KR20160082742A - 슬릿 코터 - Google Patents
슬릿 코터 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20160082742A KR20160082742A KR1020140191722A KR20140191722A KR20160082742A KR 20160082742 A KR20160082742 A KR 20160082742A KR 1020140191722 A KR1020140191722 A KR 1020140191722A KR 20140191722 A KR20140191722 A KR 20140191722A KR 20160082742 A KR20160082742 A KR 20160082742A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- nozzle
- unit
- shower
- cleaner
- lip
- Prior art date
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 65
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 10
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
본 발명은 고점도 약액을 사용하는 경우에도 작업자가 수동으로 노즐을 유지 관리해야 하는 상황을 없애고, 자동으로 노즐을 사용 가능한 상태로 유지 관리되도록 하여 장비의 가동율을 향상시킬 수 있는 슬릿 코터에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 약액이 도포될 기판이 안착되는 작업대; 상기 기판으로 약액을 배출시키는 노즐과, 상기 노즐을 지지하는 노즐홀더를 갖는 노즐유닛; 상기 기판에 약액이 도포되도록 상기 노즐유닛을 이동시키는 노즐이동유닛; 상기 노즐이 사용되지 않을 때 상기 노즐이 수용되는 대기챔버; 상기 노즐이 상기 대기챔버에서 나온 다음 상기 노즐에 구비되는 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위해 상기 노즐립의 표면에 샤워유체를 분사하는 샤워유닛과, 상기 샤워유닛의 전방에 배치되어 상기 샤워유닛과 함께 이동되는 블레이드유닛을 갖는 노즐립 클리너; 그리고, 상기 노즐의 길이 방향을 따라 상기 노즐립 클리너를 이동시키는 클리너 이동유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터를 제공한다.
이를 위해, 본 발명은 약액이 도포될 기판이 안착되는 작업대; 상기 기판으로 약액을 배출시키는 노즐과, 상기 노즐을 지지하는 노즐홀더를 갖는 노즐유닛; 상기 기판에 약액이 도포되도록 상기 노즐유닛을 이동시키는 노즐이동유닛; 상기 노즐이 사용되지 않을 때 상기 노즐이 수용되는 대기챔버; 상기 노즐이 상기 대기챔버에서 나온 다음 상기 노즐에 구비되는 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위해 상기 노즐립의 표면에 샤워유체를 분사하는 샤워유닛과, 상기 샤워유닛의 전방에 배치되어 상기 샤워유닛과 함께 이동되는 블레이드유닛을 갖는 노즐립 클리너; 그리고, 상기 노즐의 길이 방향을 따라 상기 노즐립 클리너를 이동시키는 클리너 이동유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터를 제공한다.
Description
본 발명은 슬릿 코터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고점도 약액을 사용하는 경우에도 작업자가 수동으로 노즐을 유지 관리해야 하는 상황을 없애고, 자동으로 노즐을 사용 가능한 상태로 유지 관리되도록 하여 장비의 가동율을 향상시킬 수 있는 슬릿 코터에 관한 것이다.
평판표시소자용 기판 제조 공정은 각종 약액을 기판면에 도포하는 코팅공정을 포함하며, 이러한 코팅공정에 사용되는 코팅장치로는 슬릿 노즐(Slit nozzle)이 구비된 슬릿 코터(slit coater)가 주로 사용된다.
슬릿 코터는 슬릿 노즐을 통하여 약액을 토출하면서 기판의 일측에서 타측을 향하여 순차적으로 이동함에 따라 약액을 기판면에 도포하게 된다. 이때, 슬릿 코터는 기판면에 약액을 균일하게 도포하여야 하는데, 이를 위해서는 기판면에 약액을 도포한 후 일정 시점에서 슬릿 노즐의 노즐립(nozzle lip)에 묻어 있는 약액을 제거하는 작업이 반드시 필요하게 된다.
특히, 고점도의 약액을 사용하는 슬릿 코터에서 고점도의 약액이 노즐립에 묻어 있는 경우, 슬릿 코터에는 노즐립에 묻어 있는 약액을 제거하기 위해 접촉식의 노즐립 클리너가 구비된다. 여기서, 접촉식의 노즐립 클리너에는 노즐립에 접촉되는 복수의 블레이드들이 구비되어 노즐립에 묻어 있는 약액을 긁어낸다.
한편, 상기 슬릿노즐이 사용되지 않을 때, 상기 슬릿노즐이 건조되는 것을 방지하기 위해 상기 슬릿 노즐은 세정액이 담겨있는 대기챔버에 수용된다.
그러나, 상기 슬릿노즐이 다시 사용되어야 하는 경우에 작업자가 장비가 설치된 챔버의 도어를 열고 수동으로 상기 대기챔버에서 나온 슬릿 노즐의 노즐립에 묻어 있는 이물질을 닦아주어야 하기 때문에 장비의 유지관리에 있어서 작업자의 수동작업이 반드시 필요하게 되는 불편함이 있다.
뿐만 아니라, 작업자가 상기 노즐립의 표면을 수동으로 닦아 준 이후에도 장비의 안정화시간이 필요하기 때문에 장비의 가동율이 저하되는 문제점이 있다.
본 발명의 해결하고자 하는 과제는 작업자가 수동으로 노즐을 유지 관리해야 하는 상황을 없애고, 자동으로 상기 노즐을 사용 가능한 상태로 유지 관리되도록 하여 장비의 가동율을 향상시킬 수 있는 슬릿 코터를 제공하는 것이다.
본 발명의 해결하고자 하는 다른 과제는 노즐의 유지관리를 위한 복수 개의 샤워부재에 연결되는 유로들의 엉킴을 방지하면서도 유로를 간단하게 형성할 수 있는 슬릿 코터를 제공하는 것이다.
상술한 본 발명의 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 약액이 도포될 기판이 안착되는 작업대; 상기 기판으로 약액을 배출시키는 노즐과, 상기 노즐을 지지하는 노즐홀더를 갖는 노즐유닛; 상기 기판에 약액이 도포되도록 상기 노즐유닛을 이동시키는 노즐이동유닛; 상기 노즐이 사용되지 않을 때 상기 노즐이 수용되는 대기챔버; 상기 노즐이 대기챔버에서 나온 다음 상기 노즐에 구비되는 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위해 상기 노즐립의 표면에 샤워유체를 분사하는 샤워유닛과, 상기 샤워유닛의 전방에 배치되어 상기 샤워유닛과 함께 이동되는 블레이드유닛을 갖는 노즐립 클리너; 그리고, 상기 노즐의 길이 방향을 따라 상기 노즐립 클리너를 이동시키는 클리너 이동유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터를 제공한다.
상기 샤워유닛은 상기 노즐립의 표면으로 상기 샤워유체를 분사하는 샤워부재와, 상기 샤워부재와 결합되면서 내부에는 상기 샤워유체의 이동 경로를 형성하는 고정유로부를 갖는 고정블럭과, 상기 고정블럭과 결합되되 내부에는 상기 고정유로부와 연통되는 연결유로부를 갖는 연결블럭을 포함할 수 있다.
상기 연결블럭은 상기 고정블럭과 결합되는 제1 연결블럭과, 일단은 상기 제1 연결블럭과 결합되고 타단은 상기 클리너 이동유닛의 결합브래킷과 결합되는 제2 연결블럭을 포함할 수 있다.
상기 노즐립 클리너는 상기 샤워유닛 및 상기 블레이드유닛이 결합되는 클리너 본체를 더 포함하고, 상기 샤워유닛은 일측은 상기 제1 연결블럭과 결합되고, 타측은 상기 클리너 본체와 결합되어 상기 클리너 본체와 상기 샤워유닛이 함께 이동될 수 있도록 하기 위한 보강블럭을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 슬릿 코터는 상기 샤워부재에 공급되는 상기 샤워유체가 저장되어 있는 유체공급조와, 일측은 상기 유체공급조와 연결되고 타측은 상기 연결유로부와 연결되어 상기 샤워유체의 이동 경로를 형성하는 유체공급라인을 갖는 샤워유체 공급유닛을 더 포함할 수 있다.
상기 샤워유체 공급유닛은 상기 유체공급라인을 감싸면서 상기 유체공급라인을 보호하기 위하여 다수의 단위 트레이가 상호 링크 결합되는 공급트레이를 더 포함할 수 있다.
상기 샤워부재는 상기 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 세정액이 분사되는 제1 샤워부재와, 상기 제1 샤워부재의 후방에서 상기 노즐립 표면을 건조시키는 건조가스가 분사되는 제2 샤워부재를 포함할 수 있다.
또한, 상기 슬릿 코터는 상기 노즐립 클리너를 세정하기 위해 상기 클리너 이동유닛의 일단부에 구비되는 클리너 세정유닛과, 상기 샤워유닛에서 분사되는 샤워유체와, 상기 노즐립 클리너에 의해 상기 노즐립의 표면으로부터 분리되는 이물질과, 상기 클리너 세정유닛에서 배출되는 세정유체가 수용되는 버킷유닛을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 슬릿 코터에 따르면, 작업자가 수동으로 노즐을 유지 관리해야 하는 상황을 없애고, 자동으로 노즐을 사용 가능한 상태로 유지 관리되도록 함으로써 장비의 가동율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
특히, 노즐립의 클리닝 과정을 전면 자동화함에 따라 작업자가 수동으로 노즐을 유지 관리할 때 발생하는 장비의 안정화 시간이 불필요하게 되어 제품의 생산시간을 단축시키고, 기판에 대한 가공 안정성을 도모할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에서는 클리너 본체와 결합되는 고정블럭 및 연결블럭의 내부공간에 샤워유체가 이동하는 유로를 형성함으로써 복수 개의 샤워부재와 연결되는 유로의 엉킴을 방지하면서도 간단하게 유로를 형성할 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에서는 샤워유닛을 클리너 본체에 결합시키고 클리너 이송유닛을 통하여 상기 샤워유닛과 블레이드유닛을 동시에 이동시킴으로써 상기 샤워유닛을 이송시키기 위한 별도의 이송유닛을 설치할 필요가 없는 이점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 코터를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 코터를 도시한 측면도이다.
도 3은 도 1의 슬릿 코터에 구비된 노즐과 노즐립 클리너를 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 1의 노즐립 표면에 노즐립 클리너가 설치된 상태를 나타낸 정면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐립 클리너에서 샤워유닛의 결합 상태를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 코터를 도시한 측면도이다.
도 3은 도 1의 슬릿 코터에 구비된 노즐과 노즐립 클리너를 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 1의 노즐립 표면에 노즐립 클리너가 설치된 상태를 나타낸 정면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐립 클리너에서 샤워유닛의 결합 상태를 도시한 단면도이다.
이하, 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시 예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시 예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 슬릿 코터는 작업대(100), 노즐유닛(200), 노즐이동유닛(300), 대기챔버(800), 노즐립 클리너(400), 클리너 이동유닛(500), 클리너 세정유닛(600), 버킷유닛(700) 및 샤워유체 공급유닛(50)을 포함한다.
구체적으로, 상기 작업대(100)에는 약액이 도포될 기판이 놓여지게 되고, 상기 노즐유닛(200)은 상기 기판의 상면을 이동하면서 상기 약액을 상기 기판에 도포하게 된다.
상기 노즐유닛(200)은 상기 기판의 상면에 약액을 도포하기 위한 노즐(210)과, 상기 노즐(210)의 상부영역을 잡아주는 노즐홀더(220)를 포함한다.
상기 노즐(210)은 상기 노즐홀더(220)에 결합되는 노즐본체(211)와, 상기 노즐본체(211)의 하부영역으로 돌출되어 약액을 분사하는 노즐립(213)을 포함한다.
상기 노즐립(213)에는 약액이 배출되는 약액분출구가 구비된 노즐팁과, 노즐본체(211)로부터 노즐립을 향해 연장되는 제1측면(213a)과 제2측면(213b)이 형성되어 있다.
약액분출구는 홀 형상 또는 슬릿 형상으로 구비될 수 있고, 상기 제1측면(213a)과 상기 제2측면(213b)은 상기 노즐본체(211)로부터 상기 노즐팁을 향해 경사지게 구비되어, 도 2에 도시된 바와 같이, 상광하협의 종단면 형상을 가진다.
상기 노즐이동유닛(300)은 상기 노즐홀더(220)의 양측에 설치되어 상기 노즐홀더(220)를 이동시킴으로써 상기 노즐(210)을 이동시키게 된다.
상기 노즐립 클리너(400)는 상기 노즐립(213)에 묻어있는 약액을 제거하기 위한 것으로서, 상기 노즐립 클리너(400)의 블레이드들은 상기 노즐립(213)의 표면에 접촉된 상태에서 상기 약액을 긁어 내게 된다. 상기 노즐립 클리너(400)의 구조에 대해서는 추후 구체적으로 설명한다.
상기 클리너 이동유닛(500)은 상기 노즐립 클리너(400)를 상기 노즐(210)의 길이방향을 따라 이동시키게 된다. 즉, 상기 노즐(110)은 정지된 상태로 유지되고 있는 상황에서 상기 클리너 이동유닛(500)이 상기 노즐립 클리너(400)를 이동시킴으로써 상기 노즐립 클리너(400)가 상기 노즐립에 묻어 있는 약액을 제거하게 된다.
상기 클리너 세정유닛(600)은 상기 클리너 이동유닛(500)의 일단부에 구비되어 상기 노즐립(213)에 묻어있는 약액을 제거하는 과정에 사용되었던 상기 노즐립 클리너(400)를 세정하게 된다.
또한, 상기 버킷유닛(700)은 적어도 일부분이 상기 노즐립 클리너(400) 및 상기 클리너 세정유닛(600)의 하부에 배치된다. 상기 버킷유닛(700)에는 상기 샤워유닛(40)에서 분사되는 샤워유체와, 상기 노즐립 클리너(400)에 의하여 상기 노즐립의 표면으로부터 분리되는 이물질과, 상기 클리너 세정유닛(600)에서 배출되는 세정유체가 수용된다.
상기 대기챔버(800)는 상기 노즐(110)이 사용되기 전에 수용되는 장소이며, 상기 노즐(110)이 사용되지 않을 때 상기 노즐의 약액분출구가 건조되는 것을 방지하기 위하여 상기 대기챔버(800)에는 항상 세정액이 담겨져 있다.
상기 대기챔버(800)는 상기 작업대(100)의 일측에 배치되되, 상기 버킷유닛과 인접하게 배치된다. 예를 들면, 상기 대기챔버(800)의 적어도 일부분은 상기 버킷유닛(700)의 내부 공간에 배치될 수 있다.
한편, 상기 노즐립 클리너(400)는 클리너 본체(10), 상기 클리너 본체(10)의 후방영역에 배치되는 샤워유닛(40), 상기 클리너 본체(10)의 내측면에 결합되는 블레이드 지지유닛, 상기 블레이드 지지유닛에 결합되는 블레이드유닛, 상기 블레이드유닛에 구비된 블레이드들의 설치각도를 조절하기 위한 각도조절유닛(미도시), 상기 블레이드의 선단과 노즐립의 표면이 평행을 이루도록 하기 위한 서포트 핀유닛(60)을 포함한다.
상기 클리너 본체(10)는 베이스블럭(11)과, 상기 베이스블럭(11)의 양측에 상호 이격되어 배치되는 제1 측면블럭(13)과, 제2 측면블럭(15)을 포함한다.
여기서, 상기 제1 측면블럭(13)의 내측면과 상기 제2 측면블럭(15)의 내측면은 각각 상기 베이스블럭(11)의 상면에 대하여 상향 경사지게 형성된다.
상기 블레이드유닛은 상기 샤워유닛(40)의 전방에 배치되어 상기 샤워유닛(40)과 함께 이동된다. 구체적으로, 상기 블레이드유닛은 상기 노즐립(213)의 표면에 대응하여 상기 제1 측면(213a)에 접촉되어 이물질을 긁어내는 제1 블레이드(31)와, 상기 제2측면(213b)에 접촉되어 이물질을 긁어내는 제2 블레이드(32)와, 상기 노즐팁에 접촉되어 상기 노즐팁에서 흘러 나온 약액을 긁어내는 제3블레이드(33)를 포함한다.
여기서, 제1블레이드(31)와 제2블레이드(32)는 실질적으로 동일한 구조를 가지고, 서로 빗각으로 설치될 수 있다. 또한, 제3블레이드(33)는 상기 베이스 블럭(11)의 상면에 대하여 상향 경사지게 배치될 수 있다.
또한, 상기 블레이드들은 상기 노즐립의 표면에 묻어 있는 약액을 효율적으로 긁어내기 위하여 상기 노즐립(213)과 접촉되는 블레이드의 선단으로 갈수록 두께가 얇아지도록 형성될 수 있다.
상기 블레이드 지지유닛은 상기 클리너 본체(10)에 결합되어 상기 블레이드유닛을 지지하게 된다. 구체적으로, 상기 블레이드 지지유닛은 상기 제1 블레이드(31)가 결합되는 제1블레이드 지지부재(21)와, 상기 제2블레이드(32)가 결합되는 제2 블레이드 지지부재(22)와, 상기 제3 블레이드(33)가 결합되는 제3 블레이드 지지부재(23)를 포함한다.
상기 블레이드 지지유닛에는 상기 블레이드들의 후단이 안착되는 자리파기홈(미도시)이 형성되어 상기 블레이드들을 안정적으로 지지하게 된다.
상기 서포트 핀유닛(60)은 상기 블레이드유닛과 블레이드 지지유닛 사이에 배치되어 상기 블레이드유닛의 폭 방향 회전 중심을 형성하게 된다.
구체적으로, 상기 서포트 핀유닛(60)의 선단부가 상기 블레이드들의 폭보다 작은 폭을 가지기면서 상기 각도조절유닛(미도시)에 의하여 상기 블레이드들이 이동될 때 상기 서포트 핀유닛(60)의 선단부는 상기 블레이드들 폭방향 회전중심이 된다.
한편, 상기 샤워유닛(40)은 상기 노즐(210)이 상기 대기챔버(800)에서 나온 다음 상기 노즐립(213)의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위해 상기 노즐립(213)의 표면에 샤워유체를 분사하게 된다. 상기 샤워유닛(40)은 샤워부재(41), 고정블럭(42), 연결블럭(44) 및 보강블럭(미도시)을 포함한다.
구체적으로, 상기 샤워부재(41)는 상기 노즐립의 표면으로 상기 샤워유체를 분사하게 된다.
상기 샤워부재(41)는 상기 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 세정액이 분사되는 제1 샤워부재(41a)와, 상기 제1 샤워부재(41a)의 후방에서 상기 노즐립 표면을 건조시키는 건조가스가 분사되는 제2 샤워부재(41b)를 포함한다.
여기서, 상기 건조가스는 질소가스(N2) 또는 클린 드라이 에어(Clean Dry Air)를 포함할 수 있다.
본 실시 예에서는, 상기 제1 샤워부재(41a)는 상기 노즐립을 기준으로 양측에 각각 하나씩 배치되고, 상기 제2 샤워부재(41b)도 상기 노즐립을 기준으로 양측에 상기 각각 하나씩 배치되지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 샤워부재(41)의 개수는 가변될 수 있다.
또한, 상기 제1 샤워부재(41a)와 상기 제2 샤워부재(41b)는 동시에 상기 노즐립(213)의 표면을 향하여 각각 세정액과 건조가스를 분사할 수도 있지만, 상기 제2 샤워부재(41b)에 의하여 상기 건조가스만 상기 노즐립(213)의 표면으로 분사될 수도 있을 것이다.
상기 샤워부재(41)의 토출구는 상기 클리너 본체(10)의 하면을 기준으로 상기 블레이드들보다 높게 설치된다. 따라서, 상기 노즐(210)이 상기 대기챔버(800)에서 나온 후 상기 노즐립 클리너(400)가 이동되면서 상기 노즐립(213)의 표면으로 샤워유체가 분사될 때 상기 블레이드 유닛은 상기 노즐립(213)의 표면과 접촉되어 있지 않게 된다.
즉, 상기 노즐립(213)의 하면이 상기 블레이드들보다 상부에 위치된 상태에서 상기 노즐립 클리너(400)가 이동하게 되면, 상기 샤워부재(41)가 상기 노즐립(213)의 표면으로 상기 샤워유체를 분사하게 된다.
물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 블레이드들이 상기 노즐립의 표면에 접촉되어 상기 노즐립에 묻어 있는 이물질을 제거하고, 상기 노즐립 클리너(400)의 이동방향을 기준으로 상기 블레이드들의 후방에서 상기 샤워부재(41)가 상기 노즐립의 표면을 향하여 상기 샤워유체를 분사할 수도 있을 것이다.
상기 샤워유체의 분사 방향은 상기 노즐립(213)의 표면을 따라 하향 분사될 수 있다. 상기 샤워유체가 상기 노즐립을 향하여 하향 분사됨으로써 상기 노즐립(213)에 묻어 있는 이물질의 낙하를 용이하게 하여 상기 이물질을 노즐립(213)의 표면으로부터 쉽게 분리될 수 있게 된다.
상기 고정블럭(42)은 상기 샤워부재(41)와 결합되면서 내부에는 상기 샤워유체의 이동 경로를 형성하는 고정유로부(43)를 갖는다.
상기 고정블럭(42)의 상단에는 상기 샤워부재(41)가 결합되는 고정유로포트(43a)가 형성되고, 상기 고정블럭(42)의 하단부는 상기 연결블럭(44)과 결합된다.
상기 고정유로부(43)는 상기 연결블럭의 연결유로부(45)와 연통되는 수직유로부(42b)와, 일측은 상기 수직유로부(42b)와 연통되고 타측은 상기 고정유로포트(43a)와 연통되는 수평유로부(42a)를 포함한다.
여기서, 세부적으로 도시하지는 않았지만, 상기 제1 샤워부재(41a)가 연결되는 고정유로포트 및 고정유로부는 상기 제2 샤워부재(41b)가 연결되는 고정유로포트 및 고정유로부와 독립적으로 구획되어 상기 고정블럭(42)에 형성된다.
상기 연결블럭(44)은 상기 고정블럭(42)과 결합되되 내부에는 상기 고정유로부(43)와 연통되는 연결유로부(45)를 갖는다.
상기 연결블럭(44)은 상기 고정블럭(42)과 결합되는 제1 연결블럭(44a)과, 일단은 상기 제1 연결블럭(44a)과 결합되고 타단은 상기 클리너 이동유닛의 결합브래킷(510)과 결합되는 제2 연결블럭(44b)을 포함한다.
상기 제1 연결블럭(44a)의 상면에는 상기 고정블럭(42)과 결합되는 제1 연결유로포트(45a)가 형성되고, 상기 제1 연결블럭(44a)의 내부에는 상기 수직유로부(42b)와 연통되는 제1 연결유로(45d)가 형성되어 있다.
또한, 상기 제2 연결블럭(44b)의 상면에는 상기 샤워유체 공급유닛의 공급라인(52)과 연결되는 제2 연결유로포트(45b)가 형성되고, 상기 제2 연결블럭(44b)의 내부에는 상기 제1 연결유로(45d)와 연통되는 제2 연결유로(45c)가 형성되어 있다.
여기서, 상기 제1 연결블럭(44a)은 상기 고정블럭(42)의 저면에 결합되고, 상기 제2 연결블럭(44b)은 상기 고정블럭(42)의 측면에서 이격된 상태로 상기 제1연결블럭(44a)의 측면에 결합하여 상기 고정유로부(43)와 상기 연결유로부(45)를 연결시키게 된다.
결과적으로, 상기 고정블럭(42) 및 연결블럭(44)의 내부공간에 샤워유체가 이동하는 유로를 형성함으로써 복수 개의 샤워부재와 연결되는 유로의 엉킴을 방지하면서도 간단하게 유로를 형성할 수 있게 된다.
상기 연결블럭(44)의 내부에 형성되는 연결유로부 및 연결유로포트는 상기 고정블블럭의 고정유로부 및 고정유로포트와 대응되도록 상호 구획되어 복수 개가 마련될 수 있다.
본 실시 예에서는 상기 고정블럭(42)과 연결블럭(44)이 두 개의 독립된 블럭으로 제작되어 결합되지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 고정블럭(42)과 상기 연결블럭(44)의 하나의 블럭으로 일체로 형성될 수도 있을 것이다.
상기 보강블럭(미도시)은 일측은 상기 제1 연결블럭(44a)과 결합되고, 타측은 상기 클리너 본체(10)와 결합되어 상기 클리너 본체(10)와 상기 샤워유닛(40)이 함께 이동될 수 있도록 한다.
결과적으로, 상기 샤워유닛(40)과 상기 블레이드 유닛(30)이 상기 클리너 본체(10)에 결합되고, 상기 클리너 본체(10)가 클리너 이동유닛(500)에 의하여 이송됨으로써 상기 샤워유닛을 이송시키기 위한 별도의 이송유닛이 불필요하게 된다.
물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 클리너 이동유닛의 결합브래킷(미도시)은 상기 클리너 본체(10)에 결합될 수도 있을 것이다.
예를 들면, 상기 클리너 이동유닛의 결합브래킷은 상기 클리너 본체(10)에 결합되고, 상기 샤워유닛(40)은 상기 클리너 본체(10)에 선택적으로 결합될 수 있다. 이때, 상기 블레이드유닛(30)이 상기 노즐립(213)의 표면에 묻은 약액을 긁어낼 때는 상기 샤워유닛(40)과 상기 클리너 본체(10)의 결합은 해제된 상태에서 상기 클리너 이동유닛(500)에 의하여 상기 클리너 본체(10)만 이동할 수 있다.
또한, 상기 샤워유닛(40)이 상기 노즐립(213)의 표면에 샤워유체를 분사하는 경우에는 상기 샤워유닛(40)과 상기 클리너 본체가 결합된 상태에서 상기 클리너 이동유닛(500)에 의하여 상기 클리너 본체(10)와 상기 샤워유닛(40)이 동시에 이동할 수 있을 것이다.
한편, 상기 샤워유체 공급유닛(50)은 상기 샤워부재(41)에서 샤워유체가 토출되도록 상기 샤워부재(41)에 샤워유체를 공급한다. 구체적으로, 상기 샤워유체 공급유닛(50)은 유체공급조(51), 유체공급라인(52), 펌핑유닛(54) 및 공급트레이(53)를 포함한다.
상기 유체공급조(51)에는 상기 샤워부재(41)에 공급되는 상기 샤워유체가 저장되어 있다. 이때, 상기 샤워유체는 필요에 따라 상기 유체공급조(51)에 보충됨으로써, 샤워유체를 계속적으로 상기 샤워부재(41)에 공급할 수 있게 된다.
상기 유체공급라인(52)은 일측은 상기 유체공급조(51)와 연결되고 타측은 상기 연결유로부(45)와 연결되어 상기 샤워유체의 이동 경로를 형성한다. 상기 유체공급라인(52)은 상기 노즐립 클리너(400)가 이동됨에 따라 구부러질 수 있다. 예를 들면, 상기 유체공급라인(52)은 구부러질 수 있는 호스로 구성될 수 있다.
상기 펌핑유닛(54)은 상기 샤워유체를 이동시킴과 동시에 상기 샤워부재(41)에서 토출되는 상기 샤워유체의 압력을 조절한다. 예를 들면, 상기 펌핑유닛(54)은 펌프, 실린더, 컴프레셔 등과 같이 다양한 형태로 구현될 수 있다.
상기 공급트레이(53)는 상기 유체공급라인(52)을 감싸면서 상기 유체공급라인(52)을 보호하기 위하여 다수의 단위 트레이가 상호 링크 결합되어 있다. 예를 들면, 상기 공급트레이는 케이블 트레이 형태로 구현될 수 있다.
상기 공급트레이(53)의 일단부는 노즐립 클리너(400)에 결합되고, 타단부는 상기 클리너 이동유닛(500) 일측에 결합된다. 물론, 상기 공급트레이(53)의 타단부는 상기 작업대에 고정될 수도 있을 것이다.
특히, 상기 공급트레이(53)는 다수의 단위트레이가 상호 링크 결합됨으로써, 상기 노즐립 클리너(400)의 이동에 따라 각각의 상호 인접한 두 개의 단위트레이들이 서로 회동함으로써, 상기 유체공급라인(52)을 보호하면서 구부러질 수 있다.
본 실시 예에 따른 슬릿 코터에서 노즐에 대한 유지관리가 자동으로 수행되는 과정을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 노즐(210)이 기판의 상면에 약액을 토출하고 난 이후, 상기 노즐이 사용되지 않으면 상기 노즐(210)은 대기챔버(800)에 수용된다.
이후, 새로운 기판의 상면에 약액을 분사하여야 하는 경우에 제어유닛(미도시)은 상기 노즐(210)이 상기 대기챔버(800)의 외부로 나오도록 노즐이동유닛(300)을 제어하게 된다.
통상적으로, 상기 노즐이 상기 대기챔버(800)에 수용되었다가 상기 대기챔버(800)의 외부로 나오게 되면, 상기 노즐립의 청결상태를 유지하기 위하여 반드시 상기 노즐립의 표면을 닦아주어야 한다.
상기 제어유닛은 상기 노즐(210)에 대한 유지 관리, 즉 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위하여 상기 노즐(210)의 길이방향과 노즐립 클리너(400)가 일직선상에 배치되도록 상기 노즐이동유닛(300)을 제어하게 된다.
이때, 상기 노즐립의 하단부 상기 노즐립 클리너(400)에 구비된 블레이드들의 상부에 위치되도록 상기 노즐(210)의 위치가 조정된다.
다음으로, 상기 제어유닛은 클리너 이동유닛(500)을 제어하면서 상기 노즐립 클리너(400)가 상기 클리너 이동유닛(500)에 의하여 상기 노즐(210)의 길이방향을 따라 이동하도록 한다.
동시에, 상기 제어유닛은 상기 노즐립 클리너(400)에 구비된 샤워유닛(40)을 제어하여 상기 샤워유닛(40)에서 분사된 샤워유체가 상기 노즐립(213)에 묻어 있는 이물질을 상기 노즐립(213)으로부터 분리시키도록 한다. 물론, 상기 샤워유닛(40)에서는 건조가스만 분사될 수도 있고, 세정액과 건조가스가 순차적으로 분사될 수도 있다.
상기 샤워유닛(40)에 의하여 상기 노즐립(213)의 표면으로부터 분리된 이물질은 상기 대기챔버(800)와 이웃하게 배치되는 버킷유닛(700)에 수용된다.
상기 샤워유닛(40)에 의한 상기 노즐의 유지 관리가 종료되면, 상기 제어유닛은 상기 노즐(210)이 상기 새로운 기판의 상면으로 이동되도록 하여 약액을 상기 새로운 기판의 상면에 토출하도록 한다.
상술한 슬릿 코터에 따르면, 작업자가 수동으로 노즐을 유지 관리해야 하는 상황을 없애고, 자동으로 노즐을 사용 가능한 상태로 유지 관리되도록 하여 장비의 가동율을 향상시킬 수 있다.
특히, 노즐립의 클리닝 과정을 전면 자동화함에 따라 작업자가 수동으로 노즐을 유지 관리할 때 발생하는 장비의 안정화 시간이 불필요하게 되어 제품의 생산시간을 단축시킬 수 있게 된다.
상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.
40: 샤워유닛
41: 샤워부재
42: 고정블럭 43: 고정유로부
44: 연결블럭 45: 연결유로부
50: 샤워유체 공급유닛 51: 유체공급조
52: 유체공급라인 53: 공급트레이
100: 작업대 200: 노즐유닛
210: 노즐 211: 노즐본체
213: 노즐립 220: 노즐홀더
300: 노즐이동유닛 400: 노즐립 클리너
500: 클리너 이동유닛 600: 클리너 세정유닛
700: 버킷유닛 800: 대기챔버
42: 고정블럭 43: 고정유로부
44: 연결블럭 45: 연결유로부
50: 샤워유체 공급유닛 51: 유체공급조
52: 유체공급라인 53: 공급트레이
100: 작업대 200: 노즐유닛
210: 노즐 211: 노즐본체
213: 노즐립 220: 노즐홀더
300: 노즐이동유닛 400: 노즐립 클리너
500: 클리너 이동유닛 600: 클리너 세정유닛
700: 버킷유닛 800: 대기챔버
Claims (8)
- 약액이 도포될 기판이 안착되는 작업대;
상기 기판으로 약액을 배출시키는 노즐과, 상기 노즐을 지지하는 노즐홀더를 갖는 노즐유닛;
상기 기판에 약액이 도포되도록 상기 노즐유닛을 이동시키는 노즐이동유닛;
상기 노즐이 사용되지 않을 때 상기 노즐이 수용되는 대기챔버;
상기 노즐이 상기 대기챔버에서 나온 다음 상기 노즐에 구비되는 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위해 상기 노즐립의 표면에 샤워유체를 분사하는 샤워유닛과, 상기 샤워유닛의 전방에 배치되어 상기 샤워유닛과 함께 이동되는 블레이드유닛을 갖는 노즐립 클리너; 그리고,
상기 노즐의 길이 방향을 따라 상기 노즐립 클리너를 이동시키는 클리너 이동유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터. - 제1항에 있어서,
상기 샤워유닛은 상기 노즐립의 표면으로 상기 샤워유체를 분사하는 샤워부재와, 상기 샤워부재와 결합되면서 내부에는 상기 샤워유체의 이동 경로를 형성하는 고정유로부를 갖는 고정블럭과, 상기 고정블럭과 결합되되 내부에는 상기 고정유로부와 연통되는 연결유로부를 갖는 연결블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터. - 제2항에 있어서,
상기 연결블럭은 상기 고정블럭과 결합되는 제1 연결블럭과, 일단은 상기 제1 연결블럭과 결합되고 타단은 상기 클리너 이동유닛의 결합브래킷과 결합되는 제2 연결블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터. - 제3항에 있어서,
상기 노즐립 클리너는 상기 샤워유닛 및 상기 블레이드유닛이 결합되는 클리너 본체를 더 포함하고,
상기 샤워유닛은 일측은 상기 제1 연결블럭과 결합되고, 타측은 상기 클리너 본체와 결합되어 상기 클리너 본체와 상기 샤워유닛이 함께 이동될 수 있도록 하기 위한 보강블럭을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터. - 제2항에 있어서,
상기 샤워부재에 공급되는 상기 샤워유체가 저장되어 있는 유체공급조와, 일측은 상기 유체공급조와 연결되고 타측은 상기 연결유로부와 연결되어 상기 샤워유체의 이동 경로를 형성하는 유체공급라인을 갖는 샤워유체 공급유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터. - 제5항에 있어서,
상기 샤워유체 공급유닛은 상기 유체공급라인을 감싸면서 상기 유체공급라인을 보호하기 위하여 다수의 단위 트레이가 상호 링크 결합되는 공급트레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터. - 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 샤워부재는 상기 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 세정액이 분사되는 제1 샤워부재와, 상기 제1 샤워부재의 후방에서 상기 노즐립 표면을 건조시키는 건조가스가 분사되는 제2 샤워부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노즐립 클리너를 세정하기 위해 상기 클리너 이동유닛의 일단부에 구비되는 클리너 세정유닛과,
상기 샤워유닛에서 분사되는 샤워유체와, 상기 노즐립 클리너에 의해 상기 노즐립의 표면으로부터 분리되는 이물질과, 상기 클리너 세정유닛에서 배출되는 세정유체가 수용되는 버킷유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140191722A KR102324883B1 (ko) | 2014-12-29 | 2014-12-29 | 슬릿 코터 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140191722A KR102324883B1 (ko) | 2014-12-29 | 2014-12-29 | 슬릿 코터 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160082742A true KR20160082742A (ko) | 2016-07-11 |
KR102324883B1 KR102324883B1 (ko) | 2021-11-12 |
Family
ID=56499411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140191722A KR102324883B1 (ko) | 2014-12-29 | 2014-12-29 | 슬릿 코터 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102324883B1 (ko) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040091927A (ko) * | 2003-04-23 | 2004-11-03 | 삼성전자주식회사 | 세정 유닛, 이를 갖는 코팅 장치 및 방법 |
KR20050072585A (ko) * | 2004-01-07 | 2005-07-12 | 세메스 주식회사 | 슬릿노즐 세정 장치 및 이를 가지는 슬릿노즐 처리 장치 |
KR20080100014A (ko) * | 2007-05-11 | 2008-11-14 | 주식회사 케이씨텍 | 슬릿코터의 노즐 세정장치 |
KR20080104941A (ko) * | 2007-05-28 | 2008-12-03 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 노즐 세정 장치 |
JP2009220056A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Toray Ind Inc | スリットノズルの清掃方法及び清掃装置並びに、ディスプレイ用部材の製造方法及び製造装置 |
KR20110058286A (ko) * | 2009-11-26 | 2011-06-01 | 세메스 주식회사 | 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치 |
KR20110061186A (ko) * | 2009-12-01 | 2011-06-09 | 세메스 주식회사 | 노즐 세정 장치 그리고 이를 구비하는 기판 도포 장치 및 그의 노즐 세정 방법 |
KR20130036401A (ko) * | 2011-10-04 | 2013-04-12 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 코터 장치 및 이를 이용한 코팅 방법 |
KR20130072788A (ko) * | 2011-12-22 | 2013-07-02 | 세메스 주식회사 | 도포 방법 |
KR101328730B1 (ko) | 2012-03-28 | 2013-11-11 | 주식회사 디엠에스 | 슬릿코터 |
-
2014
- 2014-12-29 KR KR1020140191722A patent/KR102324883B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040091927A (ko) * | 2003-04-23 | 2004-11-03 | 삼성전자주식회사 | 세정 유닛, 이를 갖는 코팅 장치 및 방법 |
KR20050072585A (ko) * | 2004-01-07 | 2005-07-12 | 세메스 주식회사 | 슬릿노즐 세정 장치 및 이를 가지는 슬릿노즐 처리 장치 |
KR20080100014A (ko) * | 2007-05-11 | 2008-11-14 | 주식회사 케이씨텍 | 슬릿코터의 노즐 세정장치 |
KR20080104941A (ko) * | 2007-05-28 | 2008-12-03 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 노즐 세정 장치 |
JP2009220056A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Toray Ind Inc | スリットノズルの清掃方法及び清掃装置並びに、ディスプレイ用部材の製造方法及び製造装置 |
KR20110058286A (ko) * | 2009-11-26 | 2011-06-01 | 세메스 주식회사 | 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치 |
KR20110061186A (ko) * | 2009-12-01 | 2011-06-09 | 세메스 주식회사 | 노즐 세정 장치 그리고 이를 구비하는 기판 도포 장치 및 그의 노즐 세정 방법 |
KR20130036401A (ko) * | 2011-10-04 | 2013-04-12 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 코터 장치 및 이를 이용한 코팅 방법 |
KR20130072788A (ko) * | 2011-12-22 | 2013-07-02 | 세메스 주식회사 | 도포 방법 |
KR101328730B1 (ko) | 2012-03-28 | 2013-11-11 | 주식회사 디엠에스 | 슬릿코터 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102324883B1 (ko) | 2021-11-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101020779B1 (ko) | 에어나이프 장치 | |
US2899929A (en) | Cleaning spray nozzles | |
CN100531926C (zh) | 喷嘴的清洗装置 | |
KR20180116113A (ko) | 애닐록스 롤의 자동 세정 장치와 그 세정 방법 | |
CN105182689A (zh) | 一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法 | |
KR100979976B1 (ko) | 기판 유지용 척의 세정·건조 장치 및 기판 유지용 척의세정·건조 방법 | |
JP2007294907A5 (ko) | ||
KR20160082742A (ko) | 슬릿 코터 | |
JP4812610B2 (ja) | ノズルの洗浄方法 | |
TWI803629B (zh) | 塗布用管嘴的清掃裝置 | |
JP5002369B2 (ja) | ノズル保管装置および塗布装置 | |
KR200482218Y1 (ko) | 노즐 간격 조절이 가능한 나이프 | |
JP5226984B2 (ja) | ノズル洗浄装置および塗布装置 | |
KR101652481B1 (ko) | 이중 슬릿 노즐를 이용한 약액 도포 장치 | |
KR100940405B1 (ko) | 포토레지스트 노즐팁 세정장치 | |
JP2010051839A (ja) | 洗浄装置 | |
KR100687505B1 (ko) | 슬릿코터의 예비토출장치 | |
KR101289501B1 (ko) | 디스펜싱용 젯 밸브의 노즐 청소 블레이드 | |
JP6505165B2 (ja) | 洗浄装置 | |
KR101090347B1 (ko) | 기판 식각장치 | |
KR102324882B1 (ko) | 노즐립 클리너 세정유닛 | |
JP2009279477A (ja) | 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法 | |
KR20130131924A (ko) | 디스플레이 기판 세정장치 | |
KR100641026B1 (ko) | 슬릿형 노즐을 가지는 혼합 유체 분사 기구 | |
CN110124920A (zh) | 一种喷嘴清洁装置及涂布设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |