CN101314153A - 喷嘴清洗装置 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 309
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 61
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 26
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
- B05B15/55—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
- B05B15/555—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids discharged by cleaning nozzles
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
- B05B12/16—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
- B08B1/12—Brushes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/20—Cleaning of moving articles, e.g. of moving webs or of objects on a conveyor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
- B08B9/027—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages
- B08B9/032—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages by the mechanical action of a moving fluid, e.g. by flushing
- B08B9/0321—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages by the mechanical action of a moving fluid, e.g. by flushing using pressurised, pulsating or purging fluid
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Abstract
本发明提供一种在长时间内都能够充分干净地清洗喷嘴的喷嘴清洗装置。该清洗区(61)具有：一对飞散防止板(73)；具备惰性气体喷出用狭缝(77、78)的四个惰性气体喷出用区(75)；隔板(74)；由支撑构件支撑的下面清洗刷(82)、右侧面清洗刷(83)以及左侧面清洗刷(81)；支撑第一喷嘴(87)、第二喷嘴(84)以及第三喷嘴(85、86)的一对喷嘴用区(76)。当清洗区配置于清洗区域时，下面清洗刷配置于能够抵接于狭缝喷嘴下端部下面的位置；右侧面清洗刷配置于朝向狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部右侧面的位置；左侧面清洗刷配置于向着狭缝喷嘴的长度方向能够抵接于下端部左侧面的位置。
Description
技术领域
本发明涉及用于清洗处理液供给喷嘴的喷嘴清洗装置，该处理液供给喷嘴从在长尺状的狭缝喷嘴的下端部形成的狭缝状的吐出口吐出处理液。
背景技术
在对半导体晶片、液晶显示面板用玻璃基板或者半导体制造装置用掩模基板等基板，涂敷光致抗蚀剂等处理液的涂敷装置中，通过从在长尺状的狭缝喷嘴的下端部形成的狭缝状的吐出口吐出处理液，对基板表面涂敷处理液。该涂敷装置为由喷嘴清洗装置清洗因涂敷处理液而污染的喷嘴的结构。
例如，作为这种喷嘴清洗装置，如在日本国专利申请公开JP2005-262127号公报中所记载的那样，使用了通过向喷嘴下端部供给清洗液来清洗喷嘴的喷嘴清洗装置。
另外，也提出了如在日本国专利公开JP2004-122065号公报中所记载的那样，通过利用由供给了清洗液的多孔材料构成的拂拭构件来清洗喷嘴的喷嘴清洗装置。
如日本国专利申请公开JP2005-262127号公报中所记载的那样，在采用了仅通过清洗液来清洗喷嘴的结构时，存在由于处理液的种类不同无法充分洗净喷嘴的情况。此外，如日本国专利公开JP2004-122065号公报中所记载的那样，在使用了由多孔材料构成的拂拭构件时，会产生因拂拭构件接触喷嘴而发生损伤的问题。
发明内容
本发明是为了解决上述课题而做出的，其目的在于提供一种在长时间内对喷嘴进行充分清洗的喷嘴清洗装置。
本申请的第一方案是一种喷嘴清洗装置，用于清洗处理液供给喷嘴，该处理液供给喷嘴从在长尺状的狭缝喷嘴的下端部上形成的狭缝状的吐出口吐出处理液，其特征在于，具备：清洗区，其具有可抵接于所述狭缝喷嘴的下端部的下面上的下面清洗构件；朝向所述狭缝喷嘴的长度方向，可抵接于所述下端部的右侧面的右侧面清洗构件；相对于所述狭缝喷嘴长度方向，配设于与所述右侧面清洗构件不同的位置，并朝向所述狭缝喷嘴的长度方向可抵接于所述下端部的左侧面的左侧面清洗构件，移动机构，其使所述清洗区在清洗区域和待机位置之间往复移动，其中，该清洗区域是所述清洗区利用所述下面清洗构件、所述右侧面清洗构件以及所述左侧面清洗构件清洗狭缝喷嘴的下端部的同时进行移动的区域；该待机位置是所述下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件从狭缝喷嘴分离开的位置；第一喷嘴，其在所述清洗区配置于所述清洗区域时，设置在所述清洗区的隔着所述狭缝喷嘴而与所述右侧面清洗构件相对向的位置上，并能够向所述右侧面清洗构件吐出清洗液；第二喷嘴，其在所述清洗区配置于所述清洗区域时，设置在所述清洗区的隔着所述狭缝喷嘴而与所述左侧面清洗构件相对向的位置上，并能够向所述左侧面清洗构件吐出清洗液；清洗液供给部，其在清洗区在所述清洗区域内移动时、和在清洗区配置于所述待机位置时，向所述第一喷嘴以及所述第二喷嘴供给清洗液。
本申请的第二方案是在第一方案所述发明的基础上，还具有能够向所述下面清洗构件吐出清洗液的第三喷嘴，而且，所述清洗液供给部在清洗区在所述清洗区域内移动时、和在清洗区配置于所述待机位置时，向所述第三喷嘴供给清洗液。
本申请的第三方案是在第一或第二方案所述发明的基础上，还具备：右侧面用气体喷出装置，其配置于所述清洗区中所述右侧面清洗构件的移动方向的后侧，并向由所述右侧面清洗构件清洗过的所述狭缝喷嘴的下端部的右侧面喷出气体；左侧面用气体喷出装置，其配置于所述清洗区中所述左侧面清洗构件的移动方向的后侧，并向由所述左侧面清洗构件清洗过的所述狭缝喷嘴的下端部的左侧面喷出气体；
本申请的第四方案是在第三方案所述发明的基础上，所述右侧面用气体喷出装置和所述左侧面用气体喷出装置分别具有向所述狭缝喷嘴的下端部喷出气体的狭缝状的气体喷出孔。
本申请的第五方案是在第一方案所述发明的基础上，还包括清洗液飞散防止罩，该飞散防止罩在所述清洗区移动到所述待机位置时，覆盖所述清洗区的上部。
本申请的第六方案是在第一方案所述发明的基础上，所述下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件是刷子。
若根据第一方案所记载的发明，则清洗刷在清洗区域移动时，能够采用下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件充分干净地清洗狭缝喷嘴，另外，清洗区配置于待机位置时，能够采用处理液清洗下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件。此时，右侧面清洗构件和左侧面清洗构件相对于狭缝喷嘴的长度方向，配设于不同的位置，由此能够防止从第一喷嘴吐出的清洗液和从第二喷嘴喷出的清洗液相碰撞。
若根据第二方案所记载的发明，则即使是从第一喷嘴以及第二喷嘴吐出的清洗液没有充分到达下面清洗构件的情况，也能够充分清洗下面清洗构件。
若根据第三方案所记载的发明，则能够利用气体除去在喷嘴下端部上附着的清洗液。
若根据第四方案所记载的发明，则能够通过狭缝状的气体充分地除去在喷嘴下端部上附着的清洗液。
若根据第五方案所记载的发明，则在待机位置由清洗液清洗下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件时，有效地防止处理液向外部飞散。
若根据第六方案所记载的发明，则能够利用刷子充分地清洗狭缝喷嘴，另外，能够使寿命变长。
附图说明
图1是适用本发明的喷嘴清洗装置的涂敷装置的立体图。
图2是适用本发明的喷嘴清洗装置的涂敷装置的侧视图。
图3是示意性地示出狭缝喷嘴41的抗蚀剂供给动作的说明图。
图4是将狭缝喷嘴41切断一部分而示出的主视图。
图5是将本发明的喷嘴清洗装置6与狭缝喷嘴41一起示出的侧视图。
图6是清洗区61的俯视图。
图7是将清洗区61分解而示出的立体图。
图8是示出由清洗区61清洗狭缝喷嘴41的状态的概略图。
图9是下面清洗刷82的立体图。
图10是下面清洗刷82的立体图。
图11是示出第一喷嘴87、第二喷嘴84以及第三喷嘴85、86的清洗液的吐出状态的主视图。
图12是示出第一喷嘴87、第二喷嘴84、以及第三喷嘴85、86的清洗液的吐出状态的俯视图。
图13是其他实施方式的惰性气体喷出用区75的立体图。
图14是示出狭缝喷嘴41的端边的倾斜角θ和惰性气体喷出用狭缝91、92之间关系的说明图。
图15是将惰性气体喷出用喷嘴93与狭缝喷嘴41一起示出的侧视图。
图16是示出配置于清洗区61上方的飞散防止罩71的说明图。
具体实施方式
以下，根据附图说明本发明的实施方式。图1是适用本发明的喷嘴清洗装置的涂敷装置的立体图，图2是其侧视图。此外，在图1中省略了预先分配(pre-dispense)机构2以及喷嘴清洗装置6等的图示。另外，在图2中省略了搬运器4等的图示。
该涂敷装置用于在矩形的液晶面板用的玻璃基板(以下称作“基板”)W上涂敷例如包括被称为彩色抗蚀剂的颜料的抗蚀剂。
在该涂敷装置具备用于保持基板W的载物台3。该载物台3采用长方体形状的石材，其上表面为水平面，作为基板W的保持面30。在保持面30上形成并分布有未图示的多个真空吸附口，成为在涂敷装置中吸附保持基板W的结构。另外，如在图1中示意性地示出，在保持面30上，隔开适当间隔地设置有通过未图示的驱动装置可自由上下升降的多个升降销39。在搬入、搬出基板W时，该升降销39从基板W的下方支撑该基板W而使从载物台3表面向上方上升。
在载物台3的上方设置有搬运器4，该搬运器4以大致水平地横跨于该载物台3的两侧部分之间。该搬运器4具备：用于支撑狭缝喷嘴41的喷嘴支撑部40；和支撑该喷嘴支撑部40两端的左右一对的升降机构43。另外，在载物台3的两端部配设有一对扫描轨道31，该扫描轨道31在大致水平方向平行延伸。这些扫描轨道31通过引导搬运器4的两端部使搬运器4在图1所示的X方向往复移动。
在载物台3以及搬运器4的两部分上固定设置有一对AC无铁心线性马达(以下，简称为“线性马达”)50，该AC无铁心线性马达50沿着载物台3的两侧边缘侧分别具有固定件(定子)50a和移动件50b。另外，在载物台3以及搬运器4的两侧部分固定设置有分别具备换算部和检测件的一对线性编码器52。该线性编码器52检测搬运器4的位置。
如图2所示，在载物台3的保持面30的侧方配设有预先分配机构2。该预先分配机构2具备：预先分配辊22，该预先分配辊22的一部分浸泡在贮存于贮存槽21内的清洗液中；以及，刮粉刀(doctor bled)23。相对于Y方向，预先分配辊22和刮粉刀(doctor bled)23具有大于等于狭缝喷嘴41长度的长度。还有，预先分配辊22在未图示的马达的驱动下旋转。
在该涂敷装置中，在实行处理动作之前，通过从移动到预先分配辊22上方的狭缝喷嘴41吐出少量的抗蚀剂，实行从狭缝喷嘴41内除去在后述的喷嘴清洗工序中含有了清洗液的抗蚀剂的工序。
如图2所示，在载物台3的保持面30的侧方配设有本发明的喷嘴清洗装置6。该喷嘴清洗装置6具备清洗区61和待机容器62。此外，关于该喷嘴清洗装置6的结构，在后面进行说明。
图3是示意性地示出狭缝喷嘴41的抗蚀剂的供给动作的说明图，图4是将狭缝喷嘴41切断一部分而示出的主视图。
该狭缝喷嘴41具有在其长度方向(图3中垂直于纸面的方向/图4中的左右方向)延伸的狭缝状的吐出口44。该吐出口44在长度方向的长度大于等于基板W中矩形的元件形成部分的短边的长度。如图3所示，由抗蚀剂供给配管46供给的抗蚀剂45经由该狭缝状的吐出口44向基板W表面供给。
以下说明通过涂敷装置对基板W涂敷抗蚀剂的涂敷动作。在实行抗蚀剂的涂敷动作之前的状态中，狭缝喷嘴41配置于与本发明的喷嘴清洗装置6相对向的位置。关于此时的狭缝喷嘴41等状态，在后面进行详细地说明。
在该状态中，在开始抗蚀剂的涂敷动作时，将狭缝喷嘴41从在喷嘴清洗装置6上方待机的状态移动到预先分配机构2的上部，并实行预先分配动作。
接着，在将狭缝喷嘴41水平移动到基板W的一端上方之后，通过左右一对的升降机构将狭缝喷嘴41配置于对基板W的涂敷位置。此时基板W表面和狭缝喷嘴41的吐出口44之间的间隔已变成了适于涂敷抗蚀剂的给定值。
在该状态中，从狭缝喷嘴41的狭缝状的吐出口44吐出抗蚀剂，并使狭缝喷嘴41沿着基板W的表面水平移动。如图3所示，在该状态中，从狭缝喷嘴41的狭缝状的吐出口44吐出的抗蚀剂45薄膜状地被涂敷在基板W的表面。
当狭缝喷嘴41的狭缝状的吐出口44移动到与基板W的另一端部相对向的位置时，停止从狭缝喷嘴41的狭缝状的吐出口44吐出抗蚀剂，并将狭缝喷嘴41移动到喷嘴清洗装置6的上方。然后，实行后述的喷嘴清洗工序。
接着，说明本发明的喷嘴清洗装置6的结构。图5是将本发明的喷嘴清洗装置6与狭缝喷嘴41一起示出的侧视图。
该喷嘴清洗装置6具备：沿着与上述狭缝喷嘴41平行地配设的轨道63可移动的支架64；通过使与该支架64相连接的同步带65往复移动，使支架64与狭缝喷嘴41平行地往复移动的马达66；配设于支架64上方的上述清洗区。该清洗区61用于拂拭狭缝喷嘴41的狭缝状的吐出口44附近。该清洗区61借助于马达66的驱动在图5中以实线表示的位置和双点划线表示的位置之间进行往复移动。
此时，在图5中以实线表示的位置是，后述的下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81与狭缝喷嘴41离开相隔的待机位置。另外，图5中该待机位置的右侧位置是由下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81清洗狭缝喷嘴41的下端部的清洗区域。另外，在移动到待机位置的清洗区61的上方配设有飞散防止罩71。
另一方面，待机容器62在没涂敷抗蚀剂的状态中，用于防止狭缝喷嘴41的狭缝状的吐出口44附近的抗蚀剂干燥而发生变质。在该待机容器62的内部例如贮存有溶解抗蚀剂的溶剂等。该待机容器62，在气缸67驱动下，能够在图5中以双点划线表示的、其上端的开口部与狭缝喷嘴41的狭缝状的吐出口44相对向的上升位置，和以实线表示的下降位置之间进行升降。因此，当在使狭缝喷嘴41在喷嘴清洗装置6的上方待机的状态下，待机容器62处于上升位置，则狭缝喷嘴41的吐出口44露于由待机容器62封闭的空间中。此时，由于该空间充满了含有蒸汽的空气，所以防止吐出口44附近的抗蚀剂发生干燥。
接着，说明上述清洗区61的结构。图6是清洗区61的俯视图。另外，图7是将清洗区61分解而示出的立体图。进而，图8是示出由该清洗区61清洗狭缝喷嘴41的状态的概略图。
该清洗区61具备：一对飞散防止板73；具备惰性气体喷出用狭缝77、78的四个惰性气体喷出用区75；隔板74；由支撑构件79(参照图8)支撑的下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81；支撑第一喷嘴87、第二喷嘴84以及第三喷嘴85、86的一对喷嘴用区76。该清洗区61由支撑臂72支撑，并且在该清洗区61的下方配设有回收清洗液等的排水管96。此外，上述支撑构件79经由自动调芯用弹簧部80固定于支撑臂72上。
如图8所示，当清洗区61配置于清洗区域时，下面清洗刷82能够抵接于狭缝喷嘴41下端部的下面，也就是能够与形成有图3中示出的吐出口44的区域抵接。另外，当清洗区61配置于清洗区域时，右侧面清洗刷83向着狭缝喷嘴41的长度方向(清洗区61的进行方向)能够抵接于下端部的右侧面。进而，当清洗区61配置于清洗区域时，左侧面清洗刷81向着狭缝喷嘴41的长度方向能够抵接于下端部的左侧面。
图9以及图10是下面清洗刷82的立体图。
作为下面清洗刷82，可以使用如图9所示的直线状刷子，另外，还可以使用如图10所示的嵌入式刷子。一般来讲，当难以除去附着在狭缝喷嘴41上的抗蚀剂时，优选使用图9中所示的直线状刷子。另外，当重视耐久性时，优选使用图10中所示的嵌入式刷子。刷部的材料，优选采用具有耐溶剂性的氟树脂类的素材。通过使用具有这样的刷部的刷子，与利用如在日本国专利申请公开JP2005-262127号公报中所记载那样的、由多孔材料构成的拂拭构件的情况相比，能够提高其耐久性。此外，右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81也具有与该下面清洗刷82相同的结构。
当清洗区61配置于清洗区域时，第一喷嘴87隔着狭缝喷嘴41配置于与右侧面清洗刷83相对向的位置。另外，当清洗区61配置于清洗区域时，第二喷嘴84隔着狭缝喷嘴41配置于与左侧面清洗刷81相对向的位置。进而，第三喷嘴85、86配置于与下面清洗刷82相对向的位置。
图11是示出第一喷嘴87、第二喷嘴84以及第三喷嘴85、86的清洗液的吐出状态的主视图，图12是其俯视图。
第一喷嘴87朝向右侧清洗刷83和下面清洗刷82吐出清洗液。第二喷嘴84朝向左侧清洗刷81和下面清洗刷82吐出清洗液。第三喷嘴85、86朝向下面清洗刷82吐出清洗液。如图12所示，这些第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86以互相交错排列的形状配置。因此，能够有效地防止从这些第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液互相碰撞而向周围飞散。
此外，如图8所示，当清洗区61配置于清洗区域时，下面清洗刷82配置于可与狭缝喷嘴41下端部的下面相抵接的位置；右侧面清洗刷83配置于向着狭缝喷嘴41的长度方向可与下端部的右侧面相抵接的位置；左侧面清洗刷81配置于向着狭缝喷嘴41的长度方向可与下端部的左侧面相抵接的位置。因此，从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液也向狭缝喷嘴41下端部供给。
此外，如图6所示，第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86与清洗液供给部100相连接。该清洗液供给部100接到来自喷嘴清洗装置的控制部的指令，控制向第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86供给清洗液的动作。此外，通常，从该清洗液控制部100向第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86供给清洗液，但在狭缝喷嘴41的污染程度较高等情况时，也可以供给混合了清洗液和惰性气体的混合流体。
在惰性气体喷出用区75形成的惰性气体喷出用狭缝77、78利用氮气将从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86供给的、残留在狭缝喷嘴41下端部的处理液吹散。当清洗区61向图6所示的Y+方向移动时，仅使用惰性气体喷出用狭缝77、78当中，位于右侧面用刷子83和左侧面用刷子81的移动方向后侧的惰性气体喷出用狭缝77、78(图6中Y-侧的惰性气体喷出用狭缝77、78)；而当清洗区61向图6所示的Y-方向移动时，仅使用惰性气体喷出用狭缝77、78当中，位于右侧面用刷子83和左侧面用刷子81的移动方向后侧的惰性气体喷出用狭缝77、78(图6中Y+侧的惰性气体喷出用狭缝77、78)。
另外，在上述实施方式中，在惰性气体喷出用区75形成的惰性气体喷出用狭缝77、78的长度方向朝向与清洗区61的移动方向垂直相交的方向。但是，如图13以及图14所示，也可采用侧视具有与狭缝喷嘴41的端边倾斜角为θ相同的倾斜角的惰性喷出用狭缝91、92。在这种情况下，能够提高狭缝喷嘴41的端边附近的液滴切断作用。
另外，如图15所示，除了上述惰性气体喷出用狭缝77、78、91、92之外，还可以附加设置朝向狭缝喷嘴41前端部之外的下面喷出惰性气体的惰性气体喷出用喷嘴93。
接着，说明具有上述结构的喷嘴清洗装置中的狭缝喷嘴41的清洗动作。
在开始狭缝喷嘴41的清洗工作时，清洗区61配置于图5中以实线表示的待机位置。另外，此时，狭缝喷嘴41由于图1中所示的升降机构43的作用，配置于其下端部与下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81相分离隔开的位置。
在该状态下，通过清洗液供给部100的控制，从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出清洗液。然后，通过升降机构43的作用使狭缝喷嘴41下降，以使狭缝喷嘴41下端部与下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81相抵接。然后，在该状态下，将清洗区61向图5中所示的右方向(例如图6中的Y+方向)移动。在该状态下，通过从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液与下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81的作用，充分地清洗狭缝喷嘴41的下端部。
当清洗区61移动到清洗区域的端部时，停止清洗区61的移动。然后通过升降机构43的作用使狭缝喷嘴41上升，从而狭缝喷嘴41的下端部与下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81相分离隔开。然后，将清洗区61向与上述方向相反的方向(图6中Y-方向)移动。由此，通过从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液，实行狭缝喷嘴41下端部的最终清洗。
此时，从惰性气体喷出用狭缝77、78当中，位于右侧面用刷子83和左侧面用刷子81的移动方向后侧的惰性气体喷出用狭缝77、78喷出惰性气体。由此，残留在狭缝喷嘴41上的清洗液被吹散，并从狭缝喷嘴41被除去。
当清洗区61复位到图5中以实线表示的待机位置时，停止从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出清洗液、并停止从惰性气体喷出用狭缝77、78喷出惰性气体。
当通过以上步骤完成了狭缝喷嘴41的清洗动作之后，接着，实行采用下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81的清洗。
在清洗区61复位到图5中以实线表示的待机位置的状态下，如图5以及图16所示，在清洗刷61的上方配置有飞散防止罩71。在该状态下，再次从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出清洗液。由此，如图11以及图12所示，下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81，由从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液来清洗。
此外，在上述的实施例中，清洗区61从待机位置移动时，使用从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液、和下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81来进行清洗，而清洗区61回到待机位置时，仅使用从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液来进行清洗。但是，为了更可靠地清洗狭缝喷嘴41，使清洗区61进行多次往复移动的同时，使用从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液、和下面清洗刷82、右侧面清洗刷83以及左侧面清洗刷81来进行清洗之后，仅使用从第一、第二、第三清洗喷嘴87、84、85、86吐出的清洗液来进行最终清洗也可。
Claims (6)
1.一种喷嘴清洗装置，用于清洗处理液供给喷嘴，该处理液供给喷嘴从在长尺状的狭缝喷嘴的下端部上形成的狭缝状的吐出口吐出处理液，其特征在于，具备：
清洗区，其具有：可抵接于所述狭缝喷嘴的下端部的下面上的下面清洗构件；朝向所述狭缝喷嘴的长度方向而可抵接于所述下端部的右侧面的右侧面清洗构件；相对于所述狭缝喷嘴的长度方向配设于与所述右侧面清洗构件不同的位置，并朝向所述狭缝喷嘴的长度方向而可抵接于所述下端部的左侧面的左侧面清洗构件；
移动机构，其使所述清洗区在清洗区域和待机位置之间往复移动，其中，该清洗区域是所述清洗区利用所述下面清洗构件、所述右侧面清洗构件以及所述左侧面清洗构件清洗狭缝喷嘴的下端部的同时进行移动的区域；该待机位置是所述下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件从狭缝喷嘴分离开的位置；
第一喷嘴，其在所述清洗区配置于所述清洗区域时，设置在所述清洗区的隔着所述狭缝喷嘴而与所述右侧面清洗构件相对向的位置上，并能够向所述右侧面清洗构件吐出清洗液；
第二喷嘴，其在所述清洗区配置于所述清洗区域时，设置在所述清洗区的隔着所述狭缝喷嘴而与所述左侧面清洗构件相对向的位置上，并能够向所述左侧面清洗构件吐出清洗液；
清洗液供给部，其在清洗区在所述清洗区域内移动时、和在清洗区配置于所述待机位置时，向所述第一喷嘴以及所述第二喷嘴供给清洗液。
2.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，
还具有能够向所述下面清洗构件吐出清洗液的第三喷嘴，
而且，所述清洗液供给部在清洗区在所述清洗区域内移动时、和在清洗区配置于所述待机位置时，向所述第三喷嘴供给清洗液。
3.如权利要求1或2所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，还具备：
右侧面用气体喷出装置，其配置于所述清洗区中所述右侧面清洗构件的移动方向的后侧，并向由所述右侧面清洗构件清洗过的所述狭缝喷嘴的下端部的右侧面喷出气体；
左侧面用气体喷出装置，其配置于所述清洗区中所述左侧面清洗构件的移动方向的后侧，并向由所述左侧面清洗构件清洗过的所述狭缝喷嘴的下端部的左侧面喷出气体。
4.如权利要求3所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，
所述右侧面用气体喷出装置和所述左侧面用气体喷出装置分别具有向所述狭缝喷嘴的下端部喷出气体的狭缝状的气体喷出孔。
5.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，
还包括防止清洗液飞散的飞散防止罩，该飞散防止罩在所述清洗区移动到所述待机位置时，覆盖所述清洗区的上部。
6.如权利要求1所述的喷嘴清洗装置，其特征在于，
所述下面清洗构件、右侧面清洗构件以及左侧面清洗构件是刷子。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007140019 | 2007-05-28 | ||
| JP2007-140019 | 2007-05-28 | ||
| JP2007140019A JP4857193B2 (ja) | 2007-05-28 | 2007-05-28 | ノズル洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101314153A true CN101314153A (zh) | 2008-12-03 |
| CN101314153B CN101314153B (zh) | 2010-08-18 |
Family
ID=40105388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2008100019657A Expired - Fee Related CN101314153B (zh) | 2007-05-28 | 2008-01-04 | 喷嘴清洗装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4857193B2 (zh) |
| KR (1) | KR100942354B1 (zh) |
| CN (1) | CN101314153B (zh) |
| TW (1) | TW200846093A (zh) |
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| KR100996557B1 (ko) | 2010-04-30 | 2010-11-24 | 이구환 | 디스펜싱용 젯 밸브의 노즐 세척장치 |
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-
2007
- 2007-05-28 JP JP2007140019A patent/JP4857193B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-06 TW TW096146543A patent/TW200846093A/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-12-28 KR KR1020070140380A patent/KR100942354B1/ko not_active IP Right Cessation
-
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4857193B2 (ja) | 2012-01-18 |
| TWI337901B (zh) | 2011-03-01 |
| CN101314153B (zh) | 2010-08-18 |
| KR100942354B1 (ko) | 2010-02-12 |
| JP2008290031A (ja) | 2008-12-04 |
| KR20080104941A (ko) | 2008-12-03 |
| TW200846093A (en) | 2008-12-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
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|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
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|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20100818 Termination date: 20170104 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |