TWI499457B - 狹縫噴嘴洗淨裝置及塗佈裝置 - Google Patents

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TWI499457B TW100104890A TW100104890A TWI499457B TW I499457 B TWI499457 B TW I499457B TW 100104890 A TW100104890 A TW 100104890A TW 100104890 A TW100104890 A TW 100104890A TW I499457 B TWI499457 B TW I499457B
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Fumihiro Miyazaki
Kimio Motoda
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Description

狹縫噴嘴洗淨裝置及塗佈裝置
本發明係關於無旋轉方式之塗佈裝置，尤其關於用以洗淨無旋轉法之塗佈處理所使用之狹縫噴嘴之吐出口周邊部的狹縫噴嘴洗淨裝置。
LCD等之平面顯示器(FPD)之製程中之光微影工程常使用使具有狹縫形狀之吐出口的長條型之狹縫噴嘴對玻璃基板等之被處理基板相對性移動，在基板上塗佈處理液或藥液等之塗佈液例如光阻液的無旋轉之塗佈法。
在典型之無旋轉塗佈法中，一面藉由狹縫噴嘴使光阻液帶狀地吐出至被固定載置於平台上之基板，一面使狹縫噴嘴移動至與噴嘴長邊方向正交之水平之一方向。如此一來，從狹縫噴嘴之吐出口溢流至基板上之光阻液平坦地延伸至噴嘴後方，而在基板一面形成光阻塗佈膜(例如專利文獻1)。
就以另外之代表無旋轉塗佈法而言，也使用在平台上使基板中空浮起之狀態下直接搬運至水平之一方向(平台長邊方向)之浮起搬運方式為多。在該方式中，藉由設置在浮起平台之上方的長條型之狹縫噴嘴朝向通過其正下方之基板而帶狀地吐出光阻液，在基板搬運方向中從基板之前端部朝向後端部而在基板上一面形成光阻塗佈膜(例如專利文獻2)。
一般，在狹縫噴嘴中，於停止吐出動作之時，容易於吐出口附近附著或殘留光阻液，該如此放置而乾燥凝固時，於下一次之塗佈處理之時，則有妨礙光阻吐出流，或擾亂，而引起光阻膜厚之變動之虞。於是，在與塗佈處理部鄰接而被配置之噴嘴待機部，設置有下一次之塗佈處理所具備用以洗淨狹縫噴嘴之吐出口周邊部之狹縫噴嘴洗淨裝置(例如，專利文獻3)。
以往之狹縫噴嘴洗淨裝置具備在定位於噴嘴待機部內之特定位置的狹縫噴嘴之下方於噴嘴長邊方向掃描移動的噴嘴洗淨頭或支架，在該台架搭載有朝向狹縫噴嘴之吐出口周邊部而各噴吹洗淨液(例如，稀釋液)及乾燥用氣體(例如N2 氣體)之洗淨噴嘴及乾燥噴嘴。支架一面沿著狹縫噴嘴之吐出口之周邊部而朝噴嘴長邊方向掃描移動，一面朝向狹縫噴嘴之吐出口周邊部之各部，首先洗淨噴嘴噴吹洗淨液，接著乾燥噴嘴噴吹乾燥用氣體。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平10-156255號公報
[專利文獻2]日本特開2005-236092號公報
[專利文獻3]日本特開2007-111612號公報
上述般之以往之狹縫噴嘴洗淨裝置藉由一次洗淨掃描難以充分清掃狹縫噴嘴之吐出口周邊部，因此多次重複洗淨掃描(支架之掃描移動)，有噴嘴洗淨處理之產距時間長，洗淨液消耗量多之問題。
本發明係解決上述般之以往技術之問題點，提供使洗淨效率及洗淨能力提升，實現洗淨產距時間之縮短化及洗淨液消耗量之節省的狹縫噴嘴洗淨裝置及具備此之塗佈裝置。
一種狹縫噴嘴洗淨裝置，其係用以洗淨具有塗佈處理所使用之狹縫狀吐出口之長條型狹縫噴嘴的吐出口周邊部，具有：支架，其係沿著上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部而平行於上述狹縫噴嘴之長邊方向在水平洗淨掃描方向移動；和第1洗淨單元，其係被搭載在上述支架，一面在上述洗淨掃描方向移動一面對上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部噴吹洗淨液；和第1擦拭器單元，其係在上述洗淨掃描方向位於上述洗淨單元之後而被搭載在上述支架，一面在上述洗淨掃描方向移動，一面擦取附著於上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部的液體。
在上述之構成中，藉由在洗淨掃描方向中對狹縫噴嘴之各位置之吐出口周邊部，首先，第1洗淨單元噴吹洗淨液，附著於該吐出口周邊部之髒污溶於洗淨液，髒污之液體則殘留於吐出口周邊部。緊接著，第1擦拭器單元通過該吐出口周邊部，而擦取附著於此之髒污液體。
本發明之塗佈裝置具有：長條型狹縫噴嘴，其具有於塗佈處理中對被處理基板帶狀地吐出塗佈液之狹縫狀之吐出口；和塗佈液供給部，其係於塗佈處理中對上述狹縫噴嘴供給塗佈液；和基板支撐部，其係用以支撐上述基板；和塗佈掃描機構，其係在上述狹縫噴嘴和上述基板之間進行於水平之一方向相對性移動，使得在塗佈處理中上述狹縫噴嘴在上述基板上進行塗佈掃描；和上述狹縫噴嘴洗淨裝置，其係用以在塗佈處理之間隔洗淨上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部。
若藉由本發明之狹縫噴嘴洗淨裝置時，藉由上述般之構成及作用，關於狹縫噴嘴可以提升洗淨效率，並可以實現洗淨產距時間之縮短化及洗淨液消耗量之節約。再者，若藉由本發明之塗佈裝置時，依據本發明之狹縫噴嘴清掃裝置，可以提升洗淨機能對狹縫噴嘴的洗淨能力，改善塗佈處理之品質、良率、維修成本。
以下，參照附件圖面說明本發明之最佳實施型態。
第1圖係表示可適用本發明之狹縫噴嘴清掃裝置之光阻塗佈裝置之一構成例。
該光阻塗佈裝置具有：藉由氣體之壓力使被處理基板例如FPD用之玻璃基板G空中浮起之浮起平台10；和在該浮起平台10上將空中浮起之基板G般運至浮起平台長邊方向(X方向)之基板搬運機構20；和將光阻液供給至在浮起平台10上搬運之基板G之上面的狹縫噴嘴32；和在塗佈處理之間隔更新狹縫噴嘴32之噴嘴更新部42。
在浮起平台10之上面設置將特定氣體(例如空氣)噴射至上方之多數氣體噴射孔12，構成基板G藉由從該些氣體噴射孔12所噴射之氣體之壓力從平台上面浮起至一定高度。
基板搬運機構20具備：夾著浮起平台10而延伸於X方向之一對導軌22A、22B；沿著該些導軌22A、22B而可來回移動之一對滑動件24；以在浮起平台10上可拆裝地保持基板G之兩側端部之方式設置在滑動件24之吸附墊等之基板保持構件(無圖示)，藉由直進移動機構(無圖示)使滑動件24移動至搬運方向(X方向)，依此構成在浮起平台10上進行基板G之浮起搬運。
光阻噴嘴32係在浮起平台10之上方橫斷與搬運方向(X方向)正交之水平方向(Y方向)，在對於通過其正下方之基板G之上面(被處理面)藉由狹縫狀之吐出口帶狀地吐出光阻液R。再者，狹縫噴嘴32係藉由含有例如滾珠螺桿機構或引導構件等之噴嘴升降機構26，構成可升降成可與支撐該噴嘴之噴嘴支撐構件28一體地在垂直方向(Z方向)移動。再者，狹縫噴嘴32係經光阻供給管30而連接於光阻液容器或送液泵等所構成之光阻供給部(無圖示)。
鄰接於狹縫噴嘴32而在浮起平台10之上方設置噴嘴更新部42。該噴嘴更新部42之詳細參照第4圖及第5圖於後詳細敘述。
在此，說明該光阻塗佈裝置中之光阻塗佈動作。首先，基板G藉由前段之單元例如熱處理單元(無圖示)經分類機構(無圖示)而被搬入設置在浮起平台10之前端側之搬入區域，在此待機之滑動件24保持並收取基板G。在浮起平台10上基板G係受到藉由氣體噴射孔12所噴射之氣體(例如高壓氣體)之壓力而以略水平之姿勢保持浮起狀態。
如此一來，與基板G在水平姿勢下以一定速度朝搬運方向(X方向)移動之同時，狹縫噴嘴32朝向正下方之基板G以特定壓力或流量帶狀地吐出光阻液，依此如第2圖及第3圖所示般從基板G之前端側朝向後端側形成膜厚均勻之光阻液之塗佈膜。
當基板G之後端通過狹縫噴嘴32之下方時，則在基板一面形成光阻塗佈膜。接著，基板G之後藉由滑動件24在浮起平台10上被浮起搬運，藉由被設定在浮起平台10之後端的搬出區域經分類機構(無圖示)而被送至後段之單元(無圖示)。
如第2圖所示般，狹縫噴嘴32係由平行延伸於噴嘴長邊方向(Y方向)之前唇部33F及後唇部33R所構成，以螺栓(無圖示)使該些一對唇部33F、33R緊挨著而一體結合，並具有狹縫狀之吐出口32a。與上述狹縫噴嘴32之吐出口32a平行延伸之兩側之噴嘴側面32f、32r，係被形成朝向吐出口32a而從上至下逐漸變尖細的錐形狀。於光阻塗佈時，不僅吐出口32a連兩側之噴嘴側面32f、32r之下端部也被光阻液R浸溼，在光阻塗佈處理結束後之吐出口32a及噴嘴側面32f、32r之下端部殘留光阻液R之髒污。
第4圖表示噴嘴更新部42內之構成。噴嘴更新部42係在一個殼體44內，並列設置作為塗佈處理之下準備使少量光阻液吐出至狹縫噴嘴32而捲取於啟動滾輪46之起動處理部48；和以防止乾燥為目的用以將狹縫噴嘴32之吐出口保持於溶劑蒸氣之環境中的噴嘴匯流排50；和用以洗淨狹縫噴噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)之狹縫噴嘴洗淨部52。
結束第一次之塗佈處理之狹縫噴嘴32，首先藉由狹縫噴嘴洗淨部52接受洗淨處理，接著在噴嘴匯流排50內待機，於開始下一個塗佈處理之前藉由起動處理部48接受起動處理。
為了使狹縫噴嘴32到達至噴嘴更新部42內之各部(48、50、52)，在無圖示之控制器之控制下，例如藉由滾珠螺桿所構成之X方向移動部54，將噴嘴更新部42之全體即是殼體44在基板搬運方向(X方向)移動，並且藉由噴嘴升降機構26(第1圖)，使狹縫噴嘴32在垂直方向(Z方向)移動。
組裝於噴嘴更新部42之狹縫噴嘴洗淨部52為本發明之一實施型態中之狹縫噴嘴洗淨裝置。以下，詳細說明該狹縫噴嘴洗淨部52之構成及作用。
如第5圖所示般，狹縫噴嘴洗淨部52係經連接構件62而與Y方向移動部60結合，具有沿著狹縫噴嘴32之吐出口周邊部而與狹縫噴嘴之長邊方向平行在水平洗淨掃描方向(Y方向)移動之支架64。Y方向移動部60係由例如齒條和小齒輪機構所構成，具有延伸於Y方向之齒條66，和內藏在該齒條66上轉動之齒輪(無圖示)的可動單元68。支架64係對狹縫噴嘴32之吐出口周邊部而進行定位之後，移動至洗淨掃描方向(Y方向)。
狹縫噴嘴洗淨部52係在該支架64上從洗淨掃描方向來看以第1洗淨單元70為開始，以下依照第1擦拭器單元72、第2洗淨單元74、第2擦拭器單元76及乾燥單元78之順序排成一列並予以搭載。各個單元70～78係以卡匣式而能拆裝之方式被安裝於支架64上。
第6圖表示從洗淨掃描之斜前方觀看狹縫噴嘴洗淨部52之重要部分之構成。
第1及第2洗淨單元70、74各具有：於上面擁有凹形之溝部之塊狀的噴嘴保持部70a、74a；和從該噴嘴保持部70a、74a之兩側之內壁突出之多對(或一對)之洗淨噴嘴70b、74b；和經噴嘴保持部70a、74a內之流路而連接於洗淨噴嘴70b、74b之配管連接器70c、74c。配管連接器70c、74c各連接於來自洗淨液供給部(無圖示)之洗淨液供給管(無圖示)。
乾燥單元78具有在上面具有凹形溝部之塊狀之噴嘴保持部78a，和從該噴嘴保持部78a之兩側之內壁突出之多對(或是一對)之乾燥噴嘴78b，和經噴嘴保持部78a內之流路而連接於乾燥噴嘴78b之配管連接器78c。配管連接器78c連接於來自乾燥氣體供給部(無圖示)之氣體供給管(無圖示)。
第1及第2擦拭器單元72、76各具有在上面擁有V形之溝部的塊狀之擦拭器保持部72a、76a，和橫臥在該噴嘴保持部72a、76a之兩側傾斜面而被安裝的一對(或多對)之長條型擦拭器構件(72f、72r)、(76f、76r)。
如第6圖所示般，擦拭器構件(72f、72r)、(76f、76r)係在俯視觀視下延伸成V字狀。仿照擦拭器構件(72f、72r)、(76f、76r)之V形狀而擦拭器保持部72a、76a之前部在俯視觀視下被切口成V形狀，該V形狀缺口部72d、76d之下係經支架64之貫通孔而通到殼體44之底下的排液箱80(第4圖)。如此一來，V形狀缺口部72d、76d構成狹縫噴嘴洗淨部52之排液口。
第7圖表示在第1及第2擦拭器單元72、76中，擦拭器保持部72a、76a之單側一半及單側之擦拭器構件72r、76r之構成。第7圖(a)為斜視圖，第7圖(b)、(c)為在第7圖(a)中各在箭號A、B之方向觀看之向視圖。
擦拭器構件72r(76r)係由例如由Zalak公司(註冊商標)等之含氟彈性體所構成，具有埋入於擦拭器保持部72a(76a)之傾斜面的基部P，和從該基部P突出於擦拭器保持部72a(76a)之傾斜面之上而延伸的刮刀部Q。於洗淨狹縫噴嘴32之時，刮刀部Q之上緣部涵蓋其全長以幾乎均勻之壓力滑接於狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)。在擦拭器保持部72a(76a)之傾斜面形成有用以可拆裝收納擦拭器構件72r(76r)之基部P的溝部M。
刮刀部Q係以對擦拭器保持部72a(76a)之傾斜面傾斜豎立之角度而突出。該豎立角度α係以30°～60°之範圍為佳，以45°附近為最佳。
再者，擦拭器構件72r(76r)係以在洗淨掃描方向對水平面傾斜豎立之角度安裝於擦拭器保持部72a(76a)之傾斜面。該豎立角度β係以15°～45°之範圍為佳，以30°附近為最佳。°
擦拭器保持部72a、76a之另一方之單側一半及另一方之擦拭器構件72f、76f也成為與上述相同之構成。
第8圖係表示該實施型態之狹縫噴嘴洗淨部52所具備之定位機構。
為了使狹縫噴嘴32到達至狹縫噴嘴洗淨部52，如上述般，藉由X方向移動部54，使噴嘴更新部42之全體在基板搬運方向(X方向)移動(第4圖)，並且藉由噴嘴升降機構26(第1圖)使狹縫噴嘴32在垂直方向(Z方向)移動。如此一來，如第8圖所示般，以狹縫噴嘴32之兩噴嘴側面32f、32r及吐出口32a各以適度且均勻之壓力接觸於第1及第2擦拭器單元72、76之擦拭器構件72f(76f)、72r(76r)之方式，在狹縫噴嘴32和狹縫噴嘴洗淨部52之間自動性地進行定位。
如第8圖所示般，支架64具有：一體結合於來自Y方向移動部60之連接構件62的底板64a；和可在與噴嘴長邊方向(Y方向)正交之水平方向(X方向)及垂直方向(Z方向)位移地被安裝在該底板64a上之可動板64b，在可動板64b上以第1及第2洗淨單元70、74、第1及第2擦拭器單元72、76及乾燥單元78之配列順序而予以搭載。在底板64a及可動板64b，於對應於第1及第2擦拭器單元72、76之V形缺口部72d、76d之位置各形成有排液用之貫通孔64c、64d。
在此，可動板64b藉由底板64a從下貫通至上之多數柱塞82可在垂直方向(Z方向)彈性地位移，並且藉由將固定於底板64a上面之塊板84從外側貫通至內側的多數柱塞86可在X方向彈性地位移。各柱塞82、86係驅幹(螺桿)內藏彈簧(無圖示)，成為以點接觸加壓接觸於可動板64b之球狀的頭部藉由彈簧力彈性拉引之構造。
當如上述般，藉由X方向移動部54(第4圖)及噴嘴升降機構26(第1圖)，狹縫噴嘴32到達至狹縫噴嘴洗淨部52時，第1及第2擦拭器單元72、76進而可動板64b藉由柱塞82、86在X方向及Z方向彈性地位移使得仿照狹縫噴嘴之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)。依此，第1及第2擦拭器單元72、76之擦拭器構件(72f、72r)、(76f、76r)涵蓋其全長以適度且均勻之壓力密接於狹縫噴嘴之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)。
並且，在擦拭器構件(72f、72r)、(76f、76r)中，不僅可以個別地交換零件擦取前唇部33F之吐出口32a及噴嘴側面32f之擦拭器構件72f、76f和擦取後唇部33R之吐出口32a及噴嘴側面32r之擦拭器構件72r、76r，亦可各別選定各個材質，亦可個別設定或調整各個之材質(尤其彈性體)之硬度。
例如，如第2圖所示般，平流式之光阻塗佈處理所使用之狹縫噴嘴32係後唇部33R之噴嘴側面32r較前唇部33F之噴嘴側面32f藉由光阻液R之包覆而髒污之情形還多。因此，髒污多之後唇部33R側之擦拭器構件72r、76r係使其材質硬度較大之一方增加接觸摩擦，提高擦取力為較理想。另外，髒污少之前唇部33F側之擦拭器構件72f、76f係使材質硬度比較小之一方可以縮小接觸摩擦，提升耐久性。
同樣，在第1及第2擦拭器單元72、76之間，即使將在洗淨掃描方向位於前方之第1擦拭器單元72之擦拭器構件72f、72r之材質硬度選定高硬度，位於後方之第2擦拭器單元76之擦拭器構件76f、76r之材質硬度選定低硬度亦可。
接著，針對第9圖A及第9圖B，說明該實施型態之狹縫噴嘴洗淨部52中之洗淨作用。
在狹縫噴嘴洗淨部52中，當完成與上述般之狹縫噴嘴32之定位時，則一面維持其定位狀態(第8圖之狀態)，一面在無圖示之控制器之控制下，Y方向移動部60動作，支架64則以一定速度移動至洗淨掃描方向(Y方向)。在此，狹縫噴嘴32剛完成一次(基板一片分)之光阻塗佈處理，其吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)附著光阻液R而髒污。
支架64開始掃描移動幾乎同時，被搭載於支架64的所有單元開始各個動作。更詳細而言，第1洗淨單元70係在支架64上之前頭位置，藉由洗淨噴嘴70b吐出洗淨液例如稀釋液S，一面並將稀釋液S噴吹至狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)，一面移動至洗淨掃描方向(Y方向)。
第1擦拭器單元72係接續於第1洗淨單元70之後，使一對擦拭器構件72f、72r滑接於狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)，而移動至洗淨掃描方向(Y方向)。
第2洗淨單元74係接續於第1擦拭器單元72之後，藉由洗淨噴嘴74b吐出洗淨液例如稀釋液S，並一面將稀釋液S噴吹至狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)，一面移動至洗淨掃描方向(Y方向)。
第2擦拭器單元76係接續於第2洗淨單元74之後，使一對擦拭器構件76f、76r滑接於狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)，而移動至洗淨掃描方向(Y方向)。
乾燥單元78係接續於第2擦拭器單元76之後，藉由乾燥噴嘴78b吐出乾燥用氣體例如N2 氣體，一面將N2 氣體噴吹至狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)，一面移動至洗淨液掃描方向(Y方向)。
第9圖A及第9圖B係以一定時間間隔(t1、t2、t3、…)模式性表示藉由上述般之狹縫噴嘴洗淨部52中之洗淨掃描，狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)在洗淨掃描方向(Y方向)從一端朝向另一端連續性洗淨或清掃之樣子。
在該洗淨掃描中，當注目於各位置(例如圖之P6之位置)之狹縫噴嘴32之吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)時，首先，藉由第1洗淨單元70噴吹稀釋液S至該吐出口周邊部，附著於該吐出周邊部之光阻液R溶於稀釋液S，兩液R、S之混合的髒污液RS殘留於吐出口周邊部。
緊接著之後，第1擦拭器單元72滑接一對擦拭器構件72f、72r而通過該吐出口周邊部。擦拭器構件72f、72r係一面以朝向行進方向傾斜之角度β豎立，一面以適當之壓力滑接於該吐出口周邊部，並邊將髒污液體RS掃下邊前進。被掃下之髒污液體RS係從排液口72d落入至下方之排液箱80。依據第1擦拭器單元72之擦取具有充分效果，即使在第1擦拭器單元72之通過的痕跡附著擦拭殘留之髒污液體RS’，也為少量。
之後，藉由第2洗淨單元74將稀釋液S噴吹至該吐出口周邊部，附著於該吐出口周邊部之擦拭難流之髒污液體RS’被稀釋液S稀釋，相對性地稀釋液S之比率大髒污少之液體SR殘留在吐出口周邊部。
緊接著之後，第2擦拭器單元76滑接一對擦拭器構件76f、76r而通過該吐出口周邊部。擦拭器構件76f、76r係一面以朝向行進方向傾斜之角度β豎立，一面以適當之壓力滑接於該吐出口周邊部，並邊將附著液體SR掃下邊前進。被掃下之液體RS係從排液口76d落入至下方之排液箱80。依據第2擦拭器單元76之擦取具有充分效果，即使在第2擦拭器單元76之通過的痕跡附著擦拭殘留之液體’SR’，也為少量。
緊接著之後，藉由乾燥單元78對該吐出口周邊部噴吹N2 氣體，附著於該吐出口周邊部之擦拭殘留液體’SR’係以風力被除去，該吐出口周邊部成為清淨且乾燥之狀態。
從狹縫噴嘴32之一端至另一端涵蓋全長在狹縫噴嘴32之洗淨掃描方向(Y方向)中之各位置之吐出口周邊部，進行上述般之一連串處理(第1次洗淨→第1次擦取→第2次洗淨→第2次擦取→乾燥)。
如此一來，藉由一次(一去程)之洗淨掃描，涵蓋狹縫噴嘴32之全長在各位置充分除去吐出口周邊部(吐出口32a、噴嘴側面32f、32r)之光阻髒污。因此，當支架64到達被設定在狹縫噴嘴32之另一端附近之終點時，則在此完成噴嘴洗淨處理。緊接著之後，在控制器之控制下，噴嘴升降機構38(第1圖)及X方向移動部54(第4圖)動作，使狹縫噴嘴32從狹縫噴嘴洗淨部52移至旁邊之噴嘴匯流排50。
如上述般，該實施型態之狹縫噴嘴洗淨部52係在平行於狹縫噴嘴32之長邊方向而在水平洗淨掃描方向(Y方向)移動之支架64上，以第1及第2洗淨單元70、74、第1及第2擦拭器單元72、76及乾燥單元78之特定配列順序予以搭載，並於洗淨掃描方向(Y方向)之移動中，第1及第2洗淨單元70、74將洗淨液噴吹至狹縫噴嘴32之吐出口周邊部，第1及第2擦拭器單元72、76擦取附著於狹縫噴嘴32之吐出口周邊部之液體(髒污)，乾燥單元78將乾燥氣體噴吹至狹縫噴嘴32之吐出口周邊部。依此，尤其藉由擦拭器單元72、76之動作大大地改善洗淨效率，藉由一次(一去程)之洗淨掃描可充分洗淨或清掃狹縫噴嘴32之吐出口周邊部，可以容易達成洗淨產距時間之縮短化和洗淨液消耗量之節約。
再者，該實施型態之光阻塗佈裝置係藉由在噴嘴更新部42具備上述般之狹縫噴嘴清掃部52，可以提升洗淨機能對狹縫噴嘴32之洗淨能力，改善光阻塗佈處理之品質、良率、維修成本。
以上，雖然說明本發明之較佳實施型態，但本發明並不限定於上述實施型態，只要在其技術思想之範圍內可作各種變形或變更。
例如，可以將搭載於支架64之單元之編成形態(洗淨單元、擦拭器單元及乾燥單元之個數、配列順序等)作各種變形、變更。
例如，第10圖A之變形例(a)般，亦可以將三組洗淨單元及擦拭器單元[70、72]、[74、76]、[90、92]串聯配置，在最後尾配置乾燥單元78。
如第10圖A之變形例(b)所示般，將兩組洗淨單元及擦拭器單元[70、72]、[74、76]串連配置之構成雖與上述實施型態相同，但亦可設為例如在第1擦拭器單元72內設置兩對擦拭器構件72f、72r之構成。
如第10圖A之變形例(c)般，亦可設為將一組之洗淨單元及擦拭器單元[70、72]和乾燥單元78搭載在支架64之構成。
再者，如第10圖A之變形例(d)般，亦可設為省略乾燥單元78，僅將一組之洗淨單元及擦拭器單元[70、72]搭載在支架64之構成。
並且，不限於上述變形例(a)～(d)，即使在上述實施型態中，使支架64多次往返移動，而重覆多次洗淨掃描而予以進行亦可。
再者，如第10圖B所示般，亦可將去程用之擦拭器單元72和回程用之擦拭器單元94搭載在支架64而進行去程洗淨掃描和回程洗淨掃描。此時，在去程之洗淨掃描方向中，於去程用擦拭器單元72之前配置去程用之洗淨單元70及乾燥單元96，並在回程之洗淨掃描方向，於擦拭器單元94之前配置回程用之洗淨單元98及乾燥單元78，並在兩擦拭器單元72、94之間配置去程/回程兼用之洗淨單元74。
於進行去程之洗淨掃描之時，藉由例如汽缸使回程用之擦拭器單元94下降而從狹縫噴嘴32分離或退避(即是不使用狀態)，並且使前進方向前部之回程用乾燥單元96和前進方向後部之回程用洗淨單元98成為關閉狀態(即是不使用狀態)。
於進行回程之洗淨掃描之時，藉由例如汽缸使去程用之擦拭器單元72下降而從狹縫噴嘴32分離或退避(即是不使用狀態)，並且使前進方向前部之去程用乾燥單元78和前進方向後部之去程用洗淨單元70成為關閉狀態(即是不使用狀態)。
第11圖A及第11圖B係表示幾個以單觸控將擦拭器單元(代表例為擦拭器單元72)裝拆自如地安裝在支架64上之構成例。
第11圖A之(a)、(b)所構成之構成例係將支架64構成上面開口之剖面ㄈ字形之箱體或殼形狀，使成為可以從上在支架64之中插拔擦拭器單元72。較理想為在支架64內設置定位用之錐形壁面64a(第11圖A(a))或定位銷64b(第11圖A(b))即可。亦可以適當採用在支架64之兩側壁64c安裝柱塞100，並使柱塞100之頭部卡合於擦拭器單元72側之凹槽72n之構成。或是，即使採用如第11圖B(a)、(b)所示般在支架64之兩側壁64c安裝板彈簧102來取代柱塞100，而使板彈簧102卡合於擦拭器單元72之肩部的構成亦可。
接著，說明狹縫噴嘴洗淨部之第2實施型態。與上述實施型態相同部分省略說明。第12圖為狹縫噴嘴洗淨部152之上面圖。狹縫噴嘴洗淨部152係在該支架64上以洗淨掃描方向來看以第1洗淨單元179為開始，以下依照第1擦拭器單元72、第2洗淨單元180、第2擦拭器單元76、乾燥單元78及第2乾燥單元178之順序排成一列並予以搭載。各個單元178～180、72、76係以卡匣式而能拆裝之方式被安裝於支架64上。
第13圖為第12圖之A-A的剖面圖。在乾燥單元78之對向之一方的面上，設置乾燥噴嘴78b1、78b2，從乾燥噴嘴78b1、78b2吐出乾燥用氣體例如N2 氣體。在乾燥單元78之另一方之面也相同。再者，在乾燥單元178之對向之一方的面上，設置乾燥噴嘴178b1、178b2，從乾燥噴嘴178b1、178b2吐出乾燥用氣體例如N2 氣體。在乾燥單元178之另一方之面也相同。
在此，如第13圖所示般，當比較位於上側之乾燥噴嘴78b1和乾燥噴嘴178b1之高度位置時，乾燥噴嘴78b1被設置在較乾燥噴嘴178b1高之位置。並且，乾燥噴嘴78b2和乾燥噴嘴178b2之高度位置設置在相同高度。
如此一來，乾燥噴嘴78b1被設置在較乾燥噴嘴178b1高之位置，因從上順序地對噴嘴側面32f、32r噴吹氣體，故可以更有效率地將附著於噴嘴側面32f、32r之擦取殘留液體噴至下方，並予以乾燥。
再者，如第12圖所示般，第1及第2洗淨單元179、180具有在上面擁有凹形之溝部的塊狀噴嘴保持部179a、180a，和從該噴嘴保持部179a、180a之兩側之內壁突出之多對之洗淨噴嘴179b、180b。
當從上方觀看時，洗淨噴嘴179b、180b因被配置成各互相不同，故在例如凹形之溝部無狹縫噴嘴32之狀態下即使從洗淨噴嘴179b吐出洗淨液，也不會有從洗淨噴嘴179b吐出之洗淨液彼此對向衝突而飛散之情形。
接著，第14圖為第12圖之B-B剖面圖(第2洗淨單元180之剖面圖)。從噴嘴保持部180a之內壁上下兩列地配置洗淨噴嘴180b。再者，第1洗淨單元179也相同，上下兩列地配置洗淨噴嘴179b。
並且，並不限定於本實施例，第1擦拭器單元72、第2擦拭器單元係可從支架64容易拆下擦拭器保持部72a、76d，也可僅更換擦拭器構件(72f、72r)、(76f、76r)，藉由連擦拭器保持部72a、76d更換成新品，可更容易進行擦拭器之更換。
再者，擦拭器構件72r(76r)之豎立角度β以15°～45°之範圍為佳，上述敘述在30°左右為佳，在將豎立角度β設為30°和44°而進行實驗之結果，以30°之擦取性能為佳。試著研究該結果。為了擦取噴嘴側面32f、32r之特定區域，豎立角度β越小，則必須越增長擦拭器構件72r(76r)之全長。因此，豎立角度β=30°較豎立角度β=44°擦拭器為變長，擦取噴嘴側面32f、32r之相同區域之時，因擦拭器長，故可想豎立角度β=30°之一方擦取性能變高。但是，當將豎立角度β設為小於30之時，此時擦拭器之全長過長，增加了擦取阻抗，無法有效率地進行擦取。因此，豎立角度β以在30°附近為佳。
就以本發明中之塗佈液而言，除光阻液以外，亦可為層間絕緣材料、介電體材料、配線材料等之塗佈液，亦可為各種藥液、顯像液或沖洗液等。本發明中之被處理基板並不限定於LCD基板，亦可為其他平面顯示用基板、半導體晶圓、CD基板、光罩、印刷基板等。
32．．．狹縫噴嘴
52．．．狹縫噴嘴洗淨部
60‧‧‧Y方向移動部
70、74‧‧‧洗淨單元
72、76‧‧‧擦拭器單元
78‧‧‧乾燥單元
第1圖係表示可適用本發明之狹縫噴嘴洗淨裝置之光阻塗佈裝置之一構成例的斜視圖。
第2圖為表示在上述光阻塗佈裝置中之狹縫噴嘴之內部構造及在基板上形成光阻塗佈膜之樣子的剖面圖。
第3圖為表示在上述光阻塗佈裝置中之狹縫噴嘴之外觀構造及在基板上形成光阻塗佈膜之樣子的前視圖。
第4圖為上述光阻塗佈裝置所具備之噴嘴更新部之構成的一部分剖面前視圖。
第5圖為表示組裝於上述噴嘴更新部之狹縫噴嘴洗淨部之構成的斜視圖。
第6圖為從洗淨掃描之斜前方觀看上述狹縫噴嘴洗淨部之構成的斜視圖。
第7圖為表示組裝於上述狹縫噴嘴洗淨部之擦拭器單元之重要部位的構成圖。
第8圖為在上述狹縫噴嘴洗淨部中進行與狹縫噴嘴之定位的機構之構成的剖面圖。
第9圖A為模式性表示上述狹縫噴嘴洗淨部之作用的側面圖。
第9圖B為模式性表示上述狹縫噴嘴洗淨部之作用的側面圖。
第10圖A為表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中搭載於支架之單元之編成的變形例之圖示。
第10圖B為表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中搭載於支架之單元之編成的變形例之圖示。
第11圖A為表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中以單觸控將擦拭器單元安裝於支架之構成例的圖示。
第11圖B為表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中以單觸控將擦拭器單元安裝於支架之構成例的另外圖示。
第12圖為表示上述狹縫噴嘴洗淨部之第2實施型態之構成的上面圖。
第13圖為表示上述狹縫噴嘴洗淨部之第2實施型態中之乾燥單元之剖面圖。
第14圖為第12圖之B-B剖面圖。
32．．．狹縫噴嘴
52．．．狹縫噴嘴洗淨部
60．．．Y方向移動部
62．．．連接構件
64．．．支架
66．．．齒條
68．．．可動單元
70．．．洗淨單元
70c．．．配管連接器
72．．．擦拭器單元
74．．．洗淨單元
74c．．．配管連接器
76．．．擦拭器單元
78．．．乾燥單元
78c．．．配管連接器

Claims (8)

  1. 一種狹縫噴嘴洗淨裝置，用以洗淨具有塗佈處理所使用之狹縫狀吐出口之長條型狹縫噴嘴的吐出口周邊部，其特徵為具有：支架(Carriage)，其係沿著上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部而平行於上述狹縫噴嘴之長邊方向在水平洗淨掃描方向移動；洗淨單元，其係被搭載在上述支架，一面在上述洗淨掃描方向移動一面對上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部噴吹洗淨液；擦拭器單元，其係在上述洗淨掃描方向位於上述洗淨單元之後而被搭載在上述支架，一面在上述洗淨掃描方向移動，一面擦取附著於上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部的液體；乾燥單元，其係在上述洗淨掃描方向位於上述擦拭器單元之後而被搭載在上述支架，一面在上述洗淨掃描方向移動一面對上述狹縫噴嘴之吐出周邊部噴吹乾燥用之氣體；及定位機構，其係在與上述狹縫噴嘴之長邊方向正交之水平一方向及垂直方向，藉由安裝於上述支架之複數的柱塞，在上述支架上使上述擦拭器單元可仿照上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部而彈性地位移，與上述狹縫噴嘴之吐出口平行延伸的兩側之噴嘴側面，被形成朝向吐出口從上往下逐漸變尖細的錐形狀， 上述洗淨單元具有從兩側向上述錐形狀之噴嘴側面噴吹洗淨液之複數根的洗淨噴嘴，上述擦拭器單元具有：擁有分別與上述狹縫噴嘴之吐出口及噴嘴側面平行對向之底部及傾斜面的塊狀擦拭器保持部，和安裝於上述擦拭器保持部之傾斜面，以對水平面傾斜豎立之角度從兩側分別各滑接於上述錐形狀之噴嘴側面的一對或複數對之長條型擦拭器構件，上述擦拭器構件具有被埋入上述擦拭器保持部之傾斜面的基部，和從上述基部突出至上述保持部之傾斜面之上的刮刀部。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝置，其中上述擦拭器構件對水平面的豎立角度為15°~45°。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝置，其中上述擦拭器構件之刮刀部係以對上述擦拭器保持部之傾斜面傾斜豎立之角度而突出。
  4. 如申請專利範圍第3項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝置，其中上述刮刀部對擦拭器保持部之傾斜面的豎立角度為30°~60°。
  5. 如申請專利範圍第4項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝置，其中在上述擦拭器保持部之傾斜面形成有用以可拆裝地收 納上述擦拭器構件之基部的溝部。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝置，其中上述擦拭器構件係由含氟彈性體所構成。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝置，其中上述擦拭器單元係可拆裝地被安裝於上述支架。
  8. 一種塗佈裝置，其特徵為具有：長條型狹縫噴嘴，其具有於塗佈處理中對被處理基板帶狀地吐出塗佈液之狹縫狀之吐出口；塗佈液供給部，其係於塗佈處理中對上述狹縫噴嘴供給塗佈液；基板支撐部，其係用以支撐上述基板；塗佈掃描機構，其係在塗佈處理中，以上述狹縫噴嘴在上述基板上進行塗佈掃描之方式，在上述狹縫噴嘴和上述基板之間進行在水平之一方向相對性移動；和如申請專利範圍第1至7項中之任一項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝置，其係用以在塗佈處理之間隔洗淨上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部。
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