상기 몸체간에 상대적 이동이 가능하도록 상기 슬릿노즐 또는 상기 몸체를 수평이동시키는 이송부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 세정 장치.
6. 제 1항에 있어서,

   상기 장치는 상기 몸체의 측면에 형성되는, 그리고 상기 슬릿노즐을 건조시키는 건조용 기체를 분사하는 기체 분사부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 세정 장치.
7. 제 6항에 있어서,

   상기 장치는 상기 몸체의 삽입부 내에 잔존하는 유체를 배기하는 유체 배기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 세정 장치.
8. 평판표시소자 제조를 위한 기판 상에 감광액을 토출하는 슬릿노즐을 처리하는 장치에 있어서,

   베이스와;

   상기 베이스를 직선 이동시키는 수평이동부와; 그리고

   상기 베이스에 결합되어 상기 베이스와 함께 이동되며 상부에 슬릿노즐의 토출부가 삽입되는 삽입부가 형성되는, 그리고 상기 삽입부의 바닥면에 설치되어 상기 슬릿노즐에 비드를 형성하기 위해 감광액을 토출하는 노즐을 가지는 비드형성부와;

   상기 비드형성부의 일측에 위치되고 상기 베이스에 결합되어 상기 베이스와 함께 이동되는, 그리고 상기 슬릿노즐의 토출부를 세정하는 세정부를 포함하되,

   상기 세정부는

   상부면에 슬릿노즐의 토출부가 삽입되는 삽입부가 형성된 몸체와;

   상기 삽입부의 측면에 형성되며 세정액을 토출하는 세정액 토출부와; 그리고

   상기 삽입부의 바닥면 상에 설치되는 스펀지를 구비하며,

   세정 공정 진행 중 상기 슬릿노즐의 토출구는 상기 스펀지와 접촉되는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 처리 장치.
9. 제 8항에 있어서,

   상기 비드형성부와 상기 베이스는 상기 슬릿노즐보다 적은 길이를 가지며,

   상기 슬릿노즐의 비드형성은 상기 비드형성부가 상기 슬릿노즐의 일단에서 타단까지 이동되면서 이루어지고,

   상기 슬릿노즐의 세정은 상기 세정부가 상기 슬릿노즐의 일단에서 타단까지 이동되면서 이루어지는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 처리 장치.
10. 제 9항에 있어서,

    상기 스펀지는 폴리우레탄을 재질로 하여 이루어진 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 처리 장치.
11. 제 9항에 있어서,

    상기 세정부는 상기 스펀지가 설치되는 상기 삽입부의 바닥면에 형성되는, 그리고 상기 스펀지에 흡수된 세정액이 배출되는 세정액 배출부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 슬릿노즐 처리 장치.