CN105182684A - 一种掩模板的检修方法 - Google Patents

一种掩模板的检修方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105182684A
CN105182684A CN201510685461.1A CN201510685461A CN105182684A CN 105182684 A CN105182684 A CN 105182684A CN 201510685461 A CN201510685461 A CN 201510685461A CN 105182684 A CN105182684 A CN 105182684A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask plate
way position
glue
metal
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510685461.1A
Other languages
English (en)
Inventor
井杨坤
孙跃
王婷婷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201510685461.1A priority Critical patent/CN105182684A/zh
Publication of CN105182684A publication Critical patent/CN105182684A/zh
Priority to US15/266,066 priority patent/US20170106409A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • B05D5/005—Repairing damaged coatings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/72—Repair or correction of mask defects
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341—Filling or closing of cells
    • G02F1/13415—Drop filling process

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

本发明实施例提供了一种掩模板的检修方法，涉及显示技术领域，可延长掩模板的使用寿命，避免生产成本增加，提高生产效率。该方法包括：确定掩模板的金属镀层的异常位置，并确定所述异常位置的坐标；对所述异常位置涂覆修复胶，以使涂胶平面与所述掩模板的正常金属镀层的平面齐平；其中，所述修复胶包括金属材料；对所述修复胶进行固化。可对掩模板进行检修。

Description

一种掩模板的检修方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板的检修方法。
背景技术
近年来，ODF(oneDropFilling，简称液晶滴注制程)已经成为LCD(LiquidCrystalDisplay，简称液晶显示器)行业中具有代表性的尖端技术。ODF制程是将玻璃基板配向后直接涂布封框胶，接着滴入液晶，然后在减压下进行对位、贴合形成液晶显示面板，再将封框胶先以UV(紫外光)光固化，最后做热硬化并同时重排液晶，最后再切割面板。ODF制程与传统制程相比，不仅大幅度缩短了液晶的注入时间，而且简化了制作过程并减少了液晶用量。
在ODF制程中UV固化工序尤为重要，而UV固化工序中对掩模板的要求极其严格。要求掩模板上的金属镀层不能有破损，一旦发生破损，光线会照射到液晶显示面板的显示区域(AA区域)，进而引起相关的不良现象，如残像、Mura(一种画面品质不良)等问题。
现有技术中若掩模板发生金属镀层脱落，则需要立即更换掩模板，而掩模板的制造周期比较长，这样就影响了生产效率且增加了生产成本。
发明内容
本发明的实施例提供一种掩模板的检修方法，可延长掩模板的使用寿命，避免生产成本增加，提高生产效率。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一种掩模板的检修方法，包括：确定掩模板的金属镀层的异常位置，并确定所述异常位置的坐标；对所述异常位置涂覆修复胶，以使涂胶平面与所述掩模板的正常金属镀层的平面齐平；其中，所述修复胶包括金属材料；对所述修复胶进行固化。
优选的，对所述异常位置涂覆修复胶，包括：对所述异常位置的异常程度进行判断，若所述异常程度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶。
进一步优选的，对所述异常位置的异常程度进行判断，若所述异常程度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶，包括：
当所述异常位置位于所述金属镀层的非边缘区域时，对所述异常位置的所述金属镀层厚度进行判断，相对所述掩模板的正常金属镀层，若所述异常位置的所述金属镀层缺失的厚度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶；
当所述异常位置位于所述金属镀层的边缘区域时，对所述异常位置的宽度进行判断，若所述异常位置的宽度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶。
优选的，对所述异常位置涂覆修复胶，包括：利用步进式点胶机找到所述异常位置的坐标，对所述异常位置涂覆修复胶。
优选的，对所述修复胶进行固化，包括：将涂覆修复胶后的掩模板放入紫外光固化设备进行固化。
优选的，确定掩模板的金属镀层异常位置，并确定所述异常位置的坐标，包括：利用红外探测器和光学成像物镜接收所述掩模板的红外辐射能量，获得红外热像图，以获得所述掩模板的温度分布场信息；根据所述掩模板的温度分布场信息，确定掩模板的异常位置，并确定所述异常位置的坐标。
优选的，确定掩模板的金属镀层异常位置，并确定所述异常位置的坐标，包括：利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化，并利用位于液晶显示面板下方的光强感知装置，判断所述液晶显示面板的显示区域是否有漏光，若有，则确定掩模板的异常位置，并确定所述异常位置的坐标。
进一步优选的，所述方法还包括：停止利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化。
优选的，在确定掩模板的异常位置之后，对所述异常位置涂覆修复胶之前，对所述掩模板进行清洗，并吹干。
基于上述，优选的，所述修复胶中的金属材料与所述掩模板的金属镀层的材料相同。
本发明实施例提供了一种掩模板的检修方法，通过对异常掩模板进行修复，延长了掩模板的使用寿命，避免了异常掩模板被直接换掉而造成的生产成本增加。此外，采用本发明实施例的检修方法可以快速的对异常掩模板进行修复，相对现有技术中更换掩模板后需要较长时间的制造周期，本发明实施例可以提高生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种掩模板的检修方法的流程示意图；
图2为本发明实施例提供的一种标准掩模板的结构示意图；
图3a为本发明实施例提供的一种异常掩模板的结构示意图；
图3b为图3a中AA向剖视示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种异常掩模板的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的修复胶的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的一种支撑针的结构示意图。
附图标记：
10-衬底；20-金属镀层；30-缺失的金属镀层；401-UV硬化树脂；402-UV硬化开始剂；403-热硬化树脂；404-热硬化剂；405-金属材料；50-机台；601-支撑针；602-滚珠。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种掩模板的检修方法，如图1所示，该方法包括如下步骤：
S101、确定掩模板的金属镀层的异常位置，并确定异常位置的坐标。
其中，如图2所示，掩模板包括衬底10和设置在衬底上的图案化的金属镀层20。每个图案化的金属镀层20与一个液晶显示面板的显示区域对应。
本发明实施例所指的金属镀层的异常例如可以是如图3a和图3b所示的由于金属镀层20的脱落而导致的金属镀层的缺失。或者例如可以是如图4所示的制造过程中由于工艺原因而导致的金属镀层的缺失。其中，30代表缺失的金属镀层；图3b中仅以部分缺失进行示意，实际使用过程中也可以是完全缺失。
需要说明的是，确定掩模板的金属镀层的异常位置可以在掩模板使用前进行确定，也可以在掩模板使用过程中确定，具体在此不做限定。此外，对确定掩模板的金属镀层的异常位置的方法也不加限定，只要能确定掩模板的金属镀层的异常位置，并获得异常位置的坐标即可。
S102、对异常位置涂覆修复胶，以使涂胶平面与掩模板的正常金属镀层的平面齐平；其中，所述修复胶包括金属材料。
此处，例如可以利用步进式点胶机对异常位置涂覆修复胶，当然也可以采用圆形点胶机、手机按键点胶机、旋转轴点胶机或其他点胶设备对异常位置涂覆修复胶，只要能找到异常位置，并对异常位置涂覆修复胶即可。
其中，由于步进式点胶机在显示器制造领域比较常见，且其能精准的控制点胶的位置，因此，本发明实施例优选采用步进式点胶机对异常位置涂覆修复胶。
对于修复胶中的金属材料，其可以是铝、钼、银等具有遮光性的金属材料。修复胶中的金属材料可以和掩模板金属镀层的金属材料相同，也可以不同。
修复胶中金属材料的含量在0.7％～7％之间，具体的含量与修复胶中金属材料的遮光性有关。修复胶中金属材料的遮光性越好，加入的金属的含量可以越少。在实际使用过程中，修复胶中金属材料的含量可根据实际需要进行调节，只要能使涂覆修复胶后的异常位置不透光即可。
其中，由于掩模板的金属镀层的材料比较容易获取，因此，本发明实施例优选修复胶中的金属材料与掩模板的金属镀层的材料相同。
此处，修复胶的具体制备过程可以是：先用DIWater(洁净水)，USC(超声波)将搅拌脱泡机、胶筒、药勺等制备过程需要的工具清洗10分钟，清洗干净后，再用蘸IPA(异丙醇)的无尘布将清洗过的工具擦拭干净，并用AirGun(气枪)吹干。在清洗并吹干工具后，用电子天平称量出需要的金属材料的量和封框胶的量，将称量好的胶和金属材料混合后放入胶筒内，再将胶筒放入自转加公转的旋转机中进行搅拌和脱泡。旋转机搅拌过程中自转和公转所产生的上下流运动和涡流可以使修复胶搅拌均匀。
其中，封框胶的成分例如可以包括UV硬化树脂(丙烯系)401、UV硬化开始剂402、热硬化树脂(环氧系)403和热硬化剂404。当封框胶与金属材料搅拌均匀后，修复胶中的金属材料405和封框胶中的各成分形成如图5所示的结构。
S103、对修复胶进行固化。
此处，可以通过固化设备例如紫外光固化设备对修复胶进行固化，也可以通过加热炉或其他加热设备对修复胶进行固化。
由于紫外光能量比较强，因此，采用紫外光对修复胶进行固化时，一方面采用的时间较短，另一方面固化效果较好。基于此，本发明实施例优选采用紫外光固化设备对修复胶进行固化。其中，由于在ODF制成本身会用到紫外光固化设备，因此，此处使用该设备也可避免引入新的设备而造成成本增加。
本发明实施例提供了一种掩模板的检修方法，通过对异常掩模板进行修复，延长了掩模板的使用寿命，避免了异常掩模板被直接换掉而造成的生产成本增加。此外，采用本发明实施例的检修方法可以快速的对异常掩模板进行修复，相对现有技术中更换掩模板后需要较长时间的制造周期，本发明实施例可以提高生产效率。
可选的，步骤S101可以通过如下两种方式实现。
方式一：在掩模板使用前，确定掩模板的金属镀层的异常位置。
具体的，利用红外探测器和光学成像物镜接收所述掩模板的红外辐射能量，获得红外热像图，以获得所述掩模板的温度分布场信息；根据所述掩模板的温度分布场信息，确定掩模板的异常位置，并确定所述异常位置的坐标。
此处，利用红外探测器和光学成像物镜接收被测掩模板的红外辐射能量时，该红外辐射能量可以反映到红外探测器的光敏元件上，因而可以获得红外热像图，红外热像图与掩模板设置金属镀层的一侧表面的热分布场相对应。在此基础上，由于红外热像图可以转变为可视热图像，热图像上面的不同颜色代表掩模板设置金属镀层的一侧表面的不同温度，且该可视热图像可被以灰度或伪彩显示出来，因此，根据该红外热像图便可获得被测掩模板的温度分布场信息。
基于此，根据掩模板的温度分布场信息，通过初步判断上述红外热像图的图形的完整性，可以确定掩模板是否存在金属镀层缺失。进一步的，通过计算温度分布场中，掩模板的金属镀层表面的温度场面积，可以准确计算出掩模板的金属镀层的实际面积，然后与标准面积相比，确定掩模板的金属镀层表面的完整程度。而且温度分布场信息还可以体现掩模板的金属镀层的薄厚的不均一程度。
其中，由于红外探测器和光学成像物镜通过沿x轴和y轴移动，才最终获得掩模板的红外热像图，即，红外探测器和光学成像物镜每扫描到掩模板中的一个点，便对应获得构成红外热像图的一个点，而由于温度分布场信息与红外热像图中的点也是一一对应的，因此，当根据温度分布场信息发现异常后，便可直接得到掩模板的异常位置以及该异常位置的坐标。
需要说明的是，红外探测器和光学成像物镜可以集成在图像采集装置中。
方式二：在掩模板使用过程中，确定掩模板的金属镀层的异常位置。
具体的，利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化，并利用位于液晶显示面板下方的光强感知装置，判断所述液晶显示面板的显示区域是否有漏光，若有，则确定掩模板的异常位置，并确定所述异常位置的坐标。
此处，当利用掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化时，可在液晶显示面板和工作机台之间设置光强感知装置，紫外光光源设置在掩模板的上方。
该光强感知装置例如可以由氢氧化镍(Ni(OH)2)和二氧化钛(TiO2)薄膜构成，当掩模板上有金属镀层的缺失时，紫外光可穿过该金属镀层的缺失到达液晶显示面板的显示区域(AA区域)，进而照射到光强感知装置。当紫外光照射到光强感知装置的钛-镍夹层时，电子从Ni(OH)2薄膜移向TiO2薄膜，Ni(OH)2转变为高价的镍的氧化物(Ni3+和Ni4+)，电子的转移形成电流，通过测定电流的大小，便可判断出运转状态下的掩模板是否存在异常。如果发生漏光，先判定是否为显示区域，若为显示区域，根据光强感知装置上的电流发生变化的位置对应可以得到掩模板的金属镀层脱落的位置。由于掩模板在放置在机台上时与机台进行过对位，因此当紫外光从上部照射到下部时，若掩模板的金属镀层有脱落，则紫外光将穿过掩模板照射到机台上，根据机台上光的物理坐标即可得到掩模板金属镀层脱落位置的坐标。
在此基础上，所述方法还包括停止利用上述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化。
本发明实施例中，通过对工作中的掩模板进行检测，可防止破损的掩模板用于大面积量产，避免造成损失。此外，由于在检测过程中，也能确定掩模板的异常位置的坐标，可方便对其进行修复。
可选的，步骤S102具体可以是：对所述异常位置的异常程度进行判断，若所述异常程度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶。
此处，异常程度即为金属镀层的缺失程度，例如缺失的面积，缺失的厚度等。
由于异常程度小的掩模板并不会对固化后的液晶显示面板造成影响，因此可不必要对所有异常的掩模板进行修复，仅对异常程度大于预设值的掩模板修复，可以提高生产效率。
其中，对所述异常位置的异常程度进行判断，若所述异常程度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶，具体可以是：
当异常位置位于金属镀层的非边缘区域时，对异常位置的金属镀层厚度进行判断，相对掩模板的正常金属镀层，若异常位置的金属镀层缺失的厚度大于预设值，则对异常位置涂覆修复胶。
此处，预设值例如可以为正常金属镀层厚度的20％。
当所述异常位置位于金属镀层的边缘区域时，对异常位置的宽度进行判断，若异常位置的宽度大于预设值，则对异常位置涂覆修复胶。
此处，预设值例如可以为与位于该边缘区域的异常位置对应的液晶显示面板的封框胶的宽度的1/10。
需要说明的是，上述宽度的方向为沿存在异常位置的边缘到相对的另一边缘的方向。
此外，当在步骤S101中采用方式一进行异常位置确定时，由于在此过程中可得到掩模板的金属镀层的实际面积与标准面积的比值，因此，在对所述异常位置的异常程度进行判断前，可先根据上述比值来判断掩模板是否可用，例如若上述比值大于98％，则可不对掩模板进行修复，若上述比值小于98％，则可再对所述异常位置的异常程度进行判断，以便根据异常程度判断是否需要对异常位置涂覆修复胶。
可选的，步骤S103具体可以是：通过机械手将涂覆修复胶后的掩模板送入紫外光固化设备的机台上，并通过PLC(可编程逻辑控制器)将掩模板的身份信息传递给紫外光固化设备，紫外光固化设备对掩模板进行固化的时间和光强进行确认，确认完成后，通过CCD(电荷耦合元件)镜头对机台上的标记点进行寻找，以使掩模板与机台进行对位，对位完成后，机台真空吸附掩模板，且机台上升至预定位置处，使掩模板与吸附装置接触，此时机台真空解除，吸附装置吸真空以吸附掩模板，至此掩模板安装完成。之后，便可采用紫外光对掩模板进行照射，从而使修复胶固化，将其中的金属材料固化到掩模板的衬底上，修复完成。
其中，如图6所示，机台50上设置有支撑针601，支撑针的顶部设置有滚珠602，用于在掩模板相对机台移动时，降低掩模板与机台之间的摩擦力。
掩模板的身份信息包括掩模板的MaskID(身份标识)，相同型号的掩模板MaskID相同，该MaskID可以为编号、二维码或其他用于区别不同型号掩模板的标识。
基于上述，在S101和S102之间，所述方法还包括:对掩模板进行清洗，并吹干。以去除杂质。
本领域普通技术人员可以理解：实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括：ROM、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种掩模板的检修方法，其特征在于，包括：
确定掩模板的金属镀层的异常位置，并确定所述异常位置的坐标；
对所述异常位置涂覆修复胶，以使涂胶平面与所述掩模板的正常金属镀层的平面齐平；其中，所述修复胶包括金属材料；
对所述修复胶进行固化。
2.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法，其特征在于，对所述异常位置涂覆修复胶，包括：
对所述异常位置的异常程度进行判断，若所述异常程度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶。
3.根据权利要求2所述的掩模板的检修方法，其特征在于，对所述异常位置的异常程度进行判断，若所述异常程度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶，包括：
当所述异常位置位于所述金属镀层的非边缘区域时，对所述异常位置的所述金属镀层厚度进行判断，相对所述掩模板的正常金属镀层，若所述异常位置的所述金属镀层缺失的厚度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶；
当所述异常位置位于所述金属镀层的边缘区域时，对所述异常位置的宽度进行判断，若所述异常位置的宽度大于预设值，则对所述异常位置涂覆修复胶。
4.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法，其特征在于，对所述异常位置涂覆修复胶，包括：
利用步进式点胶机找到所述异常位置的坐标，对所述异常位置涂覆修复胶。
5.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法，其特征在于，对所述修复胶进行固化，包括：
将涂覆修复胶后的掩模板放入紫外光固化设备进行固化。
6.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法，其特征在于，确定掩模板的金属镀层异常位置，并确定所述异常位置的坐标，包括：
利用红外探测器和光学成像物镜接收所述掩模板的红外辐射能量，获得红外热像图，以获得所述掩模板的温度分布场信息；
根据所述掩模板的温度分布场信息，确定掩模板的异常位置，并确定所述异常位置的坐标。
7.根据权利要求1所述的掩模板的检修方法，其特征在于，确定掩模板的金属镀层异常位置，并确定所述异常位置的坐标，包括：
利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化，并利用位于液晶显示面板下方的光强感知装置，判断所述液晶显示面板的显示区域是否有漏光，若有，则确定掩模板的异常位置，并确定所述异常位置的坐标。
8.根据权利要求7所述的掩模板的检修方法，其特征在于，所述方法还包括：停止利用所述掩模板对液晶显示面板的封框胶进行固化。
9.根据权利要求1-8任一项所述的掩模板的检修方法，其特征在于，在确定掩模板的异常位置之后，对所述异常位置涂覆修复胶之前，对所述掩模板进行清洗，并吹干。
10.根据权利要求1-8任一项所述的掩模板的检修方法，其特征在于，所述修复胶中的金属材料与所述掩模板的金属镀层的材料相同。
CN201510685461.1A 2015-10-20 2015-10-20 一种掩模板的检修方法 Pending CN105182684A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510685461.1A CN105182684A (zh) 2015-10-20 2015-10-20 一种掩模板的检修方法
US15/266,066 US20170106409A1 (en) 2015-10-20 2016-09-15 Maintenance method of mask plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510685461.1A CN105182684A (zh) 2015-10-20 2015-10-20 一种掩模板的检修方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105182684A true CN105182684A (zh) 2015-12-23

Family

ID=54904856

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510685461.1A Pending CN105182684A (zh) 2015-10-20 2015-10-20 一种掩模板的检修方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20170106409A1 (zh)
CN (1) CN105182684A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109471328A (zh) * 2019-01-07 2019-03-15 成都中电熊猫显示科技有限公司 光配向掩膜版修复方法
CN111063610A (zh) * 2019-12-30 2020-04-24 上海集成电路研发中心有限公司 光刻缺陷修复方法
CN111579556A (zh) * 2020-05-08 2020-08-25 上海谷柏特汽车科技有限公司 一种汽车金属部件红外探测及修复方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104914133B (zh) * 2015-06-19 2017-12-22 合肥京东方光电科技有限公司 摩擦缺陷检测装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5852821A (ja) * 1981-09-24 1983-03-29 Fujitsu Ltd ハ−ドマスクの修正法
US5052816A (en) * 1989-08-29 1991-10-01 Denyo Kabushiki Kaisha Junction inspection method and apparatus for electronic parts
US20040218135A1 (en) * 2003-05-01 2004-11-04 Yu-Chi Lee Liquid crystal panel with isolation wall structure and its producing method
US6875952B2 (en) * 1997-10-20 2005-04-05 Alps Electric Co., Ltd. Substrate having repaired metallic pattern and method and device for repairing metallic pattern on substrate
CN101566788A (zh) * 2008-04-21 2009-10-28 东捷科技股份有限公司 光刻胶图案的修补方法
CN105182689A (zh) * 2015-10-30 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4044297B2 (ja) * 2001-03-29 2008-02-06 株式会社東芝 パターン欠陥検査装置
JP2003228054A (ja) * 2002-02-05 2003-08-15 Mitsubishi Electric Corp 液晶シャッターパネル及び光プリンタヘッド及び液晶シャッターパネルの製造方法
JP2006504136A (ja) * 2002-10-21 2006-02-02 ナノインク インコーポレーティッド ナノメートル・スケール設計構造、その製造方法および装置、マスク修復、強化、および製造への適用
US20130193976A1 (en) * 2012-01-26 2013-08-01 Sancoa International Company, L.P. Label with on-battery voltage indicator
CN103246154B (zh) * 2013-04-11 2015-05-13 合肥京东方光电科技有限公司 一种用于封框胶固化遮挡的掩模板的制造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5852821A (ja) * 1981-09-24 1983-03-29 Fujitsu Ltd ハ−ドマスクの修正法
US5052816A (en) * 1989-08-29 1991-10-01 Denyo Kabushiki Kaisha Junction inspection method and apparatus for electronic parts
US6875952B2 (en) * 1997-10-20 2005-04-05 Alps Electric Co., Ltd. Substrate having repaired metallic pattern and method and device for repairing metallic pattern on substrate
US20040218135A1 (en) * 2003-05-01 2004-11-04 Yu-Chi Lee Liquid crystal panel with isolation wall structure and its producing method
CN101566788A (zh) * 2008-04-21 2009-10-28 东捷科技股份有限公司 光刻胶图案的修补方法
CN105182689A (zh) * 2015-10-30 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109471328A (zh) * 2019-01-07 2019-03-15 成都中电熊猫显示科技有限公司 光配向掩膜版修复方法
CN111063610A (zh) * 2019-12-30 2020-04-24 上海集成电路研发中心有限公司 光刻缺陷修复方法
CN111063610B (zh) * 2019-12-30 2024-02-02 上海集成电路研发中心有限公司 光刻缺陷修复方法
CN111579556A (zh) * 2020-05-08 2020-08-25 上海谷柏特汽车科技有限公司 一种汽车金属部件红外探测及修复方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20170106409A1 (en) 2017-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105182684A (zh) 一种掩模板的检修方法
CN106183275B (zh) 保护膜、包括保护膜的显示模块、以及包括保护膜的显示模块的制造方法
CN102169250B (zh) 平板显示设备的制造方法及其粘合挤压器械
CN100585464C (zh) 微小图案修正装置及微小图案的缺陷修正方法
CN102109702B (zh) 平板显示设备的制造方法
JP2013040851A (ja) 基板検査装置
CN105551930A (zh) 半导体装置的制造方法以及制造装置
CN115207190B (zh) 一种cob模块返修方法
CN105607414A (zh) 掩膜板清洗装置及清洗方法
CN103713472A (zh) 一种自动安装掩模板系统
CN107918321A (zh) 一种基于aoi自动光学检测的智能控制点胶方法
CN110098133B (zh) 一种太阳电池组件胶接质量自动检测装置及自动检测方法
TW201323171A (zh) 接合裝置
CN108614370A (zh) 液晶面板检测设备
CN111338109A (zh) 框胶涂布设备及其涂布修复方法
KR20200056086A (ko) 기판 코팅장치 및 방법
CN103913875A (zh) 液晶显示装置的自动粘合系统以及自动粘合方法
KR102023576B1 (ko) 진공 챔버를 이용한 3d 디스플레이용 ocr 합착 장치
CN109633948A (zh) 显示面板检测方法及显示面板检测装置
CN109491163A (zh) 阵列基板修复工艺、阵列基板以及显示面板
CN102778461A (zh) 液晶显示器中玻璃基板的检测方法及检测装置
CN103645743A (zh) 视觉对位控制系统及方法
CN202939383U (zh) 一种检测装置及液晶滴注设备
CN110922063A (zh) 一种提升投影仪专用镜片的工艺方法
CN113070190A (zh) 显示装置的涂胶方法和涂胶装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20151223