CN105182689A - 一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法 - Google Patents

一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法，以解决现有技术的涂布装置的出胶喷嘴的底端处无法清理干净，在凝结后所形成的光刻胶块掉落在正在涂布的基板表面时，会影响涂布质量的问题。所述涂胶装置，包括胶桶、与所述胶桶连接的出胶喷嘴、以及设置于所述出胶喷嘴下方的废胶槽；所述涂胶装置还包括清洗槽和清洗部件；所述清洗槽设置于所述废胶槽的一侧；所述清洗部件设置于所述清洗槽内，所述清洗部件用于在所述出胶喷嘴移动到所述清洗槽上方时，向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴。

Description

一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法
技术领域
本发明涉及光刻胶涂布技术领域，尤其涉及一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法。
背景技术
现有技术中，涂布机(Coater)在每次涂布光刻胶之前，都会由橡皮擦(Rubber)进行一次清理，将出胶喷嘴(Nozzle)处的光刻胶清理掉，以保证下一次涂布的质量。
但是，由于涂布机的出胶喷嘴具有延伸的长度，在靠近出胶喷嘴的底端处，橡皮擦无法触及，会造成如下问题：位于出胶喷嘴的底端处残留的光刻胶不能被及时清理，长时间积累会形成凝结的光刻胶块，凝结的光刻胶块在较长时间后容易干裂并脱落，如果掉落在正在涂布的基板表面时，会影响涂布质量。
发明内容
本发明的目的是提供一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法，以解决现有技术的涂布装置的出胶喷嘴的底端处无法清理干净，在凝结后所形成的光刻胶块掉落在正在涂布的基板表面时，会影响涂布质量的问题。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
本发明实施例提供一种涂胶装置，包括胶桶、与所述胶桶连接的出胶喷嘴、以及设置于所述出胶喷嘴下方的废胶槽；所述涂胶装置还包括清洗槽和清洗部件；
所述清洗槽设置于所述废胶槽的一侧；
所述清洗部件设置于所述清洗槽内，所述清洗部件用于在所述出胶喷嘴移动到所述清洗槽上方时，向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴。
本实施例中，通过在所述废胶槽的一侧设置所述清洗槽，且在所述清洗槽内设置所述清洗部件，从而利用所述清洗部件对移动至所述清洗槽上方的所述出胶喷嘴进行清洗，以确保所述出胶喷嘴清洁，避免所述出胶喷嘴的底端形成凝结的光刻胶块及凝结的光刻胶块落在正在涂布的基板表面影响涂布质量的现象；同时，清洗过程产生的液体直接进入所述清洗槽，不会对所述废胶槽内的光刻胶造成污染。
优选的，所述清洗部件包括具有两个叉指的叉形支架，两个所述叉指的端部均设置有出液孔和出气孔，所述出液孔用于喷射稀释液，所述出气孔用于喷射清洁气体。本实施例中，所述清洗部件的叉形支架的两个叉指具有出液孔，可以对所述出胶喷嘴的两侧进行清洗，具有更好的清洗效果。
优选的，所述清洗槽内还设置有导轨，所述导轨和所述清洗槽的延伸方向相同，所述叉形支架通过连接部件与所述导轨连接；
所述叉形支架能够借助于所述连接部件由水平放置状态旋转至垂直放置状态，以及借助于所述连接部件在所述导轨上往复运动。
本实施例中，所述叉形支架能够在所述导轨上往复运动，因此可以反复对所述出胶喷嘴的两侧进行清洗。
优选的，所述叉形支架的两个所述叉指之间的距离大于所述出胶喷嘴的横截面的最大宽度。
优选的，所述出胶喷嘴位于所述叉形支架上方且所述叉形支架为垂直放置状态时，所述叉形支架的两个所述叉指分别距所述出胶喷嘴的两侧边的距离为3～7毫米。
优选的，所述连接部件为走行传动轴。
优选的，所述清洗槽的延伸方向与所述废胶槽的延伸方向平行。
本发明实施例有益效果如下：通过在所述废胶槽的一侧设置所述清洗槽，且在所述清洗槽内设置所述清洗部件，从而利用所述清洗部件对移动至所述清洗槽上方的所述出胶喷嘴进行清洗，以确保所述出胶喷嘴清洁，避免所述出胶喷嘴的底端形成凝结的光刻胶块及凝结的光刻胶块落在正在涂布的基板表面影响涂布质量的现象；同时，清洗过程产生的液体直接进入所述清洗槽，不会对所述废胶槽内的光刻胶造成污染。
本发明实施例提供一种如上实施例提供的所述涂胶装置的出胶喷嘴清洗方法，包括：
使所述出胶喷嘴运动至所述清洗槽的上方；
控制所述清洗部件向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴。
优选的，控制所述清洗部件向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴，包括：
通过控制所述清洗部件的连接部件，带动所述清洗部件的叉形支架由水平放置状态旋转至垂直放置状态并在所述清洗部件的导轨上往复运动，由所述叉形支架的叉指上的所述出液孔先向所述出胶喷嘴喷射稀释液，再由所述叉形支架的叉指上的所述出气孔向所述出胶喷嘴喷射清洁气体。
优选的，所述出液孔向所述出胶喷嘴喷射稀释液时，所述叉形支架在所述导轨上的走行速度为100～200毫米/秒。
优选的，所述出气孔向所述出胶喷嘴喷射清洁气体时，所述叉形支架在所述导轨上的走行速度为50～100毫米/秒。
本发明实施例有益效果如下：通过在所述废胶槽的一侧设置所述清洗槽，且在所述清洗槽内设置所述清洗部件，从而利用所述清洗部件对移动至所述清洗槽上方的所述出胶喷嘴进行清洗，以确保所述出胶喷嘴清洁，避免所述出胶喷嘴的底端形成凝结的光刻胶块及凝结的光刻胶块落在正在涂布的基板表面影响涂布质量的现象；同时，清洗过程产生的液体直接进入所述清洗槽，不会对所述废胶槽内的光刻胶造成污染。
附图说明
图1为本发明实施例提供的涂胶装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的清洗部件设与导轨配合的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的涂胶装置的出胶喷嘴的清洗方法的流程图。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本发明实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
参见图1，本发明实施例提供一种涂胶装置，包括胶桶1、与胶桶1连接的出胶喷嘴2、以及设置于出胶喷嘴2下方的废胶槽3。本实施例中，胶桶1和出胶喷嘴2可以具有多种连接方式，例如可以通过管道连接，也可以使胶桶1与出胶喷嘴2直接固定连接，实际上也可以由具有容纳功能的腔体代替胶桶1，从而使该腔体与出胶喷嘴2连通并共同作为涂胶装置的涂胶机头，因此可以根据本发明思想进行多种变型，均在本发明保护范围内。
该涂胶装置还包括清洗槽4和清洗部件5；其中，清洗槽4设置于废胶槽3的一侧，清洗部件5设置于清洗槽4内，清洗部件5用于在出胶喷嘴2移动到清洗槽4上方时，向出胶喷嘴2喷射清洗液和清洁气体以清洗出胶喷嘴2。
本实施例中，通过在废胶槽3的一侧设置清洗槽，且在清洗槽内设置清洗部件5，从而利用清洗部件5对移动至清洗槽上方的出胶喷嘴2进行清洗，以确保出胶喷嘴2清洁，避免出胶喷嘴2的底端形成凝结的光刻胶块及凝结的光刻胶块落在正在涂布的基板表面影响涂布质量的现象；同时，清洗过程产生的液体直接进入清洗槽，不会对废胶槽3内的光刻胶造成污染。
根据实际需要，可以使清洗部件5具有单侧清洗的能力，即仅清洗出胶喷嘴2的一侧；也可以使清洗部件5具有双侧清洗的能力，即清洗出胶喷嘴2的两侧。当然，基于清洗效果和效率的考虑，优选清洗部件5具有双侧清洗的能力，例如：
清洗部件5包括具有两个叉指的叉形支架50，两个叉指的端部均设置有出液孔51和出气孔52，出液孔51用于喷射稀释液，出气孔52用于喷射清洁气体。需要说明的是，在叉形支架50内部，需要置入分别与出液孔51和出气孔52连接的管道(未示出)，以便向出液孔51提供稀释液，以及向出气孔52提供清洁气体。本实施例中，清洗部件5的叉形支架50的两个叉指具有出液孔51，可以对出胶喷嘴2的两侧进行清洗，具有更好的清洗效果。
涂胶装置的出胶喷嘴2是至于废胶槽3的上方，以避免出胶喷嘴2上残留的未凝结的光刻胶滴落在废胶槽3之外的位置，因此通常情况下涂胶装置的出胶喷嘴2的运动方向均是按涂胶工艺进行设计，在非涂布工艺时也不会随意移动，但是用于涂布光刻胶的出胶喷嘴2又具有较宽的宽度，因此为了对出胶喷嘴2进行更好的清洗，应当考虑使清洗部件5具有移动的功能。参见图2，优选的，清洗槽4内还设置有导轨6，导轨6和清洗槽4的延伸方向相同，叉形支架50通过连接部件7与导轨6连接；叉形支架50能够借助于连接部件7由水平放置状态旋转至垂直放置状态，以及借助于连接部件7在导轨6上往复运动。应该了解的是，叉形支架50不仅是具有水平放置和垂直放置两个状态，实际上，叉形支架50可以借助于连接部件7实现由水平放置状态旋转至垂直放置状态之间的任意角度的放置状态，在此不再赘述。本实施例中，叉形支架50能够在导轨6上往复运动，因此可以反复对出胶喷嘴2的两侧进行清洗。
为了使叉形支架50在升降过程中不会与出胶喷嘴2发生碰撞并提供较佳的清洗效果，优选的，叉形支架50的两个叉指之间的距离大于出胶喷嘴2的横截面的最大宽度。
优选的，出胶喷嘴2位于叉形支架50上方且叉形支架50为垂直放置状态时，叉形支架50的两个叉指分别距出胶喷嘴2的两侧边的距离为3～7毫米。
优选的，连接部件7为走行传动轴。
优选的，清洗槽4的延伸方向与废胶槽3的延伸方向平行。
本发明实施例有益效果如下：通过在废胶槽的一侧设置清洗槽，且在清洗槽内设置清洗部件，从而利用清洗部件对移动至清洗槽上方的出胶喷嘴进行清洗，以确保出胶喷嘴清洁，避免出胶喷嘴的底端形成凝结的光刻胶块及凝结的光刻胶块落在正在涂布的基板表面影响涂布质量的现象；同时，清洗过程产生的液体直接进入清洗槽，不会对废胶槽内的光刻胶造成污染。
参见图3，本发明实施例提供一种涂胶装置的出胶喷嘴清洗方法，包括：
301，使出胶喷嘴运动至清洗槽的上方。
302，控制清洗部件向出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗出胶喷嘴，具体包括：
通过控制清洗部件的连接部件，带动清洗部件的叉形支架由水平放置状态旋转至垂直放置状态并在清洗部件的导轨上往复运动，由叉形支架的叉指上的出液孔先向出胶喷嘴喷射稀释液，再由叉形支架的叉指上的出气孔向出胶喷嘴喷射清洁气体。
为了使叉形支架在导轨上走行时能够取得较好的清洗效果，优选的，出液孔向出胶喷嘴喷射稀释液时，叉形支架在导轨上的走行速度为100～200毫米/秒。
为了使叉形支架在导轨上走行时能够取得较好的气体干燥效果，优选的，出气孔向出胶喷嘴喷射清洁气体时，叉形支架在导轨上的走行速度为50～100毫米/秒。
本发明实施例有益效果如下：通过在废胶槽的一侧设置清洗槽，且在清洗槽内设置清洗部件，从而利用清洗部件对移动至清洗槽上方的出胶喷嘴进行清洗，以确保出胶喷嘴清洁，避免出胶喷嘴的底端形成凝结的光刻胶块及凝结的光刻胶块落在正在涂布的基板表面影响涂布质量的现象；同时，清洗过程产生的液体直接进入清洗槽，不会对废胶槽内的光刻胶造成污染。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种涂胶装置，包括胶桶、与所述胶桶连接的出胶喷嘴、以及设置于所述出胶喷嘴下方的废胶槽；其特征在于，所述涂胶装置还包括清洗槽和清洗部件；
所述清洗槽设置于所述废胶槽的一侧；
所述清洗部件设置于所述清洗槽内，所述清洗部件用于在所述出胶喷嘴移动到所述清洗槽上方时，向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴。
2.如权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述清洗部件包括具有两个叉指的叉形支架，两个所述叉指的端部均设置有出液孔和出气孔，所述出液孔用于喷射稀释液，所述出气孔用于喷射清洁气体。
3.如权利要求2所述的涂胶装置，其特征在于，所述清洗槽内还设置有导轨，所述导轨和所述清洗槽的延伸方向相同，所述叉形支架通过连接部件与所述导轨连接；
所述叉形支架能够借助于所述连接部件由水平放置状态旋转至垂直放置状态，以及借助于所述连接部件在所述导轨上往复运动。
4.如权利要求2所述的涂胶装置，其特征在于，所述叉形支架的两个所述叉指之间的距离大于所述出胶喷嘴的横截面的最大宽度。
5.如权利要求4所述的涂胶装置，其特征在于，所述出胶喷嘴位于所述叉形支架上方且所述叉形支架为垂直放置状态时，所述叉形支架的两个所述叉指分别距所述出胶喷嘴的两侧边的距离为3～7毫米。
6.如权利要求3所述的涂胶装置，其特征在于，所述连接部件为走行传动轴。
7.如权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述清洗槽的延伸方向与所述废胶槽的延伸方向平行。
8.一种如权利要求1至7任一项所述的涂胶装置的出胶喷嘴清洗方法，其特征在于，包括：
使所述出胶喷嘴运动至所述清洗槽的上方；
控制所述清洗部件向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，控制所述清洗部件向所述出胶喷嘴喷射清洗液和清洁气体以清洗所述出胶喷嘴，包括：
通过控制所述清洗部件的连接部件，带动所述清洗部件的叉形支架由水平放置状态旋转至垂直放置状态并在所述清洗部件的导轨上往复运动，由所述叉形支架的叉指上的所述出液孔先向所述出胶喷嘴喷射稀释液，再由所述叉形支架的叉指上的所述出气孔向所述出胶喷嘴喷射清洁气体。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述出液孔向所述出胶喷嘴喷射稀释液时，所述叉形支架在所述导轨上的走行速度为100～200毫米/秒。
11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述出气孔向所述出胶喷嘴喷射清洁气体时，所述叉形支架在所述导轨上的走行速度为50～100毫米/秒。
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