CN108580133B - 涂布设备口金擦拭机构 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种涂布设备口金擦拭机构，包括：传动装置、擦拭装置，以及导轨装置；擦拭装置包括支撑杆、设置于支撑杆端部的擦拭基座，支撑杆的相对另一端固定连接传送带；导轨装置包括相互平行设置的第一磁条和第二磁条，第一磁条与第二磁条之间分离设置形成间隙，支撑杆在第一磁条和第二磁条之间悬浮移动；有益效果为：本发明提供的涂布设备口金擦拭装置，用于支撑擦拭基座的支撑杆在磁轨内移动，减小了支撑与滑轨之间的摩擦力。

Description

涂布设备口金擦拭机构

技术领域

本发明涉及涂布设备领域，尤其涉及一种涂布设备口金擦拭机构。

背景技术

涂布设备是液晶显示器制造行业的关键工艺设备之一，涂布设备的喷嘴是重要的精密部件，用于在基板表面涂布光阻液以形成均匀的光阻膜；由于光阻液的溶剂具有易挥发、易干燥凝结的特点，不可长时间暴露在外，因此，为避免涂布设备的口金处残留有光阻液而导致口金堵塞，成膜不佳造成产品不良，在口金吐出光阻液后需要对口金进行刮拭。

目前涂布设备使用的口金擦拭装置，将擦拭基座固定在皮带上，通过导轨的支撑，使得擦拭基座可以平稳地刮拭口金，达到清洁口金的目的；如图1、图2和图3所示，现有技术的口金擦拭装置，包括马达101、传送带102、轴承103，传送带102上固定设置有擦拭基座104，马达101运转带动传送带102移动，进而带动擦拭基座104移动；擦拭基座104连接有滑块105，滑块105可移动地与导轨106配合；由于现有擦拭装置使用的导轨106为滑块式，即使使用润滑油润滑，但滑块105与导轨106之间仍然存在一定的摩擦，而且导轨106易脏污，一定程度上也会影响导轨106的流畅性；因此，在口金擦拭装置长时间使用过程中，导轨106的磨损及脏污会加重马达101的负荷，另一方面，当皮带张力减小时，跳齿异常时有发生，一方面严重影响刮拭效果，导致产品不良，另一方面，跳齿会导致涂布设备宕机，严重影响产能。

综上所述，现有技术的涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座使用的导轨为滑块式，滑块与导轨间的摩擦力大，且易脏污，会影响导轨的流畅性，进而影响刮拭效果。

发明内容

本发明提供一种涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座采用磁轨式，减小了擦拭基座的与滑轨之间的摩擦力，以解决现有技术的涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座使用的导轨为滑块式，滑块与导轨间的摩擦力大，影响导轨的流畅性，进而影响刮拭效果的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种涂布设备口金擦拭机构，包括：

传动装置，包括马达、传送带以及用于支撑所述传送带的轴承；

擦拭装置，包括支撑杆、擦拭基座以及设置于所述擦拭基座顶部的擦拭棉，所述支撑杆的一端固定连接所述擦拭基座，所述支撑杆的相对另一端固定连接所述传送带；以及，

导轨装置，包括相互平行设置的第一磁条和第二磁条，所述第一磁条与所述第二磁条之间分离设置形成间隙，并且，所述支撑杆在所述第一磁条与所述第二磁条之间的间隙内移动；

其中，所述支撑杆为永磁杆，所述支撑杆具有至少一种磁极，所述第一磁条产生第一磁场，所述第二磁条产生第二磁场，所述第一磁场和所述第二磁场均与所述支撑杆相斥，使得所述支撑杆在所述第一磁条和所述第二磁条之间悬浮移动。

根据本发明一优选实施例，所述支撑杆具有一种磁极，所述第一磁条和所述第二磁条具有一种与所述支撑杆磁极相同的磁极。

根据本发明一优选实施例，所述支撑杆具有N磁极段以及与所述N磁极段极性相反的S磁极段，所述第一磁条和所述第二磁条均包括N磁极部分和S磁极部分，其中，所述第一磁条和所述第二磁条的N磁极部分对应所述支撑杆的N磁极段，所述第一磁条和所述第二磁条的S磁极部分对应所述支撑杆的S磁极段。

根据本发明一优选实施例，所述第一磁条与所述第二磁条相对于所述支撑杆对称设置。

根据本发明一优选实施例，所述支撑杆具有N磁极段以及与所述N磁极段极性相反的S磁极段，所述第一磁条位于所述支撑杆任一磁极段的一侧，所述第一磁条与对应磁极段的磁极相同，所述第二磁条位于所述支撑杆另一磁极段的一侧，所述第二磁条与对应磁极段的磁极相同。

根据本发明一优选实施例，所述支撑杆、所述第一磁条以及所述第二磁条水平设置，所述第一磁条位于所述支撑杆上侧，所述第二磁条位于所述支撑杆下侧，其中，所述第二磁条的宽度大于所述第一磁条的宽度。

根据本发明一优选实施例，所述第二磁条上设置有减摩部件。

根据本发明一优选实施例，所述减摩部件为设置于所述第二磁条表面的减摩材料层。

根据本发明一优选实施例，所述减摩部件为设置于所述第二磁条上的声波发生器。

根据本发明一优选实施例，所述擦拭棉为采用聚酯纤维、超细纤维、亚超细纤维的任意一种材料制成的无尘棉。

本发明的有益效果为：与现有技术相比，本发明提供的涂布设备口金擦拭装置，用于支撑擦拭基座的支撑杆在磁轨内移动，减小了支撑杆与滑轨之间的摩擦力，解决了现有技术的涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座使用的导轨为滑块式，滑块与导轨间的摩擦力大，影响导轨的流畅性，进而影响刮拭效果的技术问题。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术口金擦拭机构的主视结构示意图；

图2为现有技术口金擦拭机构的侧视结构示意图；

图3为现有技术口金擦拭机构的俯视结构示意图。

图4为本发明提供的涂布设备口金擦拭机构的主视结构示意图；

图5为本发明提供的涂布设备口金擦拭机构的俯视结构示意图；

图6为本发明提供的涂布设备口金擦拭机构的擦拭装置的一侧视结构示意图；

图7为本发明提供的涂布设备口金擦拭机构的擦拭装置的又一侧视结构示意图；

图8为本发明提供的涂布设备口金擦拭机构的擦拭装置的再一侧视结构示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

本发明针对现有技术的涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座使用的导轨为滑块式，滑块与导轨间的摩擦力大，影响导轨的流畅性，进而影响刮拭效果的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。

如图4、图5所示，本发明实施例提供的涂布设备口金擦拭机构，包括：传动装置、擦拭装置以及导轨装置，所述擦拭装置与所述传动装置固定连接，并且，所述擦拭装置与所述导轨装置非接触连接。

所述传动装置包括第一轴承201、与所述第一轴承201相互平行的第二轴承202，所述第一轴承201与所述第二轴承202通过传送带203连接，所述传送带203底部传动连接有马达204，所述马达204正转和反转以驱动所述传送带203正向传动和逆向传动，进而带动所述擦拭装置205往复移动擦拭口金。

所述擦拭装置205，包括支撑杆206、擦拭基座207以及设置于所述擦拭基座207顶部的擦拭棉208，所述支撑杆206的一端固定连接所述擦拭基座207，所述支撑杆206的相对另一端固定连接所述传送带203；所述支撑杆206水平设置，且与所述传送带203相垂直；所述擦拭基座207在水平移动时与口金相接触，从而对所述口金进行刮拭清洁；一般地，涂布设备多采用狭缝型口金对基板进行光阻涂布，狭缝型口金一般呈三棱柱形，因此，所述擦拭面表面设置有与所述口金外形相匹配的楔形开口，该楔形开口的两个侧面紧贴在口金的两个表面进行刮拭。

所述支撑杆206连接所述擦拭基座207的一端穿设于所述导轨装置，所述导轨装置用于支撑所述支撑杆206和所述擦拭基座207水平移动；其中，所述导轨装置，包括相互平行设置的第一磁条209和第二磁条210，所述第一磁条209与所述第二磁条210之间分离设置形成间隙，并且，所述支撑杆206在所述第一磁条209与所述第二磁条210之间的间隙内移动；其中，所述支撑杆206为永磁杆，所述支撑杆206具有至少一种磁极；所述第一磁条209和所述第二磁条210同样采用永磁体，或者，所述第一磁条209和所述第二磁条210采用电磁；所述第一磁条209用于产生第一磁场，所述第二磁条210用于产生第二磁场，所述第一磁场和所述第二磁场均与所述支撑杆206相斥，使得所述支撑杆206在所述第一磁条209和所述第二磁条之间悬浮移动。

所述第一磁条209和所述第二磁条210之间形成一与所述支撑杆206极性相斥的磁轨，使得所述支撑杆206受排斥力作用被限制在在所述第一磁条209和所述第二磁条210之间移动，从而使所述支撑杆206不与所述第一磁条209和所述第二磁条210接触，进而减小摩擦。

如图6所示，本发明提供的擦拭装置，包括支撑杆301、擦拭基座302以及设置于所述擦拭基座302顶部的擦拭棉303，所述支撑杆301的一端固定连接所述擦拭基座302，所述支撑杆301的相对另一端固定连接所述传送带304；所述擦拭机构还包括导轨装置，所述导轨装置包括相互平行设置的第一磁条305和第二磁条306，所述第一磁条305和所述第二磁条306形成磁轨。

其中，所述支撑杆301具有一种磁极，所述第一磁条305和所述第二磁条306具有一种与所述支撑杆301磁极相同的磁极；所述第一磁条305与所述第二磁条306相对于所述支撑杆301对称设置。

所述支撑杆301、所述第一磁条305和所述第二磁条306仅采用一种磁极，可避免设置两种磁极造成相邻磁场交叉而导致排斥力减弱，进而导致所述支撑杆301在移动时触碰所述第一磁条305或所述第二磁条306，所述支撑杆301端部倾斜可能导致所述擦拭基座302高度超过所述口金或高度过低接触不到所述口金。

如图7所示，本发明提供的擦拭装置，包括支撑杆401、擦拭基座402以及设置于所述擦拭基座402顶部的擦拭棉403，所述支撑杆401的一端固定连接所述擦拭基座402，所述支撑杆401的相对另一端固定连接所述传送带404；所述支撑杆401为永磁杆；所述擦拭机构还包括导轨装置，所述导轨装置包括相互平行设置的第一磁条405和第二磁条406，所述第一磁条405和所述第二磁条406形成磁轨。

其中，所述支撑杆401具有N磁极段以及与所述N磁极段极性相反的S磁极段，所述第一磁条405和所述第二磁条406均包括N磁极部分和S磁极部分，其中，所述第一磁条405和所述第二磁条406的N磁极部分对应所述支撑杆401的N磁极段，所述第一磁条405和所述第二磁条406的S磁极部分对应所述支撑杆401的S磁极段；所述第一磁条405与所述第二磁条406相对于所述支撑杆401对称设置。

如图8所示，本发明提供的擦拭装置，包括支撑杆501、擦拭基座502以及设置于所述擦拭基座502顶部的擦拭棉503，所述支撑杆501的一端固定连接所述擦拭基座502，所述支撑杆501的相对另一端固定连接所述传送带504；所述支撑杆501为永磁杆；所述擦拭机构还包括导轨装置，所述导轨装置包括相互平行设置的第一磁条505和第二磁条506，所述第一磁条505和所述第二磁条506形成磁轨。

其中，所述支撑杆501具有N磁极段以及与所述N磁极段极性相反的S磁极段，所述第一磁条505位于所述支撑杆501任一磁极段的一侧，所述第一磁条505与对应磁极段的磁极相同，所述第二磁条506位于所述支撑杆501另一磁极段的一侧，所述第二磁条506与对应磁极段的磁极相同。

将所述第一磁条505和所述第二磁条506交错设置，可避免设置两种磁极造成相邻磁场交叉而导致排斥力减弱，进而导致所述支撑杆501在移动时触碰所述第一磁条505或所述第二磁条506。

优选的，所述支撑杆、所述第一磁条以及所述第二磁条水平设置，所述第一磁条位于所述支撑杆上侧，所述第二磁条位于所述支撑杆下侧，其中，所述第二磁条的宽度大于所述第一磁条的宽度；由于所述支撑杆设置所述擦拭基座的一端受重力影响而下垂，通过增大所述第二磁条的宽度，可增大所述第一磁条的磁场覆盖范围，进而增大所述第二磁条对所述支撑杆的托举力。

优选的，所述第二磁条上设置有减摩部件；例如所述减摩部件为设置于所述第二磁条表面的减摩材料层；所述减摩材料层为摩擦系数小的合金材料，以减小所述支撑杆在移动时误接触所述第二磁条表面产生的摩擦力；又如，所述减摩部件为设置于所述第二磁条上的声波发生器，当所述第二磁条处于超声振动状态时，可减小所述支撑杆在移动时误接触所述第二磁条表面产生的摩擦力；

优选的，所述擦拭棉为采用聚酯纤维、超细纤维、亚超细纤维的任意一种材料制成的无尘棉。

本发明的有益效果为：与现有技术相比，本发明提供的涂布设备口金擦拭装置，用于支撑擦拭基座的支撑杆在磁轨内移动，减小了支撑杆与滑轨之间的摩擦力，解决了现有技术的涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座使用的导轨为滑块式，滑块与导轨间的摩擦力大，影响导轨的流畅性，进而影响刮拭效果的技术问题。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，包括：

传动装置，包括马达、传送带以及用于支撑所述传送带的轴承；

擦拭装置，包括支撑杆、擦拭基座以及设置于所述擦拭基座顶部的擦拭棉，所述支撑杆的一端固定连接所述擦拭基座，所述支撑杆的相对另一端固定连接所述传送带；以及，

导轨装置，包括相互平行设置的第一磁条和第二磁条，所述第一磁条与所述第二磁条之间分离设置形成间隙，并且，所述支撑杆在所述第一磁条与所述第二磁条之间的间隙内移动；

其中，所述支撑杆为永磁杆，所述支撑杆具有至少一种磁极，所述第一磁条产生第一磁场，所述第二磁条产生第二磁场，所述第一磁场和所述第二磁场均与所述支撑杆相斥，使得所述支撑杆在所述第一磁条和所述第二磁条之间悬浮移动。

2.根据权利要求1所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述支撑杆具有一种磁极，所述第一磁条和所述第二磁条具有一种与所述支撑杆磁极相同的磁极。

3.根据权利要求1所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述支撑杆具有N磁极段以及与所述N磁极段极性相反的S磁极段，所述第一磁条和所述第二磁条均包括N磁极部分和S磁极部分，其中，所述第一磁条和所述第二磁条的N磁极部分对应所述支撑杆的N磁极段，所述第一磁条和所述第二磁条的S磁极部分对应所述支撑杆的S磁极段。

4.根据权利要求2或3所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述第一磁条与所述第二磁条相对于所述支撑杆对称设置。

5.根据权利要求1所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述支撑杆具有N磁极段以及与所述N磁极段极性相反的S磁极段，所述第一磁条位于所述支撑杆任一磁极段的一侧，所述第一磁条与对应磁极段的磁极相同，所述第二磁条位于所述支撑杆另一磁极段的一侧，所述第二磁条与对应磁极段的磁极相同。

6.根据权利要求1所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述支撑杆、所述第一磁条以及所述第二磁条水平设置，所述第一磁条位于所述支撑杆上侧，所述第二磁条位于所述支撑杆下侧，其中，所述第二磁条的宽度大于所述第一磁条的宽度。

7.根据权利要求6所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述第二磁条上设置有减摩部件。

8.根据权利要求7所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述减摩部件为设置于所述第二磁条表面的减摩材料层。

9.根据权利要求7所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述减摩部件为设置于所述第二磁条上的声波发生器。

10.根据权利要求1所述的涂布设备口金擦拭机构，其特征在于，所述擦拭棉为采用超细纤维、亚超细纤维的任意一种材料制成的无尘棉。