KR20080104941A - 노즐 세정 장치 - Google Patents

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KR20080104941A
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다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
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Abstract

장기간에 걸쳐 노즐을 충분히 청정하게 세정하는 것이 가능한 노즐 세정 장치를 제공하는 것으로서, 세정 블록(61)은, 한 쌍의 비산 방지판(73)과, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)을 구비한 4개의 불활성 가스 분출용 블록(75)과, 칸막이 판(74)과, 지지 부재에 지지된 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)와, 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)을 지지하는 한쌍의 노즐용 블록(76)을 구비한다. 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때에는, 하면 세정 브러시(82)는 슬릿 노즐의 하단부 하면과, 우측면 세정 브러시(83)는 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 우측면과, 좌측면 세정 브러시(81)는 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면과, 각각, 접촉 가능한 위치에 배치되어 있다.

Description

노즐 세정 장치{APPARATUS FOR WASHING NOZZLE}
본 발명은, 길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 세정하기 위한 노즐 세정 장치에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼나 액정 표시 패널용 유리 기판 혹은 반도체 제조 장치용 마스크 기판 등의 기판에 대해 포토레지스트 등의 처리액을 도포하는 도포 장치에 있어서, 길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출함으로써, 기판의 표면에 처리액을 도포한다. 이 도포 장치에 있어서는, 처리액의 도포에 의해 오염된 노즐을, 노즐 세정 장치에 의해 세정하는 구성으로 되어 있다.
이러한 노즐 세정 장치로는, 예를 들면, 일본 특허 출원 공개 2005-262127호 공보에 기재된 것처럼, 노즐의 하단부에 세정액을 공급해 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치가 사용되고 있다.
또한, 일본 특허 공개 2004-122065호 공보에 기재된 것처럼, 세정액을 공급한 다공질 재료로 이루어진 불식(拂拭) 부재를 이용해 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치도 제안되어 있다.
특허 문헌 1에 기재된 바와같이, 세정액만에 의해 노즐을 세정하는 구성을 채용한 경우에는, 처리액의 종류에 따라서는 노즐을 충분히 세정할 수 없는 경우가 있다. 또한, 특허 문헌 2에 기재된 것처럼 다공질 재료로 이루어진 불식 부재를 사용한 경우에는, 불식 부재가 노즐과의 접촉에 의해 손상된다고 하는 문제가 발생한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로서, 장기간에 걸쳐 노즐을 충분히 청정하게 세정하는 것이 가능한 노즐 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
청구항 1 기재의 발명은, 길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 세정하기 위한 노즐 세정 장치로서, 상기 슬릿 노즐의 하단부 하면에 접촉 가능한 하면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 우측면에 접촉 가능한 우측면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향에 대해 상기 우측면 세정 부재와는 다른 위치에 설치되고, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면에 접촉 가능한 좌측면 세정 부재를 가지는 세정 블록과, 상기 세정 블록을, 상기 하면 세정 부재, 상기 우측면 세정 부재 및 상기 좌측면 세정 부재에 의해 슬릿 노즐의 하단부를 세정하면서 이동하는 세정 영역과, 상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재가 슬릿 노즐로부터 이격된 대기 위치 사이에서 왕복 이동시키는 이동 기구와, 상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 두고 상기 우측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 우측면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제1 노즐과, 상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 두고 상기 좌측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 좌측면 세정 부재를 향해서 세정액을 토출 가능한 제2 노즐과, 세정 블록이 상기 세정 영역을 이동하고 있을 때와, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치되었을 때에, 상기 제1 노즐 및 상기 제2 노즐에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 구비한 것을 특징으로 한다.
청구항 2 기재의 발명은, 청구항 1 기재의 발명에 있어서, 상기 하면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제3 노즐을 더 가지고, 상기 세정액 공급부는, 세정 블록이 상기 세정 영역을 이동하고 있을 때와, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치되었을 때에, 상기 제3 노즐에 세정액을 공급한다.
청구항 3 기재의 발명은, 청구항 1 또는 청구항 2 기재의 발명에 있어서, 상기 세정 블록에 있어서의 상기 우측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 우측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 우측면에 기체를 분출하는 우측면용 기체 분출 수단과, 상기 세정 블록에 있어서의 상기 좌측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 좌측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 좌측면에 기체를 분출하는 좌측면용 기체 분출 수단을 더 구비한다.
청구항 4 기재의 발명은, 청구항 3 기재의 발명에 있어서, 상기 우측면용 기체 분출 수단과, 상기 좌측면용 기체 분출 수단은, 각각, 상기 슬릿 노즐의 하단부를 향해 기체를 분출하는 슬릿 형상의 기체 분출공을 가진다.
청구항 5 기재의 발명은, 청구항 1 기재의 발명에 있어서, 상기 세정 블록이 상기 대기 위치로 이동했을 때, 상기 세정 블록의 상부를 덮는 세정액의 비산 방지 커버를 더 구비한다.
청구항 6 기재의 발명은, 청구항 1 기재의 발명에 있어서, 상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재는 브러시이다.
청구항 1 기재의 발명에 의하면, 세정 블록이 세정 영역을 이동할 때, 슬릿 노즐을 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재에 의해 충분히 청정하게 세정할 수 있고, 또한, 세정 블록이 대기 위치에 배치되었을 때에, 세정액에 의해 하면 세정 부재, 우측면세정 부재 및 좌측면 세정 부재를 세정할 수 있다. 이때, 우측면 세정 부재와 좌측면 세정 부재가 슬릿 노즐의 길이 방향에 대해 다른 위치에 설치되어 있으므로, 제1 노즐로부터 토출된 세정액과 상기 제 2노즐로부터 토출된 세정액이 충돌하는 것을 방지할 수 있다.
청구항 2 기재의 발명에 의하면, 제1 노즐 및 제2 노즐로부터 토출된 세정액이 하면 세정 부재에 충분히 도달하지 않는 경우에 있어서도, 하면 세정 부재를 충분히 세정하는 것이 가능해진다.
청구항 3 기재의 발명에 의하면, 노즐의 하단부에 부착된 세정액을 기체에 의해 제거하는 것이 가능해진다.
청구항 4 기재의 발명에 의하면, 노즐의 하단부에 부착된 세정액을 보다 충분히 슬릿 형상의 기체에 의해 제거하는 것이 가능해진다.
청구항 5 기재의 발명에 의하면, 대기 위치에 있어서 세정액에 의해 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재를 세정할 때, 세정액이 외부로 비산하는 것을 유효하게 방지하는 것이 가능해진다.
청구항 6 기재의 발명에 의하면, 슬릿 노즐을 브러시에 의해 충분히 세정하는 것이 가능해지고, 또한, 그 수명을 길게 하는 것이 가능해진다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 의거해 설명한다. 도 1은 본 발명에 관한 노즐 세정 장치를 적용한 도포 장치의 사시도이며, 도 2는 그 측면도이다. 또한, 도 1에 있어서는, 프리디스펜스 기구(2) 및 노즐 세정 장치(6) 등의 도시를 생략한다. 또한, 도 2에 있어서는, 캐리지(4) 등의 도시를 생략한다.
이 도포 장치는, 직사각형 형상을 이루는 액정 패널용 유리 기판(이하 「기판」이라고 한다)(W)에, 예를 들면, 컬러 레지스트로 호칭되는 안료를 포함하는 레지스트를 도포하기 위한 것이다
이 도포 장치는, 기판(W)을 지지하기 위한 스테이지(3)를 구비한다. 이 스테이지(3)는 직방체 형상을 가지는 석제이고, 그 상면은 수평면으로 되어 있고, 기판(W)의 지지면(30)으로 되어 있다. 지지면(30)에는 도시하지 않은 다수의 진공 흡착구가 분포해 형성되어 있고, 도포 장치에 있어서 기판(W)을 흡착 지지하는 구성으로 되어 있다. 또한, 도 1에 있어서 모식적으로 도시한 바와 같이, 지지면(30)에는, 도시하지 않은 구동 수단에 의해 상하로 승강 자유로운 복수의 리프트 핀(39)이 적절한 간격을 두고 설치되어 있다. 이 리프트 핀(39)은, 기판(W)의 반입, 반출 시에, 기판(W)을 그 하측방에서 지지하고, 스테이지(3)의 표면보다 상측방으로 상승시킨다.
스테이지(3)의 상측방에는, 이 스테이지(3)의 양측 부분으로부터 대략 수평으로 걸쳐진 캐리지(4)가 설치되어 있다. 이 캐리지(4)는 슬릿 노즐(41)을 지지하기 위한 노즐 지지부(40)와, 이 노즐 지지부(40)의 양 단을 지지하는 좌우 한쌍의 승강 기구(43)를 구비한다. 또한, 스테이지(3)의 양 단부에는, 대략 수평 방향으로 평행하게 연장되는 한쌍의 주행 레일(31)이 설치된다. 이들 주행 레일(31)은, 캐리지(4)의 양 단부를 가이드함으로써, 캐리지(4)를, 도 1에 나타낸 X방향으로 왕복 이동시킨다.
스테이지(3) 및 캐리지(4)의 양측 부분에는, 스테이지(3)의 양측 가장자리측에 따라, 각각 고정자(스테이터)(50a)와 이동자(50b)를 구비한 한쌍의 AC 코어리스 리니어 모터(이하, 간단히, 「리니어 모터」로 생략한다)(50)가 고정 설치 된다. 또한, 스테이지(3) 및 캐리지(4)의 양측 부분에는, 각각 스케일부와 검출자를 구비한 한쌍의 리니어 인코더(52)가 고정 설치된다. 리니어 인코더(52)는, 캐리지(4)의 위치를 검출한다.
도 2에 도시한 바와 같이, 스테이지(3)에 있어서의 지지면(30)의 측방에는, 프리디스펜스 기구(2)가 설치되어 있다. 이 프리디스펜스 기구(2)는, 저류조(21) 내에 저류된 세정액 중에 그 일부를 침지한 프리디스펜스 롤러(22)와, 닥터 블레이드(23)를 구비한다. 프리디스펜스 롤러(22)와 닥터 블레이드(23)는 Y방향에 대해, 슬릿 노즐(41)과 동등 이상의 길이를 가진다. 또한, 프리디스펜스 롤러(22)는, 도시하지 않은 모터의 구동에 의해 회전한다.
이 도포 장치에 있어서는, 처리 동작을 실행하기 전에, 프리디스펜스 롤러(22)의 상측방으로 이동한 슬릿 노즐(41)로부터 소량의 레지스트를 토출함으로써, 후술하는 노즐 세정 공정에 있어서 세정액을 함유한 레지스트를 슬릿 노즐(41)내에서 제거하는 공정을 실행하도록 한다.
도 2에 도시한 바와 같이, 스테이지(3)에 있어서의 지지면(30)의 측방에는, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)가 설치되어 있다. 이 노즐 세정 장치(6)는 세정 블록(61)과 대기 포드(62)를 구비한다. 또한, 이 노즐 세정 장치(6)의 구성에 대해는 후술한다.
도 3은 슬릿 노즐(41)에 의한 레지스트의 공급 동작을 모식적으로 도시한 설명도이며, 도 4는 슬릿 노즐(41)을 일부 파단해 도시한 정면도이다.
이 슬릿 노즐(41)은, 그 길이 방향(도 3에 있어서의 지면에 수직인 방향／도 4에 있어서의 좌우 방향)으로 연장된 슬릿 형상의 토출구(44)를 가진다. 이 토출구(44)의 길이 방향의 길이는, 기판(W)에 있어서의 직사각형 형상의 소자 형성 부분 단변의 길이 이상의 길이이다. 레지스트 공급 배관(46)에 의해 공급된 레지스트(45)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 이 슬릿 형상의 토출구(44)를 통해 기판(W)의 표면에 공급된다.
도포 장치에 의해 기판(W)에 레지스트를 도포하는 도포 동작에 대해 설명한다. 레지스트의 도포 동작을 실행하기 전의 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)은, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)와 대향하는 위치에 배치되어 있다. 이 때의 슬릿 노즐(41) 등의 상태에 대해는, 후에 상세하게 설명한다.
이 상태에 있어서, 레지스트의 도포 동작을 개시할 때는, 노즐 세정 장치(6) 상측방에 슬릿 노즐(41)을 대기시킨 상태에서, 슬릿 노즐(41)을 프리디스펜스 기구(2)의 상부까지 이동시켜, 프리디스펜스 동작을 실행시킨다.
다음에, 슬릿 노즐(41)을 기판(W)의 일단 상측방까지 수평 이동시킨 후, 좌우 한쌍의 승강 기구에 의해, 슬릿 노즐(41)을 기판(W)으로의 도포 위치에 배치한다. 이때, 기판(W) 표면과 슬릿 노즐(41)의 토출구(44)의 간격은, 레지스트의 도포에 적합한 소정의 값으로 되어 있다.
이 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)로부터 레지스트를 토출시키는 동시에, 슬릿 노즐(41)을 기판(W)의 표면을 따라 수평 이동시킨다. 이 상태에 있어서는, 도 3에 도시한 바와 같이, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)로부터 토출된 레지스트(45)가 기판(W)의 표면에 박막상으로 도포된다.
슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)가 기판(W)의 타단부와 대향하는 위치까지 이동하면, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)로부터의 레지스트의 토출을 정지시켜, 슬릿 노즐(41)을 노즐 세정 장치(6)의 상측방까 지 이동시킨다. 그 후, 후술하는 노즐 세정 공정을 실행한다.
다음으로, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)의 구성에 대해 설명한다. 도 5는, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)를 슬릿 노즐(41)과 함께 도시한 측면도이다.
이 노즐 세정 장치(6)는 상술한 슬릿 노즐(41)과 평행하게 설치된 레일(63)을 따라 이동 가능한 브래킷(64)과, 이 브래킷(64)과 연결된 동기 벨트(65)를 왕복 회전시킴으로써 브래킷(64)을 슬릿 노즐(41)과 평행하게 왕복 이동시키는 모터(66)와, 브래킷(64)의 상측방에 배치된 상술한 세정 블록(61)을 구비한다. 이 세정 블록(61)은, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44) 부근을 불식하기 위한 것이다. 이 세정 블록(61)은, 모터(66)의 구동에 의해, 도 5에 있어서 실선으로 표시한 위치와 2점 쇄선으로 표시한 위치 사이를 왕복 이동한다.
여기에서, 도 5에 있어서 실선으로 표시한 위치는, 후술하는 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)가 슬릿 노즐(41)로부터 이격된 대기 위치이다. 또한, 도 5에 있어서의 이 대기 위치의 우측 위치는, 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)에 의해 슬릿 노즐(41)의 하단부를 세정하는 세정 영역이다. 또한, 대기 위치로 이동한 세정 블록(61)의 상측방에는, 비산 방지 커버(71)가 설치되어 있다.
한편, 대기 포드(62)는, 레지스트를 도포하지 않은 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44) 부근의 레지스트가 건조해 변질하는 것을 방지하기 위한 것이다. 이 대기 포드(62)의 내부에는, 예를 들면, 레지스트를 용해하는 용제 등이 저류되어 있다. 이 대기 포드(62)는, 에어 실린더(67)의 구동에 의해, 도 5에 있어서 이점 쇄선으로 표시하는 그 상단의 개구부가 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)와 대향하는 상승 위치와, 실선으로 표시하는 하강 위치 사이를 승강 가능한 구성으로 되어 있다. 이 때문에, 슬릿 노즐(41)을 노즐 세정 장치(6)의 상측방에 대기시킨 상태에서 대기 포드(62)가 상승 위치를 취하면, 슬릿 노즐(41)의 토출구(44)는 대기 포드(62)에 의해서 닫혀진 공간에 노출하게 된다. 이때, 상기 공간은 용제의 증기가 포함되는 분위기로 충족되므로, 토출구(44) 부근의 레지스트가 건조하는 것이 방지된다.
다음으로, 상술한 세정 블록(61)의 구성에 대해 설명한다. 도 6은, 세정 블록(61)의 평면도이다. 또한, 도 7은, 이 세정 블록(61)을 분해하여 도시한 사시도이다. 또한, 도 8은, 이 세정 블록(61)에 의해 슬릿 노즐(41)을 세정하는 상태를 도시한 개요도이다. 또한, 도 7에 있어서는, 칸막이판(74)의 도시를 생략하고 있다.
이 세정 블록(61)은, 한쌍의 비산 방지판(73)과, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)을 구비한 4개의 불활성 가스 분출용 블록(75)과, 칸막이 판(74)과, 지지 부재(79)(도 8참조)에 지지된 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)와, 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)을 지지하는 한쌍의 노즐용 블록(76)을 구비한다. 이 세정 블록(61)은, 지지 암(72)에 의해 지지되어 있고, 이 세정 블록(61)의 하측방에는 세정액 등을 회수하는 드레인(96)이 설치되어 있다. 또한, 상술한 지지 부재(79)는, 자동 코어 조절용 용 수철부(80)를 통해 지지 암(72)에 고정되어 있다.
도 8에 도시한 바와 같이, 하면 세정 브러시(82)는, 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)의 하단부 하면, 즉, 도 3에 도시한 토출구(44)가 형성된 영역에 접촉 가능하게 되어 있다. 또한, 우측면 세정 브러시(83)는 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)의 길이 방향(세정 블록(61)의 진행 방향)을 향해 하단부 우측면에 접촉 가능하게 되어 있다. 또한, 좌측면 세정 브러시(81)는 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면에 접촉 가능하게 되어 있다.
도 9 및 도 10은, 하면 세정 브러시(82)의 사시도이다.
하면 세정 브러시(82)로는, 도 9에 도시한 직선상 브러시를 사용해도 되고, 또한, 도 10에 도시한 매립식 브러시를 사용해도 된다. 일반적으로, 슬릿 노즐(41)에 부착된 레지스트를 취하기 어려운 경우에는, 도 9에 도시한 직선상 브러시를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 내구성을 중시하는 경우에는, 도 10에 도시한 매립식 브러시를 사용하는 것이 바람직하다. 브러시부의 재질로는, 내용제성이 있는 불소 수지계의 소재를 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 브러시부를 구비한 브러시를 사용함으로써, 특허 문헌 2에 기재된 것과 같은 다공질 재료로 이루어진 불식 부재를 이용하는 경우에 비해, 그 내구성을 향상시키는 것이 가능해진다. 또한, 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)도 이 하면 세정 브러시(82)와 동일한 구성을 가진다.
제1 노즐(87)은, 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노 즐(41)을 사이에 끼고 우측면 세정 브러시(83)와 대향하는 위치에 설치되어 있다. 또한, 제2 노즐(84)은 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)을 사이에 끼고 좌측면 세정 브러시(81)와 대향하는 위치에 설치되어 있다. 또한, 제3 노즐(85, 86)은 하면 세정 브러시(82)와 대향하는 위치에 배치되어 있다.
도 11은, 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)에 의한 세정액의 토출 상태를 나타낸 정면도이며, 도 12는 그 평면도이다.
제1 노즐(87)은, 우측 세정 브러시(83)와, 하면 세정 브러시(82)를 향해 세정액을 토출한다. 제2 노즐(84)은 좌측 세정 브러시(81)와, 하면 세정 브러시(82)를 향해 세정액을 토출한다. 제3 노즐(85, 86)은, 하면 세정 브러시(82)를 향해 세정액을 토출한다. 도 12에 도시한 바와 같이, 이들 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)은, 엇갈리게 위치하는 지그재그 형상으로 배치되어 있다. 이 때문에, 이들 제 1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출된 세정액이 서로 충돌하여 주위에 비산되는 것을 유효하게 방지할 수 있다.
또한, 도 8에 도시한 바와 같이, 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 하면 세정 브러시(82)는 슬릿 노즐(41)의 하단부 하면과, 우측면 세정 브러시(83)는 슬릿 노즐(41)의 길이 방향을 향해 하단부 우측면과, 좌측면 세정 브러시(81)는 슬릿 노즐(41)의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면과, 각각, 접촉 가능한 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액은, 슬릿 노즐(41)의 하단부에도 공급되게 된다.
또한, 도 6에 도시한 바와 같이, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86) 은, 세정액 공급부(100)와 접속되어 있다. 이 세정액 공급부(100)는 노즐 세정 장치의 제어부로부터의 지령을 받아, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)에의 세정액의 공급 동작을 제어한다. 또한, 통상은, 이 세정액 제어부(100)로부터 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)에 세정액을 공급하는데, 슬릿 노즐(41)의 오염도가 높은 경우 등에 있어서는, 세정액과 불활성 가스가 혼합된 혼합 유체를 공급하도록 해도 된다.
불활성 가스 분출용 블록(75)에 형성된 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)은, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 공급되어 슬릿 노즐(41)의 하단부에 잔존하는 처리액을, 질소 가스에 의해 날려 버리기 위한 것이다. 세정 블록(61)이 도 6에 도시한 Y＋ 방향으로 이동할 때는, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78) 중 우측면용 브러시(83)와 좌측면용 브러시(81)의 이동 방향의 뒤측에 위치하는 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)(도 6에 있어서의 Y-측의 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78))만이 사용되고, 세정 블록(61)이 도 6에 도시한 Y-방향으로 이동할 때는, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78) 중 우측면용 브러시(83)와 좌측면용 브러시(81)의 이동 방향의 뒤측에 위치하는 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)(도 6에 있어서의 Y＋측의 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78))만이 사용된다.
또한, 상술한 실시 형태에 있어서는, 불활성 가스 분출용 블록(75)에 형성된 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)은, 그 길이 방향이 세정 블록(61)의 이동 방향과 직교하는 방향을 향하는 형상으로 되어 있다. 그러나, 도 13 및 도 14에 도시한 바와 같이, 슬릿 노즐(41)의 단 가장자리의 경사각(θ)과, 측면에서 봐서 동일한 경사각을 가지는 불활성 가스 분출용 슬릿(91, 92)을 이용해도 된다. 이 경우에 있어서는, 슬릿 노즐(41)의 단 가장자리 부근에 있어서의 탈액 작용을 향상시킬 수 있다.
또한, 도 15에 도시한 바와 같이, 상술한 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78, 91, 92)에 추가해, 슬릿 노즐(41)의 선단부 이외의 하면을 향해 불활성 가스를 분출하는 불활성 가스 분출용 노즐(93)을 부설해도 된다.
다음으로, 상술한 구성을 가지는 노즐 세정 장치에 의한 슬릿 노즐(41)의 세정 동작에 대해 설명한다.
슬릿 노즐(41)의 세정 작업을 개시할 때에, 세정 블록(61)은 도 5에 있어서 실선으로 표시한 대기 위치에 배치되어 있다. 또한, 이때, 슬릿 노즐(41)은, 도 1에 도시한 승강 기구(43)의 작용에 의해, 그 하단부와 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)가 이격되는 위치에 배치되어 있다.
이 상태에 있어서, 세정액 공급부(100)의 제어에 의해 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 세정액을 토출시킨다. 그 후, 승강 기구(43)의 작용에 의해 슬릿 노즐(41)을 하강시켜, 슬릿 노즐(41)의 하단부와 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 접촉시킨다. 그리고, 이 상태에 있어서, 세정 블록(61)을 도 5에 도시한 우측 방향(예를 들면, 도 6에 있어서의 Y＋ 방향)으로 이동시킨다. 이 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)의 하단부는, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액과 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)의 작용에 의 해, 충분히 세정된다.
세정 블록(61)이 세정 영역의 단부까지 이동하면, 세정 블록(61)의 이동을 정지시킨다. 그리고, 승강 기구(43)의 작용에 의해 슬릿 노즐(41)을 상승시키고, 슬릿 노즐(41)의 하단부와 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 이격한다. 그 후, 세정 블록(61)을 상기와는 역방향(도 6에 있어서의 Y-방향)으로 이동시킨다. 이에 따라, 슬릿 노즐(41)의 하단부는, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출된 세정액에 의해, 그 마무리 세정이 실행된다.
이때, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78) 중, 우측면용 브러시(83)와 좌측면용 브러시(81)의 이동 방향의 뒤측에 위치하는 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)으로부터 불활성 가스를 분출한다. 이에 따라, 슬릿 노즐(41)에 잔존하는 세정액이 날려져 슬릿 노즐(41)로부터 제거된다.
세정 블록(61)이 도 5에 있어서 실선으로 표시한 대기 위치로 복귀하면, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터의 세정액의 토출과, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)으로부터의 불활성 가스의 분출을 정지한다.
이상에 의해 슬릿 노즐(41)의 세정 동작이 완료하면, 다음에, 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)의 세정을 실행한다.
세정 블록(61)이 도 5에 있어서 실선으로 표시한 대기 위치에 복귀한 상태에 있어서는, 도 5 및 도 16에 도시한 바와 같이, 세정 블록(61)의 상측방에는 비산 방지 커버(71)가 배치되어 있다. 이 상태에 있어서, 다시 제1, 제2, 제3 세정 노 즐(87, 84, 85, 86)로부터의 세정액을 토출한다. 이에 따라 도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이, 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)는 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출된 세정액에 의해 세정된다.
또한, 상술한 실시예에 있어서는, 세정 블록(61)이 대기 위치로부터 이동할 때, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액과 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 사용해 세정을 행하고, 세정 블록(61)이 대기 위치로 돌아올 때, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액만을 사용한 세정을 행한다. 그러나, 슬릿 노즐(41)을 보다 확실히 세정하기 위해서는, 세정 블록(61)을 복수회 왕복 이동시키면서, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액과 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 사용해 세정을 행한 후, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액만을 사용해 마무리 세정을 실행하도록 해도 된다.
도 1은 본 발명에 관한 노즐 세정 장치를 적용한 도포 장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명에 관한 노즐 세정 장치를 적용한 도포 장치의 측면도이다.
도 3은 슬릿 노즐(41)에 의한 레지스트의 공급 동작을 모식적으로 나타낸 설명도이다.
도 4는 슬릿 노즐(41)을 일부 파단해 도시한 정면도이다.
도 5는 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)를 슬릿 노즐(41)과 함께 도시한 측면도이다.
도 6은 세정 블록(61)의 평면도이다.
도 7은 세정 블록(61)을 분해하여 도시한 사시도이다.
도 8은 세정 블록(61)에 의해 슬릿 노즐(41)을 세정하는 상태를 도시한 개요도이다.
도 9는 하면 세정 브러시(82)의 사시도이다.
도 10은 하면 세정 브러시(82)의 사시도이다.
도 11은 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)에 의한 세정액의 토출 상태를 도시한 정면도이다.
도 12는 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)에 의한 세정액의 토출 상태를 도시한 평면도이다.
도 13은 다른 실시 형태에 관한 불활성 가스 분출 블록의 사시도이다.
도 14는 슬릿 노즐(41)의 단 가장자리의 경사각(θ)과 불활성 가스 분출용 슬릿(91, 92)의 관계를 나타낸 설명도이다.
도 15는 불활성 가스 분출용 노즐(93)을 슬릿 노즐(41)과 함께 도시한 측면도이다.
도 16은 세정 블록(61)의 상측방에 배치된 비산 방지 커버(71)를 도시한 설명도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
6 : 노즐 세정 장치 41 : 슬릿 노즐
44 : 토출구 61 : 세정 블록
62 : 대기 포드 71 : 비산 방지 커버
73 : 비산 방지판 74 : 칸막이 판
79 : 지지 부재 80 : 자동 코어 조절용 용수철부
81 : 좌측면 세정 브러시 82 : 하면 세정 브러시
83 : 우측면 세정 브러시 84 : 제2 노즐
85 : 제3 노즐 86 : 제3 노즐
87 : 제1 노즐 96 : 드레인
100 : 세정액 공급부 W : 기판

Claims (6)

  1. 길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 세정하기 위한 노즐 세정 장치로서,
    상기 슬릿 노즐의 하단부 하면에 접촉 가능한 하면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 우측면에 접촉 가능한 우측면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향에 대해 상기 우측면 세정 부재와는 다른 위치에 설치되고, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면에 접촉 가능한 좌측면 세정 부재를 갖는 세정 블록과,
    상기 세정 블록을, 상기 하면 세정 부재, 상기 우측면 세정 부재 및 상기 좌측면 세정 부재에 의해 슬릿 노즐의 하단부를 세정하면서 이동하는 세정 영역과, 상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재가 슬릿 노즐로부터 이격된 대기 위치 사이에서 왕복 이동시키는 이동 기구와,
    상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 끼고 상기 우측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 우측면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제1 노즐과,
    상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 끼고 상기 좌측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 좌측면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제2 노즐과,
    세정 블록이 상기 세정 영역을 이동하고 있을 때와, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치되었을 때에, 상기 제1 노즐 및 상기 제2 노즐에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 구비한 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 하면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제3 노즐을 더 가지고,
    상기 세정액 공급부는, 세정 블록이 상기 세정 영역을 이동할 때와, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치되었을 때에, 상기 제3 노즐에 세정액을 공급하는 노즐 세정 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 세정 블록에 있어서의 상기 우측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 우측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 우측면에 기체를 분출하는 우측면용 기체 분출 수단과,
    상기 세정 블록에 있어서의 상기 좌측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 좌측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 좌측면에 기체를 분출하는 좌측면용 기체 분출 수단을 더 구비하는 노즐 세정 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 우측면용 기체 분출 수단과, 상기 좌측면용 기체 분출 수단은, 각각, 상기 슬릿 노즐의 하단부를 향해 기체를 분출하는 슬릿 형상의 기체 분출공을 가지 는 노즐 세정 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 세정 블록이 상기 대기 위치로 이동했을 때, 상기 세정 블록의 상부를 덮는 세정액의 비산 방지 커버를 더 구비한 노즐 세정 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재는 브러시인 노즐 세정 장치.
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