KR101737124B1 - 슬릿 노즐 세정 장치 및 도포 장치 - Google Patents

슬릿 노즐 세정 장치 및 도포 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101737124B1
KR101737124B1 KR1020110003747A KR20110003747A KR101737124B1 KR 101737124 B1 KR101737124 B1 KR 101737124B1 KR 1020110003747 A KR1020110003747 A KR 1020110003747A KR 20110003747 A KR20110003747 A KR 20110003747A KR 101737124 B1 KR101737124 B1 KR 101737124B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
slit nozzle
wiper
nozzle
discharge port
Prior art date
Application number
KR1020110003747A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110095133A (ko
Inventor
유끼오 오가사와라
후미히로 미야자끼
기미오 모또다
Original Assignee
도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 filed Critical 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Publication of KR20110095133A publication Critical patent/KR20110095133A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101737124B1 publication Critical patent/KR101737124B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/02—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
    • B05B1/04—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape in flat form, e.g. fan-like, sheet-like
    • B05B1/044—Slits, i.e. narrow openings defined by two straight and parallel lips; Elongated outlets for producing very wide discharges, e.g. fluid curtains
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C21/00—Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid

Abstract

본 발명의 과제는 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 단시간에 효율적으로 세정하는 것이다.
이 슬릿 노즐 세정부(52)는 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부를 따라서 슬릿 노즐의 길이 방향과 평행하게 수평한 세정 주사 방향(Y방향)에서 이동하는 캐리지(64)를 갖고 있다. 슬릿 노즐 세정부(52)는 이 캐리지(64)에, 세정 주사 방향에 있어서 제1 세정 유닛(70)을 선두로, 이하 제1 와이퍼 유닛(72), 제2 세정 유닛(74), 제2 와이퍼 유닛(76) 및 건조 유닛(78)을 이 순서로 일렬로 배열하여 탑재하고 있다.

Description

슬릿 노즐 세정 장치 및 도포 장치 {SLIT NOZZLE CLEANING APPARATUS AND COATING APPARATUS}
본 발명은 스핀리스 방식의 도포 장치에 관한 것으로, 특히 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 세정하기 위한 슬릿 노즐 세정 장치에 관한 것이다.
LCD 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)의 제조 프로세스에 있어서의 포토리소그래피 공정에는, 글래스 기판 등의 피처리 기판에 대해 슬릿 형상의 토출구를 갖는 장척형의 슬릿 노즐을 상대적으로 이동시켜, 기판 상에 처리액 또는 약액 등의 도포액, 예를 들어 레지스트액을 도포하는 스핀리스의 도포법이 자주 사용되고 있다.
전형적인 스핀리스 도포법에 있어서는, 스테이지 상에 고정하여 적재되는 기판에 대해 슬릿 노즐로부터 레지스트액을 띠 형상으로 토출시키면서, 슬릿 노즐을 노즐 길이 방향과 직교하는 수평한 일방향으로 이동시킨다. 그렇게 하면, 슬릿 노즐의 토출구로부터 기판 상으로 넘친 레지스트액이 노즐 후방으로 평탄하게 연장되어, 기판 일면에 레지스트 도포막이 형성된다(예를 들어, 특허 문헌 1).
다른 대표적인 스핀리스 도포법으로서, 스테이지 상에서 기판을 공중에 뜨게 한채 수평한 일방향(스테이지 길이 방향)으로 반송하는 부상 반송 방식도 많이 사용되고 있다. 이 방식에서는, 부상 스테이지의 상방에 설치된 장척형의 슬릿 노즐이 그 바로 아래를 통과하는 기판을 향해 레지스트액을 띠 형상으로 토출함으로써, 기판 반송 방향에 있어서 기판의 전단부로부터 후단부를 향해 기판 상 일면에 레지스트 도포막이 형성된다(예를 들어, 특허 문헌 2).
일반적으로, 슬릿 노즐에 있어서는, 토출 동작을 멈추었을 때에, 토출구 부근에 레지스트액이 부착 또는 잔류되기 쉽고, 이것이 그대로 방치되어 건조 응고되면, 다음 회의 도포 처리 시에 레지스트 토출류를 방해하거나, 또는 어지럽혀, 레지스트 막 두께의 변동을 초래할 우려가 있다. 따라서, 도포 처리부에 인접하여 설치되는 노즐 대기부에, 다음 회의 도포 처리에 구비하여 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 세정하기 위한 슬릿 노즐 세정 장치가 설치된다(예를 들어, 특허 문헌 3).
종래의 슬릿 노즐 세정 장치는 노즐 대기부 내의 소정 위치에 위치 결정되는 슬릿 노즐의 아래를 노즐 길이 방향으로 주사 이동하는 노즐 세정 헤드 또는 캐리지를 구비하고, 이 캐리지에는 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 향해 세정액(예를 들어, 시너액) 및 건조용 가스(예를 들어, N2 가스)를 각각 세차게 내뿜는 세정 노즐 및 건조 노즐을 탑재하고 있다. 캐리지가 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 따라서 노즐 길이 방향으로 주사 이동하면서, 슬릿 노즐의 토출구 주변부의 각 부를 향해, 처음에 세정 노즐이 세정액을 세차게 내뿜고, 계속해서 건조 노즐이 건조용 가스를 세차게 내뿜도록 되어 있다.
일본 특허 출원 공개 평10-156255호 공보 일본 특허 출원 공개 제2005-236092호 공보 일본 특허 출원 공개 제2007-111612호 공보
상기와 같은 종래의 슬릿 노즐 세정 장치는 1회의 세정 주사에 의해 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 완전히 청소하는 것이 어렵고, 이로 인해 세정 주사(캐리지의 주사 이동)를 복수회 반복하고 있어, 노즐 세정 처리의 택트 시간이 긴 것과, 세정액 소비량이 많은 것이 문제로 되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하는 것으로, 세정 효율 및 세정 능력을 향상시켜, 세정 택트 시간의 단축화 및 세정액 소비량의 절감을 실현하는 슬릿 노즐 세정 장치 및 이것을 구비하는 도포 장치를 제공한다.
본 발명의 슬릿 노즐 세정 장치는 도포 처리에 사용되는 슬릿 형상의 토출구를 갖는 장척형 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 세정하기 위한 슬릿 노즐 세정 장치이며, 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 따라서 상기 슬릿 노즐의 길이 방향과 평행하게 수평한 세정 주사 방향에서 이동하는 캐리지와, 상기 캐리지에 탑재되어, 상기 세정 주사 방향에서 이동하면서 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부에 세정액을 세차게 내뿜는 제1 세정 유닛과, 상기 세정 주사 방향에 있어서 상기 세정 유닛의 뒤에 위치하고 상기 캐리지에 탑재되어, 상기 세정 주사 방향에서 이동하면서 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부에 부착되어 있는 액을 닦아내는 제1 와이퍼 유닛을 갖는다.
상기한 구성에 있어서는, 세정 주사 방향에 있어서 슬릿 노즐의 각 위치의 토출구 주변부에 대해, 우선, 제1 세정 유닛이 세정액을 세차게 내뿜는 것에 의해, 당해 토출구 주변부에 부착되어 있던 오염물이 세정액에 녹고, 오염된 액이 토출구 주변부에 남는다. 이 직후에, 제1 와이퍼 유닛이, 당해 토출구 주변부를 통과하여, 거기에 붙어 있는 오염액을 닦아낸다.
본 발명의 도포 장치는 도포 처리 중에 피처리 기판에 대해 도포액을 띠 형상으로 토출하는 슬릿 형상의 토출구를 갖는 장척형 슬릿 노즐과, 도포 처리 중에 상기 슬릿 노즐에 도포액을 공급하는 도포액 공급부와, 상기 기판을 지지하는 기판 지지부와, 도포 처리 중에 상기 슬릿 노즐이 상기 기판 상에서 도포 주사를 행하도록, 상기 슬릿 노즐과 상기 기판 사이에서 수평한 일방향으로 상대적 이동을 행하게 하는 도포 주사 기구와, 도포 처리의 간극에 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 세정하기 위한 상기 슬릿 노즐 세정 장치를 갖는다.
본 발명의 슬릿 노즐 세정 장치에 따르면, 상기와 같은 구성 및 작용에 의해, 슬릿 노즐에 관하여 세정 효율을 향상시켜, 세정 택트 시간의 단축화 및 세정액 소비량의 절감을 실현할 수 있다. 또한, 본 발명의 도포 장치에 따르면, 본 발명의 슬릿 노즐 청소 장치를 구비함으로써, 슬릿 노즐에 대한 세정 기능의 세정 능력을 향상시켜, 도포 처리의 품질, 수율, 메인터넌스 비용을 개선할 수 있다.
도 1은 본 발명의 슬릿 노즐 세정 장치의 적용 가능한 레지스트 도포 장치의 일구성예를 도시하는 사시도.
도 2는 상기 레지스트 도포 장치에 있어서의 슬릿 노즐의 내부 구조 및 기판 상에 레지스트 도포막이 형성되는 모습을 도시하는 단면도.
도 3은 상기 레지스트 도포 장치에 있어서의 슬릿 노즐의 외관 구조 및 기판 상에 레지스트 도포막이 형성되는 모습을 도시하는 정면도.
도 4는 상기 레지스트 도포 장치에 구비되는 노즐 리프레쉬부의 구성을 도시하는 일부 단면 정면도.
도 5는 상기 노즐 리프레쉬부에 조립되는 슬릿 노즐 세정부의 구성을 도시하는 사시도.
도 6은 세정 주사의 경사 전방으로부터 본 상기 슬릿 노즐 세정부의 구성을 도시하는 사시도.
도 7은 상기 슬릿 노즐 세정부에 조립되는 와이퍼 유닛의 주요부의 구성을 도시하는 도면.
도 8은 상기 슬릿 노즐 세정부에 있어서 슬릿 노즐과의 위치 정렬을 행하는 기구의 구성을 도시하는 단면도.
도 9a는 상기 슬릿 노즐 세정부의 작용을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 9b는 상기 슬릿 노즐 세정부의 작용을 모식적으로 도시하는 측면도.
도 10a는 상기 슬릿 노즐 세정부에 있어서 캐리지에 탑재하는 유닛의 편성의 변형예를 도시하는 도면.
도 10b는 상기 슬릿 노즐 세정부에 있어서 캐리지에 탑재하는 유닛의 편성의 변형예를 도시하는 도면.
도 11a는 상기 슬릿 노즐 세정부에 있어서 캐리지에 와이퍼 유닛을 원터치로 장착하는 구성예를 도시하는 도면.
도 11b는 상기 슬릿 노즐 세정부에 있어서 캐리지에 와이퍼 유닛을 원터치로 장착하는 다른 구성예를 도시하는 도면.
도 12는 상기 슬릿 노즐 세정부의 제2 실시 형태의 구성을 도시하는 상면도.
도 13은 상기 슬릿 노즐 세정부의 제2 실시 형태에 있어서의 건조 유닛의 단면도.
도 14는 도 12의 B-B 단면도.
이하, 첨부도를 참조하여, 본 발명의 적합한 실시 형태를 설명한다.
도 1에 본 발명의 슬릿 노즐 청소 장치의 적용 가능한 레지스트 도포 장치의 일구성예를 도시한다.
이 레지스트 도포 장치는 피처리 기판, 예를 들어 FPD용 글래스 기판(G)을 기체의 압력에 의해 공중에 띄우는 부상 스테이지(10)와, 이 부상 스테이지(10) 상에서 공중에 떠 있는 기판(G)을 부상 스테이지 길이 방향(X방향)으로 반송하는 기판 반송 기구(20)와, 부상 스테이지(10) 상을 반송되는 기판(G)의 상면에 레지스트액을 공급하는 슬릿 노즐(32)과, 도포 처리의 간극에 슬릿 노즐(32)을 리프레쉬하는 노즐 리프레쉬부(42)를 갖고 있다.
부상 스테이지(10)의 상면에는 소정의 가스(예를 들어, 에어)를 상방으로 분사하는 다수의 가스 분사 구멍(12)이 형성되어 있고, 그들 가스 분사 구멍(12)으로부터 분사되는 가스의 압력에 의해 기판(G)이 스테이지 상면으로부터 일정한 높이로 부상하도록 구성되어 있다.
기판 반송 기구(20)는 부상 스테이지(10)를 사이에 두고 X방향으로 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(22A, 22B)과, 이들 가이드 레일(22A, 22B)을 따라서 왕복 이동 가능한 한 쌍의 슬라이더(24)와, 부상 스테이지(10) 상에서 기판(G)의 양 측단부를 착탈 가능하게 보유 지지하도록 슬라이더(24)에 설치된 흡착 패드 등의 기판 보유 지지 부재(도시하지 않음)를 구비하고 있고, 직진 이동 기구(도시하지 않음)에 의해 슬라이더(24)를 반송 방향(X방향)으로 이동시킴으로써, 부상 스테이지(10) 상에서 기판(G)의 부상 반송을 행하도록 구성되어 있다.
레지스트 노즐(32)은 부상 스테이지(10)의 상방을 반송 방향(X방향)과 직교하는 수평 방향(Y방향)으로 횡단하여, 그 바로 아래를 통과하는 기판(G)의 상면(피처리면)에 대해 슬릿 형상의 토출구로부터 레지스트액(R)을 띠 형상으로 토출하도록 되어 있다. 또한, 슬릿 노즐(32)은, 예를 들어 볼 나사 기구나 가이드 부재 등을 포함하는 노즐 승강 기구(26)에 의해, 이 노즐을 지지하는 노즐 지지 부재(28)와 일체로 연직 방향(Z방향)으로 이동 가능하고 승강 가능하게 구성되어 있다. 또한, 슬릿 노즐(32)은 레지스트액 용기나 송액 펌프 등으로 이루어지는 레지스트 공급부(도시 안됨)에 레지스트 공급관(30)을 통해 접속되어 있다.
슬릿 노즐(32)에 인접하여 부상 스테이지(10)의 상방에 노즐 리프레쉬부(42)가 설치되어 있다. 이 노즐 리프레쉬부(42)의 상세는, 도 4 및 도 5를 참조하여 후술한다.
여기서, 이 레지스트 도포 장치에 있어서의 레지스트 도포 동작을 설명한다. 우선, 전단의 유닛, 예를 들어 열적 처리 유닛(도시하지 않음)으로부터 기판(G)이 소터 기구(도시하지 않음)를 통해 부상 스테이지(10)의 전단부측에 설정된 반입 에어리어로 반입되고, 거기서 대기하고 있던 슬라이더(24)가 기판(G)을 보유 지지하여 수취한다. 부상 스테이지(10) 상에서 기판(G)은 가스 분사 구멍(12)으로부터 분사되는 가스(예를 들어, 고압 에어)의 압력을 받아 대략 수평한 자세로 부상 상태를 유지한다.
이와 같이 하여 기판(G)이 수평 자세로 반송 방향(X방향)으로 일정 속도로 이동하는 것인 동시에, 슬릿 노즐(32)이 바로 아래의 기판(G)을 향해 레지스트액을 소정의 압력 또는 유량으로 띠 형상으로 토출함으로써, 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이 기판(G)의 전단부측으로부터 후단부측을 향해 막 두께가 균일한 레지스트액의 도포막이 형성되어 간다.
기판(G)의 후단부가 슬릿 노즐(32)의 아래를 통과하면, 기판 일면에 레지스트 도포막이 형성된다. 계속해서, 기판(G)은 그 후에도 슬라이더(24)에 의해 부상 스테이지(10) 상에서 부상 반송되어, 부상 스테이지(10)의 후단부에 설정된 반출 에어리어로부터 소터 기구(도시하지 않음)를 통해 후단의 유닛(도시하지 않음)으로 보내진다.
도 2에 도시한 바와 같이, 슬릿 노즐(32)은 노즐 길이 방향(Y방향)으로 평행하게 연장되는 프론트 립(33F) 및 리어 립(33R)으로 이루어지고, 이들 한 쌍의 립(33F, 33R)을 맞대어 볼트(도시하지 않음)로 일체 결합하여, 슬릿 형상의 토출구(32a)를 갖고 있다. 슬릿 노즐(32)의 토출구(32a)와 평행하게 연장되는 양측의 노즐 측면(32f, 32r)이, 토출구(32a)를 향해 상부로부터 하부로 점차 가늘어지는 테이퍼 형상으로 형성되어 있다. 레지스트 도포 시에는 토출구(32a)뿐만 아니라 양측의 노즐 측면(32f, 32r)의 하단부도 레지스트액(R)에 의해 젖어, 레지스트 도포 처리가 종료된 후의 토출구(32a) 및 노즐 측면(32f, 32r)의 하단부에는 레지스트액(R)의 오염물이 남는다.
도 4에, 노즐 리프레쉬부(42) 내의 구성을 도시한다. 노즐 리프레쉬부(42)는 1개의 케이싱(44) 내에, 도포 처리의 사전 준비로서 슬릿 노즐(32)에 소량의 레지스트액을 토출시켜 프라이밍 롤러(46)에 권취하는 프라이밍 처리부(48)와, 슬릿 노즐(32)의 토출구를 건조 방지의 목적으로부터 용제 증기의 분위기 중으로 유지하기 위한 노즐 버스(50)와, 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]를 세정하기 위한 슬릿 노즐 세정부(52)를 병설하고 있다.
1회의 도포 처리를 종료한 슬릿 노즐(32)은 처음에 슬릿 노즐 세정부(52)에 의해 세정 처리를 받고, 계속해서 노즐 버스(50) 내에서 대기하고, 다음의 도포 처리가 개시되기 직전에 프라이밍 처리부(48)에 의해 프라이밍 처리를 받는다.
슬릿 노즐(32)을 노즐 리프레쉬부(42) 내의 각 부(48, 50, 52)에 부착시키기 위해서는, 도시하지 않은 컨트롤러의 제어 하에서, 예를 들어 볼 나사 기구로 이루어지는 X방향 이동부(54)에 의해 노즐 리프레쉬부(42)의 전체, 즉 케이싱(44)을 기판 반송 방향(X방향)에서 이동시키는 동시에, 노즐 승강 기구(26)(도 1)에 의해 슬릿 노즐(32)을 연직 방향(Z방향)에서 이동시킨다.
노즐 리프레쉬부(42)에 조립되는 슬릿 노즐 세정부(52)는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 슬릿 노즐 세정 장치이다. 이하, 이 슬릿 노즐 세정부(52)의 구성 및 작용을 상세하게 설명한다.
도 5에 도시한 바와 같이, 슬릿 노즐 세정부(52)는 Y방향 이동부(60)에 조인트 부재(62)를 통해 결합되어, 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부를 따라서 슬릿 노즐의 길이 방향과 평행하게 수평한 세정 주사 방향(Y방향)에서 이동하는 캐리지(64)를 갖고 있다. Y방향 이동부(60)는, 예를 들어 랙 앤드 피니언 기구로 이루어지고, Y방향으로 연장되는 랙(66)과, 이 랙(66) 상에서 구름 이동하는 기어(도시하지 않음)를 내장하는 가동 유닛(68)을 갖고 있다. 캐리지(64)는 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부에 대해 위치 정렬을 한 후, 세정 주사 방향(Y방향)으로 이동하도록 되어 있다.
슬릿 노즐 세정부(52)는 이 캐리지(64)에, 세정 주사 방향에 있어서 제1 세정 유닛(70)을 선두로, 이하 제1 와이퍼 유닛(72), 제2 세정 유닛(74), 제2 와이퍼 유닛(76) 및 건조 유닛(78)을 이 순서로 일렬로 배열하여 탑재하고 있다. 각각의 유닛(70 내지 78)은 캐리지(64)에 카세트식으로 착탈 가능하게 장착되도록 되어 있다.
도 6에 세정 주사의 경사 전방으로부터 본 슬릿 노즐 세정부(52)의 주요부의 구성을 도시한다.
제1 및 제2 세정 유닛(70, 74)은 상면에 오목형의 홈부를 갖는 블록 형상의 노즐 보유 지지부(70a, 74a)와, 이 노즐 보유 지지부(70a, 74a)의 양측의 내벽으로부터 돌출되어 있는 복수 쌍(또는 한 쌍)의 세정 노즐(70b, 74b)과, 노즐 보유 지지부(70a, 74a) 내의 유로를 통해 세정 노즐(70b, 74b)에 접속되어 있는 배관 커넥터(70c, 74c)를 각각 갖고 있다. 배관 커넥터(70c, 74c)는 세정액 공급부(도시하지 않음)로부터의 세정액 공급관(도시하지 않음)에 각각 접속되어 있다.
건조 유닛(78)은 상면에 오목형의 홈부를 갖는 블록 형상의 노즐 보유 지지부(78a)와, 이 노즐 보유 지지부(78a)의 양측의 내벽으로부터 돌출되어 있는 복수 쌍(또는 한 쌍)의 건조 노즐(78b)과, 노즐 보유 지지부(78a) 내의 유로를 통해 건조 노즐(78b)에 접속되어 있는 배관 커넥터(78c)를 각각 갖고 있다. 배관 커넥터(78c)는 건조 가스 공급부(도시하지 않음)로부터의 가스 공급관(도시하지 않음)에 접속되어 있다.
제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76)은 상면에 V형의 홈부를 갖는 블록 형상의 와이퍼 보유 지지부(72a, 76a)와, 이 노즐 보유 지지부(72a, 76a)의 양측 경사면에 모로 누워 설치된 한 쌍(또는 복수 쌍)의 장척형 와이퍼 부재[(72f, 72r), (76f, 76r)]를 각각 갖고 있다.
도 6에 도시한 바와 같이, 와이퍼 부재[(72f, 72r), (76f, 76r)]는 평면에서 볼 때 V자 형상으로 연장되어 있다. 와이퍼 부재[(72f, 72r), (76f, 76r)]의 V형상에 따라서 와이퍼 보유 지지부(72a, 76a)의 전방부가 평면에서 볼 때 V형상으로 절결되어 있고, 이 V형상 절결부(72d, 76d)의 아래는 캐리지(64)의 관통 구멍을 통해 케이싱(44)의 바닥의 드레인 박스(80)(도 4)에 통하고 있다. 이와 같이, V형상 절결부(72d, 76d)는 슬릿 노즐 세정부(52)의 배출구를 구성하고 있다.
도 7에 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76)에 있어서, 와이퍼 보유 지지부(72a, 76a)의 편측 절반 및 편측의 와이퍼 부재(72r, 76r)의 구성을 도시한다. 도 7의 (a)는 사시도이고, 도 7의 (b), (c)는 도 7의 (a)에 있어서 각각 화살표 A, B의 방향에서 본 화살표도이다.
와이퍼 부재[72r(76r)]는, 예를 들어 더 랙(등록 상표명) 등의 불소 함유 엘라스토머로 이루어지고, 와이퍼 보유 지지부[72a(76a)]의 경사면에 매립되는 기부(P)와, 이 기부(P)로부터 와이퍼 보유 지지부[72a(76a)]의 경사면 상으로 돌출되어 연장되는 블레이드부(Q)를 갖는다. 슬릿 노즐(32)을 세정할 때에는, 블레이드부(Q)의 상부 테두리부가 그 전체 길이에 걸쳐서 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 대략 균일한 압력으로 미끄럼 접촉하도록 되어 있다. 와이퍼 보유 지지부[72a(76a)]의 경사면에는 와이퍼 부재[72r(76r)]의 기부(P)를 착탈 가능하게 수납하기 위한 홈부(M)가 형성되어 있다.
블레이드부(Q)는 와이퍼 보유 지지부[72a(76a)]의 경사면에 대해 비스듬히 기립한 각도에서 돌출되어 있다. 이 기립 각도(α)는 30°∼60°의 범위가 바람직하고, 45° 부근이 가장 바람직하다.
또한, 와이퍼 부재[72r(76r)]는 세정 주사 방향에 있어서 수평면에 대해 비스듬히 기립한 각도에서 와이퍼 보유 지지부[72a(76a)]의 경사면에 설치되어 있다. 이 기립 각도(β)는 15°∼45°의 범위가 바람직하고, 30° 부근이 가장 바람직하다.
와이퍼 보유 지지부(72a, 76a)의 다른 쪽의 편측 절반 및 다른 쪽의 와이퍼 부재(72f, 76f)도 상기와 마찬가지의 구성으로 되어 있다.
도 8에 이 실시 형태의 슬릿 노즐 세정부(52)에 구비되어 있는 위치 정렬 기구를 도시한다.
슬릿 노즐(32)을 슬릿 노즐 세정부(52)에 부착시키기 위해서는, 상기와 같이, X방향 이동부(54)에 의해 노즐 리프레쉬부(42)의 전체를 기판 반송 방향(X방향)에서 이동시키는 동시에(도 4), 노즐 승강 기구(26)(도 1)에 의해 슬릿 노즐(32)을 연직 방향(Z방향)에서 이동시킨다. 그렇게 하면, 도 8에 도시한 바와 같이, 슬릿 노즐(32)의 양 노즐 측면(32f, 32r) 및 토출구(32a)가 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76)의 와이퍼 부재[72f(76f), 72r(76r)]에 각각 적당하고 또한 균일한 압력으로 접촉하도록, 슬릿 노즐(32)과 슬릿 노즐 세정부(52) 사이에서 위치 정렬이 자동적으로 행해진다.
도 8에 도시한 바와 같이, 캐리지(64)는 Y방향 이동부(60)로부터의 조인트 부재(62)에 일체로 결합되는 베이스판(64a)과, 이 베이스판(64a) 상에 노즐 길이 방향(Y방향)과 직교하는 수평 방향(X방향) 및 연직 방향(Z방향)에서 변위 가능하게 설치되는 가동판(64b)을 갖고 있고, 가동판(64b) 상에 제1 및 제2 세정 유닛(70, 74), 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76) 및 건조 유닛(78)을 상기와 같은 배열 순서로 탑재하고 있다. 베이스판(64a) 및 가동판(64b)에는 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76)의 V형상 절결부(72d, 76d)와 대응하는 위치에 드레인용 관통 구멍(64c, 64d)이 각각 형성되어 있다.
여기서, 가동판(64b)은 베이스판(64a)을 하부로부터 상부로 관통하는 복수의 플런저(82)에 의해 연직 방향(Z방향)에서 탄성적으로 변위할 수 있는 동시에, 베이스판(64a)의 상면에 고착된 블록판(84)을 외측으로부터 내측으로 관통하는 복수의 플런저(86)에 의해 X방향에서 탄성적으로 변위할 수 있도록 되어 있다. 각 플런저(82, 86)는 동체(나사) 중에 스프링(도시하지 않음)을 내장하고 있고, 가동판(64b)에 점접촉으로 가압 접촉하는 볼 형상의 헤드부가 스프링력에 의해 탄성적으로 틀어박히는 구조로 되어 있다.
상기와 같이, X방향 이동부(54)(도 4) 및 노즐 승강 기구(26)(도 1)에 의해 슬릿 노즐(32)이 슬릿 노즐 세정부(52)에 부착되면, 슬릿 노즐의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]를 따르도록 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76), 나아가서는 가동판(64b)이 플런저(82, 86)에 의해 X방향 및 Z방향에서 탄성적으로 변위된다. 이에 의해, 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76)의 와이퍼 부재[(72f, 72r), (76f, 76r)]가 그 전체 길이에 걸쳐서 슬릿 노즐의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 적당하고 또한 균일한 압력으로 밀착하도록 되어 있다.
또한, 와이퍼 부재[(72f, 72r), (76f, 76r)]에 있어서는, 프론트 립(33F)의 토출구(32a) 및 노즐 측면(32f)을 닦아내는 와이퍼 부재(72f, 76f)와 리어 립(33R)의 토출구(32a) 및 노즐 측면(32r)을 닦아내는 와이퍼 부재(72r, 76r)를 개별로 부품 교환할 수 있을 뿐만 아니라, 각각의 재질을 개별로 선정하는 것도 가능하고, 각각의 재질(특히, 엘라스토머)의 경도를 개별로 설정 또는 조정하는 것도 가능하다.
예를 들어, 도 2에 도시한 바와 같이, 평류 방식의 레지스트 도포 처리에 사용되는 슬릿 노즐(32)은 프론트 립(33F)의 노즐 측면(32f)보다도 리어 립(33R)의 노즐 측면(32r)의 쪽이 레지스트액(R)의 돌아 들어감에 의해 오염물이 많아진다. 따라서, 오염물이 많은 리어 립(33R)측의 와이퍼 부재(72r, 76r)는 그 재질 경도를 비교적 크게 하는 것이 접촉 마찰을 크게 하고, 닦아내기력을 높이는 데 있어서 바람직하다. 한편, 오염물이 적은 프론트 립(33F)측의 와이퍼 부재(72f, 76f)는 재질 경도를 비교적 작게 한 쪽이, 접촉 마찰을 작게 하여, 내구성을 올릴 수 있다.
마찬가지로, 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76) 사이에서, 세정 주사 방향에서 전방에 위치하는 제1 와이퍼 유닛(72)의 와이퍼 부재(72f, 72r)의 재질 경도를 높게 선정하고, 후방에 위치하는 제2 와이퍼 유닛(76)의 와이퍼 부재(76f, 76r)의 재질 경도를 낮게 선정해도 좋다.
다음에, 도 9a 및 도 9b에 대해, 이 실시 형태의 슬릿 노즐 세정부(52)에 있어서의 세정 작용을 설명한다.
슬릿 노즐 세정부(52)에 있어서는, 상기와 같은 슬릿 노즐(32)과의 위치 정렬이 완료되면, 그 위치 정렬 상태(도 8의 상태)를 유지하면서, 도시하지 않은 컨트롤러의 제어 하에서, Y방향 이동부(60)가 작동하고, 캐리지(64)가 세정 주사 방향(Y방향)으로 일정 속도로 이동한다. 여기서, 슬릿 노즐(32)은 1회(기판 1매분)의 레지스트 도포 처리를 종료했을 뿐이고, 그 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]는 레지스트액(R)이 부착되어 오염되어 있다.
캐리지(64)가 주사 이동을 개시하는 것과 대략 동시에, 캐리지(64)에 탑재되어 있는 모든 유닛이 각각의 동작을 개시한다. 보다 상세하게는, 제1 세정 유닛(70)은 캐리지(64) 상의 선두 위치에서, 세정 노즐(70b)로부터 세정액, 예를 들어 시너액(S)을 토출하고, 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 시너액(S)을 세차게 내뿜으면서, 세정 주사 방향(Y방향)으로 이동한다.
제1 와이퍼 유닛(72)은 제1 세정 유닛(70)의 바로 뒤에 이어서, 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 한 쌍의 와이퍼 부재(72f, 72r)를 미끄럼 접촉시켜, 세정 주사 방향(Y방향)으로 이동한다.
제2 세정 유닛(74)은 제1 와이퍼 유닛(72)의 바로 뒤에 이어서, 세정 노즐(74b)로부터 세정액, 예를 들어 시너액(S)을 토출하고, 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 시너액(S)을 세차게 내뿜으면서, 세정 주사 방향(Y방향)으로 이동한다.
제2 와이퍼 유닛(76)은 제2 세정 유닛(74)의 바로 뒤에 이어서, 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 한 쌍의 와이퍼 부재(76f, 76r)를 미끄럼 접촉시켜, 세정 주사 방향(Y방향)으로 이동한다.
건조 유닛(78)은 제2 와이퍼 유닛(76)의 바로 뒤에 이어서, 건조 노즐(78b)로부터 건조용 가스, 예를 들어 N2 가스를 토출하고, 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 N2 가스를 세차게 내뿜으면서, 세정 주사 방향(Y방향)으로 이동한다.
도 9a 및 도 9b에는 상기와 같은 슬릿 노즐 세정부(52)에 있어서의 세정 주사에 의해 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]가 세정 주사 방향(Y방향)에 있어서 일단부로부터 타단부를 향해 연속적으로 세정 내지 청소되어 가는 모습을 일정한 시간 간격(t1, t2, t3, ‥‥)으로 모식적으로 도시하고 있다.
이 세정 주사에 있어서, 각 위치(예를 들어, 도면의 P6의 위치)의 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]에 착안하면, 우선, 제1 세정 유닛(70)이 당해 토출구 주변부에 시너액(S)을 세차게 내뿜는 것에 의해, 당해 토출구 주변부에 부착되어 있던 레지스트액(R)이 시너액(S)에 녹고, 양쪽의 액(R, S)이 섞인 오염액(RS)이 토출구 주변부에 남는다.
그 직후에, 제1 와이퍼 유닛(72)이, 한 쌍의 와이퍼 부재(72f, 72r)를 미끄럼 접촉시켜 당해 토출구 주변부를 통과한다. 와이퍼 부재(72f, 72r)는 진행 방향을 향해 비스듬한 각도(β)에서 기립하면서 당해 토출구 주변부에 적당한 압력으로 미끄럼 접촉하여, 오염액(RS)을 아래로 긁어 떨어뜨리면서 전진한다. 긁어 떨어뜨려진 오염액(RS)은, 배출구(72d)로부터 아래의 드레인 박스(80)로 떨어진다. 제1 와이퍼 유닛(72)에 의한 닦아내기는 충분히 효과적이고, 제1 와이퍼 유닛(72)이 통과한 자리에 닦이고 남은 오염액(RS')이 붙어 있더라도, 소량이다.
그 직후에, 제2 세정 유닛(74)이 당해 토출구 주변부에 시너액(S)을 세차게 내뿜는 것에 의해, 당해 토출구 주변부에 부착되어 있던 닦이고 남은 오염액(RS')이 시너액(S)에 의해 옅어져, 상대적으로 시너액(S)의 비율이 크고 오염물이 적은 액(SR)이 토출구 주변부에 남는다.
그 직후에, 제2 와이퍼 유닛(76)이 한 쌍의 와이퍼 부재(76f, 76r)를 미끄럼 접촉시키면서 당해 토출구 주변부를 통과한다. 와이퍼 부재(76f, 76r)는 진행 방향을 향해 비스듬한 각도(β)에서 기립하면서 당해 토출구 주변부에 적당한 압력으로 미끄럼 접촉하여, 부착액(SR)을 아래로 긁어 떨어뜨리면서 전진한다. 긁어 떨어뜨려진 액(SR)은 배출구(76d)로부터 아래의 드레인 박스(80)로 떨어진다. 제2 와이퍼 유닛(76)에 의한 닦아내기도 충분히 효과적이고, 제2 와이퍼 유닛(76)이 통과한 자리에 닦이고 남은 액('SR')이 붙어 있더라도, 소량이다.
그 직후에, 건조 유닛(78)이 당해 토출구 주변부에 N2 가스를 세차게 내뿜는 것에 의해, 당해 토출구 주변부에 부착되어 있던 닦이고 남은 액('SR')은 풍력에 의해 제거되어, 당해 토출구 주변부는 청정하고 또한 건조한 상태로 된다.
슬릿 노즐(32)의 일단부로부터 타단부까지 전체 길이에 걸쳐서, 슬릿 노즐(32)의 세정 주사 방향(Y방향)에 있어서의 각 위치의 토출구 주변부에서 상기와 같은 일련의 처리(1회째의 세정 → 1회째의 닦아내기 → 2회째의 세정 → 2회째의 닦아내기 → 건조)가 행해진다.
이와 같이 해서, 1회(1왕로)의 세정 주사에 의해, 슬릿 노즐(32)의 전체 길이에 걸쳐서 각 위치에서 토출구 주변부[토출구(32a), 노즐 측면(32f, 32r)]의 레지스트 오염물이 완전히 제거된다. 따라서, 캐리지(64)가 슬릿 노즐(32)의 타단부 부근에 설정된 종점에 도착하면, 거기서 노즐 세정 처리가 종료된다. 그 직후에, 컨트롤러의 제어 하에서, 노즐 승강 기구(38)(도 1) 및 X방향 이동부(54)(도 4)가 작동하여, 슬릿 노즐(32)을 슬릿 노즐 세정부(52)로부터 이웃하는 노즐 버스(50)로 옮긴다.
상기와 같이, 이 실시 형태의 슬릿 노즐 세정부(52)는 슬릿 노즐(32)의 길이 방향과 평행하게 수평한 세정 주사 방향(Y방향)에서 이동하는 캐리지(64)에, 제1 및 제2 세정 유닛(70, 74), 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76) 및 건조 유닛(78)을 상기와 같은 소정의 배열 순서로 탑재하고, 세정 주사 방향(Y방향)의 이동 중에, 제1 및 제2 세정 유닛(70, 74)이 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부에 세정액을 세차게 내뿜고, 제1 및 제2 와이퍼 유닛(72, 76)이 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부에 부착되어 있는 액(오염물)을 닦아내고, 건조 유닛(78)이 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부에 건조 가스를 세차게 내뿜도록 하고 있다. 이에 의해, 특히 와이퍼 유닛(72, 76)의 작용에 의해 세정 효율을 크게 개선하고 있고, 1회(1왕로)의 세정 주사에 의해 슬릿 노즐(32)의 토출구 주변부를 완전히 세정 내지 청소하는 것이 가능해, 세정 택트 시간의 단축화와 세정액 소비량의 절감을 용이하게 달성할 수 있다.
또한, 이 실시 형태의 레지스트 도포 장치는 노즐 리프레쉬부(42)에 상기와 같은 슬릿 노즐 청소부(52)를 구비함으로써, 슬릿 노즐(32)에 대한 세정 기능의 세정 능력을 향상시켜, 레지스트 도포 처리의 품질, 수율, 메인터넌스 비용을 개선할 수 있다.
이상, 본 발명의 적합한 실시 형태를 설명하였지만, 본 발명은 상술한 실시 형태로 한정되는 것은 아니고, 그 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 변형 또는 변경이 가능하다.
예를 들어, 캐리지(64)에 탑재하는 유닛의 편성 형태(세정 유닛, 와이퍼 유닛 및 건조 유닛의 개수, 배열 순서 등)를 다양하게 변형ㆍ변경할 수 있다.
예를 들어, 도 10a의 변형예 (a)와 같이, 3조의 세정 유닛 및 와이퍼 유닛[70, 72], [74, 76], [90, 92]을 세로 접속 배치하고, 가장 마지막에 건조 유닛(78)을 배치하는 것도 가능하다.
도 10a의 변형예 (b)와 같이, 2조의 세정 유닛 및 와이퍼 유닛[70, 72], [74, 76]을 세로 접속 배치하는 구성은 상기 실시 형태와 동일하지만, 예를 들어 제1 와이퍼 유닛(72) 내에 2대의 와이퍼 부재(72f, 72r)를 설치하는 구성도 가능하다.
도 10a의 변형예 (c)와 같이, 1조의 세정 유닛 및 와이퍼 유닛[70, 72]과 건조 유닛(78)을 캐리지(64)에 탑재하는 구성도 가능하다.
또한, 도 10a의 변형예 (d)와 같이, 건조 유닛(78)을 생략하고, 1조의 세정 유닛 및 와이퍼 유닛[70, 72]만을 캐리지(64)에 탑재하는 구성도 가능하다.
또한, 상기 변형예 (a) 내지 (d)로 한정되지 않고, 상기 실시 형태에 있어서도, 캐리지(64)를 복수회 왕복 이동시키고, 세정 주사를 복수회 반복해서 행하는 것도 가능하다.
또한, 도 10b에 도시한 바와 같이, 왕로용 와이퍼 유닛(72)과 복로용 와이퍼 유닛(94)을 캐리지(64)에 탑재하여 왕로 세정 주사와 복로 세정 주사를 행하는 것도 가능하다. 이 경우, 왕로의 세정 주사 방향에 있어서 왕로용 와이퍼 유닛(72) 전에 왕로용 세정 유닛(70) 및 건조 유닛(96)을 배치하고, 복로의 세정 주사 방향에 있어서 와이퍼 유닛(94) 전에 복로용 세정 유닛(98) 및 건조 유닛(78)을 배치하고, 양 와이퍼 유닛(72, 94) 사이에 왕로/복로 겸용의 세정 유닛(74)을 배치한다.
왕로의 세정 주사를 행할 때에는, 복로용 와이퍼 유닛(94)을, 예를 들어 에어 실린더에 의해 하강시켜 슬릿 노즐(32)로부터 분리 또는 퇴피시키는(즉, 사용하지 않는 상태로 함) 동시에, 진행 방향 전방부의 복로용 건조 유닛(96)과 진행 방향 후방부의 복로용 세정 유닛(98)을 오프 상태로 한다(즉, 사용하지 않는 상태로 함).
복로의 세정 주사를 행할 때에는, 왕로용 와이퍼 유닛(72)을, 예를 들어 에어 실린더에 의해 하강시켜 슬릿 노즐(32)로부터 분리 또는 퇴피시키는(즉, 사용하지 않는 상태로 함) 동시에, 진행 방향 전방부의 왕로용 건조 유닛(78)과 진행 방향 후방부의 왕로용 세정 유닛(70)을 오프 상태로 한다(즉, 사용하지 않는 상태로 함).
도 11a 및 도 11b에 와이퍼 유닛[대표예로서 와이퍼 유닛(72)]을 캐리지(64)에 원터치로 착탈 가능하게 장착하는 구성예를 몇 개 도시한다.
도 11a의 (a), (b)에 도시하는 구성예는 캐리지(64)를 상면이 개방된 단면 ㄷ자 형상의 박스 또는 하우징 형상으로 구성하고, 와이퍼 유닛(72)을 상부로부터 캐리지(64) 중으로 삽입 발출할 수 있도록 하고 있다. 바람직하게는, 캐리지(64) 내에 위치 결정용 테이퍼 벽면(64a)[도 11a의 (a)]이나 노크 핀(64b)[도 11a의 (b)]을 설치해도 좋다. 캐리지(64)의 양 측벽(64c)에 플런저(100)를 설치하고, 와이퍼 유닛(72)측의 노치(72n)에 플런저(100)의 헤드부를 결합시키는 구성도 적절하게 채용할 수 있다. 혹은, 플런저(100) 대신에, 도 11b의 (a), (b)에 도시한 바와 같이, 캐리지(64)의 양 측벽(64c)에 판 스프링(102)을 설치하고, 와이퍼 유닛(72)의 견부에 판 스프링(102)을 걸리게 하는 구성을 취해도 좋다.
다음에, 슬릿 노즐 세정부의 제2 실시 형태를 설명한다. 전술한 실시 형태와 동일한 곳은, 설명을 생략한다. 도 12는 슬릿 노즐 세정부(152)의 상면도이다. 슬릿 노즐 세정부(152)는 캐리지(64)에, 세정 주사 방향에 있어서 제1 세정 유닛(179)을 선두로, 이하 제1 와이퍼 유닛(72), 제2 세정 유닛(180), 제2 와이퍼 유닛(76), 건조 유닛(78) 및 제2 건조 유닛(178)을 이 순서로 일렬로 배열하여 탑재하고 있다. 각각의 유닛(178 내지 180, 72, 76)은 캐리지(64)에 카세트식으로 착탈 가능하게 장착되도록 되어 있다.
도 13은 도 12의 A-A 단면도이다. 건조 유닛(78)의 대향하는 한쪽의 면에는 건조 노즐(78b1, 78b2)이 설치되어, 건조 노즐(78b1, 78b2)로부터 건조용 가스, 예를 들어 N2 가스가 토출된다. 건조 유닛(78)의 다른 쪽의 면도 마찬가지이다. 또한, 건조 유닛(178)의 대향하는 한쪽의 면에는 건조 노즐(178b1, 178b2)이 설치되어, 건조 노즐(178b1, 178b2)로부터 건조용 가스, 예를 들어 N2 가스가 토출된다. 건조 유닛(178)의 다른 쪽의 면도 마찬가지이다.
여기서, 도 13에 도시한 바와 같이, 상측에 위치하는 건조 노즐(78b1)과 건조 노즐(178b1)의 높이 위치를 비교하면, 건조 노즐(78b1)의 쪽이 건조 노즐(178b1)보다 높은 위치에 설치되어 있다. 또한, 건조 노즐(78b2)과 건조 노즐(178b2)의 높이 위치는 동일한 높이에 설치되어 있다.
이와 같이, 건조 노즐(78b1)의 쪽이 건조 노즐(178b1)보다 높은 위치에 설치되어 있고, 노즐 측면(32f, 32r)에 대해 상부로부터 차례로 가스를 분사하게 되므로, 노즐 측면(32f, 32r)에 부착된 닦이고 남은 액을 더욱 효율적으로 하방으로 끊어, 건조할 수 있다.
또한, 도 12에 도시한 바와 같이, 제1 및 제2 세정 유닛(179, 180)은 상면에 오목형의 홈부를 갖는 블록 형상의 노즐 보유 지지부(179a, 180a)와, 이 노즐 보유 지지부(179a, 180a)의 양측의 내벽으로부터 돌출되어 있는 복수 쌍의 세정 노즐(179b, 180b)을 갖는다.
위에서 보면, 세정 노즐(179b, 180b)은 각각 교대로 배치되어 있으므로, 예를 들어 슬릿 노즐(32)이 오목형의 홈부에 없는 상태에서 세정 노즐(179b)로부터 세정액을 토출해도, 세정 노즐(179b)로부터 토출된 세정액끼리가 대향하여 충돌하여 비산되는 경우가 없다.
다음에, 도 14는 도 12의 B-B 단면도[제2 세정 유닛(180)의 단면도]이다. 노즐 보유 지지부(180a)의 내벽으로부터 세정 노즐(180b)이 상하 2열로 배치되어 있다. 또한, 제1 세정 유닛(179)도 마찬가지로, 세정 노즐(179b)이 상하 2열로 배치되어 있다.
또한, 본 실시예로 한정되지 않고, 제1 와이퍼 유닛(72), 제2 와이퍼 유닛은 와이퍼 보유 지지부(72a, 76d)가 캐리지(64)로부터 용이하게 제거하는 것이 가능하고, 와이퍼 부재[(72f, 72r), (76f, 76r)]만을 교환하는 것도 가능하지만, 와이퍼 보유 지지부(72a, 76d)마다 새것으로 교환함으로써, 더욱 용이하게 와이퍼의 교환이 가능하다.
또한, 와이퍼 부재[72r(76r)]의 기립 각도(β)는 15°∼45°의 범위가 바람직하고, 30° 부근이 가장 바람직하다고 전술하였지만, 기립 각도(β)를 30°와 44°에서 실험한 바, 30°의 쪽이 닦아내기 성능이 좋았다. 이 결과를 고찰해 본다. 노즐 측면(32f, 32r)의 소정 영역을 닦아내기 위해서는, 기립 각도(β)가 작아질수록 와이퍼 부재[72r(76r)]의 전체 길이를 길게 해야만 한다. 따라서, 기립 각도 β＝30°의 쪽이 기립 각도 β＝44°보다도 와이퍼가 길어져, 노즐 측면(32f, 32r)의 동일한 영역을 닦아내는 경우, 와이퍼가 길기 때문에 기립 각도 β＝30°의 쪽이 닦아내기 성능이 높아졌다고 생각된다. 그러나, 기립 각도(β)를 30보다도 작게 하면, 이번에는 와이퍼의 전체 길이가 지나치게 길어져, 닦아내기 저항이 증가해 버리므로, 효율적으로 닦아낼 수 없다. 따라서, 기립 각도(β)는 30° 부근이 가장 바람직하다.
본 발명에 있어서의 도포액으로서는, 레지스트액 이외에도, 예를 들어 층간 절연 재료, 유전체 재료, 배선 재료 등의 도포액도 가능하고, 각종 약액, 현상액이나 린스액 등도 가능하다. 본 발명에 있어서의 피처리 기판은 LCD 기판으로 한정되지 않고, 다른 플랫 패널 디스플레이용 기판, 반도체 웨이퍼, CD 기판, 포토마스크, 프린트 기판 등도 가능하다.
32 : 슬릿 노즐
52 : 슬릿 노즐 세정부
60 : Y방향 이동부
70, 74 : 세정 유닛
72, 76 : 와이퍼 유닛
78 : 건조 유닛

Claims (15)

  1. 도포 처리에 사용되는 슬릿 형상의 토출구를 갖는 장척형 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 세정하기 위한 슬릿 노즐 세정 장치이며,
    상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 따라서 상기 슬릿 노즐의 길이 방향과 평행하게 수평한 세정 주사 방향에서 이동하는 캐리지와,
    상기 캐리지에 탑재되어, 상기 세정 주사 방향에서 이동하면서 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부에 세정액을 세차게 내뿜는 세정 유닛과,
    상기 세정 주사 방향에 있어서 상기 세정 유닛의 뒤에 위치하고 상기 캐리지에 탑재되어, 상기 세정 주사 방향에서 이동하면서 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부에 부착되어 있는 액을 닦아내는 와이퍼 유닛과,
    상기 세정 주사 방향에 있어서 상기 와이퍼 유닛의 뒤에 위치하고 상기 캐리지에 탑재되어, 상기 세정 주사 방향으로 이동하면서 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부에 건조용 가스를 세차게 내뿜는 건조 유닛과,
    상기 슬릿 노즐의 길이 방향과 직교하는 수평한 일 방향 및 연직 방향에 있어서, 상기 캐리지에 설치된 복수의 플런저에 의해, 상기 캐리지 상에서 상기 와이퍼 유닛을 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부에 따르게 하여 탄성적으로 변위 가능하게 하는 위치 정렬 기구를 구비하고,
    상기 슬릿 노즐의 토출구와 평행하게 연장되는 양측의 노즐 측면이, 토출구를 향해 상부로부터 하부로 점차 가늘어지는 테이퍼 형상으로 형성되어 있고,
    상기 세정 유닛은 상기 테이퍼 형상의 노즐 측면에 양측으로부터 세정액을 세차게 내뿜는 복수개의 세정 노즐을 갖고,
    상기 와이퍼 유닛은 상기 슬릿 노즐의 토출구 및 노즐 측면과 각각 평행하게 대향하는 저부 및 경사면을 갖는 블록 형상의 와이퍼 보유 지지부와, 상기 와이퍼 보유 지지부의 경사면에 설치되고, 수평면에 대해 비스듬히 기립한 각도로 상기 테이퍼 형상의 노즐 측면에 양측으로부터 각각 개별로 미끄럼 접촉하는 한 쌍 또는 복수 쌍의 장척형 와이퍼 부재를 갖고,
    상기 와이퍼 부재는 상기 와이퍼 보유 지지부의 경사면에 매립되는 기부와, 상기 기부로부터 상기 와이퍼 보유 지지부의 경사면 상으로 돌출되는 블레이드부를 갖는, 슬릿 노즐 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 수평면에 대한 상기 와이퍼 부재의 기립 각도는 15°∼45°인, 슬릿 노즐 세정 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 와이퍼 부재의 블레이드부는 상기 와이퍼 보유 지지부의 경사면에 대해 비스듬히 기립한 각도로 돌출되는, 슬릿 노즐 세정 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 와이퍼 보유 지지부의 경사면에 대한 상기 블레이드부의 기립 각도는 30°∼60°인, 슬릿 노즐 세정 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 와이퍼 보유 지지부의 경사면에는, 상기 와이퍼 부재의 기부를 착탈 가능하게 수납하기 위한 홈부가 형성되어 있는, 슬릿 노즐 세정 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 와이퍼 부재는 불소 함유 엘라스토머로 이루어지는, 슬릿 노즐 세정 장치.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 와이퍼 유닛은 상기 캐리지에 착탈 가능하게 장착되는, 슬릿 노즐 세정 장치.
  8. 도포 처리 중에 피처리 기판에 대해 도포액을 띠 형상으로 토출하는 슬릿 형상의 토출구를 갖는 장척형 슬릿 노즐과,
    도포 처리 중에 상기 슬릿 노즐에 도포액을 공급하는 도포액 공급부와,
    상기 기판을 지지하는 기판 지지부와,
    도포 처리 중에 상기 슬릿 노즐이 상기 기판 상에서 도포 주사를 행하도록, 상기 슬릿 노즐과 상기 기판 사이에서 수평한 일방향으로 상대적 이동을 행하게 하는 도포 주사 기구와,
    도포 처리의 사이에 상기 슬릿 노즐의 토출구 주변부를 세정하기 위한 제1항 또는 제2항에 기재된 슬릿 노즐 세정 장치를 갖는, 도포 장치.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
KR1020110003747A 2010-02-17 2011-01-14 슬릿 노즐 세정 장치 및 도포 장치 KR101737124B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-032446 2010-02-17
JP2010032446A JP5258811B2 (ja) 2010-02-17 2010-02-17 スリットノズル洗浄装置及び塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110095133A KR20110095133A (ko) 2011-08-24
KR101737124B1 true KR101737124B1 (ko) 2017-05-17

Family

ID=44462639

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110003747A KR101737124B1 (ko) 2010-02-17 2011-01-14 슬릿 노즐 세정 장치 및 도포 장치

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5258811B2 (ko)
KR (1) KR101737124B1 (ko)
CN (1) CN102161028A (ko)
TW (1) TWI499457B (ko)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5138058B2 (ja) * 2011-03-07 2013-02-06 東レ株式会社 清掃部材と塗布器の清掃方法及び清掃装置並びにディスプレイ用部材の製造方法
JP2013071033A (ja) * 2011-09-27 2013-04-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置
JP5841449B2 (ja) 2012-02-10 2016-01-13 東京エレクトロン株式会社 拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置
CN102767222B (zh) * 2012-06-29 2014-07-23 松下家电研究开发（杭州）有限公司 温水便座装置喷嘴组件及其清洁方法及温水便座装置
JP5809114B2 (ja) * 2012-07-10 2015-11-10 東京エレクトロン株式会社 塗布処理装置及び塗布処理方法
JP2014176812A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ノズル洗浄装置、塗布装置、ノズル洗浄方法、および塗布方法
CN103286030B (zh) * 2013-06-28 2016-08-31 深圳市华星光电技术有限公司 一种狭缝喷嘴清洁装置
CN103331276B (zh) * 2013-07-12 2016-05-18 深圳市华星光电技术有限公司 超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机
CN103406230B (zh) * 2013-08-08 2015-11-25 厦门精恒新自动化科技有限公司 一种点胶清洗切换装置
CN103846183A (zh) * 2013-12-20 2014-06-11 深圳市华星光电技术有限公司 一种涂布机喷嘴清洁装置
KR102232667B1 (ko) * 2014-06-12 2021-03-30 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR102292660B1 (ko) * 2014-07-24 2021-08-25 세메스 주식회사 세정 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치
KR101578368B1 (ko) * 2014-12-04 2015-12-18 주식회사 디엠에스 노즐립 클리너 및 이를 이용한 슬릿 코터
JP6454597B2 (ja) * 2015-05-13 2019-01-16 東京応化工業株式会社 塗布装置、塗布システム及び塗布方法
JP6664952B2 (ja) * 2015-12-17 2020-03-13 東レエンジニアリング株式会社 塗布器洗浄装置及び塗布装置
CN105710056B (zh) * 2016-03-21 2019-01-25 京东方科技集团股份有限公司 液刀清洁装置及液刀
JP6697324B2 (ja) * 2016-05-26 2020-05-20 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法
CN105855133B (zh) * 2016-06-02 2018-06-08 京东方科技集团股份有限公司 喷嘴自动清洁装置及喷嘴自动清洁方法
JP6500244B2 (ja) * 2016-06-09 2019-04-17 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 部品装着装置
JP6824673B2 (ja) * 2016-09-13 2021-02-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス ノズル清掃部材、ノズル清掃装置、塗布装置
CN206425274U (zh) 2017-01-05 2017-08-22 惠科股份有限公司 一种喷嘴的清洁装置
CN106733358B (zh) * 2017-02-06 2019-10-01 京东方科技集团股份有限公司 喷嘴清洁装置及涂布液涂布设备
CN108580133B (zh) * 2018-06-01 2019-09-24 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 涂布设备口金擦拭机构
JP6430056B1 (ja) 2018-07-17 2018-11-28 中外炉工業株式会社 塗布用ノズルの清掃装置
CN108906472A (zh) * 2018-07-25 2018-11-30 朱浩东 光学胶涂布装置
CN108873609A (zh) * 2018-07-25 2018-11-23 朱浩东 光阻涂布设备
CN108672214A (zh) * 2018-07-25 2018-10-19 朱浩东 光学胶涂布设备
CN108873610A (zh) * 2018-07-25 2018-11-23 朱浩东 光阻涂布装置
CN108983561A (zh) * 2018-08-03 2018-12-11 深圳市华星光电技术有限公司 涂布口金组件及涂布口金系统
CN108816660A (zh) * 2018-08-04 2018-11-16 伍先春 光学胶涂布装置
CN108889536A (zh) * 2018-08-04 2018-11-27 伍先春 光学胶涂布装置
JP7111565B2 (ja) * 2018-09-06 2022-08-02 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
CN110237971A (zh) * 2019-05-31 2019-09-17 溧阳嘉拓智能设备有限公司 锂电池狭缝挤压式涂布模头在线全自动清洁装置及方法
JP7197525B2 (ja) * 2020-01-22 2022-12-27 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス ノズル清掃装置、塗布装置、ノズル清掃方法、および、スクレーパー
CN112439592B (zh) * 2020-11-21 2021-10-08 颍上县龙裕扬工贸有限公司 一种带有除静电装置的塑料制品加工用喷涂装置
CN113231619A (zh) * 2021-05-08 2021-08-10 吴薇娜 一种发动机悬挂支架铝合金压铸件浇排结构
CN114160343A (zh) * 2021-12-19 2022-03-11 苏州康辉电子科技有限公司 一种基于塑料制品加工的静电去除装置
CN114558732A (zh) * 2022-03-09 2022-05-31 宿迁恒信工艺品有限公司 一种木制品玩具加工用喷漆装置
KR102656532B1 (ko) * 2022-08-29 2024-04-11 한국기술교육대학교 산학협력단 자동화된 슬롯다이코팅장치 및 그 제어방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001113213A (ja) * 1999-10-19 2001-04-24 Toray Ind Inc 塗布ヘッドの清掃方法および清掃装置並びにプラズマディスプレイおよびプラズマディスプレイ用部材の製造方法および装置
JP2007237122A (ja) * 2006-03-10 2007-09-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd スリットノズル洗浄装置
JP2008149247A (ja) 2006-12-15 2008-07-03 Chugai Ro Co Ltd 吐出ノズルの清掃装置
JP2008268906A (ja) 2007-03-27 2008-11-06 Toray Ind Inc 清掃部材と塗布器の清掃方法および清掃装置並びにディスプレイ用部材の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002177848A (ja) * 2000-12-15 2002-06-25 Toray Ind Inc 塗布用ダイの清掃装置および清掃方法並びにこれを用いたカラーフィルターの製造装置および製造方法
JP4779234B2 (ja) * 2001-06-05 2011-09-28 東レ株式会社 塗布用ダイの清掃方法および清掃装置並びにカラーフィルターの製造方法および製造装置
KR100923022B1 (ko) * 2002-06-14 2009-10-22 삼성전자주식회사 감광물질 코팅 방법 및 장치
KR100700180B1 (ko) * 2004-12-31 2007-03-27 엘지.필립스 엘시디 주식회사 예비토출부를 구비한 슬릿코터 및 이를 이용한 코팅방법
JP4857193B2 (ja) * 2007-05-28 2012-01-18 大日本スクリーン製造株式会社 ノズル洗浄装置
KR100975129B1 (ko) * 2008-06-27 2010-08-11 주식회사 디엠에스 노즐 립 클리너를 구비한 슬릿 코터

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001113213A (ja) * 1999-10-19 2001-04-24 Toray Ind Inc 塗布ヘッドの清掃方法および清掃装置並びにプラズマディスプレイおよびプラズマディスプレイ用部材の製造方法および装置
JP2007237122A (ja) * 2006-03-10 2007-09-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd スリットノズル洗浄装置
JP2008149247A (ja) 2006-12-15 2008-07-03 Chugai Ro Co Ltd 吐出ノズルの清掃装置
JP2008268906A (ja) 2007-03-27 2008-11-06 Toray Ind Inc 清掃部材と塗布器の清掃方法および清掃装置並びにディスプレイ用部材の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN102161028A (zh) 2011-08-24
JP5258811B2 (ja) 2013-08-07
TWI499457B (zh) 2015-09-11
KR20110095133A (ko) 2011-08-24
TW201200243A (en) 2012-01-01
JP2011167607A (ja) 2011-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101737124B1 (ko) 슬릿 노즐 세정 장치 및 도포 장치
KR102011538B1 (ko) 와이핑 패드 및 이 패드를 사용한 노즐 메인터넌스 장치와 도포 처리 장치
KR101716509B1 (ko) 슬릿 노즐 청소 장치 및 도포 장치
KR101005955B1 (ko) 예비 토출장치 및 예비 토출방법
CN107433240B (zh) 喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法
US8506045B2 (en) Inkjet head cleaning apparatus and method
KR101845090B1 (ko) 도포막 형성 장치 및 도포막 형성 방법
JP2008149247A (ja) 吐出ノズルの清掃装置
KR20120023559A (ko) 도포장치 및 노즐의 메인터넌스 방법
KR101069600B1 (ko) 부상식 기판 코터 장치 및 그 코팅 방법
KR100886024B1 (ko) 기판 식각 장치
JP3180143U (ja) 塗布ノズル洗浄装置
KR100578558B1 (ko) 슬릿노즐 세정 장치 및 슬릿노즐 처리 장치
CN108855719B (zh) 喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法
JP3182815U (ja) 塗布ノズル洗浄装置
CN104668217A (zh) 基板处理装置
JP5430429B2 (ja) スリットノズル及びスリットノズル清掃装置及びスリットノズル清掃方法
JP4339299B2 (ja) レジスト塗布装置
KR101061055B1 (ko) 슬릿 노즐로 약액을 도포하는 기판 코터 장치의 박판 세정 기구 및 이를 구비한 기판 코터 장치
KR101160171B1 (ko) 세정 유닛 및 이를 갖는 처리액 도포 장치
JP2010131485A (ja) 基板の液切り装置および液切り方法
KR100823583B1 (ko) 습식처리장치
KR101051767B1 (ko) 부상식 기판 코터 장치
KR20170084814A (ko) 잔류 약액 처리 장치 및 방법 그리고 인쇄 장치
KR101108372B1 (ko) 현상 처리 장치 및 현상 처리 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant