CN103331276B - 超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机,其中该超声波清洗装置,用于对喷出配向液的喷头进行清洁,包括用于盛放清洗液的清洗槽,与所述清洗槽连接的、用于产生超声波的超声波发生装置,还包括与所述清洗槽连接的、用于回收和储存所述清洗液的储存器。该超声波清洗装置可以对发生堵塞的滴下孔口进行快速、彻底清洁、耗时短且不会使机台内的洁净度下降且可回收清洗液。

Description

超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机
技术领域
本发明涉及光学工艺流程中的涂布机,尤其涉及一种用于涂布机喷头的超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机。
背景技术
在液晶面板制造领域,通常需要在CF/TFT基板上按照一定的图形均匀涂布配向液以形成一层液晶配向膜,使液晶分子在配向膜的作用下整齐有序的排列。随着设备及工艺技术的发展,目前配向液涂布工艺逐渐由镀覆配向液转向配向液喷涂,以便简化设备和工艺流程,提高设备产能及产品良率。配向液喷涂流程是利用一整排印刷喷头直接将配向液喷印至基板上,待配向液滴自然扩散均匀后,再通过加热的方式使配向液里面的溶剂挥发,从而形成一层固定膜厚的配向膜。
由于需对配向膜的厚度(纳米级)和均匀度进行严格的控制,故在进行配向液喷涂制程时需将单滴的配向液控制到极微小的状态(纳克级)。通常其具体实现方式是将配向液通过压力送入喷头内,通过电流使喷头内的压电陶瓷(振动子)产生形变将配向液从小孔内吐出,利用HEAD或Stage的移动形成高密度配向液滴,最后在表面张力的作用下使液滴扩散后连接成膜。
目前,在配向液喷涂工艺流程中,因为需要将单滴的配向液控制到极微小的状态,故喷头的滴下孔口宜制作得很小。然而,现有的配向液通常是由配向聚合物溶解于有机溶剂中构成,而此有机溶剂通常极易挥发,这就导致在配向液喷涂的过程中,极易发生配向聚合物因为其溶剂的挥发而堵塞喷头的滴下孔口,使得设备频繁发生异常,产品良率下降(通常是mura不良)。
在目前的配向液喷涂制程中,当发生喷头的滴下孔口堵塞时,通常需要人员对喷头进行擦拭,或者将喷头的滴下孔口浸泡于溶剂中以使配向聚合物溶解,但是人员擦拭会使机台内的洁净度下降,且此两种处理方式均会耗费较长时间,严重影响生产效率和产品品质。同时,这些方式实施清洗时,也不易回收清洗液,从而导致清洗液的浪费。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术中存在的喷头清洗方式使机台内的洁净度下降、耗时长且易严重影响生产效率的缺陷,提供了一种可以对发生堵塞的滴下孔口进行快速、彻底清洁、耗时短且不会使机台内的洁净度下降、还可回收和储存清洗液的超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机。
本发明提供的一种超声波清洗装置,用于对喷出配向液的喷头进行清洁,包括用于盛放清洗液的清洗槽,与所述清洗槽连接的、用于产生超声波的超声波发生装置,还包括与所述清洗槽连接的、用于回收和储存所述清洗液的储存器。
在上述的超声波清洗装置中,所述储存器为密闭盒体。
在上述的超声波清洗装置中,所述清洗液为构成所述配向液的溶剂。
在上述的超声波清洗装置中,还包括连接在所述清洗槽与所述储存器之间的泵,用于将清洗液抽取至所述清洗槽或所述储存器中。
在上述的超声波清洗装置中,所述储存器由不锈钢或PET塑料制成。
在上述的超声波清洗装置中,所述超声波发生装置包括用于产生高频交流电流的超声波电源器,以及与所述超声波电源器电连接的超声波磁场发生器,用于产生超声波振动。
在上述的超声波清洗装置中,所述超声波磁场发生器的振动频率为20KHz以上。
本发明还提供一种具有该超声波清洗装置的涂布机,包括:
喷头,用于喷出配向液的喷头;
超声波清洗装置,用于清洁所述喷头,所述超声波清洗装置包括用于盛放清洗液的清洗槽,与所述清洗槽连接的、用于产生超声波的超声波发生装置,与所述清洗槽连接的、用于回收和储存所述清洗液的储存器;
传动装置,连接至该超声波清洗装置的底部,以控制所述超声波清洗装置的运动,且提供传动力使超声波清洗装置作升降和平移运动。
在上述的涂布机中,所述储存器为密闭盒体。
在上述的涂布机中,所述清洗液为构成所述配向液的溶剂。
在上述的涂布机中,还包括连接在所述清洗槽与所述储存器之间的泵,用于将清洗液抽取至所述清洗槽或所述储存器中。
在上述的涂布机中,所述储存器由不锈钢或PET塑料制成。
在上述的涂布机中,所述超声波发生装置包括用于产生高频交流电流的超声波电源器,以及与所述超声波电源器电连接的超声波磁场发生器,用于产生超声波振动。
上述的涂布机中,所述超声波磁场发生器的振动频率为20KHz以上。
实施本发明的有益效果在于:利用超声波发生器配合相应的清洗液可对喷头容易发生堵塞的滴下孔口进行快速、彻底的清洁,避免因人员擦拭导致的喷头损坏、清洁不彻底和耗时较长的缺点,从而能减少设备零件损耗,提升设备生产利用率和产品良率,节约生产成本,提升公司的品牌价值和产品竞争力。本发明提供的超声波清洗装置还可回收和储存清洗液,减少加工制造成本,有效避免因人员擦拭或者浸泡清洁方式带来的机台内洁净度降低。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:
图1为本发明提供的具有超声波清洗装置的涂布机的较佳实施例示意图;
图2为本发明提供的超声波清洗装置的较佳实施例示意图。
具体实施方式
本发明提供的超声波清洗装置主要应用于喷头的清洁,应用于液晶显示器的制备过程中。该超声波清洗装置可对喷头中易发生堵塞的滴下孔口进行快速、彻底的清洁,有效避免因人员擦拭或者浸泡清洁方式带来的喷头损坏、清洁不彻底和耗时较长的缺点,从而能减少设备零件损耗,提升设备生产利用率和产品良率,节约生产成本,提升公司的品牌价值和产品竞争力。本发明提供的超声波清洗装置还可回收和储存清洗液,减少加工制造成本,有效避免因人员擦拭或者浸泡清洁方式带来的机台内洁净度降低。
参考图1示出的具有该超声波清洗装置的涂布机。该涂布机包括喷头10、传动装置(图1的传动装置被遮蔽而未示)、超声波清洗装置40以及一对导轨50。喷头10用于喷出配向液。传动装置可为现有的自动控制马达、半自动控制马达、步进马达等可输出动力以驱动超声波清洗装置在竖直方向和水平方向移动的装置。喷头10与一对导轨50连接,可以通过在导轨50上滑动而进行前后往返移动。传动装置与超声波清洗装置40以螺纹连接的方式固定连接以带动该超声波清洗装置40运动。超声波装置40设于喷头10运动原点的下方,并对准该喷头10。当喷头10在工作中发生堵塞状况时,会向涂布机的控制系统发出信号,涂布机接收控制信号后控制传动装置运动,使其带动超声波清洗装置40运动至喷头10的正下方,并使喷头10部分浸入超声波清洗装置40的清洗液中以实现对喷头10的清洗。当然,在其他的实施例中,也可以是控制喷头10移动至该超声波清洗装置40的上方,且部分浸入该超声波装置的清洗液中。
参考图2示出的超声波清洗装置。该超声波清洗装置包括清洗槽1、泵2、储存器3和超声波发生装置4。清洗槽1用于盛放清洗液;储存器3用于回收和储存清洗液;超声波发生装置4用于产生超声波;泵2可以为水泵、液压泵等,用于在清洗时将清洗液从储存器3中抽取至清洗槽1中,还用于在清洗完成后将清洗液从清洗槽1中抽取至储存器3中存储。超声波发生装置4与清洗槽1连接,清洗槽1通过泵以及管道与储存器3连通。当然,在其他的实施例中,也可以不设置泵2。超声波发生装置4包括用于产生高频交流电流的超声波电源器41,以及与所述超声波电源器电连接的超声波磁场发生器42,用于产生超声波振动。
以下进一步解释该超声波清洗装置的工作原理。
在喷头10发生堵塞时,超声波清洗装置40移动至喷头10的正下方,并使喷头10部分浸入该超声波清洗装置的清洗液中。开启超声波电源器41,将市电转换为高频交流电流;转换后的高频交流电流供应给超声波磁场发生器42,超声波磁场发生器42将电能转换成超声波机械能,并进一步传递到与之相连的清洗槽1中盛放的清洗液中。喷头10堵塞的部分浸在清洗液中,在超声波振动的作用下分解,促使堵塞的物质在清洗液中溶解,达到快速、彻底的清洁的目的。清洁完成后,将开启泵2,将清洗液抽回至储存器3中存储以备下次使用。
为了避免造成喷头10及其喷出的配向液污染,则采用构成该配向液成分的溶剂作为清洗液。
通常构成配向液成分的溶剂极易挥发,故采用此溶剂或者其他易挥发的溶剂作为清洗液时,为了节约清洗液的重量以及防止溶剂挥发而造成安全事故,较佳将储存器3设为密闭盒体。
由于清洗液采用的是构成配向液的溶剂,所以对制备储存器3和清洗槽1的材料都有特别的要求,即选用的材料不能与该溶剂互溶,在本实施例中,储存器3和清洗槽1较佳选用不锈钢和PET(Polyethyleneterephthalate)塑料制备。
较佳的,为了使得喷头清洗的时间进一步缩短,以及使得喷头清洗的效果较佳,超声波磁场发生器的振动频率为20KHz以上。
应当理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,而所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (3)

1.一种具有超声波清洗装置的涂布机,其特征在于,包括:
喷头,用于喷出配向液;
超声波清洗装置,用于清洁所述喷头,所述超声波清洗装置包括用于盛放清洗液的清洗槽,与所述清洗槽连接的、用于产生超声波的超声波发生装置,与所述清洗槽连接的、用于回收和储存所述清洗液的储存器;
传动装置,以螺纹连接固定连接至所述超声波清洗装置的底部,以控制所述超声波清洗装置的运动,且提供传动力使超声波清洗装置作升降和平移运动;
所述清洗液为构成所述配向液的溶剂,所述储存器为密闭盒体,由不锈钢或PET塑料制成;
所述喷头与一对导轨连接,所述超声波清洗装置设于所述喷头运动原点的下方,并对准所述喷头;当所述喷头在工作中发生堵塞状况时,会向涂布机的控制系统发出信号,涂布机接收控制信号后控制所述传动装置运动,使其带动所述超声波清洗装置运动至所述喷头的正下方,并使所述喷头部分浸入所述超声波清洗装置的清洗液中以实现对喷头的清洗;
所述超声波发生装置还包括用于产生超声波振动的超声波磁场发生器,所述超声波磁场发生器的振动频率为20KHz以上。
2.根据权利要求1所述的涂布机,其特征在于,还包括连接在所述清洗槽与所述储存器之间的泵,用于将所述清洗液抽取至所述清洗槽或所述储存器中。
3.根据权利要求1所述的涂布机,其特征在于,所述超声波发生装置还包括用于产生高频交流电流的超声波电源器,所述超声波电源器电连接所述超声波磁场发生器。
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